KR20050096606A - 웨이퍼 슬라이딩을 감지하는 풉 장치 - Google Patents
웨이퍼 슬라이딩을 감지하는 풉 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20050096606A KR20050096606A KR1020040022039A KR20040022039A KR20050096606A KR 20050096606 A KR20050096606 A KR 20050096606A KR 1020040022039 A KR1020040022039 A KR 1020040022039A KR 20040022039 A KR20040022039 A KR 20040022039A KR 20050096606 A KR20050096606 A KR 20050096606A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- wafer
- wafers
- abnormal state
- inlet
- unwinding
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
- H01L21/67265—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
웨이퍼 슬라이딩을 감지하는 풉(FOUP) 장치를 제시한다. 본 발명에 따르면, 웨이퍼들을 내부에 수납하고 웨이퍼들의 입출을 위한 입구를 가지는 풉 몸체, 및 풉 몸체 내부에 수납된 웨이퍼들 중 입구 쪽으로 비정상적으로 밀려나온 비정상 상태의 웨이퍼를 감지하는 웨이퍼 감지부를 포함하되 웨이퍼 감지부는 감지 광을 상기 비정상 상태의 웨이퍼가 감지될 영역으로 방사하고 비정상 상태의 웨이퍼로부터 회귀되는 광을 감지하여 비정상 상태의 웨이퍼를 감지하는 반사 회귀형 광 센서(sensor)인 웨이퍼 수납 및 핸들링(handling)을 위한 풉 장치를 제공한다.
Description
본 발명은 반도체 소자 제조에 사용되는 웨이퍼 핸들링(wafer handling) 장치에 관한 것으로, 특히, 웨이퍼 슬라이딩(wafer sliding) 발생을 감지할 수 있는 풉(FOUP) 장치에 관한 것이다.
반도체 소자를 제조하는 과정에는 웨이퍼의 핸들링을 위해 웨이퍼의 수납을 위한 장치가 요구된다. 이러한 웨이퍼 핸들링을 위한 수납 장치로서 300㎜ 웨이퍼의 경우 풉 장치가 사용되고 있다.
도 1a 및 도 1b는 종래의 풉 장치를 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면들이다.
도 1a를 참조하면, 종래의 300㎜의 대구경 웨이퍼(10)를 수납하여 핸들링하는 장치로서 풉 장치는, 박스 형태의 몸체(20) 내부 측벽에 웨이퍼(10)가 수납되는 슬롯(slot:21)을 구비하고, 또한, 웨이퍼(10)의 입, 출을 위한 개구의 입구(25)를 구비하는 형태를 가지고 있다. 웨이퍼(10)는 풉(20)의 바닥부(27)에 대해 평행하게 가로로 입구(25)를 통해 이동하여 슬롯(21)에 삽입되게 된다. 이러한 웨이퍼(10)의 풉 몸체(20)에의 삽입 또는 인출은 로봇(robot: 도시되지 않음)의 작동에 의해서 수행된다.
도 1a 및 도 1b를 함께 참조하면, 웨이퍼(10)가 풉(20)에 수납되었을 때, 웨이퍼(10)는 정상적인 위치에 삽입된 정상 상태의 웨이퍼(11)가 바람직하나, 실질적으로 비정상적인 위치에 삽입된 비정상 상태의 웨이퍼(15)도 발생될 수 있다. 이러한 비정상 상태의 웨이퍼(15)는 웨이퍼(10)가 풉(20)에 정확히 장착(load)되지 않고 입구(25) 쪽으로 밀려 나왔을 때 발생된다. 즉, 웨이퍼(15)에 슬라이딩(sliding)이 발생될 경우 비정상 상태의 웨이퍼(15)가 발생된다.
실질적으로 정상 상태의 웨이퍼(11)는 풉(20)이 반도체 소자 제조 장비 또는 풉(20)에의 웨이퍼(10)를 장착하는 장소인 장착부(load port:30)에 올려진 상태에서 풉(20)의 입구(25)를 가리는 도어부(door part:35)에 대해서 대략 20㎜ 정도 이격되는 위치를 점하게 된다. 도어부(35)는 반도체 소자 제조 장비, 예컨대, 이온 주입 장비 또는 증착, 식각 장비의 장착부(30)에 하나의 부품으로 도입될 수 있다. 이때, 이러한 비정상 상태의 웨이퍼(15)는 이러한 20㎜ 내로 그 가장 자리가 밀려나온 상태이게 된다.
