KR20060044945A - 기판의 처리 장치 및 처리 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 챔버 내의 분위기를 이 챔버의 폭 방향과 길이 방향에 대하여 균일하게 배기될 수 있도록 한 기판의 처리 장치를 제공한다.

본 발명에 따르면, 처리액에 의해 처리되는 챔버(5a~5c)가 형성된 장치 본체(1)와, 기판을 챔버 내의 소정 방향을 따라 반송하는 반송 롤러(17)와, 기판의 상부에, 기판의 반송 방향과 교차하는 상기 챔버의 폭 방향 중앙 부분에 기판의 반송 방향을 따라 배치된 주 배기 덕트(6)와, 일단이 주 배기 덕트와 연통되고 타단이 챔버의 폭 방향 단부에 위치하여 챔버 내의 분위기를 흡인하는 흡인구(9)에 설치되는 동시에, 주 배기 덕트를 중심으로 하여 챔버의 폭 방향에 대하여 대칭으로 설치된 복수개의 분지 배기 덕트(8)를 구비한다.

기판, 챔버, 배기 덕트, 처리액, 흡인구, 반송 롤러, 분위기

Description

기판의 처리 장치 및 처리 방법 {APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATES AND METHOD OF TREATING SUBSTRATES}

도 1은 본 발명의 일실시예를 나타낸 처리 장치의 측면도이다.

도 2는 처리 장치의 폭 방향을 따른 종단면도이다.

도 3은 장치 본체의 일부분을 상부로부터 본 사시도이다.

도 4는 본 발명의 다른 실시예를 나타낸 장치 본체의 일부분을 상부로부터 본 사시도이다.

도 5는 처리 장치의 폭 방향을 따른 종단면도이다.

* 도면의 부호의 설명

1: 장치 본체, 2: 바닥판,

3: 측판 4: 구획판

5a~5c: 제1 내지 제3 챔버, 6: 주 배기 덕트,

8: 분지 배기 덕트, 9: 흡인구,

10: 흡인 덕트, 11: 천정부,

12: 개구부, 14: 커버 부재,

16: 반송축(반송 기구) 17: 반송 롤러(반송 기구)

본 발명은 장치 본체에 형성된 챔버 내에서 반송되는 기판을 처리액으로 처리하는 처리 장치 및 처리 방법에 관한 것이다.

예를 들어, 액정 표시 장치나 반도체 장치의 제조 공정에 있어서는, 기판으로서의 액정용 유리 기판이나 반도체 웨이퍼를 에칭 처리하거나, 에칭 후에 마스크로서 사용된 레지스트의 박리 처리를 하거나, 에칭이나 박리 처리가 행해진 기판을 세정 처리하는 공정이 있다. 이와 같은 기판의 처리 공정에서는, 기판을 한 장씩 반송하면서 처리하는 낱장방식이 채용된다.

낱장방식에 의해 기판을 처리하는 경우, 기판을 반송하면서 그 상하면 또는 상면에 샤워 노즐로부터 처리액을 분사하여 처리하는 처리 장치가 알려져 있다. 이 처리 장치는 장치 본체를 가지고, 이 장치 본체에는 복수개의 챔버가 구획 형성되어 있다. 챔버 내에는 상기 기판의 반송 방향을 따라 반송 기구를 구성하는 반송축이 회전 가능하게 설치되어 있다. 이 반송 축에는 복수개의 반송 롤러가 축방향으로 소정 간격으로 설치되어 있다. 그리고, 상기 반송축을 회전 구동함으로써, 상기 기판을 반송 롤러에 의해 반송하도록 되어 있다.

챔버 내에서 기판을 처리액에 의해 처리하면, 기판에 분사된 처리액이 미스트(mist)형으로 되어 챔버내를 부유한다. 챔버내를 부유하는 미스트형의 처리액은, 처리 후의 기판에 부착되어, 기판을 오염시키는 원인으로 된다. 특히 세정 처리된 기판에 미스트형의 처리액이 부착되면, 품질의 저하나 불량품의 발생을 초래 하는 경우가 있어, 바람직하지 않다.

종래, 기판을 챔버 내에 반송하고, 처리액을 분사하여 처리하는 처리 장치에 있어서는, 챔버에 배기 덕트를 접속하고, 챔버 내에 생기는 미스트형의 처리액을 포함하는 분위기를 배기하도록 하고 있다.

