KR20070004610A - Ｍｑ－ｔ 프로필 실록산 수지 - Google Patents

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Abstract

(R1 3SiO1 /2)a, (R2 2SiO2 /2)b, (R3SiO3 /2)c 및 (SiO4 /2)d 단위(여기서, R3 그룹의 40몰% 이상은 프로필이다)를 포함하는 MQ-T 프로필 수지가 기재되어 있다. MQ 실록산 수지를 T 프로필 실록산 수지와 반응시킴으로써, 이러한 실록산 수지를 제조하는 방법도 기재되어 있다. 이들 실록산 수지들은 각종 개인용, 가정용 및 치료용으로, 특히 색조 화장품 제형에서의 수지 첨가제로서 유용하다.
MQ-T 프로필 수지, 실록산 수지, 색조 화합물, 수지 첨가제, 화장품, 모발 케어 제품.

Description

ＭＱ－Ｔ 프로필 실록산 수지{MQ-T propyl siloxane resins}
관련 출원에 대한 상호 참조문헌
해당없음
발명의 분야
본 발명은 (R1 3SiO1 /2)a , (R2 2SiO2 /2)b , (R3SiO3 /2)c(여기서, R3 그룹들 중 40몰% 이상은 프로필이다) 및 (SiO4 /2)d 단위를 포함하는 MQ-T 프로필 수지로서 본원에 공지되어 있는 실록산 수지를 제공한다. 본 발명은 또한 MQ 실록산 수지를 T 프로필 실록산 수지와 반응시킴으로써, 이러한 실록산 수지를 제조하는 방법에 관한 것이기도 하다. 본 발명의 실록산 수지는 각종 개인용, 가정용, 자동차 및 치료용, 특히, 색조 화장품 제형에서 수지 첨가제로서 유용하다.
발명의 배경
접착제 조성물 및 피복 제품과 같은 다수의 제품에서의 실록산 수지의 용도 때문에, 화학식 RnSiO(4-n)/2의 실록산 수지(여기서, R은 알킬 그룹이고, n은 일반적으로 1.8 미만이다)는 실록산 중합체의 중요한 계열이다. MQ 수지(이들이 주로 화학식 R3SiO1 /2의 "M" 단위와 화학식 SiO2의 "Q" 단위를 포함하기 때문임)로서 공지되어 있는 실록산 수지의 한 특정 하위부류는 화장품 제형에서 용도가 밝혀졌다. 특히, MQ 수지는 "장시간 착용" 또는 "내이동성" 화장품 제형(transfer resistant cosmetic formulations)에 통상적으로 사용된다. 이들 제형에서, MQ 수지는 도포 후에 피부에 대한 안료 지속성 또는 기타 제형 활성을 개선시켜, 장시간 지속케 하여, 장시간 착용 제품이 되도록 한다.
MQ 수지를 사용하는 내이동성 화장품 조성물의 대표적인 예는 미국 특허 제6,071,503호, 미국 특허 제6,074,654호, 미국 특허 제6,139,823호, 미국 특허 제6,340,466호, 국제 공개공보 제WO 97/17058호 및 국제 공개공보 제WO 97/17059호에서 밝혀져 있고, 상기 특허문헌들에는 휘발성 담체를 갖는 유기실록산 수지와 유체 디유기실록산 수지와의 배합물을 포함하는 조성물이 기재되어 있다.
미국 특허 제5,330,747호에는 트리메틸실릴 말단차단 수지성 공중합체, 실란올 말단차단 폴리디유기실록산 유체 및 페닐 함유 폴리실록산 유체를 포함하는 감압 접착 조성물로부터 필름 형성제를 사용하여, 내구성이 개선된 화장품이 교시되어 있다.
미국 특허 제5,075,103호 및 미국 특허 제5,733,537호에는 하나 이상의 필름 형성 성분을 모발에 도포하여, 모발에 컬 유지력(curl retention)을 부여하는 모발 처리 방법이 교시되어 있다. 필름 형성 성분으로서, 비극성 실세스퀴녹산인 유기규소 화합물을 사용하여 개선된다.
미국 특허 제5,800,816호에는 하기 성분을 포함하는, 개선된 내이동성을 갖 는 화장품 조성물이 기재되어 있다: a) 트리메틸화 실리카 약 0.1 내지 60중량%, b) 25℃에서의 점도가 0.5 내지 100mPaㆍs인 휘발성 용매 약 0.1 내지 60중량%, c) 25℃에서의 점도가 200 내지 1,000,000mPaㆍs인 비휘발성 오일 0.1 내지 60중량% 및 d) 화장품으로 허용가능한 담체 0.1 내지 80중량%.
미국 특허 제5,837,223호 및 미국 특허 제6,036,947호에는 다음 조성물을 포함하는 내이동성 고광택 화장품 스틱 조성물이 교시되어 있다: a) 25℃에서의 점도가 0.5 내지 20mPaㆍs인 휘발성 용매 10 내지 70중량%, b) 게르베 에스테르(guerbet ester) 0.5 내지 40중량% 및 c) 실록시실리케이트 중합체 0.1 내지 20중량%.
독일 공개특허 공보 제2,319,527호에는 중합체의 하나 이상의 유기 치환체가 방향성 알콜로부터 유도된 라디칼인 고분자량 폴리디유기실록산 화합물을 기본으로 하는 향 방출 비휘발성 폴리실록산이 기재되어 있다.
일본 심사 특허공보 제1994-72085호에는 유기 실리콘 수지, 휘발성 실리콘 오일 및 메이크업 파우더를 함유하는, 내수성과 내구성이 개선된 메이크업 화장품 조성물이 교시되어 있다.
화장품 내의 MQ 수지의 사용이 장시간 착용 또는 내이동성을 갖는 제형이 되도록 하지만, 이러한 제형에 사용된 실록산 수지의 특성을 변화시킬 필요가 있다. 특히, 이러한 제형에 사용된 MQ 수지로 이루어진 필름은 무광택(matte finish)과 끈적한 감촉을 가질 수 있다. 따라서, 현재 화장품 제형에 사용되는 MQ 수지가 적어도 필적할만한 장시간 착용 및 내이동성을 제공하지만, 비점성의 개선된 광택 (즉, 무광택)을 갖는 개선된 실록산 수지가 필요하다. 또한, 모발 후속 처리의 컬 유지성을 개선시키는, 모발 케어 제형에서 수지가 필요하다.
