KR20050114048A - 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛 에어 세척 방법 및 에어세척 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 플라즈마를 이용하여 백라이트 유닛을 에어로 세척하는 방법 및 그 세척 장치에 관한 것이다.

본 발명에 따른 에어 세척 방법은, 세척할 백라이트 유닛을 준비하는 준비단계와; 에어를 이용하여 상기 백라이트 유닛으로부터 비점착성 이물을 제거하는 에어 샤워 단계와; 플라즈마를 이용하여 상기 백라이트 유닛으로부터 점착성 이물을 제거하는 플라즈마 세척단계를 포함한다.

한편, 본 발명에 따른 플라즈마를 이용한 백라이트 에어 세척장치는, 세척하고자 하는 백라이트 유닛을 둘러싸는 챔버와; 상기 챔버내에서 백라이트 유닛을 지지하는 프레임과; 상기 챔버 내에서 백라이트 유닛에 에어를 발사하여 백라이트 유닛 표면에 위치한 비점착성 이물을 상기 백라이트 유닛으로부터 분리시키는 에어 블로우어와; 상기 프레임에 진동을 발생시키는 구동장치와; 상기 백라이트 유닛에서 분리된 비점착성 이물을 집진하여 상기 챔버 외부로 제거하는 집진장치와; 상기 백라이트 유닛 표면의 점착성 이물을 제거하는 플라즈마 방전부를 구비한다.

본 발명의 이러한 세척방법과 세척장치에 의하면, 백라이트 유닛의 점착성 이물과 비점착성 이물이 동시에 세척된다.

Description

플라즈마를 이용한 백라이트 유닛 에어 세척 방법 및 에어 세척 장치 {Method for air-cleaning of back light unit with plasma and air-cleaner of back light unit with plasma}

본 발명은 백라이트 유닛의 이물을 제거하는 방법 및 그 장치에 관한 것이며, 특히 백라이트 유닛의 제조 과정에서 그 표면에 발생하는 점착성 이물과 비점착성 이물을 각각의 세척장치를 사용하지 않고 하나의 세척 장치내에서 세척할 수 있는 세척방법 및 그 세척장치에 관한 것이다.

종래의 경우 표면 개질(surface modification)이 요구되는 전자분야의 반도체, 평판 디스플레이용 전자소자, 대용량 PCB 기판 혹은 기계 부품 등의 표면을 정밀 세척하기 위해서는 대단위 설비가 요구되거나 습식에 따른 각종 공해물질을 배출함으로써 생산단가가 급격히 상승되고 고품질의 제품 제작에 다른 원소재의 특성변화에 능동적으로 대처하지 못하여 제품개발에 투자되는 비용의 상승은 물론 개발기간이 지연되는 단점이 있다.

한편, 초순수를 이용하여 글래스 표면의 유기막이나 기타 오염물질을 제거하는 방법도 사용되었다.

그런데, 약품이나 초순수를 이용해 세정할 경우에는 대량의 증류수를 발생시키는 장치와 표면을 개질하거나 세정후 대규모의 사용된 물을 재처리해야 하므로 이에 따른 복잡한 부대설비가 요구되고 이를 유지보수하기 위한 인력이 별도로 필요하여 별도로 필요하여 LCD나 PDP의 제조단가를 상승시키는 단점을 유발한다.

아울러, 반도체 라인이나 고품질의 섬유, PCB 등을 세정처리하기 의해서는 진공을 형성하고 진공중에서 세정작업하여야 하므로 작업이 연속성이 유지되지 못함은 물론 연속성을 유지하기 위해서는 설비의 구축에 따른 시간과 초기 투자비용이 현격히 상승하여 실익이 없다는 단점이 파생된다.

나아가 종래의 세척장치는 점착성 이물을 제거하거나 비점착성 이물을 제거함에 ??어서 전혀 다른 원리가 이용되어야 하고 이러한 2종류의 별개의 이물을 동시에 제거할 수 없는 한계가 있었다. 뿐만 아니라 세척 과정에서 오히려 2차 오염이 되어 다시 세척해야 하는 문제점도 상존하였다.