상기 반송 장치는, 장치 본체의 기판의 반송 방향과 교차하는 폭 방향의 일측이 조작 패널 등이 배치된 오퍼레이터부로 되어 있고, 타측이 반송 기구의 구동원 등이 배치된 보수 점검부로 되어 있어, 각 챔버에는 상기 보수 점검부 측으로 되는 폭 방향의 일측면에 상기 배기 덕트가 접속되어 있었다.

배기 덕트를 챔버의 폭 방향의 일측면에 접속하면, 챔버 내의 분위기는 폭 방향 타측으로부터 일측을 향해 흘러 배출된다. 그러나, 챔버 내의 분위기를 폭 방향의 일측면에 접속된 배기 덕트에 의해 배기하도록 하면, 챔버 내의 폭 방향의 일측부의 분위기가 타측부의 분위기보다 배기되기 쉬워진다. 바꾸어 말하면, 챔버 내의 폭 방향 타측부의 분위기가 배기되기 어려워진다.

그러므로, 챔버 내의 분위기가 폭 방향 전체에 걸쳐서 균일하게 배기되기 어려워지기 때문에, 그 결과, 챔버 내에 미스트형의 처리액이 체류되고, 그것이 기판에 부착되어 오염의 원인으로 되는 경우가 있었다.

본 발명은 챔버 내의 폭 방향의 일측부와 타측부를 균일하게 배기될 수 있도록 한 기판의 처리 장치 및 처리 방법을 제공한다.

본 발명은, 기판을 처리액에 의해 처리하는 처리 장치에 있어서,

상기 기판을 처리액에 의해 처리하는 챔버가 형성된 장치 본체,

상기 기판을 상기 챔버 내의 소정 방향을 따라 반송하는 반송 기구,

상기 기판의 상부에, 기판의 반송 방향과 교차하는 상기 챔버의 폭 방향 중앙 부분에 기판의 반송 방향을 따라 배치된 주 배기 덕트, 및

일단이 상기 주 배기 덕트와 연통되고 타단이 상기 챔버의 폭 방향 단부에 위치하여 챔버 내의 분위기를 흡인하는 흡인구에 설치되며, 상기 주 배기 덕트를 중심으로 하여 상기 챔버의 폭 방향에 대하여 대칭으로 설치된 복수개의 분지 배기 덕트

를 구비한 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치이다.

본 발명은, 기판을 처리액에 의해 처리하는 처리 장치에 있어서,

상기 기판을 처리액에 의해 처리하는 챔버가 형성된 장치 본체, 및

상기 기판을 상기 챔버 내의 소정 방향을 따라 반송하는 반송 기구를 구비하고,

상기 장치 본체는,

바닥판,

상기 바닥판의 상기 기판의 반송 방향과 교차하는 폭 방향 양측에 직립된 측 판,

한 쌍의 측판 사이에 설치되어 이들 측판 사이에 상기 챔버를 구획 형성하는 구획판,

상기 구획판의 상단의 폭 방향 중앙부에 상기 기판의 반송 방향을 따라 설치 된 주 배기 덕트, 및

일단이 상기 주 배기 덕트와 연통되고 타단이 상기 챔버의 폭 방향 양단부에 위치하여 챔버 내의 분위기를 흡인하는 흡인구에 설치되며, 챔버의 기판의 반송 방향 및 폭 방향에 대하여 대칭으로 설치된 복수개의 분지 배기 덕트

를 구비한 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치이다.

본 발명은, 처리 장치에 형성된 챔버 내에서 기판을 처리액에 의해 처리하는 처리 방법에 있어서,

상기 기판을 상기 챔버 내의 소정 방향을 따라 반송하는 단계, 및

상기 챔버 내의 분위기를 상기 챔버의 상기 기판의 반송 방향과 교차하는 폭 방향으로부터 대칭으로 배기하는 단계

를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 방법이다.

이하, 본 발명의 실시예를 도면을 참조하여 설명한다.

도 1 내지 도 3은 본 발명의 제1 실시예를 나타낸다. 도 1은 처리 장치를 나타낸 측면도이고, 도 2는 종단면도이며, 도 3은 사시도이고, 처리 장치는 장치 본체(1)를 구비하고 있다. 상기 장치 본체(1)는 도 2 및 도 3에 나타낸 바와 같이, 역산형상으로 절곡된 바닥판(2)을 가지고, 이 바닥판(2)의 폭 방향 양단에는 측판(3)이 직립되어 있다.

