KR20060127153A - 음이온성 세척성 계면활성제를 포함하고 제올라이트 증강제및 인산염 증강제를 소량으로 포함하거나 전혀 포함하지않는 과립상 세탁 세제 조성물 - Google Patents

음이온성 세척성 계면활성제를 포함하고 제올라이트 증강제및 인산염 증강제를 소량으로 포함하거나 전혀 포함하지않는 과립상 세탁 세제 조성물 Download PDF

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앨런 토마스 브루커
로버츠 니겔 패트릭 서머빌
존 피터 에릭 뮬러
스튜어트 앤드류 칼드웰
마크 앨런 스머츠낵
니콜라 에썰 데이빗슨
케빈 리 코트
제이슨 크리스토퍼 킹
도리스 애플바이
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더 프록터 앤드 갬블 캄파니
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Abstract

본 발명은 음이온성 세척성 계면활성제 8 내지 55중량%(i), 비이온성 세척 계면활성제(ii) 2 내지 8중량%, 제올라이트 증강제(iii) 0 내지 4중량%, 인산염 증강제(iv) 0 내지 4중량% 및 임의로, 효소, 바람직하게는 프로테아제(v)를 조성물 100g당 활성 프로테아제 11㎎ 이상, 바람직하게는 15㎎ 이상의 양으로 포함하는 과립상 세탁 세제 조성물에 관한 것이다.
과립상 세탁 세제 조성물, 음이온성 세척성 계면활성제, 제올라이트 증강제, 인산염 증강제, 효소.

Description

음이온성 세척성 계면활성제를 포함하고 제올라이트 증강제 및 인산염 증강제를 소량으로 포함하거나 전혀 포함하지 않는 과립상 세탁 세제 조성물{A granular laundry detergent composition comprising an anionic detersive surfactant, and low levels of, or no, zeolite builders and phosphate builders}
본 발명은 음이온성 세척성 계면활성제를 포함하는 과립상 세제 조성물에 관한 것이다.
과립상 세탁 세제 조성물은 직물 세정 성능이 우수하고 분배 및 용해 프로파일이 우수할 필요가 있다. 과립상 세탁 세제 조성물은 우수한 직물 세정 능력을 제공하기 위하여 음이온성 세척성 계면활성제를 포함한다. 그러나, 음이온성 세척성 계면활성제는 음이온성 세척성 계면활성제를 용액으로부터 침전시키는 방식으로 세척액 중에 존재하는 칼슘 및 마그네슘 양이온과 같은 유리 양이온과 착체를 형성할 수 있고 이로 인해 음이온성 세척성 계면활성제의 활성이 감소된다. 극단적인 경우, 이러한 수 불용성 착체는 직물 위에 침착되어 불량한 백색도 유지 및 불량한 직물 보전성 효과를 야기시킬 수도 있다. 이는 고농도의 칼슘 양이온이 존재하는 경우의 경수 세탁 조건에 세탁 세제 조성물이 사용될 때 특히 문제가 된다.
음이온성 세척성 계면활성제가 용액으로부터 침전되는 방식으로 유리 양이온과 착체를 형성하는 경향성은 칼슘 및 마그네슘 양이온과 같은 양이온과의 결합 상수가 큰 제올라이트 증강제 및 인산염 증강제와 같은 증강제의 존재에 의해 완화된다. 이러한 증강제는 유리 칼슘 및 마그네슘 양이온을 봉쇄하여 상기의 바람직하지 못한 착체의 형성을 감소시킨다.
그러나, 제올라이트 증강제는 수 불용성이며 세탁 세제 조성물로 혼입되어 세탁 세제 조성물의 불량한 용해성을 유도하고 또한 바람직하지 못한 잔류물이 직물 위에 침착되도록 유도할 수도 있다. 또한, 제올라이트 증강제를 다량 포함하는 세제 조성물은 물과의 접촉시 바람직하지 못한 탁한 세척액을 형성한다. 인산염 증강제는 들리는 바에 의하면 유리한 환경 프로파일을 갖지 않으며 세탁 세제 조성물에서의 그의 사용이 덜 통상적인 것으로 되고 있는데, 이는 예를 들어 다수의 국가에서의 인산염에 관한 법률로 인한 것이다.
우수한 음이온성 세척성 계면활성제의 활성, 우수한 직물 세정 능력, 우수한 환경 프로파일, 우수한 분배 및 우수한 용해 프로파일을 갖는 음이온성 세척성 계면활성제를 포함하는 과립상 세탁 세제 조성물이 여전히 요구된다.
요약
본 발명은 음이온성 세척성 계면활성제 8 내지 55중량%(i), 비이온성 세척 계면활성제(ii) 2 내지 8중량%, 제올라이트 증강제(iii) 0 내지 4중량%, 인산염 증강제(iv) 0 내지 4중량% 및 임의로, 효소, 바람직하게는 프로테아제(v)(조성물 100g당 활성 프로테아제 11㎎ 이상, 바람직하게는 15㎎ 이상의 양)를 포함하는 과립상 세탁 세제 조성물을 제공함으로써 상기 문제점을 극복한다.
본 과립상 세탁 세제 조성물은 음이온성 세척성 계면활성제를 8 내지 55중량%, 바람직하게는 8 내지 20중량% 포함한다. 당해 조성물은 음이온성 세척성 계면활성제를 8 내지 16중량%, 또는 8 내지 12중량% 포함하는 것이 바람직할 수도 있다. 이는 당해 조성물이 비이온성 세척성 계면활성제를 4 내지 6중량% 포함할 경우 특히 바람직할 수도 있다. 본 발명의 이러한 양태에 있어서, 음이온성 세척성 계면활성제 대 비이온성 세척성 계면활성제의 중량비가 0.5:1 내지 2:1 범위인 것이 바람직할 수도 있다. 대안적으로는, 당해 조성물은 음이온성 세척성 계면활성제를 보다 다량으로, 예를 들어 10 내지 20중량% 또는 10 내지 16중량%로 포함하는 것이 바람직할 수도 있다. 이는 당해 조성물이 비이온성 세척성 계면활성제를 2 내지 4중량% 포함할 경우 특히 바람직할 수도 있다. 본 발명의 이러한 양태에 있어서, 음이온성 세척성 계면활성제 대 비이온성 세척성 계면활성제의 중량비는 4:1 내지 6:1 범위인 것이 바람직할 수도 있다.