본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛 세척방법 및 세척장치는 상기 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 다음과 같은 발명의 목적을 가지고 있다.

첫째, 백라이트 유닛의 세척 과정을 수행하는 작업자가 점착성 이물과 비점착성 이물을 세척하는 과정을 각각 수행하면서 그 과정 사이에 다시 이물이 백라이트 유닛의 표면에 발생하는 것을 방치할 수 있는 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛 세척 방법 및 그 세척장치를 제공하는 것이다.

둘째, 점착성 이물과 비점착성 이물을 제거하는 과정이 하나의 장치에서 이루어지는 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛 및 그 세척장치를 제공하는 것이다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛 세척방법은, 세척할 백라이트 유닛을 준비하는 준비단계와; 에어를 이용하여 상기 백라이트 유닛으로부터 비점착성 이물을 제거하는 에어 샤워 단계와; 플라즈마를 이용하여 상기 백라이트 유닛으로부터 점착성 이물을 제거하는 플라즈마 세척단계를 포함한다.

여기서, 상기 에어 샤워 단계는 상기 백라이트 유닛에 에어를 발사하여 비점착성 이물을 상기 백라이트 유닛으로부터 분리하는 에어 발사단계와, 분리된 비점착성 이물을 집진하여 상기 챔버 외부로 배출하는 집진단계를 포함한다.

또한, 상기 에어 샤워 단계는 상기 백라이트 유닛에 진동을 주는 단계를 추가로 포함할 수 있다.

나아가, 본 발명의 일실시예에 따른 백라이트 유닛 세척방법은, 플라즈마 세척 단계를 거친 백라이트 유닛을 다시 에어로 샤워하는 보조 에어샤워 단계를 추가로 포함할 수도 있다.

한편, 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛 세척장치는, 세척하고자 하는 백라이트 유닛을 둘러싸는 챔버와; 상기 챔버내에서 백라이트 유닛을 지지하는 프레임과; 상기 챔버 내에서 백라이트 유닛에 에어를 발사하여 백라이트 유닛 표면에 위치한 비점착성 이물을 상기 백라이트 유닛으로부터 분리시키는 에어 블로우어와; 상기 프레임에 진동을 발생시키는 진동 발생 장치와; 상기 백라이트 유닛에서 분리된 비점착성 이물을 집진하여 상기 챔버 외부로 제거하는 집진장치와; 상기 백라이트 유닛 표면의 점착성 이물을 제거하는 플라즈마 방전부를 구비한다.

여기서, 상기 플라즈마 방전부는 상기 백라이트 유닛이 놓여지는 상기 챔버의 상부벽에 장착되어 상기 백라이트 유닛을 스캔하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 에어 블로우어는 에어를 회전시키면서 발사하는 회전식 노즐인 것이 바람직하다.

또한, 상기 챔버 내부에는 음이온 발생기가 추가로 구비될 수 있다.

이하 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛 세척방법의 각단계를 나타내는 플로우차트이다.

도면에 따르면, 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛 세척방법은, 세척할 백라이트 유닛을 준비하는 준비단계(S1)와; 에어를 이용하여 상기 백라이트 유닛으로부터 비점착성 이물을 제거하는 에어 샤워 단계(S2)와; 플라즈마를 이용하여 상기 백라이트 유닛으로부터 점착성 이물을 제거하는 플라즈마 세척단계(S3)를 포함한다.

상기 준비단계(S1)가 수행되기 전에 백라이트 유닛은 그 조립 과정이 완전히 수행되어 종료된 상태일 수도 있지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 조립 과정 도중에 세척이 필요한 단계에 놓인 백라이트 유닛도 준비단계(S1)를 통해 세척될 수 있다.

한편, 백라이트 유닛을 준비하는 준비단계(S1)를 통해 세척공간에 놓여진 백라이트 유닛은 먼지, 사출품의 버어(burr) 또는 시트의 이물과 같이 부품에서 발생되는 이물, 및 머리카락이나 피부각질과 같은 작업자의 이물과 같은 비점착성 이물을 백라이트 유닛으로부터 제거하기 위한 에어 샤워 단계(S2)를 거치게 된다.

에어 샤워 단계(S2)를 통해 백라이트 유닛에 묻어있던 비점착성 이물들은 에어의 힘에 의해 백라이트 유닛으로부터 떨어져 나가게 된다. 따라서 이 과정은 고속으로 에어를 분사하는 에어 블로우어 장치에 의해 행해지게 된다.

이러한 에어 샤워 단계(S2)는, 도 2에 도시된 바와같이, 보다 상세하게는 상기 백라이트 유닛에 에어를 발사하여 비점착성 이물을 상기 백라이트 유닛으로부터 분리하는 에어 발사단계(S2A)와, 분리된 비점착성 이물을 집진하여 상기 챔버 외부로 배출하는 집진단계(S2B)를 포함한다. 따라서, 에어 블로우어 장치에 의해 고속으로 에어를 발사하는 에어 발사단계(S2A)를 통하여 비점착성 이물은 백라이트 유닛으로부터 분리되어 일단 세척 공간상의 허공에 머물게 한다. 그런데 에어 발사단계(S2A)를 통해 세척 공간상에 떠돌게 된 비점착성 이물은 에어 발사단계(S2A) 가 종료된 후 일정시간이 지나면 다시 백라이트 유닛의 표면에 안착될 수 있다. 따라서 이러한 문제점을 방지하기 위하여 백라이트 유닛으로부터 분리된 비점착성 이물은 집진장치로 모아서 새척 공간 외부로 배출하여 제거하는 집진단계(S2B)를 수행하게 된다.

상기 에어 샤워 단계(S2)가 수행되는 동안 비점착성 이물이 세척 공간내에서 일정한 방향성을 가지도록 이동함으로써 분리되어 집진작업이 용이하도록 하기 위하여 상기 백라이트 유닛에 진동을 주는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 진동을 주는 단계는 상기 에어 발사단계(S2A) 이전에 수행될 수도 있고 그 후에 수행될 수도 있으며, 동시에 수행될 수도 있다.

백라이트 유닛에 진동을 줌으로써 비점착성 먼지 중 일부는 백라이트 유닛의 표면에서 분리될 수 있으며, 진동이 계속 주어짐으로 인하여 비점착성 먼지는 백라이트 유닛의 표면상에서 소정의 방향으로 이동하게 되어 전체적으로 소정의 표면 구간에 비점착성 이물이 모이게 된다. 이 단계를 통하여 이물을 특정의 구간에 모은 뒤에 집진하면 보다 효율적으로 비점착성 이물을 제거할 수 있게 된다.

한편, 상기와 같은 에어 샤워 단계(S2)가 종료되더라도 백라이트 유닛의 표면에는 조립과정에서 작업자에 의해 오염된 작업자의 지문이나 기름 얼룩과 같은 점착성 이물이 남을 수 있게 된다. 이러한 점착성 이물은 에어 샤워 단계를 통해서도 백라이트 유닛으로부터 쉽게 분리되지 않기 때문에 별도로 이러한 점착성 이물을 제거하는 단계가 필요하다.

이와 같이 점착성 이물을 제거하는 단계로서, 상기 에어 샤워 단계(S2)를 거친 백라이트 유닛은 그 다음의 단계로서 플라즈마 세척단계(S3)를 거치게 된다.

유기 오염물이 플라즈마에 의해 제거되는 원리에 대하여 설명하면, 오염된 표면에 있는 유기 오염물인 탄소가 플라즈마에 의해 산소와 결합하여 CO2의 형태로 공기 중으로 날아가게 된다.

플라즈마를 이용한 일반적인 유기오염물 제거 방법 및 그 장치의 구조는 종래 기술로서 알려진 바 있으므로 본 출원에서는 그 상세한 설명은 생략한다.

플라즈마 방전관을 이용하여 백라이트 유닛 표면에 달라붙은 점착성 이물을 스캔하면 점착성 이물은 산소와 결합하여 쉽게 백라이트 유닛으로부터 분리되어 제거되는데, 이 경우, 분리된 점착성 이물은 그 화학적 성질이 변하여 휘발하게 되므로 점착성 이물을 별도로 집진할 필요는 없다.

선택적으로, 플라즈마 세척 단계(S3)를 거친 백라이트 유닛을 다시 에어로 샤워하는 보조 에어샤워 단계(S4, 도시 않음)가 수행될 수 있다.

보조 에어샤워 단계는 에어 샤워 단계(S2)와 플라즈마 세척단계(S3)를 거치면서 완전하게 제거되지 않은 비점착성 이물을 완전히 제거하기 위한 추가적인 세척단계이다. 보조 에어 샤워 단계는 별도의 장치 없이 에어 샤워 단계에서 사용된 에어 샤워 장치를 한번 더 가동함으로써 수행될 수 있다.

도 3에는 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛 에어 세척 장치의 사용상태를 도시하는 사시도가 도시되어 있다. 즉, 도 3은 에어 세척장치에 세척될 백라이트 유닛이 장착되는 단계에서의 사시도이다. 도면에서 화살표는 백라이트 유닛이 삽입되는 방향을 나타낸다.

한편 도 4에는 도 3의 세척 장치의 정면도로서, 전방 패널이 분리되어 그 내부가 노출된 상태를 나타내는 정면도이며, 도 5는 도 3의 세척 장치의 측단면도이다.

도 4 및 도 5에서는 도 3에 도시된 바와 같이 백라이트 유닛을 세척 장치에 장착하여 탑재한 상태를 도시한다.

도면에 의하면, 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛의 에어 세척장치는, 세척하고자 하는 백라이트 유닛(104)을 둘러싸는 챔버(102)와, 상기 챔버(102) 내에서 백라이트 유닛(104)을 지지하는 프레임(106)과, 상기 챔버(102) 내에서 백라이트 유닛(104)에 에어를 발사하여 백라이트 유닛 표면에 위치한 비점착성 이물을 상기 백라이트 유닛으로부터 분리시키는 에어 블로우어(123)와, 상기 프레임에 진동을 발생시키는 진동 발생 장치(108)와, 상기 백라이트 유닛에서 분리된 비점착성 이물을 집진하여 상기 챔버 외부로 제거하는 집진장치(115)와, 상기 백라이트 유닛(104)의 표면의 점착성 이물을 제거하는 플라즈마 방전부(113)를 구비한다.

챔버(102)내에 장착되어 프레임(106)에 의해 지지되는 백라이트 유닛(104)은 에어 블로우어(123)의 에어 노즐(122, 130)에 의해 발사되는 에어에 의해 흔들리지 않도록 견고하게 고정되어야 에어 샤워 도중에 백라이트 유닛(104)이 파손되지 않는다. 따라서 도면에 도시되지는 않았지만 백라이트 유닛(104)이 프레임(106)에 견고하게 고정될 수 있도록 하는 보조 고정수단이 설치되는 것이 바람직하다.

프레임에 고정된 백라이트 유닛(104)의 표면에 묻어 있는 먼지나 부품이물 및 작업자의 머리카락과 같은 비점착성 이물은 에어 블로우어(123)에 의해 에어를 백라이트 유닛에 발사하여 줌으로써 백라이트 유닛에서 떨어져 나가게 된다. 이때 에어를 발사해주는 각도를 다양하게 하기 위하여 에어가 발사되는 노즐이 회전할 수 있는 구조를 가지는 것이 바람직하다.

도 4를 참조하면, 챔버(102)내에서 백라이트 유닛(104)의 상측에는 회전식 에어 블로우어(123)가 설치된다. 에어 블로우어(123)는 에어가 발사되는 에어노즐(122, 130)이 장착되는 노즐 지지대(120, 128)를 포함한다. 한편 노즐 지지대(120, 128)는 그 중간 부분에 노즐 회전부(124, 126)가 장착되어, 에어를 발사하는 노즐은 그 자체가 회전하면서 에어를 발사하게 되어 특정 부분에 치우쳐서 집중적으로 에어를 발사하지 않고 백라이트 유닛의 표면에 전반적으로 에어를 발사할 수 있게 된다. 한편, 상기 챔버(102)내에서 회전식 에어 블로우어(123)가 여러개 설치될 수 있는데, 회전하는 노즐간에 충돌이 발생하지 않도록 간격이나 높이가 조절되어야 한다.

한편 에어 샤워될 백라이트 유닛의 상부 표면 뿐만 아니라 그 하부 표면도 에어 샤워 할 수 있도록 챔버내에는 그 하부에도 복수개의 에어 노즐(118)이 설치되는 것이 바람직하다.

또한, 백라이트 유닛에 에어를 발사하는 과정에서 백라이트 유닛(104)을 지지하는 프레임(106)에 진동을 발생시켜 결국 백라이트 유닛에 일정한 진동을 일으킬 수 있는 진동 발생장치(108)가 프레임(106)에 연결되어 설치된다. 따라서 백라이트 유닛에는 일정한 진동이 발생하게 되어, 이러한 진동에 의해서도 먼지와 같은 비점착성 이물은 백라이트 유닛으로부터 용이하게 분리되며, 진동에 의해 분리된 먼지는 일정한 방향성을 가지고 백라이트 표면 위에서 이동하게 되어, 먼지와 같은 비점착성 이물은 한곳에 모이게 되며, 하기에서 설명할 집진 장치에 의해 먼지 등을 집진하여 제거하기에 용이한 상태에 놓이게 된다.

에어 샤워 단계에서 백라이트 유닛에서 분리되는 먼지와 같은 비점착성 이물은 그대로 두면 다시 백라이트 유닛에 다시 달라붙게 되므로, 비점착성 이물을 집진하여 제거하는 집진장치(115)가 챔버(102)내에 설치된다.

한편, 전술한 바와 같이, 백라이트 유닛을 오염시키는 이물은 비점착성 이물외에 점착성 이물도 있으므로 이러한 점착성 이물을 제거하기 위하여 플라즈마 세척 단계를 수행하기 위한 플라즈마 방전부(113)가 챔버(102) 내에서 백라이트 유닛(104)의 전체 표면을 커버할 수 있는 위치에 장착된다.

상기 플라즈마 방전부(113)는 상기 백라이트 유닛(104)이 놓여지는 상기 챔버의 상부벽에 장착되어 상기 백라이트 유닛을 스캔함으로써 백라이트 유닛 표면을 오염시키고 있는 점착성 이물을 제거하는 것이 바람직하다. 상기 플라즈마 방전부(113)는 백라이트 유닛(104)의 전체 표면을 스캔하는 방식으로 세척하기 때문에 백라이트 유닛의 표면에서 스캔하듯이 이동할 수 있는 플라즈마 발생부(116) 및 이러한 플라즈마 발생부의 이동 경로를 가이드하는 스캔 가이드(112)와 플라즈마 발생부를 스캔 가이드(112)에 연결하여 스캔 가이드(112) 상에서 슬라이딩하는 스캔 지지부(114)를 구비한다.

한편 오염의 원인인 이물들을 효과적으로 제거하기 위하여 챔버(102)내에는 음이온 발생부(132)가 추가로 구비되는 것이 바람직하다.

이러한 구조를 가진 세척장치의 동력은 도 5에 도시된 바와 같이 구동모터(140)에 의해 각종 에어 노즐과 노즐의 회전 구동력을 발생하게 되며, 그 에어의 발사 강도와 세척 시간의 제어 등은 제어패널(134)의 스위치(136)를 조작하여 이루어진다.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.

이상과 같은 구성을 갖는 본 발명의 일 실시예에 따른 백라이트 유닛 세척방법 및 세척장치에 의하면, 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.

첫째, 백라이트 유닛의 조립과정에서 발생하는 점착성 이물과 비점착성 이물에 의해 오염된 백라이트 유닛을 완벽하게 세척할 수 있다.

둘째, 점착성 이물과 비점착성 이물을 별도의 각각 분리된 세척 공간에서 세척하지 않고 하나의 세척공간에서 두가지 종류의 이물을 한번에 세척할 수 있으므로 백라이트 유닛을 이동시키는 번거로움과 이동 도중에 발생할 수 있는 2차 오염을 방지할 수 있다.

셋째, 이물 검사와 제거 공정을 자동화 할 수 있으므로 백라이트 유닛의 생산성 증대에 기여하게 된다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛 세척방법의 각 단계를 나타내는 플로우차트이며,

도 2는 도 1의 플로우차트의 단계중 에어 샤워 단계의 세부 단계에 대한 플로우차트이며,

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛 세척 장치의 사용 상태를 나타내는 사시도이며,

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛 세척 장치인 도 3의 세척 장치의 전면부에 대한 분해 정면도이며,

도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛 세척 장치인 도 3의 세척 장치의 측면부에 대한 단면도이다.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

S1 : 백라이트 유닛 준비 단계 S2 : 에어 샤워 단계

S3 : 플라즈마 세척 단계 S2A : 에어 발사 단계

S2B : 집진 단계 102 : 챔버

104 : 백라이트 유닛 106 : 프레임

108 : 진동 발생 장치 110 : 측벽

112 : 스캔 가이드 113 : 플라즈마 방전부

114 : 스캔 지지부 115 : 집진장치

116 : 플라즈마 발생부 118, 122, 130 : 에어 노즐

120, 128 : 노즐 지지대 123 : 에어 블로우어

124, 126 : 노즐 회전부 132 : 음이온 발생부

134 : 제어패널 136 : 스위치

140 : 구동 모터

Claims (8)

1. 세척할 백라이트 유닛을 준비하는 준비단계와;

   에어를 이용하여 상기 백라이트 유닛으로부터 비점착성 이물을 제거하는 에어 샤워 단계와;

   플라즈마를 이용하여 상기 백라이트 유닛으로부터 점착성 이물을 제거하는 플라즈마 세척단계를 포함하는, 플라즈마를 이용하여 백라이트 유닛을 에어 세척하는 방법.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 에어 샤워 단계는 상기 백라이트 유닛에 에어를 발사하여 비점착성 이물을 상기 백라이트 유닛으로부터 분리하는 에어 발사단계와, 분리된 비점착성 이물을 집진하여 상기 챔버 외부로 배출하는 집진단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 플라즈마를 이용하여 백라이트 유닛을 에어 세척하는 방법.
3. 제 2 항에 있어서,

   상기 에어 샤워 단계는 상기 백라이트 유닛에 진동을 주는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 플라즈마를 이용하여 백라이트 유닛을 에어 세척하는 방법.
4. 제 1 항 또는 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,

   플라즈마 세척 단계를 거친 백라이트 유닛을 다시 에어로 샤워하는 보조 에어샤워 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 플라즈마를 이용하여 백라이트 유닛을 에어 세척하는 방법.
5. 세척하고자 하는 백라이트 유닛을 둘러싸는 챔버와;

   상기 챔버내에서 백라이트 유닛을 지지하는 프레임과;

   상기 챔버 내에서 백라이트 유닛에 에어를 발사하여 백라이트 유닛 표면에 위치한 비점착성 이물을 상기 백라이트 유닛으로부터 분리시키는 에어 블로우어와;

   상기 프레임에 진동을 발생시키는 진동 발생 장치와;

   상기 백라이트 유닛에서 분리된 비점착성 이물을 집진하여 상기 챔버 외부로 제거하는 집진장치와;

   상기 백라이트 유닛 표면의 점착성 이물을 제거하는 플라즈마 방전부를 구비하는, 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛의 에어 세척 장치.
6. 제 5 항에 있어서,

   상기 플라즈마 방전부는 상기 백라이트 유닛이 놓여지는 상기 챔버의 상부벽에 장착되어 상기 백라이트 유닛을 스캔하는 것을 특징으로 하는, 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛의 에어 세척 장치.
7. 제 5 항에 있어서,

   상기 에어 블로우어는 에어를 회전시키면서 발사하는 회전식 노즐인 것을 특징으로 하는, 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛의 에어 세척 장치.
8. 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,

   상기 챔버 내부에는 음이온 발생기가 추가로 구비되는 것을 특징으로 하는, 플라즈마를 이용한 백라이트 유닛의 에어 세척 장치.