이러한 상태에서 웨이퍼(15)의 장착(loading) 또는 탈착(unloading)을 위해, 도어부(35)가 열리고 이러한 풉(20)의 내부로 웨이퍼(10)의 이송을 위한 로봇(도시되지 않음)이 접근할 때, 비정상 상태의 웨이퍼(15)는 풉(20) 바깥으로 슬라이딩되어 떨어지거나 또는 로봇과 부딪히게 될 수 있다. 이러한 불량 발생의 경우 웨이퍼(15)는 깨지거나 또는 로봇에 상해를 입히게 된다. 특히, 300㎜ 웨이퍼(15)의 경우 이러한 그 단가가 매우 비싸 이러한 웨이퍼 깨짐(broken up) 발생은 생산 단가 증가의 요인으로 작용할 수 있다. 또한, 웨이퍼(15)가 이러한 불량에 의해서 깨질 경우 풉(20) 내부에 장착된 정상 상태의 웨이퍼(10)에 2차 오염 또는 스크래치(scratch)가 발생될 수 있다.
이에 따라, 풉(20)에 비정상적으로 수납된 비정상 상태의 웨이퍼(15)가 존재하는 지의 여부를 로봇 등의 작동 이전에 미리 발견 감지하는 것이 요구된다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 풉에 수납된 웨이퍼들 중에 슬라이딩 발생 등으로 비정상 상태인 웨이퍼가 발생하였을 지의 여부를 감지하여 불량 발생을 방지할 수 있는 반도체 소자 제조에 웨이퍼 핸들링을 위해 사용되는 풉 장치를 제공하는 데 있다.
상기의 기술적 과제들을 달성하기 위한 본 발명의 일 관점은, 웨이퍼들을 내부에 수납하고 상기 웨이퍼들의 입출을 위한 입구를 가지는 풉 몸체, 및 상기 풉 몸체 내부에 수납된 웨이퍼들 중 상기 입구 쪽으로 비정상적으로 밀려나온 비정상 상태의 웨이퍼를 감지하는 웨이퍼 감지부를 포함하는 웨이퍼 수납 및 핸들링(handling)을 위한 풉 장치를 제공한다.
상기 웨이퍼 감지부는 감지 광을 상기 비정상 상태의 웨이퍼가 감지될 영역으로 방사하고 상기 비정상 상태의 웨이퍼로부터 회귀되는 광을 감지하여 상기 비정상 상태의 웨이퍼를 감지하는 반사 회귀형 광 센서(sensor)일 수 있다.
상기의 기술적 과제들을 달성하기 위한 본 발명의 다른 일 관점은, 웨이퍼의 수납 또는 탈착이 수행될 위치인 장착부, 상기 웨이퍼들을 내부에 수납하고 상기 장착부 상에 접촉할 바닥 및 상기 웨이퍼들의 입출을 위한 입구를 가지는 풉 몸체, 및 상기 풉 몸체 내부에 수납된 웨이퍼들 중 상기 입구 쪽으로 비정상적으로 밀려나온 비정상 상태의 웨이퍼를 감지하기 위해 상기 풉 몸체 내부에 설치된 웨이퍼 감지부를 포함하는 풉 장치를 제공한다.
상기 웨이퍼 감지부는 감지 광을 상기 비정상 상태의 웨이퍼가 감지될 영역으로 방사하기 위해 상기 풉 몸체의 입구 인근 바닥에 설치되는 것일 수 있다.
상기 풉 장치는 상기 웨이퍼 감지부의 동작을 위한 전원을 제공하는 전원 공급부, 상기 웨이퍼 감지부에 전기적으로 연결되고 상기 풉 몸체의 바닥부 외벽에 설치된 제1접점, 및 상기 장착부 상에 상기 제1접점에 대응하는 위치에 설치되고 상기 제1접점과 접촉하여 상기 전원 공급부로부터 전원이 상기 웨이퍼 감지부에 전달되는 것을 허용하는 제2접점을 더 포함하여 구성될 수 있다.