한 쌍의 측판(3) 사이에는, 길이 방향으로 소정 간격으로 복수개의 구획판(4)이 가설(架設)되어 있어, 이들 구획판(4)에 의해 장치 본체(1)에 복수개의 챔버 를 구획 형성하고 있다. 이 실시예에서는 도 1에 나타낸 바와 같이, 제1 내지 제3의 3개의 챔버(5a~5c)가 구획 형성되어 있다.

각 구획판(4)의 상단은 산(山)형상을 이루고 있어, 그 폭 방향 중앙 부분에는 직사각형 통형의 주 배기 덕트(6)가 장치 본체(1)의 길이 방향 전체 길이에 걸쳐서 설치되어 있다. 주 배기 덕트(6)의 각 챔버(5a~5c)의 길이 방향의 양단부에 대응 위치하는 부분에는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 연통구(7)가 양측면에 개구되어 형성되어 있다.

각 연통구(7)에는 주 배기 덕트(6)보다도 단면적이 작은 직사각형 통형의 분지 배기 덕트(8)의 일단이 접속되어 있다. 각 분지 배기 덕트(8)의 타단에는 흡인구(9)가 형성되어 있다. 각 흡인구(9)는, 각 챔버(5a~5c)의 폭 방향 양단부에서, 측판(3)의 내면에 근접된 위치에, 또한 각 챔버(5a~5c) 내를 후술하는 바와 같이, 반송되는 기판(W)의 상부에 위치되어 있다

즉, 각 챔버(5a~5c)의 천정부(11)에는, 4개의 분지 배기 덕트(8)가 주 배기 덕트(6)를 중심으로 하여 각 챔버(5a~5c)의 폭 방향에 대하여 대칭으로, 또한 각 챔버(5a~5c)의 폭 방향과 교차하는 길이 방향에 대하여 대칭으로 되도록, 상기 주 배기 덕트(6)에 접속되어 있다.

주 배기 덕트(6)의 각 챔버(5a~5c)에 대응하는 부분의 길이 방향 중앙부의 상면에는 접속 구멍(10a)이 각각 개구 형성되어 있다. 각 접속구멍(10a)에는 흡인 덕트(10)가 접속되어 있다. 각 흡인 덕트(10)는 도시하지 않은 흡인 펌프에 각각, 또는 1개에 집합되어 접속된다. 그에 따라, 흡인 펌프의 흡인력은 주 배기 덕트 (6)와 복수개의 분지 배기 덕트(8)를 통하여 각각의 챔버(5a~5c)에 작용하도록 되어 있다.

각 챔버(5a~5c)의 천정부(11)에는, 주 배기 덕트(6), 한 쌍의 분지 배기 덕트(8) 및 측판(3)의 상단부에 의해 둘러싸인 한 쌍의 개구부(12)가 형성되어 있다. 개구부(12)를 형성하는 주 배기 덕트(6)의 양측면, 한 쌍의 분지 배기 덕트(8)의 개구부(12)의 내측을 향한 측면 및 측판(3)의 상부 내면에는 각각 플랜지(13)가 형성되어 있다. 이들 플랜지(13)에는 도 2에 나타낸 바와 같이 커버 부재(14)가 주변부의 하면을 기밀방식으로 결합하여 장착 및 분리 가능하게 설치된다.

즉, 각 챔버(5a~5c)의 천정부(11)에 형성된 각각 한 쌍의 개구부(12)는 커버 부재(14)에 의해 기밀방식으로 밀폐된다. 그리고, 커버 부재(14)는 유리 등의 투명한 재료로 형성되고, 이 커버 부재(14)를 통해서 챔버(5a~5c) 내를 시인(視認)할 수 있도록 되어 있다.

각 챔버(5a~5c) 내에는 복수개의 반송축(16)(도 2에 1개만 도시함)이 길이 방향을 따라 소정 간격으로 회전 가능하게 설치되어 있다. 각 반송축(16)에는 복수개의 반송 롤러(17)가 축방향으로 소정 간격으로 설치되어 있다. 소정의 반송축(16)의 상부에는 가압축(18)이 회전 가능하게 설치되어 있다. 가압축(18)의 양단부에는, 반송축(16)의 양단부에 위치하는 반송 롤러(17)와 대향하여 가압 롤러(19)가 설치되어 있다.