음이온성 세척성 계면활성제는 알킬 설페이트, 알킬 설포네이트, 알킬 포스페이트, 알킬 포스포네이트, 알킬 카복실레이트 또는 그의 임의의 혼합물일 수 있다. 음이온성 계면활성제는 C10-C18 알킬 벤젠 설포네이트(LAS); C10-C20 1급, 분지형 및 랜덤 알킬 설페이트(AS), 바람직하게는 통상적으로 화학식 CH3(CH2)xCH2-OSO3 - M+으로 나타내는 선형 알킬 설페이트(여기서, M은 수소 또는 중성 전하를 제공하는 양이온이며, 바람직한 양이온은 나트륨 및 암모늄 양이온이고, x는 7 이상, 바람직하게는 9 이상의 정수이다); 통상적으로 화학식
Figure 112006060244220-PCT00001
으로 나타내는 C10-C18 2급 (2,3) 알킬 설페이트(여기서, M은 수소 또는 중성 전하를 제공하는 양이온이며, 바람직한 양이온은 나트륨 및 암모늄 양이온이고, x는 7 이상, 바람직하게는 9 이상의 정수이며, y는 8 이상, 바람직하게는 9 이상의 정수이다); C10-C18 알킬 알콕시 카복실레이트; 미국 특허공보 제6,020,303호 및 미국 특허공보 제6,060,443호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 중쇄 분지형 알킬 설페이트; 국제 공개공보 WO 99/05243호, 국제 공개공보 WO 99/05242호, 국제 공개공보 WO 99/05244호, 국제 공개공보 WO 99/05082호, 국제 공개공보 WO 99/05084호, 국제 공개공보 WO 99/05241호, 국제 공개공보 WO 99/07656호, 국제 공개공보 WO 00/23549호 및 국제 공개공보 WO 00/23548호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 개질 알킬벤젠 설포네이트(MLAS); 메틸 에스테르 설포네이트(MES); 알파-올레핀 설포네이트(AOS) 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있다. 바람직한 음이온성 세척성 계면활성제는 선형 또는 분지형의 치환되거나 치환되지 않은 C12 -18 알킬 설페이트; 선형 또는 분지형의 치환되거나 치환되지 않은 C10 -13 알킬벤젠 설포네이트, 바람직하게는 선형 C10 -13 알킬벤젠 설포네이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다. 매우 바람직한 것은 시판중인 선형 알킬 벤젠(LAB)의 설폰화에 의해 수득되는 선형 C10 -13 알킬벤젠 설포네이트이며, 적합한 LAB는 저급 2-페닐 LAB, 예를 들어 사솔(Sasol)에 의해 상표명 아이소켐(Isochem)
Figure 112006060244220-PCT00002
하에 공급되는 것 또는 페트레사(Petresa)에 의해 상표명 페트레랩(Petrelab)
Figure 112006060244220-PCT00003
하에 공급되는 것을 포함하며, 기타 적합한 LAB는 고급 2-페닐 LAB, 예를 들어 사솔에 의해 상표명 하이블렌(Hyblene)
Figure 112006060244220-PCT00004
하에 공급되는 것을 포함한다.
음이온성 세척성 계면활성제는 칼슘 내성이 보다 커지도록 그리고 유리 칼슘 양이온의 존재 하에서 세척액으로부터 침전될 가능성이 덜하게 되도록 하는 방식으로 구조적으로 변경되는 것이 바람직할 수도 있다. 이러한 구조적 변경은 음이온성 세척성 계면활성제의 헤드(head) 그룹의 근처에서의 메틸 또는 에틸 잔기의 도입일 수 있는데, 이는 헤드 그룹의 입체 장애로 인하여 음이온성 세척성 계면활성제의 칼슘 내성이 보다 커지게 될 수 있고 이에 의해 용액으로부터 침전되게 하는 방식으로 유리 칼슘 양이온과 착체를 형성하는 데에 있어서의 음이온성 세척성 계면활성제의 친화도를 감소시킬 수도 있기 때문이다. 다른 구조적 변경은 음이온성 세척성 계면활성제의 알킬 쇄에의 아민 부분과 같은 관능 잔기의 도입을 포함하며, 이에 의해 음이온성 세척성 계면활성제의 알킬 쇄에서의 관능 그룹의 존재가 음이온성 세척성 계면활성제의 바람직하지 못한 물리 화학적 특성을 최소화하여 세척액 중의 유리 칼슘 양이온의 존재 하에 평탄한 결정 구조를 형성하게 할 수도 있기 때문에 음이온성 세척성 계면활성제의 칼슘 내성이 보다 커질 수 있다. 이는 음이온성 세척성 계면활성제가 용액으로부터 침전되는 경향을 감소시킬 수도 있다.
음이온성 세척성 계면활성제는 바람직하게는 입상 형태, 예를 들어 응집체(agglomerate), 분무 건조된 분말, 압출물, 비드(bead), 누들(noodle), 침상(needle) 또는 박편으로 존재한다. 음이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 비이온성 세척성 계면활성제와의 공-미립자(co-particulate) 혼합물의 형태로 존재할 수도 있으며, 이 공-미립자 혼합물은 바람직하게는 분무 건조된 형태로 존재할 수도 있다. 바람직하게는, 음이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 응집체 형태로 존재하며, 이 응집체는 음이온성 세척성 계면활성제를 응집체의 중량을 기준으로 하여, 바람직하게는 20% 이상, 보다 바람직하게는 20 내지 65중량% 포함한다. 음이온성 세척성 계면활성제의 일부는 분무 건조된 분말(예: 발포 분말)의 형태로 존재하며, 음이온성 세척성 계면활성제의 일부는 분무 건조되지 않은 분말의 형태(예: 응집체, 압출물 또는 박편)로 존재하는 것이 바람직할 수도 있다. 선형 알킬벤젠 설포네이트는 비누와의 공-미립자 혼합물로 존재하는 것이 바람직할 수도 있으며, 이 공-미립자 혼합물은 바람직하게는 분무 건조된 형태로 존재할 수도 있다.
조성물은 비이온성 세척성 계면활성제를 2 내지 8중량% 포함한다. 바람직하게는 당해 조성물은 비이온성 세척성 계면활성제를 2 내지 6중량% 포함한다. 당해 조성물은 비이온성 세척성 계면활성제를 소량으로, 예를 들어 2 내지 4중량% 포함하는 것이 바람직할 수도 있다. 대안적으로는, 당해 조성물은 비이온성 세척성 계면활성제를 다량으로, 예를 들어 4 내지 6중량% 포함하는 것이 바람직할 수도 있다.
비이온성 세척성 계면활성제는 C12-C18 알킬 에톡실레이트, 예를 들어 쉘(Shell)의 네오돌(NEODOL)
Figure 112006060244220-PCT00005
비이온성 계면활성제; C6-C12 알킬 페놀 알콕실레이트(여기서, 알콕실레이트 단위는 에틸렌옥시 단위, 프로필렌옥시 단위 또는 이들의 혼합물임이다); 바스프(BASF)의 플루로닉(Pluronic)
Figure 112006060244220-PCT00006
과 같은 에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드 블록 중합체와의 C12-C18 알콜 및 C6-C12 알킬 페놀의 축합물; 미국 특허공보 제6,150,322호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 C14-C22 중쇄 분지형 알콜, BA; 미국 특허공보 제6,153,577호, 미국 특허공보 제6,020,303호 및 미국 특허공보 제6,093,856호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 C14-C22 중쇄 분지형 알킬 알콕실레이트, BAEx(여기서, x는 1 내지 30이다); 미국 특허공보 제4,565,647호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 알킬폴리사카라이드, 구체적으로는 미국 특허공보 제4,483,780호 및 미국 특허공보 제4,483,779호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 알킬폴리글리코사이드; 미국 특허공보 제5,332,528호, 국제 공개공보 WO 92/06162호, 국제 공개공보 WO 93/19146호, 국제 공개공보 WO 93/19038호 및 국제 공개공보 WO 94/09099호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 폴리하이드록시 지방산; 미국 특허공보 제6,482,994호 및 국제 공개공보 WO 01/42408호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 에테르 캡핑(capped) 폴리(옥시알킬화) 알콜 계면활성제; 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있다.
비이온성 세척성 계면활성제는 알킬 폴리글루코사이드 및/또는 알킬 알콕실화 알콜일 수 있다. 바람직하게는, 비이온성 세척성 계면활성제는 평균 에톡실화 정도가 1 내지 10인 선형 또는 분지형의 치환되거나 치환되지 않은 C8 -18 알킬 에톡실화 알콜이다.
비이온성 세척성 계면활성제는 추가의 기름기 많은 오염물(soil)의 세정 능력을 제공할 뿐만 아니라 음이온성 세척성 계면활성제가 유리 칼슘 양이온의 존재 하에 용액으로부터 덜 침전되게 함으로써 음이온성 세척성 계면활성제의 활성을 증가시킬 수도 있다. 바람직하게는, 음이온성 세척성 계면활성제 대 비이온성 세척성 계면활성제의 중량비는 0.5:1 내지 20:1, 보다 바람직하게는 0.5:1 내지 10:1 또는 0.5:1 내지 6:1의 범위이다.