상기의 기술적 과제들을 달성하기 위한 본 발명의 다른 일 관점은, 웨이퍼의 수납 또는 탈착이 수행될 위치인 장착부, 상기 웨이퍼들을 내부에 수납하고 상기 장착부 상에 접촉할 바닥 및 상기 웨이퍼들의 입출을 위한 입구를 가지는 풉 몸체, 상기 풉 몸체 내부에 수납된 웨이퍼들 중 상기 입구 쪽으로 비정상적으로 밀려나온 비정상 상태의 웨이퍼를 감지하기 위해 상기 풉 몸체 내부로 감지 광을 조사하고 회수하되 상기 풉 몸체 외부에 도입되는 웨이퍼 감지부, 및 상기 풉 몸체에 설치되어 상기 감지 광이 상기 풉 몸체 외부로부터 내부로 전달되는 통로를 제공하는 투명창을 포함하는 풉 장치를 제공한다.
상기 웨이퍼 감지부는 상기 장착부 상에 설치되고, 상기 웨이퍼 감지부가 상기 투명창을 통해 감지 광을 상기 비정상 상태의 웨이퍼가 감지될 영역으로 방사하기 위해 상기 투명창은 상기 풉 몸체의 입구 인근 바닥에 설치될 수 있다.
본 발명에 따르면, 풉에 수납된 웨이퍼들 중에 슬라이딩 발생 등으로 비정상 상태인 웨이퍼가 발생하였을 지의 여부를 미리 감지하여 로봇과 웨이퍼의 부딪힘 또는 웨이퍼 떨어짐 등의 불량 발생을 방지할 수 있다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어져서는 안되며, 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것으로 해석되는 것이 바람직하다.
본 발명의 실시예에서는 반도체 소자 제조 시 웨이퍼의 이송 등을 위한 웨이퍼 수납 장치인 풉 장치에 웨이퍼의 비정상 수납 상태를 감지하는 감지부를 구비하는 바를 제시한다. 이에 따라, 풉 장치에 수납된 웨이퍼들 중 일부가 슬라이딩 등에 의해서 비정상 상태일 지라도, 도어부의 열림 또는 로봇의 접근 동작 이전에 이러한 비정상 상태의 웨이퍼의 발생을 미리 감지할 수 있다. 이에 따라, 도업부의 열림 또는 로봇의 접근에 따른 비정상 상태의 웨이퍼의 떨어짐 또는 로봇에의 부딪힘을 방지할 수 있다. 따라서, 웨이퍼에의 원하지 않는 손상 발생 및 이에 따른 2차 오염 문제 발생을 효과적으로 방지할 수 있다.
도 2a 내지 도 2d는 본 발명의 제1실시예에 따른 웨이퍼 슬라이딩(wafer sliding)을 감지하는 풉(FOUP) 장치를 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면들이다.
도 2a를 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 풉 장치는 박스 형태의 풉 몸체(200) 웨이퍼(100)가 수납되는 슬롯(210)을 구비하고, 또한, 웨이퍼(100)의 입, 출을 위한 개구의 입구(250)를 구비하는 형태를 가지고 있다. 웨이퍼(100)는 풉 몸체(200)의 바닥부(270)에 대해 평행하게 가로로 입구(250)를 통해 이동하여 슬롯(210)에 삽입되게 된다. 이러한 웨이퍼(100)의 풉 몸체(200) 내로의 삽입 또는 인출은 로봇(robot: 도시되지 않음)의 작동에 의해서 수행된다.
풉 몸체(200) 내부에 삽입된 웨이퍼(100)의 상태를 감지하기 위해서 웨이퍼 감지부(300)가 풉 장치에 도입된다. 이러한 웨이퍼 감지부(300)는 풉 몸체(200)의 슬롯(210)에 삽입된 웨이퍼(100)가 슬라이딩 등에 의해서 입구(250) 쪽으로 밀려나왔을 때, 이러한 비정상 상태의 웨이퍼를 감지하도록 도입된다. 예를 들어, 도 2a에 제시된 바와 같이 웨이퍼 감지부(300)는 풉 몸체(200)의 바닥(270)에 입구(250)에 인근하는 부분에 설치되도록 도입된다.