본 발명의 발명자들은 프로필 함유 실록산 (R3SiO3 /2)c 단위(T 단위)를 M 및 Q 단위와 합하여, 개선된 실록산 수지를 발견하였다. 본원에서 MQ-T 프로필 실록산 수지로 불리는 생성된 실록산 수지는 개선된 물성을 갖는다. 특히, 본 발명의 MQ-T 프로필 실록산 수지를 함유하는 화장품 제형은 MQ 수지에 비해 개선된 광택을 가지며, T 프로필 수지보다 덜 점성이지만, 이들의 긴 지속성 또는 착용성은 유지한다.
발명의 요약
본 발명은 다음 단위들을 포함하는 MQ-T 프로필 실록산 수지에 관한 것이다:
(i) (R1 3SiO1 /2)a
(ii) (R2 2SiO2 /2)b
(iii) (R3SiO3 /2)c 및
(iv) (SiO4 /2)d(여기서, R1, R2 및 R3은 독립적으로 탄소수 1 내지 8의 알킬 그룹, 아릴 그룹, 카비놀 그룹 또는 아미노 그룹이고, 여기서, R3 그룹들 중 40몰% 초과는 프로필이며, a는 0.05 내지 0.5의 값이며, b는 0 내지 0.3의 값이고, c는 0 초과의 값이며, d는 0.05 내지 0.6의 값이고, a + b + c + d는 1의 값이다)으로서, 단, 이다.
본 발명은 추가로 실록산 수지 조성물의 제조방법 및 이로부터 수득한 제품한 관한 것이기도 하다. 당해 방법은,
(R1 3SiO1 /2)a 및 (SiO4 /2)d 단위(여기서, R1은 탄소수 1 내지 8의 알킬 그룹, 아릴 그룹, 카비놀 그룹 또는 아미노 그룹이고, a와 d는 0 초과의 값이며, a/d의 비는 0.5 내지 1.5이다)를 80몰% 이상 포함하는 MQ 수지(A)와
R3SiO 단위(여기서, R3은 탄소수 1 내지 8의 알킬 그룹, 아릴 그룹, 카비놀 그룹 또는 아미노 그룹이고, 여기서, R3 그룹들 중 40몰% 이상은 프로필이며, c는 0 초과의 값이다)를 80몰% 이상 포함하는 T 프로필 수지(B)를 A/B의 중량비 95:5 내지 15:85로 반응시킴을 포함한다.
MQ-T 프로필 실록산 수지는 각종 개인용, 가정용 또는 및 치료용 조성물에 유용하다. 특히, MQ-T 프로필 실록산 수지는 색조 화장품 제형의 지속성을 개선시키는 데 사용될 수 있는 광택성 비점성 필름을 제공한다. MQ-T 프로필 실록산 수지는 모발 케어 제형에서 컬 유지성을 개선시키기 위해 첨가제로서 사용될 수도 있다. MQ-T 프로필 실록산 수지는 처리 모발의 감촉을 개선시켜, 기타 실록산 수지 첨가제에 비해 더 부드러운 감촉을 제공할 수도 있다. 따라서, 본 발명은 본원 에 기재되어 있는 MQ-T 프로필 실록산 수지를 포함하는 개인용, 가정용 또는 치료용 조성물을 제공한다.
발명의 상세한 설명
본 발명의 MQ-T 프로필 실록산 수지는 당해 기술분야에 통상적으로 공지되어 있으며, 본원에서 각각 M, D, T 및 Q 단위로서도 사용되는 (i) (R1 3SiO1 /2)a, (ii) (R2 2SiO2/2)b, (iii) (R3SiO3 /2)c 및 (iv) (SiO4 /2)d 단위를 포함한다. MQ-T 프로필 실록산 수지 내에 존재하는 각각의 단위의 양은 MQ-T 프로필 실록산 수지 내에 존재하는 모든 M, D, T 및 Q 단위의 총 몰수의 몰 분율(즉, a, b, c 또는 d)로서 나타낼 수 있다. a 값(M 단위의 몰 분율)은 0.05 내지 0.5, 또는 0.15 내지 0.4이다. b 값(D 단위의 몰 분율)은 0 내지 0.3, 또는 0 내지 0.1, 또는 0 내지 0.05이다. 따라서, MQ-T 프로필 실록산 수지는 D 단위를 갖지않을 수도 있거나, D 단위를 0.3몰 분율 이하로 함유 및 포함할 수 있다. c 값(T 단위의 몰 분율)은 0 초과, 또는 0.05 내지 0.65, 또는 0.4 내지 0.65이다. d 값(Q 단위의 몰 분율)은 0.05 내지 0.6, 또는 0.2 내지 0.6, 또는 0.2 내지 0.55이다.
본 발명의 MQ-T 프로필 실록산 수지는 프로필일 T 단위에 R3 알킬 그룹을 40몰% 이상, 또는 50몰% 이상, 또는 90몰% 이상 포함함을 특징으로 한다.
MQ-T 프로필 실록산 수지 단위에서 R1, R2 및 R3은 독립적으로 탄소수 1 내지 8의 알킬 그룹, 아릴 그룹, 카비놀 그룹 또는 아미노 그룹이다. 알킬 그룹은 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실 및 옥틸을 예로 들 수 있다. 아릴 그룹은 페닐, 나프틸, 벤조일, 톨릴, 크실릴, 세닐, 메틸페닐, 2-페닐에틸, 2-페닐-2-메틸에틸, 클로로페닐, 브로모페닐 및 플루오로페닐을 예로 들 수 있는데, 아릴 그룹은 통상적으로 페닐이다.
본 발명의 목적을 위해, "카비놀 그룹"은 하나 이상의 탄소-결합된 하이드록실(COH) 라디칼을 함유하는 임의의 그룹으로서 정의된다. 따라서, 카비놀 그룹은, 예를 들면,
Figure 112006054693007-PCT00001
와 같은 하나 이상의 COH 라디칼을 함유하는 그룹일 수 있다.
아릴 그룹을 갖지 않는 카비놀 그룹은 3개 이상의 탄소원자를 갖거나, 6개 이상의 탄소원자를 갖는 아릴 함유 카비놀 그룹을 갖는다. 아릴 그룹을 갖지 않는 탄소수 3 이상의 카비놀 그룹은 화학식 R4OH의 그룹(여기서, R4는 탄소원자를 3개 이상 갖는 2가 탄화수소 라디칼 또는 탄소원자를 3개 이상 갖는 2가 하이드로카본옥시 라디칼이다)을 예로 들 수 있다. 그룹 R4는 알킬렌 라디칼, 예를 들면, -(CH2)x-(여기서, x는 3 내지 10의 값이다), -CH2CH(CH3)-, -CH2CH(CH3)CH2-, -CH2CH2CH(CH2CH3)CH2CH2CH2- 및 -OCH(CH3)(CH2)x-(여기서, x는 1 내지 10의 값이다)을 예로 들 수 있다.