비이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 액체 스프레이-온(spray-on)의 형태로 조성물 내로 혼입될 수 있다[여기서, 액체 형태 또는 적어도 그 일부의 비이온성 세척성 계면활성제(예를 들어, 고온-용융물의 형태)는 조성물의 잔여부 위에 분무된다]. 비이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 입상 형태로 존재할 수도 있으며, 비이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 조성물의 잔여부에 건식 첨가될 수도 있다. 비이온성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 고체 담체 물질, 예를 들어 탄산염, 황산염, 부르카이트(burkeite), 실리카 또는 이들의 임의의 혼합물과의 공-미립자 혼합물의 형태로 존재할 수도 있다.
비이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 음이온성 세척성 계면활성제 또는 양이온성 세척성 계면활성제 중의 어느 하나와의 공-미립자 혼합물로 존재할 수도 있다. 그러나, 비이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 음이온성 세척성 계면활성제 및 양이온성 세척성 계면활성제 둘 모두와의 공-미립자 혼합물 형태로는 존재하지 않는 것이 바람직하다. 비이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 음이온성 세척성 계면활성제 또는 양이온성 세척성 계면활성제 중 어느 하나와 함께 응집되거나 압출될 수도 있다. 비이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 분무 건조된 분말의 형태로 존재할 수도 있으며, 임의로, 비이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 음이온성 세척성 계면활성제와 함께 분무 건조될 수도 있다. 비이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 비누와의 공-미립자 혼합물의 형태로 존재할 수도 있으며, 이 공-미립자 혼합물은 바람직하게는 분무 건조되지 않은 형태, 예를 들어 압출물 또는 응집체의 형태로 존재할 수도 있다.
조성물은 양이온성 세척성 계면활성제를 0.5 내지 6중량% 포함할 수도 있다. 당해 조성물은 양이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부를 0.5 내지 4중량%, 1 내지 3중량%, 또는 1 내지 2중량%까지도 포함할 수도 있다. 적합한 양이온성 세척성 계면활성제로는 알킬 피리디늄 화합물, 알킬 4급 암모늄 화합물, 알킬 4급 포스포늄 화합물 및 알킬 3급 설포늄 화합물이 있다. 양이온성 세척성 계면활성제는 미국 특허공보 제6,136,769호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 알콕실레이트 4급 암모늄(AQA) 계면활성제; 미국 특허공보 제6,004,922호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 디메틸 하이드록시에틸 4급 암모늄 화합물; 국제 공개공보 WO 98/35002호, WO 98/35003호, WO 98/35004호, WO 98/35005호 및 WO 98/35006호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 폴리아민 양이온성 계면활성제; 미국 특허공보 제4,228,042호, 제4,239,660호, 제4,260,529호 및 제6,022,844호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 양이온성 에스테르 계면활성제; 미국 특허공보 제6,221,825호 및 국제 공개공보 WO 00/47708호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 아미노 계면활성제, 구체적으로는 아미도 프로필디메틸 아민; 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있다. 바람직한 양이온성 세척성 계면활성제는 화학식 (R)(R1)(R2)(R3)N+ X-의 4급 암모늄 화합물[여기서, R은 선형 또는 분지형의 치환되거나 치환되지 않은 C6 -18 알킬 또는 알케닐 잔기이고, R1 및 R2는 독립적으로 메틸 또는 에틸 잔기로부터 선택되고, R3은 하이드록실, 하이드록시메틸 또는 하이드록시에틸 잔기이며, X는 중성 전하를 제공하는 음이온이고, 바람직한 음이온에는 할라이드(예를 들어, 클로라이드), 설페이트 및 설포네이트가 포함된다]이다. 바람직한 양이온성 세척성 계면활성제는 모노-C8 -10 알킬 모노-하이드록시에틸 디메틸 4급 암모늄 클로라이드, 모노-C10-12 알킬 모노-하이드록시에틸 디메틸 4급 암모늄 클로라이드 및 모노-C10 알킬 모노-하이드록시에틸 디메틸 4급 암모늄 클로라이드이다.
양이온성 세척성 계면활성제는 추가의 기름기 많은 오염물의 세정 능력을 제공한다. 그러나, 양이온성 세척성 계면활성제는 음이온성 세척성 계면활성제가 용액으로부터 침전되는 경향을 증가시킬 수도 있다. 바람직하게는, 양이온성 세척성 계면활성제 및 음이온성 세척성 계면활성제는 개별 입자의 형태로 조성물 중에 존재한다. 이는 양이온성 세척성 계면활성제가 음이온성 세척성 계면활성제의 바람직하지 못한 침전에 미칠 수도 있는 모든 영향을 최소화하며, 또한 물과의 접촉시 생성된 세척액이 탁해지지 않게 하는 것을 보장한다. 바람직하게는, 음이온성 세척성 계면활성제 대 양이온성 세척성 계면활성제의 중량비는 5:1 내지 25:1, 보다 바람직하게는 5:1 내지 20:1, 6:1 내지 15:1, 7:1 내지 10:1 또는 심지어 8:1 내지 9:1의 범위이다.
조성물은 추가의 보조 세척성 계면활성제, 예를 들어 쯔비터이온성 세척성 계면활성제 및/또는 양쪽성 세척성 계면활성제를 포함할 수도 있다.
조성물은 제올라이트 증강제를 0 내지 4중량% 포함한다. 당해 조성물은 제올라이트 증강제를 바람직하게는 0 내지 3중량%, 0 내지 2중량% 또는 0 내지 1중량% 포함한다. 조성물에 제올라이트 증강제가 없는 것이 바람직할 수도 있다. 이는 조성물이 매우 고도로 용해성인 것이 바람직할 경우 특히 바람직하다. 또한, 이는 물과의 접촉시 조성물이 투명한 세척액을 형성할 경우 매우 바람직하다. 제올라이트 증강제는 제올라이트 A, 제올라이트 X, 제올라이트 P 및 제올라이트 MAP를 포함한다.
조성물은 인산염 증강제를 0 내지 4중량% 포함한다. 당해 조성물은 인산염 증강제를 바람직하게는 0 내지 3중량%, 0 내지 2중량%, 또는 0 내지 1중량% 포함한다. 조성물에 인산염 증강제가 없는 것이 바람직할 수도 있다. 이는 조성물의 환경 프로파일이 매우 우수한 것이 바람직할 경우 특히 바람직하다. 인산염 증강제는 트라이폴리인산나트륨을 포함한다.
당해 조성물은 제올라이트 증강제 및 인산염 증강제 이외의 보조 증강제를 포함할 수도 있다. 바람직한 보조 증강제는 수용성 보조 증강제이다. 보조 증강제는 바람직하게는 탄산나트륨; 시트르산 및/또는 시트르산나트륨을 포함하는 이의 수용성 염; 설팜산 및/또는 이의 수용성 염; 중합체성 폴리카복실레이트, 예를 들어 아크릴산 및 말레산의 공중합체 또는 폴리아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된다. 당해 조성물은 수 불용성 증강제, 예를 들어 제올라이트 A 제올라이트 X, 제올라이트 P 및 제올라이트 MAP는 매우 소량으로 포함하는 반면, 수용성 보조 증강제, 예를 들어 탄산나트륨, 설팜산 및 시트르산은 비교적 다량으로 포함하는 것이 바람직할 수도 있다.
탄산나트륨 대 제올라이트 증강제의 중량비는 5:1 이상, 바람직하게는 10:1 이상, 15:1 이상, 20:1 이상 또는 25:1 이상인 것 까지도 바람직할 수도 있다.