도 2a 및 도 2b를 함께 참조하면, 웨이퍼(100)가 풉 몸체(200) 내에 수납되었을 때, 웨이퍼(100)는 정상적인 위치에 삽입된 정상 상태의 웨이퍼(110)가 바람직하게 기대된다. 그럼에도 불구하고, 실질적으로 비정상적인 위치에 삽입된 비정상 상태의 웨이퍼(150)도 발생될 수 있다. 이러한 비정상 상태의 웨이퍼(150)는 웨이퍼(100)가 슬롯(210)으로부터 입구(250) 쪽으로 비정상적으로 밀려 나왔을 때 발생된다. 따라서, 정상적인 웨이퍼(110)는 입구(250)로부터 대략 20㎜ 정도 떨어진 위치를 점하게 되나, 비정상적인 상태의 웨이퍼(150)는 이러한 20㎜ 이격 간격 이내로 입구(250) 쪽에 가깝게 된다. 실질적으로 웨이퍼(150)는 20㎜ 바깥까지 밀려나오면, 슬롯(210)으로부터 이탈되어 바닥에 떨어지게 된다. 따라서, 도 2b에 제시된 바와 같이 비정상적인 상태의 웨이퍼(150)는 정상 상태 웨이퍼(110)에 비해 입구 쪽으로 밀려나온 상태이게 된다.
이러한 비정상 상태 웨이퍼(110)를 감지하기 위해서, 웨이퍼 감지부(300)가 도입된다. 웨이퍼 감지부(300)는 감지 광이 이러한 비정상 상태 웨이퍼(150)를 감지할 수 있도록, 풉 몸체(200)의 입구(250) 인근 위치에서 감지 광을 방사하고 회수할 수 있도록 설치된다. 예를 들어, 풉 몸체(200)의 입구(250) 인근의 바닥(270)에 웨이퍼 감지부(300)가 설치될 수 있으며, 이러한 웨이퍼 감지부(300)의 설치 위치는 실질적으로 비정상 웨이퍼(150)가 점하고 있으되 정상 웨이퍼(110)는 점할 수 없는 영역에 해당되는 위치이게 된다. 즉, 정상 상태 웨이퍼(100)의 가장 자리와 입구(250) 사이의 영역에 해당되는 위치에 웨이퍼 감지부(300)가 설치된다.
웨이퍼 감지부(300)는 회귀 반사형 광 센서(sensor)로 구성될 수 있다. 예를 들어, 감지 광을 방사하고 이러한 감지 광이 차단되어 회귀되는 것을 감지함으로써, 비정상 상태의 웨이퍼(150)의 존재를 감지하게 된다.
한편, 도 2b에서는 풉 몸체(200)의 바닥(270)에 웨이퍼 감지부(300)가 설치됨을 제시하고 있으나, 웨이퍼 감지부(300)는 비정상 상태의 웨이퍼(150)를 감지할 수 있는 위치라면 풉 몸체(200) 바닥(270) 외에 상부 또는 측부 어디라도 설치 가능하다.
이러한 웨이퍼 감지부(300)의 도입에 따라, 비정상 상태의 웨이퍼(150)의 존재를 미리 풉 몸체(200)의 입구(250)를 가리는 도어부가 열리거나 또는 로봇이 접근하기 이전에 미리 감지할 수 있다. 이에 따라, 웨이퍼(150)의 떨어짐 또는 깨짐, 이에 따른 2차 오염 등을 방지할 수 있다.
도 2c 및 도 2d를 참조하면, 풉 몸체(200)의 바닥(300) 내면에 웨이퍼 감지부(300)가 설치될 때, 웨이퍼 감지부(300)의 동작을 위한 전원의 공급은 풉 몸체(200)의 외부로 인출된 제1접점(310)에 전원이 연결되는 전원 공급부(500)로부터 이루어진다. 이를 위해 전원 공급부(500)에 연결된 제2접점(410) 풉 몸체(200)가 올려질 장착부(400)에 설치된다.
풉 몸체(200)는 반도체 소자 제조 장비 또는 풉 몸체(200)에의 웨이퍼(100)를 장착하는 장소인 장착부(load port:400)에 올려지게 되고, 풉 몸체(200)의 입구(250)에는 이를 가리는 도어부(450)가 도입되게 된다. 도어부(450)는 반도체 소자 제조 장비, 예컨대, 이온 주입 장비 또는 증착, 식각 장비의 장착부(400)에 하나의 부품으로 도입될 수 있다.