상기 반송축(16)의 양단부는 한 쌍의 측판(3)으로부터 외부로 돌출되어 있어, 그 일단부는 전동축(21)을 통하여 구동원(22)에 의해 회전 구동되도록 되어 있 다. 즉, 구동원(22)에 의해 회전 구동되는 구동 스프로켓(23)과, 상기 전동축(21)에 설치된 종동 풀리(24)에는 체인(25)이 설치되어 있다.

전동축(21)과 반송축(16)에는 서로 맞물리는 기어(자세한 것은 도시하지 않음)가 설치되어 있다. 그에 따라, 구동원(22)이 작동되면, 상기 전동축(21)을 통하여 상기 반송축(16)이 회전 구동되도록 되어 있다. 그리고, 가압축(18)에는 반송축(16)의 회전이 전달되고, 반송축(16)과 역방향으로 회전 구동되도록 되어 있다.

각 챔버(5a~5c)를 구획 형성하는 상기 구획판(4)에는 도 2와 도 3에 나타낸 바와 같이 상기 반송 롤러(17)의 상단과 대략 동일한 높이로, 챔버(5a~5c)의 폭 방향 대략 전체 길이에 걸치는 길이의 슬릿(27)이 형성되어 있다.

장치 본체(1)의 길이 방향 일단에 위치하는 제1 챔버(5a)에는 구획판(4)에 형성된 슬릿(27)으로부터 기판(W)이 공급된다. 그에 따라, 기판(W)은 제1 챔버(5a) 내의 반송 롤러(17)에 의해 이 챔버(5a) 내를, 다음의 제2 챔버(5b)로 향해 반송된다. 그리고, 기판(W)은 제2 챔버(5b)로부터 제3 챔버(5c)를 통하여 반출된다. 그리고, 기판(W)은 폭 방향 양단부의 상면이 가압 롤러(19)에 의해 가압되면서 반송된다.

각 챔버(5a~5c)에는, 반송 롤러(17)에 의해 반송되는 기판(W)의 상면에 처리액을 분사하는 복수개의 노즐(28)이 소정 간격으로 설치된 노즐 파이프(29)가 챔버(5a~5c)의 폭 방향을 따라 설치되어 있다. 각 노즐 파이프(29)의 노즐(28)로부터 반송 롤러(17)에 의해 반송되는 기판(W)의 상면에는 처리액이 공급된다.

이 실시예에서는, 제1 챔버(5a)와 제2 챔버(5b)에서는 처리액으로서 에칭액이 공급되고, 제3 챔버(5c)에서는 처리액으로서 세정액이 공급되도록 되어 있다.

각 챔버(5a~5c)의 바닥판(2)의 가장 낮은 위치에는 배액관(31)이 접속되어 있다. 노즐(28)로부터 기판(W)의 상면에 공급된 처리액은 상기 배액관(31)에 의해 회수되어 탱크(32)로 되돌려지고, 이 탱크(32)로부터 노즐 파이프(29)에 공급되도록 되어 있다. 상기 탱크(32)에는 새로운 처리액이 조금씩 보충되도록 되어 있다.

그리고, 제1 내지 제3 챔버(5a~5c) 없는 데는, 반송되는 기판(W)의 상면뿐만이 아니라, 하면에도 처리액을 공급할 수 있도록, 기판(W)의 하면측에 대향하여 노즐 파이프(29)를 설치하도록 해도 된다.

다음에, 상기 구성의 처리 장치에 의해 기판(W)을 처리액에 의해 처리하는 경우의 작용에 대하여 설명한다.

제1 챔버(5a)에 공급된 기판(W)은, 반송 롤러(17)에 의해 제1 챔버(5a)로부터 제2 챔버(5b)를 거쳐 제3 챔버(5c)로 순차적으로 반송된다. 제1 챔버(5a)와 제2 챔버(5b)에서는 기판(W)의 상면에 에칭액이 공급되고, 이 기판(W)의 상면에 소정의 에칭 처리를 행하게 된다. 제3 챔버(5c)에서는 기판(W)의 상면에 세정액이 공급되고, 에칭된 기판(W)을 세정 처리한다.