탄소원자를 6개 이상 갖는 아릴 함유 카비놀 그룹은 화학식 R5OH의 그룹[여 기서, R5는 아릴렌 라디칼, 예를 들면, -(CH2)xC6H4-(여기서, x는 0 내지 10의 값이다), -CH2CH(CH3)(CH2)xC6H4-(여기서, x는 0 내지 10의 값이다) 또는 -(CH2)xC6H4(CH2)x-(여기서, x는 1 내지 10의 값이다)]을 예로 들 수 있다. 아릴 함유 카비놀 그룹은 통상적으로 탄소원자를 6 내지 14개 갖는다.
아미노 그룹은 화학식 -R6NH2 또는 R6NHR7NH2의 그룹(여기서, R6은 탄소원자를 2개 이상 갖는 2가 탄화수소 라디칼이고, R7은 탄소원자를 2개 이상 갖는 2가 탄화수소 라디칼이다)을 예로 들 수 있다. 그룹 R6은 통상적으로 탄소원자를 2 내지 20개 갖는 알킬렌 라디칼이다. R6은 에틸렌, 프로필렌, -CH2CHCH3-, 부틸렌, -CH2CH(CH3)CH2-, 펜타메틸렌, 헥사메틸렌, 3-에틸-헥사메틸렌, 옥타메틸렌 및 데카메틸렌을 예로 들 수 있다.
R7은 통상적으로 탄소원자를 2 내지 20개 갖는 알킬렌 라디칼이다. R7은 에틸렌, 프로필렌, -CH2CHCH3-, 부틸렌, -CH2CH(CH3)CH2-, 펜타메틸렌, 헥사메틸렌, 3-에틸-헥사메틸렌, 옥타메틸렌 및 데카메틸렌을 예로 들 수 있다.
통상적인 아미노 그룹은 -CH2CH2CH2NH2, -CH2(CH3)CHCH2(H)NCH3, -CH2CH2NHCH2CH2NH2, -CH2CH2NH2, -CH2CH2NHCH3, -CH2CH2CH2CH2NH2, -(CH2CH2NH)3H 및 -CH2CH2NHCH2CH2NHC4H9이다.
통상적으로, R1은 메틸 그룹이고, R2는 메틸 또는 페닐 그룹이며, R3은 프로필 그룹이다.
MQ-T 프로필 실록산 수지의 임의의 개별적인 D, T 또는 Q 실록산 단위는 하이드록시 그룹 및/또는 알콕시 그룹을 함유할 수도 있다. 하이드록시 및/또는 알콕시 그룹을 함유하는 이러한 실록산 단위는 통상적으로 화학식 RnSiO(4-n)/2의 실록산 수지에서 발견되었다. 이들 실록산 수지 내의 하이드록시 그룹은 통상적으로 실록산 단위 내의 가수분해가능한 그룹을 물과 반응시킴으로써 수득된다; 알콕시 그룹은 알콕시실란 전구체가 사용되는 경우 완전한 가수분해로부터 수득되거나, 알콜과 가수분해가능한 그룹과의 상호교환으로부터 수득된다. 통상적으로, MQ-T 프로필 실록산 수지 내에 존재하는 총 하이드록시 그룹의 중량%는 3중량%, 또는 2중량%, 또는 1.5중량%이다. 통상적으로, MQ-T 프로필 실록산 수지 내에 존재하는 총 알콕시 그룹의 중량%는 20중량% 이하, 또는 10중량% 이하이다.
MQ-T 프로필 실록산 수지의 분자량은 통상적으로 수평균 분자량(MN) 범위가 3,000 내지 10,000, 또는 5,000 내지 8,000이지만, 이로써 제한되지 않는다.
본 발명의 MQ-T 프로필 실록산 수지는 화학식 RnSiO(4-n)/2의 실록산 수지(여기서, R은 알킬 그룹이고, n은 일반적으로 1.8 미만이다)를 제조하기 위해, 당해 기술분야에 공지되어 있는 임의의 방법들에 의해 제조될 수 있다. 또는, MQ-T 프로 필 수지는 아래 기재되어 있는 방법들에 의해 제조될 수 있다.
본 발명의 MQ-T 프로필 수지의 예는,
((CH3)3SiO1 /2)a, (R3SiO3 /2)c(여기서, R3은 CH3CH2CH2-이다) 및 (SiO4 /2)d 단위를 포함하는 MQ-T 프로필 수지,
((CH3)3SiO1 /2)a, ((CH3)2SiO2 /2)b, (R3SiO3 /2)c(여기서, R3은 CH3CH2CH2-이다) 및 (SiO4/2)d 단위를 포함하는 MQ-T 프로필 수지,
((CH3)3SiO1 /2)a, ((CH3)2SiO2 /2)b, ((CH3)(C6H5)SiO2 /2)b', (R3SiO3 /2)c(여기서, R3은 CH3CH2CH2-이다) 및 (SiO4 /2)d 단위를 포함하는 MQ-T 프로필 수지,
((CH3)3SiO1 /2)a, ((CH3)2SiO2 /2)b, (R3SiO3 /2)c,(여기서, R3은 CH3CH2CH2-이다), (C6H5SiO3/2)c 및 (SiO4 /2)d 단위를 포함하는 MQ-T 프로필 수지 및
((CH3)3SiO1 /2)a, ((CH3)2SiO2 /2)b, ((CH3)(C6H5)SiO2 /2)b', (R3SiO3 /2)c(여기서, R3은 CH3CH2CH2-이다), (C6H5SiO3 /2)c 및 (SiO4 /2)d 단위(여기서, a는 수지에서의 총 값이 0.05 내지 0.5이고, b와 b'는 수지에서의 총 값이 0 내지 0.3이며, c는 수지에서의 총 값이 0.05 내지 0.65이고, d는 수지에서의 총 값이 0.05 내지 0.6이다)를 포함하는 MQ-T 프로필 수지이다.
본 발명은 또한 실록산 수지 조성물의 제조방법 및 이로부터 수득한 생성물 을 제공한다. 당해 방법은,
(R1 3SiO1 /2)a 및 (SiO4 /2)d 단위(여기서, R1은 탄소수 1 내지 8의 알킬 그룹, 아릴 그룹, 카비놀 그룹 또는 아미노 그룹이고, a와 d는 0 초과의 값이며, a/d의 비는 0.5 내지 1.5이다)를 80몰% 이상 포함하는 MQ 수지(A)와
R3SiO 단위(여기서, R3은 탄소수 1 내지 8의 알킬 그룹, 아릴 그룹, 카비놀 그룹 또는 아미노 그룹이고, 여기서, R3 그룹들 중 40몰% 이상은 프로필이며, c는 0 초과의 값이다)를 80몰% 이상 포함하는 T 프로필 수지(B)를 A/B의 중량비 95:5 내지 15:85로 반응시킴을 포함한다.
성분(A)은 (R1 3SiO1 /2)a 및 (SiO4 /2)d 단위(여기서, R1은 위에서 정의한 바와 같은데, 즉 탄소수 1 내지 8의 알킬 그룹 아릴 그룹, 카비놀 그룹 또는 아미노 그룹이고, a 및 d는 0 초과의 값이며, a/d의 비는 0.5 내지 1.5이다)를 80몰% 이상 포함하는 MQ 수지이다. 성분(A)로서 사용하기에 적합한 MQ 수지 및 이의 제조방법은 당해 기술분야에 공지되어 있다. 본원의 참조문헌으로 인용되어 있는, 예를 들면, 큐리(Currie) 등의 미국 특허 제2,814,601호(1957년 11월 26일)에는 수용성 규산염을 산을 사용하여 규산 또는 규산 올리고머로 전환시킴으로써 MQ 수지를 제조할 수 있다고 기재되어 있다. 충분한 중합반응이 성취된다면, 수지를 트리메틸클로로실란으로 말단차단시켜 MQ 수지를 수득한다. MQ 수지를 제조하기 위한 또 다른 방법은 본원의 참조문헌으로 인용되어 있는 굿윈(Goodwin)의 미국 특허 제2,857,356 호(1958년 10월 21일)에 기재되어 있다. 굿윈은 알킬 실리케이트와 가수분해가능한 트리알킬실란유기폴리실록산과의 혼합물을 물을 사용하여 공가수분해시킴으로써 MQ 수지를 제조하는 방법을 기술하고 있다.
본 발명에서 성분(A)으로서 적합한 TMQ 수지는 D 단위와 T 단위를 함유할 수 있는데, 단 총 실록산 단위의 80몰% 이상, 또는 90몰% 이상은 M 단위와 Q 단위이다. MQ 수지는 하이드록시 그룹을 함유할 수도 있다. 통상적으로, MQ 수지는 총 하이드록시 함량 중량%가 2 내지 10중량%, 또는 2 내지 5중량%이다. TMQ 수지는 추가로 "차단"될 수도 있는데, 여기서 잔류 하이드록시 그룹은 M 그룹과 추가로 반응한다.
성분(B)은 R3SiO3 /2 단위(여기서, R3은 위에서 정의한 바와 같은데, 즉 탄소수 1 내지 8의 알킬 그룹 아릴 그룹, 카비놀 그룹 또는 아미노 그룹이다)를 80몰% 이상 포함하는 T 프로필 수지이로서, 단 R3 그룹의 40몰% 이상은 프로필이다. 통상적으로, T 프로필 수지는 실세스퀴녹산 수지이다. 실세스퀴녹산 수지는 당해 기술분야에 익히 공지되어 있으며, 통상적으로 분자 내에 존재하는 3개의 가수분해가능한 그룹, 예를 들면, 할로겐 또는 알콕시 그룹을 갖는 유기실란을 가수분해시킴으로써 제조된다. 따라서, 성분(B)는 프로필트리메톡시실란, 프로필트리에톡시실란 또는 프로필트리프로폭시실란을 가수분해시키거나, 이전에 언급한 프로필알콕시실란을 각종 알콕시실란과 공가수분해시켜 수득할 수 있다. 이들 알콕시실란의 예에는 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리이소프로폭시실란, 디메틸디메톡 시실란 및 페닐트리메톡시실란이 포함된다. 프로필트리클로로실란은 단독으로 가수분해될 수 있거나, 알콜의 존재하에 가수분해될 수 있다. 이러한 경우, 공가수분해는 메틸트리클로로실란, 디메틸디클로로실란, 페닐트리클로로실란 또는 유사한 클로로실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리이소프로폭시실란 또는 유사한 메틸알콕시실란을 첨가하여 수행할 수 있다. 이들 목적에 적합한 알콜에는 메탄올, 에탄올, n-프로필 알콜, 이소프로필 알콜, 부탄올, 메톡시 에탄올, 에톡시 에탄올 또는 유사한 알콜이 포함된다. 함께 사용될 수도 있는 탄화수소형 용매의 예에는 톨루엔, 크실렌 또는 유사한 방향족 탄화수소; 헥산, 헵탄, 이소옥탄 또는 유사한 선형 또는 부분적으로 측쇄화된 포화 탄화수소; 및 사이클로헥산 또는 유사한 지방족 탄화수소가 포함된다.
본 발명에서 성분(B)로서 적합한 T-프로필 수지는 M, D 및 Q 단위를 함유하는데, 단 총 실록산 단위의 80몰% 이상, 또는 90몰% 이상은 T 단위이다. T-프로필 수지는 하이드록시 그룹도 함유할 수 있다. 통상적으로, T-프로필 수지는 총 하이드록시 함량 중량%가 3 내지 8중량%이다.
폴리유기실록산은 임의로 성분(C)으로서 본 발명의 방법에 가할 수 있다. 본 발명에서 성분(C)로서 유용한 폴리유기실록산은 R2 2SiO2 /2(즉, D 단위) 또는 R3SiO3/2(T 단위)를 포함한다. 폴리유기실록산은, 각종 D 단위와 T 단위를 MQ-T 프로필 수지에 도입하여 생성된 수지의 특성을 변화시킬 수도 있다. 폴리유기실록산 이 측정가능한 양의 R2 2SiO2 /2 단위(즉, D 단위) 또는 R3SiO3 /2(T 단위)를 함유하고, 성분(A)과 성분(B)의 반응에 첨가될 폴리유기실록산의 총량이 D 단위 또는 T 단위를 반응 혼합물 내로 50몰% 이상을 제공하지 않는다면, 폴리유기실록산의 구조 또는 화학식은 제한적이지는 않다. 적어도 몇몇 D 단위 또는 T 단위가 존재한다면, 폴리유기실록산은 M, D, T 및 Q 단위의 임의의 조합을 함유할 수 있다. 따라서, D 단위 또는 T 단위를 함유하는, 당해 기술분야에 공지되어 있는 임의의 유체, 고무 또는 수지성 실리콘, 또는 이들의 임의의 배합물로부터 폴리유기실록산을 선택할 수 있다. D 단위는 통상적으로 R2 치환체로서, DMe 및 DPh로서 각각 나타낼 수 있는 메틸 또는 페닐, 또는 이들의 배합물을 함유한다. T 단위는 통상적으로 R3 치환체로서, TMe 및 TPh로서 각각 나타낼 수 있는 메틸 또는 페닐, 또는 이들의 배합물을 함유한다. 폴리유기실록산은 점도가 0 내지 1000cS(mm2/s)인 선형 폴리디유기실록산 유체일 수 있다. 통상적으로, 폴리디유기실록산 유체는 폴리디메틸실록산 또는 폴리메틸페닐실록산이다. 폴리유기실록산은 유기실세퀴녹산 수지일 수도 있다. 유기실세퀴녹산 수지는 통상적으로 메틸실세퀴녹산 수지 또는 페닐실세퀴녹산 수지이다.
성분 (A), (B) 및 임의의 (C)는 당해 기술분야에 공지된 임의의 방법으로 반응시켜 M, D, T 및 Q 실록산 단위의 반응을 수행한다. 그러나, 통상적으로 성분 (A), (B) 및 임의의 (C)는 촉매의 존재하에 축합 반응에 의해 반응시킨다. 통상적 으로, 방향족 탄화수소 또는 실록산 용매에 MQ 수지가 함유되어 있다. 적합한 축합 반응 촉매는 금속 수산화물, 예를 들면, 수산화칼륨 및 수산화나트륨; 금속염, 예를 들면, 실란올레이트, 카복실레이트 및 카보네이트; 암모니아; 아민; 및 티타네이트, 예를 들면, 테트라부틸 티타네이트; 및 이들의 배합물을 포함하는 염기 촉매이다. 통상적으로, 성분 (A), (B) 및 임의의 (C)의 반응은 반응 혼합물을 50 내지 140℃, 또는 100 내지 140℃의 온도 범위로 가열하여 수행한다. 반응은 뱃취, 반연속 또는 연속 공정으로 수행할 수 있다.
반응에서 성분(A) 대 성분(B)(즉, A/B)의 중량비는 95:5 내지 15:85, 또는 95:5 내지 20:80, 또는 90:10 내지 20:80로 변할 수 있다. 성분(C)의 양은 변할 수 있지만, 첨가된 성분(C)의 양은, 반응 혼합물 내의 실록산 단위의 총 몰을 기준으로 하여, 추가의 D 또는 T 단위를 30몰% 미만 도입시켜야 한다.
본 발명의 MQ-T 프로필 수지는 각종 개인용, 가정용, 자동차용 또는 치료용에 유용하다. 특히, MQ-T 프로필 실록산 수지는 색조 화장품 제형의 지속성을 개선시키기 위해 사용될 수 있는 광택성의 비점성 필름을 제공한다. MQ-T 프로필 실록산 수지는 컬 유지성을 개선시키기 위해 모발 케어 제형에 사용될 수도 있다. 따라서, 본 발명은 본원에 기재되어 있는 MQ-T 프로필 실록산 수지를 포함하는, 개인용, 가정용, 자동차용 또는 치료용 조성물을 제공한다.
실시예
다음 실시예들은 본 발명의 조성물과 방법을 추가로 설명하기 위해 존재하는 것이지, 본 발명을 제한하려는 것은 아니다. 별도로 나타내지 않는 한, 실시예의 모든 부와 %는 중량을 기준으로 한다.
재료
MQ 수지 = 화학식 M0 .43Q0 . 57를 가지며 Mn이 3230이며 고체 70.8중량%로 크실렌에 용해되어 있는 MQ 수지. MQ 수지는 다우트(Daudt)의 미국 특허 제2,676,182호에 교시된 기술에 따라 제조하였다.
T 프로필 수지 = 톨루엔 중의 74.8중량%인 프로필 실세스퀴녹산 수지. 프로필 실세스퀴녹산 수지는 프로필 트리클로로실란을 가수분해시켜 제조하였다.
페닐 실세스퀴녹산 수지 = 페닐 트리클로로실란의 가수분해로부터 수득한, 고체 100중량%인 페닐 실세스퀴녹산 고체 플레이크 수지.
실시예 1
MQTPr 수지의 제조방법
교반기, 온도계 프로브, 및 상부에 콘덴서를 갖춘 딘 스타크 트랩(Dean Stark trap)을 갖춘 3구 반응 플라스크 내에, MQ 수지, T 프로필 수지, 크실렌 및 1M KOH를 표 1에 나타낸 비로 물 속에 로딩시켰다. 딘 스타크 트랩을 크실렌으로 예비로딩시켜 반응 플라스크 내의 고체 수준이 50%가 유지되도록 보장하였다. 플라스크 내의 혼합물을 환류 온도(100 내지 140℃)에서 3시간 이상 동안 유지하였 다. 반응 혼합물에 형성된 모든 물을 필요한 만큼 연속 제거하고, 딘 스타크 트랩에서 공비혼합물로서 트랩핑하였다. 환류시킨 지 3시간 후에, 트랩으로부터 물을 제거하고, 추가의 30분 동안 계속해서 가열하였다. 혼합물을 냉각시킨 후에, 과량의 아세트산을 가하여 혼합물 중의 KOH를 중화시켰다. 이후, 혼합물을 여과하여, 감압 여과를 통해 여과시켜 형성된 염을 제거하였다. 진공하에 회전 증발기에서 혼합물을 사용하여 용매 교환을 완결시켰다. 크실렌의 대부분을 제거한 후에, 계속해서 임의의 잔류 방향족 용매를 제거하면서 데카메틸사이클로펜타실록산을 가하였다. 생성된 실록산 수지의 구조는 29Si NMR 분광법과 GPC로 확인하였고, 결과는 아래 표 4에 요약되어 있다.
Figure 112006054693007-PCT00002
실시예 2
MQTPrTP 수지의 제조방법
일련의 MQTPrTPh 수지들은 표 2에 나타낸 제형을 사용하여 실시예 1에 기재된 실험 공정에 따라 제조하였다. 이러한 일련의 수지에서, 페닐 실세스퀴녹산 수지를 가하여, 추가의 페닐 함유 T 단위를 실록산 수지에 혼입시켰다. 생성된 실록산 수지의 구조는, 아래 표 4에 요약되어 있는 바와 같이 29Si NMR 분광법과 GPC로 확인하였다.
Figure 112006054693007-PCT00003
실시예 3
MQTPrD 수지의 제조방법
2개의 MQTPrD 수지들은 표 3에 나타낸 제형을 사용하여 실시예 1에 기재된 실험 공정에 따라 제조하였다. 이러한 일련의 수지에서, 100cst 폴리디메틸실록산 유체를 가하여, D 단위(Me2SiO)를 실록산 수지에 혼입시켰다. 생성된 실록산 수지의 구조는, 아래 표 4에 요약되어 있는 바와 같이 29Si NMR 분광법과 GPC로 확인하였다.
Figure 112006054693007-PCT00004
Figure 112006054693007-PCT00005
실시예 1 내지 3의 실록산 수지로부터 수득한 필름들은, 휘발성 용매에서 35% 고체로부터 레네타 차트(Leneta chart) 상에 피복시킨 후에 광택과 점성에 대해 평가하였고, 파운데이션(색조 화장품)에서 지속성에 대해 평가하였으며, 모발 고정성에 있어서 컬 유지성과 컨디셔닝에 대해 평가하였다. 결과를 표 5에 요약하였다. 실록산 수지를, 데카메틸사이클로펜타실록산 또는 이소도데칸 중의 6중량% 용액으로서 모발에 도포하였다. 이들 평가에 사용한 특정 시험법 및 화장품의 조성에 대해서는 다음 표 5에 기재되어 있다.
Figure 112006054693007-PCT00006
광택 측정
1) #8 메이어 로드(Meyer rod)를 사용하여, 레네타 차트(폼 N2C)를 용액으로 피복시킨다.
2) 차트를 1시간 동안 건조시킨다. 차트의 왼쪽 1/3상의 세 지점에서 휴대용 광택 측정기를 사용하여 60°광택을 측정한다. 3회 광택값의 평균을 계산한다. 점성, 기름기(greasiness), 지문 표시에 대해 피복물을 평가하고, 만약 지워졌다면 얼마나 많은 피복물이 차트로부터 지워졌는지를 평가한다.
3) 4시간 후에 감소가 완결되면, 차트의 중간 1/3상의 세 지점에서 휴대용 광택 측정기를 사용하여 60°광택을 측정한다. 3회 광택값의 평균을 계산한다. 점성, 기름기, 지문 표시에 대한 도포를 평가하고, 만약 지워졌다면 얼마나 많은 피복물이 차트로부터 지워졌는지를 평가한다.
4) 24시간 후에 감소가 완결되면, 차트의 오른쪽 1/3상의 세 지점에서 휴대용 광택 측정기를 사용하여 60°광택을 측정한다. 3회 광택값의 평균을 계산한다. 점성, 기름기, 지문 표시에 대한 도포를 평가하고, 만약 지워졌다면 얼마나 많은 피복물이 차트로부터 지워졌는지를 평가한다.
5) 3회의 상이한 시간에서의 평균 광택을 사용하여 모든 평균을 계산한다.
컬 보유율 시험 방법
재료
ㆍ 미혼 여성의 천연 갈색 땋은 모발(hair tress) 또는 동양인 모발 2g, 25cm를 준비한다.
ㆍ 빗 등록 상표: Ace; 참조번호 2618/6 - 영국.
ㆍ 시험 동안 온도와 습도를 조절하기 위한 습도 챔버(humidity chamber).
견본을 전처리하기 위한 공정(세정):
1) 37℃에서 수돗물을 사용하여 30초 동안 5개의 땋은 모발을 적신다.
2) 5개의 땋은 모발을 30초 동안 거품칠한다. 모리단을 아래쪽으로 쓰다듬으면서 30% SLS 용액[엠피콜(Empicol) LX28/올브라이드 앤드 윌슨(Albright & Wilson)] 5g을 사용하면서, 세정한 모발 전부에 대해 같은 동작을 반복한다. 모발을 30초 동안 방치한다.
3) 37℃에서 수돗물을 사용하여 1분 동안 땋은 모발을 세정한다.
4) 2개의 손가락 사이에 땋은 모발을 3회 흐르게 하여 과량의 물을 제거한다.
5) 실온에서 종이 타월을 사용하여 땋은 모발을 밤새 건조시킨다.
견본을 수지로 처리한 다음, 컬링시키는 공정:
처리에 사용한 용매는 블랭크(blank) 또는 네가티브 대조군이다.
1) 37℃에서 수돗물을 사용하여 한번에 3회 1개의 땋은 모발을 적시고, 2개의 손가락 사이에 땋은 모발을 쓰다듬어 과량의 물을 제거한다.
2) 깨끗한 지지체에 땋은 모발을 놓아둔 다음, 보정된 마이크로피펫을 사용하여 처음부터 6% 수지 용액 100㎕를 도포한다.
3) 땋은 모발의 엉킴을 완전히 푼다.
4) 땋은 모발을 로드 스파이럴 컬러(rod spiral curler)에 감는다.
5) 견본을 오븐에서 40℃에서 밤새 방치시켜 건조시킨다.
시험 - 컬 보유율 측정:
1. 70% 습도와 25℃에서 시험 설정하기 전에 습기 챔버를 2시간 동안 개시한다.
2. 시험 개시 10분 전에, 롤러를 약간 꼬아서 롤러를 모발로부터 조심스럽게 제거한다. 심지어 땋은 모발이 (가능한 적게 절단될지라도) 이를 절단하기 위해, 땋은 모발의 말단을 절단한다.
3. 각각의 땋은 모발이 정확하게 컬링되도록 보장한다.
4. 습도 챔버 내에 땋은 모발을 걸어둔다: 땋은 모발에서 왁스 밀봉재(wax sealing)의 하부는 챔버의 뒤에서 종이 시트(mm)의 "0" 선상에 있어야 한다.
5. 땋은 모발 길이를 소정의 시간 간격으로 측정하고, 길이는 왁스 밀봉재의 하부와 땋은 모발의 하부 사이의 거리로서 측정한다 - 땋은 모발의 하부가 아래로 늘어져서, 시야각이 항상 유리에 수직임을 명심하라.
6. 5시간 후에, 습도 챔버로부터 땋은 모발을 제거하고, 땋은 모발을 완전히 롤링시키지 않음으로써, 땋은 모발의 최대 길이를 측정한다. 아래에 기재된 바와 같이 컬 보유율을 계산한다.
컬 보유율은 다음과 같이 계산한다:
최대 길이 - T에서의 길이 = x
컬 보유율(%) = ----------------------------------------- X 100
최대 길이 - T에서의 길이 = 0
건조 모발 또는 젖은 모발에 대한 모발 컨디셔닝에 대한 인스트론 ( Instron ) 시험
재료
ㆍ 약간 표백된 유럽인으로 시험을 수행하였다.
ㆍ 빗 등록 상표: 언브레이크블(Unbreakable) 또는 Ace 브랜드(미세 빗살 간격: 16teeth/25mm, 넓은 빗살 간격: 11teeth/25mm)
모발 견본 제조방법과 베이스라인 시험:
1) 모발 2.35 내지 2.50g을 칭량한다.
2) 사포를 사용하여 플라스틱 탭(plastic tab)의 아래쪽 반을 거칠게 한다.
3) 모근 끝의 약 1/2in를 절단한다.
4) 사포로 닦은 탭 말단의 중간에 접착제를 놓은 다음, 모발을 접착제 위에 올려놓는다. 모발 상단에 접착제를 더 짠 다음, 또 다른 플라스틱 탭을 사용하여, 모발과 접착제를 탭 상으로 고르게 펴고 측면으로부터 약 1/8 내지 1/4in 떨어지게 유지하면서 모발 내로 접착제를 밀어 넣는다.
5) 땋은 모발을 탭의 하부로부터 6in + 0.25in로 절단한다.
6) 접착제를 밤새 건조시킨다.
7) 상부로부터 탭 약 1/4in의 중간에서 구멍을 뚫는다.
8) 다음 절차에 따라 모든 땋은 모발을 세척한다:
a) 땋은 모발을 40℃에서 수돗물로 15초 동안 적신다.
b) 피펫을 사용하여, 9% 나트륨 라우릴 설페이트(활성) 1.0g을 도포하고, 땋은 모발을 30초 동안 쓰다듬는다.
c) 땋은 모발을 흐르는 물로 30초 동안 헹군다.
d) 종이 타월로 싼 트레이 위에 땋은 모발을 놓은 다음, 밤새 건조시킨다.
e) 땋은 모발을 좁은 빗살로 3회 빗질한다.
9) 인스트론(Inston) 기계를 사용하여 처리하기 전에 미처리 땋은 모발을 빗질하는데 필요한 힘을 측정한다. 처리 전에, 건조 모발과 젖은 모발에서의 힘을 다음과 같이 측정한다. 시험실 내부의 온도와 습도가 시험에 적합하도록 보장한다(대략 70℉ 및 30% RH).
a) 로딩 셀 5kg을 시험용으로 사용한다.
b) 홀더(holder) 왼쪽에 넓은 빗살 간격의 빗과, 홀더 오른쪽에 좁은 빗살 간격의 빗을 2개 둔다. 빗들을 홀더 나사(screw)로 단단하게 잠그서, 빗의 약 1in가 홀더의 앞쪽으로부터 돌출되어 서로 중첩된다. 미처리 땋은 모발에 대해, 모든 땋은 모발을 빗는데 동일한 빗을 사용하지만, 처리된 땋은 모발에 대해서는, 매 상이한 처리에 대해 상이한 빗들을 사용한다.
c) 건조 모발 빗질 순서: 땋은 모발을 3회 빗질하여 모발의 엉킴을 풀고, 땋은 모발을 오른쪽으로 3회 돌려 모발의 엉킴을 푼 다음, 땋은 모발을 행거 위에 올려 놓고 인스트론을 사용하여 땋은 모발을 빗질한다.
d) 젖은 모발 빗질 순서: 증류수에 담구어 모발을 적시고, 땋은 모발을 3회 빗질하여 모발의 엉킴을 풀어주고, 증류수에 3회 담구어 모발의 엉킴을 풀어준 다음, 검지와 중지를 통해 2회 땋은 모발을 통과시켜 과량의 물을 제거하고, 땋은 모발을 행거 위에 올려놓고 인스트론을 사용하여 땋은 모발을 빗질한다.
수지 용액을 사용한 견본의 처리 및 시험 절차:
1) 땋은 모발을 40℃에서 수돗물로 15초 동안 적신다.
2) 검지와 중지를 통해 땋은 모발을 당겨 과량의 물을 제거한다.
3) 깨끗한 지지체에 땋은 모발을 놓아둔 다음, 마이크로피펫을 사용하여 6% 활성 실리콘 생성물 100㎕를 도포한다.
3) 땋은 모발을 완전히 푼다.
4) 에탄올계 용액에 대해 용액을 모발상에서 60분 동안 건조시킨 다음, 수성에 대해 건조 모발상에서 시험한다.
5) 이전 항목 (9)를 참조하여, 건조 모발과 젖은 모발 둘 다에 대해 인스트론 시험을 수행하기 전에 땋은 모발을 1회 빗질한다.
파운데이션 제형
안료 예비혼합:
DC 245 유체 50중량%,
Carde AS 이산화티탄(카프릴릴 실란 처리함) 13.16중량%,
Carde AS 레드 산화철(카프릴릴 실란 처리함) 11.41중량%,
Carde AS 옐로우 산화철(카프릴릴 실란 처리함) 18.26중량% 및
Carde AS 블랙 산화철(카프릴릴 실란 처리함) 7.17중량%.
순서:
1) 워링 블렌더(Waring Blender)에 DC 245 유체를 넣는다.
2) 이산화티탄을 가하고, 순간작동 버튼(pulse button)을 눌러서 총 15초 동안 누른다.
3) 레드 산화철을 가하고, 이산화티탄과 동일하게 혼합한다.
4) 기타 안료들과 지속시킨다.
5) 모든 물질이 사라지면, 고도로 혼합하고, 30초 동안 절단하여 안료를 분쇄한다.
6) 예비혼합물을 둥근 유리 항아리 속에 넣은 다음, 6시간 동안 페일(pail) 롤러에 넣어둔다.
상(A)
안료 예비혼합물 20.50중량%,
DC 5225C 7.50중량% 및
용매 중의 50% 수지 고체 8중량%.
상(B)
탈이온수 54.80중량%,
NaCl 1.0중량% 및
폴리소르베이트(Polysorbate) 20 0.20중량%.
오일 파운데이션 중의 액체 물에 대한 순서
1) 안료 분산액을 1시간 동안 롤러 위에 놓아둔다.
2) 수지와 용매를 칭량하여 50% 고체 희석액으로 만든다 오븐과 휠을 사용하여 혼합한다.
3) 상(A)에서 성분을 합하고, 이중 블레이드를 사용하여 격하게 혼합 작용하면서 균일해질 때까지 혼합한다.
4) 개별 비이커 속의 상(B)에서 성분을 합하고, 자기 교반기를 사용하여 균일해질 때까지 혼합한다.
5) 상(A)의 혼합 속도를 1376rpm까지 증가시키고, 부가 깔때기를 통해 상(B)을 서서히 가한다. 이러한 부가에 10분이 소요된다.
추가의 10분 동안 계속해서 교반한다.
파운데이션 내구성 방법: 가드너(Gardner) 마모 시험기
1. 콜라겐을 조각(3.5in ×3in)으로 절단하고, 하나를 각각의 폴리카보네이트 블록(3in ×2.5in) 위에 올려놓고, 습도 챔버 내에 밤새 방치시킨다. 이러한 챔버는 항상 98% 상대 습도 수준이어야 한다.
2. 콜라겐과 블록을 챔버로부터 제거한다. 블록 표면의 상부에 어떠한 테이프도 올려지지 않도록 주의하면서 스카치 테이프를 사용하여 블록에 대해 콜라겐을 안전하게 한다.
3. 파운데이션 약 1g을 콜라겐에 가하고, 블록의 상부를 따라 방울지게 한다. #8 메이어 로드를 사용하여, 파운데이션 방울 위에 로드를 올려놓고, 이를 블록의 하부 아래로 펼침으로써, 콜라겐을 파운데이션으로 피복시킨다. 최종 피복 중량은 약 0.2g이다. 이러한 작업을 반복하여 적절한 피복 중량을 수득하는 것이 필요하다. 블록의 측면으로부터 임의의 물질을 제거한다.
4. 콜라겐 상의 샘플을 건조시킨다. 건조 시간은 상이한 샘플들에 따라 변한다. 전체 샘플은 시험 전에 모든 습기가 제거되어야 한다. 분광계 또는 비색계를 사용하여 초기 베이스라인 색상에 대해 콜라겐 상의 샘플의 색상을 측정한다. L*, a* 및 b*는 삼차원 공간에서 착색된 물체의 위치를 나타낸다.
5. 블록이 시험기 내에 위치함을 확실하게 하기 위해, 가드너 마모 시험기 위에 콜라겐 페이스-업(face-up)을 갖는 블록을 올려둔다. 벨크로(Velcro)의 부드러운 면을 공격 블록(insult block)에 붙여서 콜라겐 상의 파운데이션 샘플을 벗기거나 공격한다. 한번의 공격은 한번의 전후 이동으로 이루어진다. 콜라겐 상의 파운데이션 샘플을 20회 공격한다. 기기를 특정 간격으로 정지시켜 색상을 측정할 수 있다.
6. 파운데이션 샘플을 20회 공격한 후에, 색상을 L*, a* 및 b*로서 판독하고, 색상 변화(△E)를 계산한다(참조: 아래 수학식). 공격수, 피복 중량 및 반복을 시험될 물질에 필요하도록 맞게 변화시킬 수 있다. 이는 작동자의 판단에 달려있다.
△L*, △a* 및 △b* = 마무 후의 값 - 마모 전의 초기 베이스라인 값
△E = (△L2 + △a*2 + △b*2)1/2
△E가 클수록, 더 많은 파운데이션이 제거되어, 파운데이션이 덜 지속된다.

Claims (7)

  1. (i) (R1 3SiO1 /2)a, (ii) (R2 2SiO2 /2)b, (iii) (R3SiO3 /2)c 및 (iv) (SiO4 /2)d 단위(여기서, R1, R2 및 R3은 독립적으로 탄소수 1 내지 8의 알킬 그룹, 아릴 그룹, 카비놀 그룹 또는 아미노 그룹이고, 여기서, R3 그룹들 중 40몰% 초과는 프로필이며, a는 0.05 내지 0.5의 값이며, b는 0 내지 0.3의 값이고, c는 0 초과의 값이며, d는 0.05 내지 0.6의 값이고, a + b + c + d는 1의 값이다)를 포함하는, 실록산 수지.
  2. 제1항에 있어서,
    ((CH3)3SiO1 /2)a, (R3SiO3 /2)c(여기서, R3은 CH3CH2CH2-이다) 및 (SiO4 /2)d 단위를 포함하는 MQ-T 프로필 수지,
    ((CH3)3SiO1 /2)a, ((CH3)2SiO2 /2)b, (R3SiO3 /2)c(여기서, R3은 CH3CH2CH2-이다) 및 (SiO4/2)d 단위를 포함하는 MQ-T 프로필 수지,
    ((CH3)3SiO1 /2)a, ((CH3)2SiO2 /2)b, ((CH3)(C6H5)SiO2 /2)b', (R3SiO3 /2)c(여기서, R3은 CH3CH2CH2-이다) 및 (SiO4 /2)d 단위를 포함하는 MQ-T 프로필 수지,
    ((CH3)3SiO1 /2)a, ((CH3)2SiO2 /2)b, (R3SiO3 /2)c,(여기서, R3은 CH3CH2CH2-이다), (C6H5SiO3/2)c 및 (SiO4 /2)d 단위를 포함하는 MQ-T 프로필 수지 및
    ((CH3)3SiO1 /2)a, ((CH3)2SiO2 /2)b, ((CH3)(C6H5)SiO2 /2)b', (R3SiO3 /2)c(여기서, R3은 CH3CH2CH2-이다), (C6H5SiO3 /2)c 및 (SiO4 /2)d 단위(여기서, a는 수지에서의 총 값이 0.05 내지 0.5이고, b와 b'는 수지에서의 총 값이 0 내지 0.3이며, c는 수지에서의 총 값이 0.05 내지 0.65이고, d는 수지에서의 총 값이 0.05 내지 0.6이다)를 포함하는 MQ-T 프로필 수지로부터 선택되는, 실록산 수지.
  3. (R1 3SiO1 /2)a 및 (SiO4 /2)d 단위(여기서, R1은 탄소수 1 내지 8의 알킬 그룹, 아릴 그룹, 카비놀 그룹 또는 아미노 그룹이고, a와 d는 0 초과의 값이며, a/d의 비는 0.5 내지 1.5이다)를 80몰% 이상 포함하는 MQ 수지(A)와
    R3SiO 단위(여기서, R3은 탄소수 1 내지 8의 알킬 그룹, 아릴 그룹, 카비놀 그룹 또는 아미노 그룹이고, 여기서, R3 그룹들 중 40몰% 이상은 프로필이며, c는 0 초과의 값이다)를 80몰% 이상 포함하는 T 프로필 수지(B)를 A/B의 중량비 95:5 내지 15:85로 반응시킴을 포함하는, 실록산 수지의 제조방법.
  4. 제3항의 방법에 의해 제조된 실록산 수지.
  5. 제1항 또는 제4항의 실록산 수지를 포함하는, 개인용 케어 제품.
  6. 제5항에 있어서, 화장품인, 개인용 케어 제품.
  7. 제5항에 있어서, 모발 케어 제품인, 개인용 케어 제품.
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