풉 몸체(200)가 이러한 장착부(400)에 올려진 상태에서 풉 몸체(200) 내부로의 웨이퍼(100)의 장착 또는 탈착 등의 동작이 이루어지므로, 웨이퍼 감지부(300)의 웨이퍼(도 2a의 100)의 상태를 감지하는 작동은 풉 몸체(200)가 이러한 장착부(400)에 올려진 시점에 시동되면 된다. 따라서, 전원 공급부(500)에 전기적으로 연결된 제2접점(410)을 풉 몸체(200)의 웨이퍼 감지부(300)에 연결되게 설치된 제2접점(310)에 대응되는 위치에 설치하면, 풉 몸체(200)가 장착부(400)에 올려진 순간 이러한 접점들(310, 410)이 연결되어 웨이퍼 감지부(300)가 작동되게 된다.
웨이퍼 감지부(300)가 작동함에 따라, 도 2b에 제시된 바와 같이 일정 이상 밀려 나와 비정상 상태인 웨이퍼(150)는 웨이퍼 감지부(300)에 의해서 감지되게 되고, 이에 따라, 웨이퍼(100, 110, 150)의 탈착을 위해 작동할 로봇(도시되지 않음)의 동작은 멈춰지게 되고, 작업자에게 비정상 상태 발생을 경보하게 된다.
도 2c 및 도 2c에서와 같은 구성으로 전원을 웨이퍼 감지부(300)에 공급할 수도 있으나, 별도의 전원을 위한 배선 또는 회로 구성을 사용할 수도 있다.
도 3은 본 발명의 제2실시예에 따른 웨이퍼 슬라이딩(wafer sliding)을 감지하는 풉(FOUP) 장치를 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 제2실시예에 따른 풉 장치는 박스 형태의 풉 몸체(200)의 외부에 설치된 웨이퍼 감지부(301)를 포함하여 구성될 수 있다. 웨이퍼 감지부(301)는 비정상 상태의 웨이퍼(도 2b의 150)를 감지하기 위해서 설치되되, 제1실시예에서와는 달리 풉 몸체(200) 외부에 설치되므로, 풉 몸체(200) 내부를 감지할 수 있도록 풉 몸체(200)가 변형될 수 있다.
예를 들어, 웨이퍼 감지부(300)는 회귀 반사형 광 센서(sensor)로 구성될 수 있다. 이러한 회귀 반사형 광 센서는 감지 광을 방사하고 이러한 감지 광이 차단되어 회귀되는 것을 감지함으로써, 비정상 상태의 웨이퍼(도 2b의 150)의 존재를 감지하게 된다. 이러한 회귀 반사형 광 센서는 감지 광을 풉 몸체(200) 내부로 방사하고 회귀하는 광을 접수하여야 하므로, 이러한 감지 광의 전달 통로로서 투명창(230)을 풉 몸체(200)의 웨이퍼 감지부(300)에 대응되는 위치에 도입한다. 투명창(230)은 여러 재질로 구성될 수 있고, 또한, 색깔을 띨 경우 그 색깔 또한 달라질 수 있다.
웨이퍼 감지부(301)가 풉 몸체(200)가 장착될 장착부(400)에 설치될 경우, 풉 몸체(200)의 바닥(270)에 이러한 투명창(230)이 설치되는 것이 바람직하다. 웨이퍼 감지부(301)에서 방사된 감지 광이 비정상 상태 웨이퍼(도 2b의 150)를 감지할 수 있도록, 풉 몸체(200)의 입구(250) 인근 위치에서 투명창(230)이 마련되고, 이러한 투명창(230)을 통해 방사된 감지 광이 풉 몸체(200) 내로 전달되고 회수되게 된다. 투명창(230)의 설치 위치는 실질적으로 비정상 웨이퍼(150)가 점하고 있으되 정상 웨이퍼(110)는 점할 수 없는 영역에 해당되는 위치이게 된다. 즉, 정상 상태 웨이퍼(100)의 가장 자리와 입구(250) 사이의 영역에 해당되는 위치에 투명창(230)이 도입되고, 이에 대응되게 웨이퍼 감지부(301)가 장착부(400)에 설치된다.
비록, 도 3에서는 풉 몸체(200)의 바닥(270)에 투명창(230)을 설치하고, 웨이퍼 감지부(301)를 장착부(400) 상에 설치됨을 제시하고 있으나, 웨이퍼 감지부(301)는 풉 몸체(200)의 외부 어느 위치에도 비접촉식으로 설치될 수 있고, 또한, 이에 대응되는 위치에 투명창(230)이 도입될 수 있다.