각 챔버(5a~5c) 내에는 흡인 덕트(10)에 작용하는 흡인 펌프의 흡인력이 주 배기 덕트(6)를 통하여 분지 배기 덕트(8)에 작용된다. 그에 따라, 각 챔버(5a~5c) 내의 분위기는 도 2에 화살표로 나타낸 바와 같이 각 분지 배기 덕트(8)의 흡인구(9)를 통해서 배출된다.

따라서, 기판(W)을 각 챔버(5a~5c)에서 처리액에 의해 처리함으로써, 챔버(5a~5c) 내에 미스트형의 처리액이 발생해도, 그 미스트형의 처리액은 챔버(5a~5c) 내의 분위기와 동시에 배출되게 된다.

각 챔버(5a~5c)의 천정부(11)의 폭 방향 중앙부에는, 주 배기 덕트(6)가 기판(W)의 반송 방향인, 장치 본체(1)의 길이 방향 전체 길이에 걸쳐서 설치되어 있다. 주 배기 덕트(6)의 각 챔버(5a~5c)에 대응 위치하는 부분에는, 4개의 분지 배기 덕트(8)가 챔버(5a~5c)의 폭 방향과, 이 폭 방향과 교차하는 기판(W)의 반송 방향인, 장치 본체(1)의 길이 방향에 대하여 대칭으로 설치되어 있다.

즉, 각 챔버(5a~5c)에는, 길이 방향의 양단부의 폭 방향 양단부에, 4개의 분지 배기 덕트(8)의 4개의 흡인구(9)가 개구되어 위치되어 있다. 또한, 주 배기 덕트(6)의 각 챔버(5a~5c)에 대응 위치하는 부분의 길이 방향의 중앙부의 상면에는 흡인 덕트(10)가 접속되어 있다.

그러므로, 흡인 덕트(10), 주 배기 덕트(6) 및 4개의 분지 배기 덕트(8)의 흡인구(9)를 통해서 각 챔버(5a~5c)에 작용하는 흡인력은, 이 챔버(5a~5c)의 폭 방향 및 폭 방향과 교차하는 길이 방향의 각각의 중심에 대하여 대칭으로 된다.

따라서, 각 챔버(5a~5c) 내의 분위기는, 폭 방향과 길이 방향에 대하여 대략 균일하게 배출되기 때문에, 챔버(5a~5c) 내에 미스트형의 처리액이 체류되고, 기판(W)에 부착되는 것을 방지할 수 있다. 특히 제3 챔버(5c)에서는, 기판(W)이 세정액에 의해 세정 처리되기 때문에, 세정 처리된 기판(W)에 먼지를 포함하는 미스트형의 처리액이 부착되어 오염되는 것을 방지할 수 있다.

상기 주 배기 덕트(6)와 분지 배기 덕트(8)는, 각 챔버(5a~5c)의 분위기를 배기할 뿐만 아니라, 각 챔버(5a~5c)의 천정부(11)를 구성하는 부재로서 이용되고 있다. 그러므로, 각 챔버(5a~5c)의 천정부(11)에, 천정부(11)를 구성하는 부재 외에 덕트를 설치하지 않기 때문에, 장치 본체(1)의 구성을 간략화하고, 소형화나 비용 절감을 도모할 수 있었다. 또한, 배기 덕트(6, 8)는 강성의 높은 각이진 통형이므로, 천정부(11)에 보강 부재를 마련하지 않아도, 충분한 강성을 갖게 할 수 있다.

상기 일실시예에서는 장치 본체에 3개의 챔버가 형성되어 있는 경우에 대하여 설명했지만, 장치 본체에 형성되는 챔버의 수는 한정되지 않으며, 적어도 1개의 챔버가 형성되어 있으면, 본 발명을 적용할 수 있다.

또, 3개의 챔버 중, 2개의 챔버에서는 에칭 처리하는 경우에 대하여 설명했지만, 3개의 챔버로 각각 기판을 세정 처리하는 경우라도 되고, 각 챔버에서 어떠한 처리를 행할 것인지는 한정되지 않는다.

각 챔버에는 4개의 분지 배기 덕트를 배치하도록 했지만, 그 수는 한정되지 않으며, 요점은 각 챔버 내의 분위기를, 폭 방향과 길이 방향에 대하여 균일하게 배기 가능하도록 설치되어 있으면 되므로, 예를 들어 6개나 그 이상의 짝수개라도 지장이 없다.

도 4와 도 5는 본 발명의 다른 실시예를 나타낸다. 이 실시예는 주 배기 덕트(6)의 각 챔버(5a~5c)의 양단부에 대응 위치하는 부분의 양측면에, 제1 분지 배기 덕트(8A)와 제2 분지 배기 덕트(8B)의 일단이 접속되어 있다. 즉, 각 챔버 (5a~5c)에는 각각 4개의 제1 분지 배기 덕트(8A)와 제2 분지 배기 덕트(8B)가 설치되어 있다.

제1 분지 배기 덕트(8A)의 타단에는 제1 흡인구(9A)가 개구 형성되어 있다. 즉, 제1 흡인구(9A)는 챔버(5a~5c) 내에서 반송되는 기판(W)의 상부에 위치되어 있다. 제2 분지 배기 덕트(8B)는 상기 제1 분지 배기 덕트(8A)와 평행하게 설치되고 일단이 상기 주 배기 덕트(6)에 접속된 제1 덕트부(81)와, 이 제1 덕트부(81)의 타단에 상단이 접속되어 수직으로 설치된 제2 덕트부(82)로 이루어진다.

상기 수직 덕트부(82)의 하단은 반송 롤러(17)에 의해 반송되는 기판(W)보다도 하부에 위치되어 있어, 그 하단에는 각 챔버(5a~5c)의 폭 방향 내측을 향한 측면 및 하단면에 걸쳐서 개구된 제2 흡인구(9B)가 형성되어 있다.

이와 같은 구성에 따르면, 주 배기 덕트(6)에 흡인력이 생기면, 그 흡인력은 제1 분지 배기 덕트(8A)와 제2 분지 배기 덕트(8B)를 통해서 각 분지 배기 덕트(8A, 8B)의 흡인구(9A, 9B)에 작용된다.

상기 제1 흡인구(9A)에 발생하는 흡인력에 의해 각 챔버(5a~5c) 내의 기판(W)의 상부의 분위기가 흡인 배출된다. 상기 제2 흡인구(9B)에 발생하는 흡인력에 의해 각 챔버(5a~5c) 내의 기판(W)의 하부의 분위기가 흡인 배출된다. 즉, 챔버(5a~5c) 내의 분위기가 기판(W)을 경계로 하여 상하로 구분되어도, 챔버(5a~5c) 내의 기판(W)의 상부의 분위기는 제1 흡인구(9A)에 생기는 흡인력에 의해 배출되고, 하부의 분위기는 제2 흡인구(9B)에 생기는 흡인력에 의해 배출된다.

그러므로, 각 챔버(5a~5c) 내의 분위기가 기판(W)에 의해 상하로 구분되어 도, 제1 흡인구(9A)와 제2 흡인구(9b)로부터, 챔버(5a~5c) 내 전체의 분위기가 원활하게 배출되어, 기판(W)의 상면이나 하면에 각 챔버(5a~5c) 내에서 발생한 미스트가 부착되는 것을 방지할 수 있다.

그리고, 이 실시예에서는, 주 배기 덕트에 제1 분지 배기 덕트와 제2 분지 배기 덕트를 접속하고 있지만, 주 배기 덕트에는 2개의 분지 배기 덕트를 접속하지 않고, 제2 분지 배기 덕트와 동일한 구성, 즉 일단이 주 배기 덕트에 접속된 제1 덕트부와, 이 제1 덕트부의 타단에 상단을 접속하여 수직으로 설치된 타단이 기판의 하부에 위치하는 제2 덕트부로 이루어지는 1개의 분지 배기 덕트를 접속할 수 있다. 그리고, 제2 덕트부의 상단부와 하단부에, 각각 기판의 상부에 위치하는 제1 흡인구와, 하부에 위치하는 제2 흡인구를 개구 형성하도록 해도 된다.

그 경우, 제2 덕트부의 상단부에 위치하는 제1 흡인구에 작용하는 흡인력의 쪽이 하단부에 위치하는 흡인구에 작용하는 흡인력보다 크게 되기 때문에, 각 흡인구의 크기를 변경하거나, 댐퍼에 의해 개방도를 조정하는 등으로, 각 흡인구에 생기는 기판의 상부와 하부의 분위기에 작용하는 흡인력을 조정할 수 있다.