조성물은 바람직하게는 프로테아제를 포함하며, 바람직하게는 당해 조성물은 조성물 100g당 활성 프로테아제를 11㎎ 이상 포함한다. 바람직하게는, 조성물은 조성물 100g당 활성 프로테아제를 15㎎ 이상, 20㎎ 이상, 또는 30㎎ 이상까지도 포함한다. 프로테아제는 칼슘 결합 부위를 포함할 수도 있다. 프로테아제는 세척액 중에 존재하는 다량의 유리 칼슘 양이온의 존재 하에서 개선된 안정성 및/또는 활성을 나타낼 수도 있다. 조성물 내로의 프로테아제의 혼입에 의해, 조성물의 세정 능력이 개선되며, 음이온성 세척성 계면활성제의 활성의 감소로 이어지는 제올라이트 증강제 및 인산염 증강제가 소량 존재하거나 부재함으로 인한 조성물의 세정 능력의 감소가 프로테아제의 증가된 안정성 및/또는 활성에 의해 완화된다. 바람직한 프로테아제에는 상표명 에스페라제(Esperase)
Figure 112006060244220-PCT00007
, 알칼라제(Alcalase)
Figure 112006060244220-PCT00008
, 에버라제(Everlase)
Figure 112006060244220-PCT00009
및 사비나제(Savinase)
Figure 112006060244220-PCT00010
하에 판매되며 노보자임즈(Novozymes)에 의해 공급되는 바실루스(Bacillus) [예를 들어, 바실루스 서틸리스(subtilis), 바실루스 렌투스(lentus), 바실루스 리케니포르미스(licheniformis), 바실루스 아밀로리케파시엔스(amyloliquefaciens) (BPN, BPN'), 바실루스 알칼로필루스(alcalophilus)] 유래의 서틸리신(subtilisin); 제넨코르(Genencor)에 의해 상표명 FN2
Figure 112006060244220-PCT00011
, FN3
Figure 112006060244220-PCT00012
및 FN4
Figure 112006060244220-PCT00013
하에 공급되는 프로테아제; 및 BLAP 및/또는 그의 변이체가 포함된다. 적합한 프로테아제는 유럽 특허공보 제130,756호, 국제 공개공보 WO 91/06637호, 국제 공개공보 WO 95/10591호 및 국제 공개공보 WO 99/20726호에 더욱 상세하게 개시되어 있다.
조성물은 또한 아밀라제를, 바람직하게는 조성물 100g당 활성 아밀라제 4㎎ 이상, 바람직하게는 6㎎ 이상, 10㎎ 이상, 15㎎ 이상, 심지어 20㎎ 이상 또는 30㎎의 양으로 포함하는 것이 바람직하다. 아밀라제는 칼슘 결합 부위를 포함할 수도 있다. 프로테아제와 유사하게, 아밀라제는 세척액 중에 존재하는 다량의ㅐ 유리 칼슘 양이온의 존재 하에서 개선된 안정성 및/또는 활성, 특히 안정성을 또한 나타낼 수도 있다. 조성물 내로의 아밀라제의 혼입에 의해 세정 능력이 개선된다. 바람직한 아밀라제에는 노보 인더스트리즈(Novo Industries) A/A에 의해 상표명 나탈라제(Natalase)
Figure 112006060244220-PCT00014
, 듀라밀(Duramyl)
Figure 112006060244220-PCT00015
, 테르마밀(Termamyl)
Figure 112006060244220-PCT00016
, 반(Ban)
Figure 112006060244220-PCT00017
, 푼가밀(Fungamyl)
Figure 112006060244220-PCT00018
하에 공급되는 아밀라제; 제넨코르에 의해 상표명 퓨라펙트(Purafect) Ox Am(상표명) 하에 공급되는 아밀라제; 및 그 혼합물이 포함된다. 아밀라제는 α-아밀라제 또는 β-아밀라제일 수 있다. 적합한 아밀라제는 국제 공개공보 WO 94/02597호 및 국제 공개공보 WO 96/23873호에 더욱 상세하게 개시되어 있다.
조성물은 또한 리파제를, 바람직하게는 조성물 100g당 활성 리파제 5㎎ 이상, 바람직하게는 7㎎ 이상, 10㎎ 이상, 15㎎ 이상, 20㎎ 이상, 또는 심지어 30㎎ 이상의 양으로 포함할 수도 있다. 리파제는 칼슘 결합 부위를 포함할 수도 있다. 프로테아제 및 아밀라제 둘 모두와 유사하게, 리파제는 세척액 중에 존재하는 다량의 유리 칼슘 양이온의 존재 하에서 개선된 안정성 및/또는 활성, 특히 활성을 또한 나타낼 수도 있다. 조성물 내로의 리파제의 혼입에 의해 세정 능력이 개선된다. 바람직한 리파제는 슈도모나스(Pseudomonas) 및 크로모박터(Chromobacter) 그룹에 의해 생산되는 것을 포함한다. 바람직한 리파제는 노보자임즈에 의해 상표명 리폴라제(Lipolase)
Figure 112006060244220-PCT00019
, 리폴라제 울트라(Ultra)
Figure 112006060244220-PCT00020
, 리포프라임(Lipoprime)
Figure 112006060244220-PCT00021
및 리펙스(Lipex)
Figure 112006060244220-PCT00022
하에 공급된다. 다른 적합한 리파제로는 큐티나제 및 에스테라제가 있다.
조성물은 후미콜라 인솔렌스(Humicola insolens)에 의해 생산되는 셀룰라제와 같은 진균류 셀룰라제 또는 세균류 셀룰라제를 비롯한 셀룰라제와, 특히 노보 인더스트리즈 A/A에 의해 상표명 케어자임(Carezyme)
Figure 112006060244220-PCT00023
, 엔도(Endo) A
Figure 112006060244220-PCT00024
하에 공급되는 셀룰라제와 같은 다른 효소를 또한 포함할 수도 있으며, 기타 적합한 셀룰라제로는 트리코데르마 롱기브라키아툼(Trichoderma longibrachiatum) 유래의 EGIII 셀룰라제; 미국 특허공보 제6,060,299호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 것과 같은 만난아제를 비롯한 카보하이드라제, 국제 공개공보 WO 99/27083호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 것과 같은 펙테이트 라이아제, 국제 공개공보 WO 96/33267호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 것과 같은 사이클로말토덱스트린글루카노트랜스퍼라제, 국제 공개공보 WO 99/02663호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 것과 같은 자일로글루카나제; 표백 효소, 예를 들어 퍼옥시다제, 락카제, 옥시게나제 (예를 들어, 카테콜 1,2 디옥시게나제), 국제 공개공보 WO 95/26393호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 리폭시게나제, 및 비-헴 할로퍼옥시다제가 있다.
프로테아제 대 리파제의 중량비는 1.5:1 이상, 바람직하게는 2:1 이상, 또는 3:1 이상인 것 까지도 바람직할 수도 있다. 프로테아제 대 아밀라제의 중량비는 1.5:1 내지 2.3:1 또는 1.7:1 내지 2:1의 범위인 것이 바람직할 수도 있다. 프로테아제 대 아밀라제의 중량비는 3.1:1 이상, 3.5:1 이상, 4:1 이상, 또는 5:1 이상인 것 까지도 바람직할 수도 있다.
당해 조성물은 바람직하게는 탄산염을 포함한다. 당해 조성물은 탄산염을 1 내지 50중량% 포함할 수도 있다. 당해 조성물은 탄산염을 5 내지 50중량%, 10 내지 40중량%, 10 내지 25중량%, 또는 12 내지 25중량% 포함하는 것이 바람직할 수도 있다. 바람직한 탄산염은 탄산나트륨 및/또는 중탄산나트륨이다. 매우 바람직한 탄산염은 탄산나트륨이다. 탄산염 또는 적어도 이의 일부는 전형적으로 중량 평균 입자 크기가 200 내지 500㎛ 범위인 입상 형태로 존재하는 것이 전형적이다. 그러나, 탄산염 또는 적어도 이의 일부는 전형적으로 중량 평균 입자 크기가 4 내지 40㎛ 범위인 미분화된 입상 형태로 존재하는 것이 바람직할 수도 있다. 이는 탄산염 또는 적어도 이의 일부가 비이온성 세척성 계면활성제와의 공-미립자 혼합물의 형태로 존재할 때 특히 바람직하다.
당해 조성물은 탄산염을 다량으로 포함할 수도 있다. 다량의 카보네이트는 세척액의 pH를 증가시킴으로써 조성물의 세정 능력을 개선시킨다. 이러한 알칼리성 증가에 의해, 존재할 경우 표백제의 성능이 개선되며, 오염물이 직물로부터 제거되는 것을 용이하게 하는 오염물의 가수 분해 경향을 증가시키고, 또한 세정될 오염물의 이온화 속도 및 정도를 증가시키며, 이온화된 오염물은 용해성이 보다 커지고 세탁 과정의 세탁 단계 동안 직물로부터의 제거가 보다 용이해진다. 또한, 높은 카보네이트 수준에 의해, 세제 조성물이 이유동성 입상 형태로 존재할 때 세제 조성물의 유동성이 개선된다.
그러나, 카보네이트 음이온은 세척액 중의 칼슘 양이온과 신속하게 착체를 형성하여 탄산칼슘을 형성한다. 탄산칼슘은 수 불용성이며 세척액에서 용액으로부터 침전되고 세척액 중의 직물 상에 침착되어 백색 유지가 열등해지도록 할 수 있다. 따라서 당해 조성물은 탄산염을 소량으로 포함하거나 포함하지 않는 경우가 바람직할 수도 있다. 당해 조성물은 조성물 중의 카보네이트의 존재와 관련된 결점의 최소화를 위하여 0 내지 10중량%의 탄산염을 포함할 수도 있다. 그러나, 상기에 더욱 상세하게 설명되어 있는 바와 같이, 조성물에 탄산염을 보다 다량으로 혼입시키는 것이 바람직할 수도 있다. 조성물이 탄산염을, 다량으로, 예를 들어 10중량% 이상 포함하는 경우, 조성물은 카보네이트 음이온과 산/염기 반응할 수 있는 산 공급원을 포함하는 것이 또한 바람직하며, 산 공급원은 설팜산, 시트르산, 말산, 석신산 또는 임의의 이들의 혼합물일 수 있다. 특히 바람직한 산 공급원은 설팜산이다. 바람직하게는, 카보네이트 음이온과 산/염기 반응할 수 있는 조성물 중의 산 공급원의 총량에 대한 탄산염의 중량비는 바람직하게는 50:1 미만, 보다 바람직하게는 25:1 미만, 15:1 미만, 10:1 미만 또는 심지어 5:1 미만이다.
세척액 중에 너무 높은 농도의 카보네이트 음이온이 있는 바람직하지 못한 영향을 최소화하기 위하여, 조성물 중의 카보네이트 음이온 공급원의 총량은 바람직하게는 제한된다. 바람직한 카보네이트 음이온 공급원은 탄산염 및/또는 과탄산염이다. 바람직하게는, 조성물 중의 카보네이트 음이온 공급원의 총량(카보네이트 음이온을 기준으로 함)은 카보네이트 음이온과 산/염기 반응할 수 있는 조성물 중에 존재하는 산 공급원의 총량을 완전히 중화시키는 데에 필요한 카보네이트 음이온 공급원의 이론적인 양보다 7 내지 14중량% 더 많다. 상기에 설명된 방식으로 조성물 중의 산 공급원의 양에 대하여 조성물 중의 카보네이트 음이온 공급원의 총량을 조절함으로써, 조성물 중에 카보네이트 음이온 공급원이 있는 모든 효과가 최대화되는 반면, 세척액 중에 너무 높은 농도의 카보네이트 음이온이 있는 모든 바람직하지 못한 부정적인 영향은 최소화된다.
조성물은 황산염을 포함할 수도 있다. 통상적으로, 당해 조성물은 황산염을 1 내지 50중량%, 또는 1 내지 30중량% 포함한다. 바람직한 황산염은 황산나트륨이다. 황산염 또는 적어도 이의 일부는 전형적으로 중량 평균 입자 크기가 60 내지 200㎛ 범위인 입상 형태로 존재하는 것이 전형적이다. 그러나, 황산염 또는 적어도 이의 일부는 전형적으로 중량 평균 입자 크기가 5㎛ 이상 60㎛ 미만, 바람직하게는 5 내지 40㎛ 범위인 미분화된 입상 형태로 존재하는 것이 바람직할 수도 있다. 심지어 황산염은 전형적으로 중량 평균 입자 크기가 200㎛ 초과 800㎛ 이하인 조악한 입상 형태로 존재하는 것이 바람직할 수도 있다.
당해 조성물은 바람직하게는 합한 총량이 60중량% 미만인 탄산염 및 황산염(예: 탄산나트륨 및 황산나트륨)를 포함할 수도 있다. 당해 조성물은 합한 총량이 55중량% 미만, 50중량% 미만, 45중량% 미만, 또는 40중량% 미만인 탄산염 및 황산염(예를 들어, 탄산나트륨 및 황산나트륨)를 포함할 수도 있다.
세제 조성물이 규산염을 소량으로 포함하는 것이 바람직할 수도 있다. 바람직하게는, 세제 조성물은 규산염을 10중량% 미만, 0 내지 5중량%, 4중량% 미만, 또는 2중량% 미만 포함한다. 세제 조성물에 규산염이 없는 것 까지도 바람직할 수도 있다. 규산염은 수 불용성 규산염을 포함한다. 규산염에는 무정형 규산염 및 결정성 층상 규산염(예: SKS-6)가 포함된다. 바람직한 규산염은 규산나트륨이다.
조성물은 중합체성 폴리카복실레이트를 1중량% 이상, 2중량% 이상, 3중량% 이상, 4중량% 이상, 또는 5중량% 이상 까지도 포함하는 것이 바람직할 수도 있다. 바람직한 중합체성 폴리카복실레이트에는, 바람직하게는 중량 평균 분자량이 1,000Da 내지 20,000 Da인 폴리아크릴레이트; 바람직하게는 말레산 단량체 대 아크릴산 단량체의 몰비가 1:1 내지 1:10이며 중량 평균 분자량이 10,000Da 내지 200,000Da이거나, 바람직하게는 말레산 단량체 대 아크릴산 단량체의 몰비가 0.3:1 내지 3:1이며 중량 평균 분자량이 1,000Da 내지 50,000Da인 말레산 및 아크릴산의 공중합체가 포함된다.
조성물이 화학식 비스((C2H5O)(C2H4O)n)(CH3)-N+-CxH2x-N+-(CH3)-비스((C2H5O)(C2H4O)n)의 오염물 분산제[여기서, n은 20 내지 30이며, x는 3 내지 8이다]를 포함하는 것이 또한 바람직할 수도 있다. 기타 적합한 오염물 분산제로는 화학식 설포네이트화 또는 설페이트화 비스((C2H5O)(C2H4O)n)(CH3)-N+-CxH2x-N+-(CH3)-비스((C2H5O)(C2H4O)n)의 설포네이트 또는 설페이트화 오염물 분산제[여기서, n은 20 내지 30이며, x는 3 내지 8이다]가 있다. 바람직하게는, 조성물은 전형적으로 위에 기재한 화학식의 오염물 분산제를 1중량% 이상, 2중량% 이상, 또는 3중량% 이상 포함한다.
조성물은 통상적으로 보조 성분을 포함한다. 이러한 보조 성분은 바람직하게는 테트라아세틸 에틸렌 디아민과 같은 표백 활성화제, 노나노일 옥시벤젠 설포네이트와 같은 옥시벤젠 설포네이트 표백 활성화제, 카프로락탐 표백 활성화제, N-노나노일-N-메틸 아세트아미드와 같은 이미드 표백 활성화제, 사전 형성된 과산, 예를 들어 N,N-프탈로일아미노 퍼옥시카프로익산, 노닐아미도 퍼옥시아디프산 또는 디벤조일 퍼옥사이드와 조합된 퍼카보네이트 및/또는 퍼보레이트와 같은 표백제; 킬레이트제, 예를 들어 디에틸렌 트리아민 펜타아세테이트, 디에틸렌 트리아민 펜타(메틸 포스폰산), 에틸렌 디아민-N'N'-디석신산, 에틸렌 디아민 테트라아세테이트, 에틸렌 디아민 테트라(메틸렌 포스폰산) 및 하이드록시에탄 디(메틸렌 포스폰산); 거품 억제 시스템, 예를 들어 실리콘계 거품 억제제; 증백제; 광표백제; 충전 염; 직물 유연제, 예를 들어 점토, 실리콘 및/또는 4급 암모늄 화합물; 응집제(flocculant), 예를 들어 폴리에틸렌 옥사이드; 염료 전사 억제제, 예를 들어 폴리비닐피롤리돈, 폴리 4-비닐피리딘 N-옥사이드 및/또는 비닐피롤리돈 및 비닐이미다졸의 공중합체; 직물 완전화 성분, 예를 들어 소수성으로 개질된 셀룰로오스와 이미다졸 및 에피클로르하이드린의 축합에 의해 생성되는 올리고머; 오염물 분산제 및 오염물 재침착 방지 보조제, 예를 들어 폴리카복실레이트, 알콕실화 폴리아민 및 에톡실화 에틸렌이민 중합체; 및 재침착 방지 성분, 예를 들어 카복시메틸 셀룰로오스 및 폴리에스테르를 포함한다. 바람직하게는, 당해 조성물은 염소계 표백제 1중량% 미만과 브롬계 표백제 1중량% 미만을 포함한다. 바람직하게는, 당해 조성물에는 고의적으로 첨가된 브롬계 표백제 및 염소계 표백제가 없다.
당해 조성물은 임의의 과립 형태, 예를 들어 응집체, 분무 건조된 분말, 압출물, 박편, 침상, 누들, 비드 또는 임의의 그의 조합의 형태로 존재할 수 있다. 바람직하게는, 세제 조성물은 이유동성 입자의 형태로 존재한다. 이유동 입상 형태의 세제 조성물의 벌크 밀도는 통상적으로 450 내지 1,000g/ℓ이며, 바람직한 낮은 벌크 밀도의 세제 조성물은 550 내지 650g/ℓ의 벌크 밀도를 갖고, 바람직한 높은 벌크 밀도의 세제 조성물은 750 내지 900g/ℓ의 벌크 밀도를 갖는다. 세탁 과정 동안, 당해 조성물은 전형적으로는 물과 접촉되어 pH가 7 초과 내지 11, 바람직하게는 8 내지 10.5인 세척액을 생성한다.
조성물은 응집법, 분무 건조법, 압출법, 혼합법, 건식 혼합법, 액체 스프레이-온, 롤러 압축법, 구형화법 또는 임의의 그의 조합을 비롯한 임의의 적합한 방법으로 제조될 수도 있다.
본 발명의 제2 양태에 있어서, 세척성 계면활성제 및 선택적으로 효소를 포함하는 과립상 세탁 세제 조성물이 제공되며, 당해 조성물은 9.2g/ℓ의 농도로 20℃의 온도에서 물과 접촉시 (i) 탁도가 500NTU(nephelometric turbidity nuit) 미만이며; (ii) pH가 8 내지 12 범위인 투명한 세척액을 형성한다. 바람직하게는, 생성된 세척액의 탁도는 400NTU 미만, 300NTU 미만, 또는 10 내지 300NTU이다. 세척액의 탁도는 전형적으로 H1 93703 마이크로프로세서 탁도계를 사용하여 측정한다. 세척액의 탁도의 통상적 측정 방법은 하기와 같다: 조성물 9.2g을 비이커 속의 물 1ℓ에 첨가하여 용액을 형성한다. 이 용액을 63rad/s(600rpm)의 속도로 20℃에서 5분 동안 교반시킨다. 이어서 용액의 탁도를 제조업자의 설명서에 따라 H1 93703 마이크로프로세서 탁도계를 사용하여 측정한다.
실시예 1
Figure 112006060244220-PCT00025
분무 건조된 분말의 제조
위에서 기재한 조성을 가지며 수분 함량이 25.89%인 수성 슬러리를 제조한다. 이 수성 슬러리를 72℃로 가열하고 고압(5.5x106Nm-2 내지 6.0x106Nm-2) 하에 공기 유입 온도가 270 내지 300℃인 역류식 분무 건조 타워 내로 펌핑한다. 이 수성 슬러리를 분무화하고 분무화된 슬러리를 건조시켜 고체 혼합물을 형성하고, 이어서 이를 냉각 및 체질하여 너무 큰 물질(>1.8㎜)을 제거하여 분무 건조된 분말을 형성하는데, 이 분말은 이유동한다. 미세 물질(<0.15㎜)을 분무 건조 타워에서 배기 공기(exhaust air)로 분급(elutriate)하고 포스트 타워 봉쇄 시스템(post tower containment system)에서 수집한다. 분무 건조된 분말은 수분 함량이 1.0중량%이며, 벌크 밀도가 427g/ℓ이고 입자 크기 분포는 분무 건조된 분말 중 95.2중량%가 150 내지 710㎛의 입자 크기를 갖도록 하는 것이다. 분무 건조된 분말의 조성을 아래에 제시한다.
Figure 112006060244220-PCT00026
비이온성 세척성 계면활성제 입자의 제조
비이온성 세척성 계면활성제 입자를 2.5rad/s(24 rpm)의 속도로 작동하는 1m 직경의 시멘트 혼합기를 사용하여 25㎏ 배치(batch) 기준으로 제조한다. 함 쉐미(Hamm Chemie)에 의해 상표명 롬바흐 라이히트술파트(Rombach Leichtsulfat)
Figure 112006060244220-PCT00027
하에 공급되는 18.9㎏의 경등급(light grade) 황산나트륨을 혼합기에 첨가하고 이어서 평균 에톡실화 정도가 7인(AE7) 액체 형태의 C14 -15 에톡실화 알킬 알콜 6.1㎏ 을 40℃에서 황산나트륨 상으로 분무한다. 이 혼합물을 3분 동안 혼합하여 비이온성 세척성 계면활성제 입자를 생성하는데, 이 입자는 이유동한다. 비이온성 세척성 계면활성제 입자의 조성은 하기와 같다:
평균 에톡실화도가 7인(AE7) C14 -15 에톡실화 알킬 알콜 24.4%(w/w),
황산나트륨 75.6%(w/w).
본 발명에 따른 과립상 세탁 세제 조성물의 제조
실시예 1의 10.15㎏의 분무 건조된 분말, 실시예 1의 2.92㎏의 비이온성 세척성 계면활성제 입자 및 11.93㎏(총량)의 개별적으로 투입되는 다른 건식 첨가 재료를 2.5rad/s(24rpm)의 속도로 작동하는 1m 직경의 콘크리트 배치 혼합기 내로 투입한다. 일단 모든 재료가 혼합기 내로 투입되면, 이 혼합물을 5분 동안 혼합하여 본 발명에 따른 과립상 세탁 세제 조성물을 형성한다. 본 발명에 따른 과립상 세탁 세제 조성물 제형을 아래에 기재한다.
Figure 112006060244220-PCT00028
실시예 2
6.00%(w/w)의 양이온성 세척성 계면활성제 입자(하기에 더욱 상세하게 설명되어 있음)를 건식 첨가하고 건식 첨가되는 탄산나트륨의 수준을 19.29%(w/w)에서 13.29%(w/w)로 감소시키는 것을 제외하고는 실시예 1을 반복한다.
양이온성 세척성 계면활성제 입자의 제조
양이온성 계면활성제 입자는 모턴(Morton) FM-50 뢰디게(Loedige) 상에서 14.6㎏ 배치 기준으로 제조한다. 미분화 황산나트륨 4.5㎏ 및 미분화 탄산나트륨 4.5㎏을 혼합기에서 예비 혼합한다. 40% 활성 모노-C12 -14 알킬 모노-하이드록시에틸 디메틸 4급 암모늄 클로라이드(양이온성 계면활성제) 4.6㎏ 수용액을 주 구동 장치(main drive) 및 초퍼(chopper) 둘 모두를 작동시키면서 혼합기 내의 미분화 황산나트륨 및 미분화 탄산나트륨에 첨가한다. 대략 2분 동안 혼합한 후, 미분화 황산나트륨 및 미분화 탄산나트륨의 1:1 중량비 혼합물 1.0㎏을 방착제(dusting agent)로서 혼합기에 첨가한다. 생성된 응집체를 수집하고 100 내지 140℃에서 2500ℓ/분의 공기를 기본으로 하여 유동층 건조기를 사용하여 30분 동안 건조시킨다. 생성된 분말을 체질하고 1400㎛를 통과한 부분(fraction)을 양이온성 계면활성제 입자로서 수집한다. 양이온성 계면활성제 입자의 조성은 하기와 같다:
모노-C12 -14 알킬 모노-하이드록시에틸 디메틸 4급 암모늄 클로라이드 15%(w/w),
탄산나트륨 40.76%(w/w),
황산나트륨 40.76%(w/w),
수분 및 나머지 3.48%(w/w).
실시예 3
시트르산 2.50%(w/w) 대신 설팜산(혼합 등급 - 로디아(Rhodia)에 의해 공급 됨) 2.50%(w/w)을 건식 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1을 반복한다.
실시예 4
설팜산(혼합 등급 - 로디아에 의해 공급됨) 1.25%(w/w)을 건식 첨가하고, 건식 첨가되는 시트르산의 수준을 2.5%(w/w)에서 1.25%(w/w)로 감소시키는 것을 제외하고는 실시예 1을 반복한다.
실시예 5
Figure 112006060244220-PCT00029
분무 건조된 분말의 제조
상기에 설명된 조성을 가지며 수분 함량이 34.00%인 수성 슬러리를 제조한다. 이 수성 슬러리를 72℃로 가열하고 고압(5.5×106Nm-2 내지 6.0×106Nm-2) 하에 공기 유입 온도가 270 내지 300℃인 역류식 분무 건조 타워 내로 펌핑한다. 수성 슬러리를 분무화하고 분무화된 슬러리를 건조시켜 고체 혼합물을 형성하고, 이어서 이를 냉각 및 체질하여 너무 큰 물질(>1.8㎜)을 제거하여 분무 건조된 분말을 형성하는데, 이 분말은 이유동한다. 미세 물질(<0.15㎜)을 분무 건조 타워에서 배기 공기로 분급하고 포스트 타워 봉쇄 시스템에서 수집한다. 분무 건조된 분말은 수분 함량이 1.0중량%이며, 벌크 밀도가 440g/ℓ이고 입자 크기 분포는 분무 건조된 분말 중 95.2중량%가 150 내지 710㎛의 입자 크기를 갖도록 하는 것이다. 분무 건조된 분말의 조성이 하기에 주어져 있다.
Figure 112006060244220-PCT00030
본 발명에 따른 과립상 세탁 세제 조성물의 제조
분무 건조된 분말 10.61㎏ 및 개별적으로 투입되는 다른 건식 첨가 재료 13.74㎏(총량)를 2.5rad/s(24rpm)의 속도로 작동하는 1m 직경의 콘크리트 배치 혼합기 내로 투입한다. 이러한 건조 재료의 첨가 후, 평균 에톡실화 정도가 7인(AE7) C14 -15 에톡실화 알킬 알콜 0.54㎏을 분무에 의해 혼합물에 가한다. 이후, 0.11 ㎏의 방향제를 분무에 의해 가한다. 일단 모든 재료가 혼합기 내로 투입되면, 이 혼합물을 5분 동안 혼합하여 본 발명에 따른 과립상 세탁 세제 조성물을 형성한다. 본 발명에 따른 과립상 세탁 세제 조성물 제형을 아래에 기재한다.
실시예 6
0.93%의 시트르산 대신 0.93%(w/w)의 설팜산(혼합 등급 - 로디아에 의해 공급됨)을 건식 첨가한 것을 제외하고는 실시예 5를 반복한다.
실시예 7
Figure 112006060244220-PCT00032
분무 건조된 분말의 제조
상기에 설명된 조성을 가지며 수분 함량이 29.81%인 수성 슬러리를 제조한다. 이 수성 슬러리를 65℃ 내지 80℃로 가열하고 고압(5.5x106 Nm-2 내지 6.0x106 Nm-2) 하에 공기 유입 온도가 270℃ 내지 300℃인 역류식 분무 건조 타워 내로 펌핑한다. 이 수성 슬러리를 분무화하고 분무화된 슬러리를 건조시켜 고체 혼합물을 형성하고, 이어서 이를 냉각 및 체질하여 너무 큰 물질(>1.8㎜)을 제거하여 분무 건조된 분말을 형성하는데, 이 분말은 이유동한다. 미세 물질(<0.15㎜)을 분무 건 조 타워에서 배기 공기로 분급하고 포스트 타워 봉쇄 시스템에서 수집한다. 생성된 분무 건조된 분말의 조성이 하기에 설명되어 있다.
Figure 112006060244220-PCT00033
비이온성 세척성 계면활성제 입자의 제조
비이온성 세척성 계면활성제 입자를 2.5rad/s(24rpm)의 속도로 작동하는 1m 직경의 시멘트 혼합기를 사용하여 25㎏ 배치 기준으로 제조한다. 함 쉐미에 의해 상표명 롬바흐 라이히트술파트
Figure 112006060244220-PCT00034
하에 공급되는 경등급 황산나트륨 18.9㎏을 혼합기에 첨가하고 이어서 평균 에톡실화 정도가 7인(AE7) 액체 형태의 C14 -15 에톡실화 알킬 알콜 6.1㎏을 40℃에서 황산나트륨 상으로 분무한다. 이 혼합물을 3분 동안 혼합하여 비이온성 세척성 계면활성제 입자를 생성하는데, 이 입자는 이유동한다. 비이온성 세척성 계면활성제 입자의 조성은 하기와 같다:
평균 에톡실화 정도가 7인(AE7) C14 -15 에톡실화 알킬 알콜 24.4%(w/w),
황산나트륨 75.6%(w/w).
음이온성 세척성 계면활성제 입자의 제조
선형 알킬 벤젠 설포네이트 입자는 모턴 FM-50 뢰디게 상에서 14㎏ 배치 기준으로 제조한다. 먼저 미분화 황산나트륨 7.84㎏ 및 미분화 탄산나트륨 2.70㎏을 주 구동 장치 및 초퍼를 작동시키면서 혼합기에 첨가한다. 이어서, 선형 알킬 벤젠 설포네이트 페이스트 3.46㎏(78중량%의 활성물)를 혼합기에 첨가하고 2분 동안 혼합하여 혼합물을 생성한다. 생성된 혼합물을 수집하고 100 내지 140℃에서 2500ℓ/분의 공기를 기본으로 하여 유동층 건조기를 사용하여 30분 동안 건조시켜 음이온성 세척성 계면활성제 입자를 생성한다. 음이온성 세척성 계면활성제 입자의 조성은 하기와 같다:
선형 알킬 벤젠 설포네이트 20%(w/w),
탄산나트륨 20%(w/w),
황산나트륨 58%(w/w),
나머지 성분 및 물 2%(w/w).
본 발명에 따른 과립상 세탁 세제 조성물의 제조
실시예 9의 분무 건조된 분말 10.15㎏, 실시예 9의 비이온성 세척성 계면활성제 입자 2.26㎏, 실시예 9의 음이온성 세척성 계면 활성제 8.5㎏ 및 개별적으로 투입되는 다른 건식 첨가 재료 4.09㎏(총량)를 2.5rad/s(24rpm)의 속도로 작동하는 1m 직경의 콘크리트 배치 혼합기 내로 투입한다. 일단 모든 재료가 혼합기 내로 투입되면, 이 혼합물을 5분 동안 혼합하여 본 발명에 따른 과립상 세탁 세제 조성물을 형성한다. 본 발명에 따른 과립상 세탁 세제 조성물 제형을 아래에 기재한다.
Figure 112006060244220-PCT00035
본 발명의 상세한 설명에 인용된 모든 문헌은 관련 부분에서 본 명세서에 참 고로 포함되며, 어떠한 문헌의 인용도 본 발명에 대한 종래 기술로 인정하는 것으로 해석되어서는 안 된다.
본 발명의 특정 양태가 예시되고 설명되었지만, 다양한 다른 변경과 수정이 본 발명의 사상 및 범주로부터 벗어남이 없이 이루어질 수 있음이 당업자들에게 명백하게 될 것이다. 따라서, 본 발명의 범주 내에 있는 이러한 모든 변경과 수정을 첨부된 청구의 범위에 포함하고자 한다.

Claims (23)

  1. 음이온성 세척성 계면활성제(i) 8 내지 55중량%,
    비이온성 세척성 계면활성제(ii) 2 내지 8중량%,
    제올라이트 증강제(iii) 0 내지 4중량%,
    인산염 증강제(iv) 0 내지 4중량% 및
    임의로, 효소(v)를 포함하는 과립상 세탁 세제 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    조성물 100g당 활성 프로테아제 11㎎ 이상의 양의 프로테아제(i) 및
    조성물 100g당 활성 리파제 5㎎ 이상의 양의 리파제(ii)를 포함(여기서, 프로테아제 대 리파제의 중량비는 1.5:1 이상이다)하는 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 이유동성 입상 형태로 존재하며,
    조성물 100g당 활성 프로테아제 11㎎ 이상의 양의 프로테아제(i) 및
    조성물 100g당 활성 아밀라제 4㎎ 이상의 양의 아밀라제(ii)를 포함(여기서, 프로테아제 대 아밀라제의 중량비는 1.5:1 내지 2.3:1의 범위이다)하는 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서,
    조성물 100g당 활성 프로테아제 11㎎ 이상의 양의 프로테아제(i) 및
    조성물 100g당 활성 아밀라제 4㎎ 이상의 양의 아밀라제(ii)를 포함(여기서, 프로테아제 대 아밀라제의 중량비는 3.1:1 이상이다)하는 조성물.
  5. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서,
    음이온성 세척성 계면활성제(i) 6 내지 12중량% 및
    비이온성 세척성 계면활성제(ii) 4 내지 6중량%를 포함하며, 음이온성 세척성 계면활성제의 적어도 일부와 비이온성 세척성 계면활성제의 적어도 일부는 공-미립자 혼합물의 형태로 존재하고, 공-미립자 혼합물은 분무 건조된 분말 형태로 존재하는 조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서,
    선형 알킬 벤젠 설포네이트(i) 10 내지 16중량%,
    비이온성 세척성 계면활성제(ii) 2 내지 4중량% 및
    비누(iii)를 포함하며, 선형 알킬벤젠 설포네이트의 적어도 일부는 비누와의 공-미립자 혼합물의 형태로 존재하고, 선형 알킬 벤젠 설포네이트 및 비누의 공-미립자 혼합물은 분무 건조된 형태로 존재하며, 비이온성 세척성 계면활성제의 적어도 일부는 비누와의 공-미립자 혼합물의 형태로 존재하고, 비이온성 세척성 계면활성제 및 비누의 공-미립자 혼합물은 분무 건조되지 않은(non-spray-dried) 형태로 존재하는 조성물.
  7. 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, 탄산염을 0 내지 10중량%포함하는 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서,
    탄산염(i) 10중량% 이상 및
    카보네이트 음이온과 산/염기 반응할 수 있는 산 공급원(ii)을 포함하며, 탄산염 대 산 공급원의 중량비가 15:1 미만인 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항에 있어서,
    카보네이트 음이온 공급원(i) 및
    카보네이트 음이온과 산/염기 반응할 수 있는 산 공급원(ii)을 포함하며, 카보네이트 음이온 공급원의 총량이, 카보네이트 음이온 기준으로, 카보네이트 음이온과 산/염기 반응할 수 있는 조성물 중에 존재하는 산 공급원의 총량을 완전히 중화시키는 데에 필요한 카보네이트 음이온 공급원의 이론적인 양보다 7 내지 14중량% 더 많은 조성물.
  10. 제1항 내지 제9항 중의 어느 한 항에 있어서, 규산염을 0 내지 5중량% 포함하는 조성물.
  11. 제1항 내지 제10항 중의 어느 한 항에 있어서, 중합체성 폴리카복실레이트를 2중량% 이상 포함하는 조성물.
  12. 제1항 내지 제11항 중의 어느 한 항에 있어서, 제올라이트 증강제를 함유하지 않는 조성물.
  13. 제1항 내지 제12항 중의 어느 한 항에 있어서, 인산염 증강제를 함유하지 않는 조성물.
  14. 제1항 내지 제13항 중의 어느 한 항에 있어서, 양이온성 세척성 계면활성제를 0.5 내지 6중량% 포함하는 조성물.
  15. 제1항 내지 제14항 중의 어느 한 항에 있어서, 화학식 비스((C2H5O)(C2H4O)n)(CH3)-N+-CxH2x-N+-(CH3)-비스((C2H5O)(C2H4O)n)의 오염물 분산제(여기서, n은 20 내지 30이며, x는 3 내지 8이다)를 포함하는 조성물.
  16. 제1항 내지 제15항 중의 어느 한 항에 있어서, 화학식 설포네이트화 또는 설페이트화 비스((C2H5O)(C2H4O)n)(CH3)-N+-CxH2x-N+-(CH3)-비스((C2H5O)(C2H4O)n)의 오염물 분산제(여기서, n은 20 내지 30이며, x는 3 내지 8이다)를 포함하는 조성물.
  17. 제1항 내지 제16항 중의 어느 한 항에 있어서, 오염물 분산제를 2중량% 이상 포함하는 조성물.
  18. 제1항 내지 제17항 중의 어느 한 항에 있어서, 설팜산 및/또는 이의 수용성 염을 포함하는 조성물.
  19. 제1항 내지 제18항 중의 어느 한 항에 있어서, 음이온성 세척성 계면활성제의 적어도 일부가 압출물 형태로 존재하는 조성물.
  20. 제1항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 있어서, 음이온성 세척성 계면활성제의 적어도 일부가 응집체 형태로 존재하는 조성물.
  21. 제1항 내지 제20항 중의 어느 한 항에 있어서, 비이온성 세척성 계면활성제의 적어도 일부가 분무 건조된 분말 형태로 존재하는 조성물.
  22. 제1항 내지 제21항 중의 어느 한 항에 있어서, 이유동성 입상 형태로 존재하는 조성물.
  23. 세척성 계면활성제 및 임의로, 효소를 포함하며, 9.2g/ℓ의 농도로 20℃의 온도에서 물과 접촉시 (i) 탁도가 500NTU 미만이고, (ii) pH 범위가 8 내지 12인 투명한 세척액을 형성하는 과립상 세탁 조성물.
KR1020067016964A 2004-02-23 2005-02-23 음이온성 세척성 계면활성제를 포함하고 제올라이트 증강제및 인산염 증강제를 소량으로 포함하거나 전혀 포함하지않는 과립상 세탁 세제 조성물 KR20060127153A (ko)

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