이러한 웨이퍼 감지부(301) 및 투명창(230)의 도입에 따라, 비정상 상태의 웨이퍼(도 2b의 150)의 존재를 미리 풉 몸체(200)의 입구(250)를 가리는 도어부가 열리거나 또는 로봇이 접근하기 이전에 미리 감지할 수 있다. 이에 따라, 웨이퍼(150)의 떨어짐 또는 깨짐, 이에 따른 2차 오염 등을 방지할 수 있다.
상술한 본 발명에 따르면, 풉 장치에 수납된 웨이퍼들 중 일부가 슬라이딩 등에 의해서 비정상 상태일 지라도, 도어부의 열림 또는 로봇의 접근 동작 이전에 이러한 비정상 상태의 웨이퍼의 발생을 미리 감지할 수 있다. 이에 따라, 도업부의 열림 또는 로봇의 접근에 따른 비정상 상태의 웨이퍼의 떨어짐 또는 로봇에의 부딪힘을 방지할 수 있다. 따라서, 로봇 또는 웨이퍼에의 원하지 않는 손상 발생 및 이에 따른 2차 오염 문제 발생을 효과적으로 방지할 수 있다. 또한, 고가인 300㎜ 웨이퍼의 손상에 따른 추가 비용 발생을 방지할 수 있다.
이상, 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.
도 1a 및 도 1b는 종래의 풉 장치를 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면들이다.
도 2a 내지 도 2d는 본 발명의 제1실시예에 따른 웨이퍼 슬라이딩(wafer sliding)을 감지하는 풉(FOUP) 장치를 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면들이다.
도 3은 본 발명의 제2실시예에 따른 웨이퍼 슬라이딩(wafer sliding)을 감지하는 풉(FOUP) 장치를 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면이다.
Claims (8)
- 웨이퍼들을 내부에 수납하고 상기 웨이퍼들의 입출을 위한 입구를 가지는 풉 몸체; 및상기 풉 몸체 내부에 수납된 웨이퍼들 중 상기 입구 쪽으로 비정상적으로 밀려나온 비정상 상태의 웨이퍼를 감지하는 웨이퍼 감지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 풉 장치.
- 제1항에 있어서,상기 웨이퍼 감지부는 감지 광을 상기 비정상 상태의 웨이퍼가 감지될 영역으로 방사하고 상기 비정상 상태의 웨이퍼로부터 회귀되는 광을 감지하여 상기 비정상 상태의 웨이퍼를 감지하는 반사 회귀형 광 센서인 것을 특징으로 하는 풉 장치.
- 웨이퍼의 수납 또는 탈착이 수행될 위치인 장착부;상기 웨이퍼들을 내부에 수납하고 상기 장착부 상에 접촉할 바닥 및 상기 웨이퍼들의 입출을 위한 입구를 가지는 풉 몸체; 및상기 풉 몸체 내부에 수납된 웨이퍼들 중 상기 입구 쪽으로 비정상적으로 밀려나온 비정상 상태의 웨이퍼를 감지하기 위해 상기 풉 몸체 내부에 설치된 웨이퍼 감지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 풉 장치.
- 제3항에 있어서,상기 웨이퍼 감지부는 감지 광을 상기 비정상 상태의 웨이퍼가 감지될 영역으로 방사하고 상기 비정상 상태의 웨이퍼로부터 회귀되는 광을 감지하여 상기 비정상 상태의 웨이퍼를 감지하는 반사 회귀형 광 센서인 것을 특징으로 하는 풉 장치.
- 제3항에 있어서,상기 웨이퍼 감지부는 감지 광을 상기 비정상 상태의 웨이퍼가 감지될 영역으로 방사하기 위해 상기 풉 몸체의 입구 인근 바닥에 설치되는 것을 특징으로 하는 풉 장치.
- 제3항에 있어서,상기 웨이퍼 감지부의 동작을 위한 전원을 제공하는 전원 공급부;상기 웨이퍼 감지부에 전기적으로 연결되고 상기 풉 몸체의 바닥부 외벽에 설치된 제1접점; 및상기 장착부 상에 상기 제1접점에 대응하는 위치에 설치되고 상기 제1접점과 접촉하여 상기 전원 공급부로부터 전원이 상기 웨이퍼 감지부에 전달되는 것을 허용하는 제2접점을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 풉 장치.