본 발명에 따르면, 챔버의 폭 방향 중앙 부분에 주 배기 덕트를 설치하고, 상기 주 배기 덕트를 중심으로 하여 챔버의 폭 방향에 대하여 대칭으로 복수개의 분지 배기 덕트를 설치하였으므로, 분지 배기 덕트 및 주 배기 덕트를 통하여 챔버 내의 배기를, 폭 방향에 대하여 균일하게 행할 수 있다.

Claims (9)

1. 기판을 처리액에 의해 처리하는 처리 장치에 있어서,

   상기 기판을 처리액에 의해 처리하는 챔버가 형성된 장치 본체,

   상기 기판을 상기 챔버 내의 소정 방향을 따라 반송하는 반송 기구,

   상기 기판의 상부에, 기판의 반송 방향과 교차하는 상기 챔버의 폭 방향 중앙 부분에 기판의 반송 방향을 따라 배치된 주 배기 덕트, 및

   일단이 상기 주 배기 덕트와 연통되고 타단이 상기 챔버의 폭 방향 단부에 위치하여 챔버 내의 분위기를 흡인하는 흡인구에 설치되며, 상기 주 배기 덕트를 중심으로 하여 상기 챔버의 폭 방향에 대하여 대칭으로 설치된 복수개의 분지 배기 덕트

   를 구비한 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
2. 제1항에 있어서,

   상기 분지 배기 덕트는, 상기 챔버의 상기 기판의 반송 방향에 대하여 대칭으로 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서,

   상기 분지 배기 덕트에는, 상기 반송 기구에 의해 반송되는 상기 기판의 상부에 위치하는 제1 흡인구와, 상기 기판의 하부에 위치하는 제2 흡인구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
4. 제1항에 있어서,

   상기 분지 배기 덕트는, 상기 제1 흡인구를 가지는 제1 분지 배기 덕트와, 상기 제2 흡인구를 가지는 제2 분지 배기 덕트로 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
5. 제2항에 있어서,

   상기 장치 본체에는 복수개의 챔버가 상기 기판의 반송 방향에 대하여 소정의 간격으로 구획 형성되고, 상기 주 배기 덕트는 복수개의 챔버의 전체 길이에 걸쳐서 설치되어 있어, 주 배기 덕트의 각각의 챔버에 대응하는 부분의 상기 기판의 반송 방향의 중심부분에는 흡인 덕트가 접속되는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
6. 기판을 처리액에 의해 처리하는 처리 장치에 있어서,

   상기 기판을 처리액에 의해 처리하는 챔버가 형성된 장치 본체, 및

   상기 기판을 상기 챔버 내의 소정 방향을 따라 반송하는 반송 기구를 구비하고,

   상기 장치 본체는,

   바닥판,

   상기 바닥판의 상기 기판의 반송 방향과 교차하는 폭 방향 양측에 직립된 측 판,

   한 쌍의 측판 사이에 설치되어 이들 측판 사이에 상기 챔버를 구획 형성하는 구획판,

   상기 구획판의 상단의 폭 방향 중앙부에 상기 기판의 반송 방향을 따라 설치된 주 배기 덕트, 및

   일단이 상기 주 배기 덕트와 연통되고 타단이 상기 챔버의 폭 방향 양단부에 위치하여 챔버 내의 분위기를 흡인하는 흡인구에 설치되며, 챔버의 기판의 반송 방향 및 폭 방향에 대하여 대칭으로 설치된 복수개의 분지 배기 덕트

   를 구비한 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
7. 제6항에 있어서,

   상기 챔버의 기판의 반송 방향을 따르는 양단부에는 각각 한 쌍의 분지 배기 덕트가 설치되고, 상기 챔버의 상부에는, 주 배기 덕트, 한 쌍의 분지 배기 덕트 및 측판의 상단부에 의해 둘러싸인 한 쌍의 개구부가 형성되며, 각 개구부가 커버 부재에 의해 밀폐된 천정부가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
8. 처리 장치에 형성된 챔버 내에서 기판을 처리액에 의해 처리하는 처리 방법에 있어서,

   상기 기판을 상기 챔버 내의 소정 방향을 따라 반송하는 단계, 및

   상기 챔버 내의 분위기를 상기 챔버의 상기 기판의 반송 방향과 교차하는 폭 방향으로부터 대칭으로 배기하는 단계

   를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 방법.
9. 제8항에 있어서,

   상기 챔버 내의 분위기를, 상기 챔버의 상기 기판의 반송 방향을 따르는 방향으로부터 대칭으로 배기하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 방법.

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