- 웨이퍼의 수납 또는 탈착이 수행될 위치인 장착부;상기 웨이퍼들을 내부에 수납하고 상기 장착부 상에 접촉할 바닥 및 상기 웨이퍼들의 입출을 위한 입구를 가지는 풉 몸체;상기 풉 몸체 내부에 수납된 웨이퍼들 중 상기 입구 쪽으로 비정상적으로 밀려나온 비정상 상태의 웨이퍼를 감지하기 위해 상기 풉 몸체 내부로 감지 광을 조사하고 회수하되 상기 풉 몸체 외부에 도입되는 웨이퍼 감지부; 및상기 풉 몸체에 설치되어 상기 감지 광이 상기 풉 몸체 외부로부터 내부로 전달되는 통로를 제공하는 투명창을 포함하는 것을 특징으로 하는 풉 장치.
- 제7항에 있어서,상기 웨이퍼 감지부는 상기 장착부 상에 설치되고,상기 웨이퍼 감지부가 상기 투명창을 통해 감지 광을 상기 비정상 상태의 웨이퍼가 감지될 영역으로 방사하기 위해 상기 투명창은 상기 풉 몸체의 입구 인근 바닥에 설치되는 것을 특징으로 하는 풉 장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040022039A KR20050096606A (ko) | 2004-03-31 | 2004-03-31 | 웨이퍼 슬라이딩을 감지하는 풉 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040022039A KR20050096606A (ko) | 2004-03-31 | 2004-03-31 | 웨이퍼 슬라이딩을 감지하는 풉 장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050096606A true KR20050096606A (ko) | 2005-10-06 |
Family
ID=37276655
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020040022039A KR20050096606A (ko) | 2004-03-31 | 2004-03-31 | 웨이퍼 슬라이딩을 감지하는 풉 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20050096606A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023120899A1 (ko) * | 2021-12-21 | 2023-06-29 | 이규옥 | 엔드이펙터 감지센서를 갖는 풉 및 이를 이용한 데이터 통합 관리시스템 |
-
2004
- 2004-03-31 KR KR1020040022039A patent/KR20050096606A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023120899A1 (ko) * | 2021-12-21 | 2023-06-29 | 이규옥 | 엔드이펙터 감지센서를 갖는 풉 및 이를 이용한 데이터 통합 관리시스템 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100472341B1 (ko) | 기판처리장치,그운전방법및기판검출시스템 | |
US8462008B2 (en) | System and method for introducing a substrate into a process chamber | |
US20110188977A1 (en) | Foup opener and operating method thereof | |
US11735448B2 (en) | Container, container partition plate, substrate processing system, and substrate transfer method | |
TWI425590B (zh) | 基板處理裝置及其基板搬送方法 | |
KR101736351B1 (ko) | 웨이퍼 이송용 로드포트 | |
JP2009064807A (ja) | 基板位置ずれ検出システム | |
CN111788668A (zh) | 基板搬运装置以及基板搬运方法 | |
KR20050096606A (ko) | 웨이퍼 슬라이딩을 감지하는 풉 장치 | |
KR100940399B1 (ko) | 웨이퍼 돌출 감지 장치 및 방법 | |
KR20060037092A (ko) | 반도체 소자 제조용 장비 | |
KR20040021427A (ko) | 웨이퍼 카세트의 로딩상태 확인수단을 갖는 캐리어 | |
KR20010064306A (ko) | 로딩/언로딩 웨이퍼의 파손 방지를 위한 반도체 설비 | |
KR20080014247A (ko) | 기판을 이송하는 방법 및 시스템 | |
KR20040078349A (ko) | 반도체 제조설비의 웨이퍼 맵핑장치 | |
KR20060078838A (ko) | 카세트커버의 웨이퍼 돌출 감지장치 | |
KR20100073319A (ko) | 웨이퍼 매핑 시스템을 구비한 스미프 장치 | |
JP2024118393A (ja) | OHTで移動可能なフープ(FOUP)内のロボット感知レーザセンサシステムの位置判定装置{Position determination device of robot detection laser sensor system in FOUP movable by OHT} | |
KR200188482Y1 (ko) | 스탠더드 메커니컬 인터페이스 시스템 | |
CN117878032A (zh) | 一种紧凑型晶圆传输设备机械手与上料端口互锁系统 | |
JP2003197705A (ja) | カセット蓋着脱装置 | |
JPH0769406A (ja) | 真空内ウェハ搬送装置 | |
KR20070049806A (ko) | 웨이퍼 이송장치 | |
KR20050101722A (ko) | 반도체 제조장치 | |
KR20060034529A (ko) | 기판 이송 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |