KR200188482Y1

KR200188482Y1 - 스탠더드 메커니컬 인터페이스 시스템

Info

Publication number: KR200188482Y1
Application number: KR2019990029109U
Authority: KR
Inventors: 장현주; 김전진
Original assignee: 아남반도체주식회사
Priority date: 1999-12-22
Filing date: 1999-12-22
Publication date: 2000-07-15

Abstract

본 발명은 내부에 잔류하는 잔류 가스 흄을 제거할 수 있는 SMIF 시스템을 개시한다.

본 발명은 웨이퍼를 반도체 장비에 로딩/언로딩시키기 위해 밀폐된 공간을 형성하는 커버와, 커버의 상부에 형성되어 SMIF 파드에 저장된 웨이퍼 카세트를 커버의 내부로 이송/ 배출하는 포트 도어와, 포트 도어를 승,하강시키기 위한 슬라이딩 기구와, 웨이퍼 카세트를 파지하여 이송시키기 위한 그리퍼와, 커버의 양측면에 내부의 잔류 가스 흄을 외부로 배출시키는 배출 팬이 설치되는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 웨이퍼가 공정 진행을 위해 SMIF 시스템 내부에 대기중이거나 또는 공정을 마친 후 웨이퍼가 언로딩되면서 잔류 가스 흄에 의해 SMIF 시스템 내부가 오염되는 것을 방지한다.

Description

스탠더드 메커니컬 인터페이스 시스템{STANDARD MECHANICAL INTERFACE SYSTEMS}

본 발명은 반도체 가공 장비에 카세트 캐리어를 로딩/언로딩시키기 위한 스탠더드 메커니컬 인터페이스 시스템에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 웨이퍼 로딩/언로딩시 잔류 가스 흄에 의해 SMIF 시스템 내부가 오염되는 것을 방지하기 위하여 배기팬이 설치된 스탠더드 메커니컬 인터페이스 시스템에 관한 것이다.

반도체 웨이퍼를 가공하기 위한 장비는 매우 깨끗한 환경을 요구한다. 반도체 웨이퍼를 이송하거나 저장할 때 작은 입자, 기체 혹은 정전하가 포함되는 경우 반도체 웨이퍼 장비 또는 반도체 웨이퍼가 손상을 받게 된다. 한편, 웨이퍼 가공이 이루어지는 넓은 공간을 고도로 깨끗한 환경을 유지하기에는 비용이 많이 소요되므로 기밀이 유지되는 웨이퍼 이송용기를 이용해 반도체 웨이퍼 장비에 웨이퍼를 로딩/언로딩시킬 수 있는 SMIF 시스템이 개발되었다.

SMIF 시스템은 반도체 웨이퍼 제조공정을 수행하는 반도체 장비의 주변장치로서 SMIF란 Standard Mechanical Interface의 약자이며, 국부 청정(clean) 시스템이다. 또한 SMIF 파드(Pod)란 웨이퍼를 안전하게 보관하거나 청정도를 유지시 SMIF 시스템에 웨이퍼 운반수단으로 이송되는 것이다. SMIF는 외부로부터 유입되는 여러 가지 이물질(particle)로부터 생간 웨이퍼를 안전하게 보관 및 청정도를 유지시켜 대기 콘트롤 및 프로세스 처리 시 인위적인 실수 등을 방지하기 위한 것으로, 다수의 웨이퍼가 저장된 카세트 캐리어를 반도체 장비에 투입하거나 배출하는데 이용되는 시스템이다.

도 1은 종래기술에 따른 SMIF 시스템을 도시하고 있다. 도시된 바와 같이, 종래의 SMIF 시스템은 밀폐된 공간을 형성하는 커버(1)와, 커버(1)의 상부에 형성되어 SMIF 파드(2)에 저장된 웨이퍼 카세트(3)를 커버(1)의 내부로 이송/ 배출하는 포트 도어(port door;4)와, 포트 도어(4)를 승,하강시키기 위한 슬라이딩 기구(미도시) 및 웨이퍼 카세트(3)를 파지하여 이송시키기 위한 그리퍼(미도시)를 포함한다.

이와 같은 SMIF 시스템은 웨이퍼 카세트(3)가 수납된 SMIF 파드(2)를 작업자가 포트 도어(4)) 상에 올려 놓고 SMIF 시스템을 동작하면, 포트 도어(4)가 슬라이딩 기구에 의해 하강함에 따라 SMIF 파드(2) 내에 수납된 웨이퍼 카세트(3)가 SMIF 파드(2)의 바닥면 즉, 파드 도어(5)와 함께 커버(1) 내부로 내려온다. 포트 도어(4) 상에는 SMIF 파드(2)로부터 파드 도어(5)의 잠금장치를 해제하는 수단이 마련되어 있다.

이처럼, 클린이 유지된 상태로 웨이퍼 카세트(3)를 커버(1) 내부로 들어오게 한 후 그리퍼를 작동시켜 웨이퍼 카세트(3)의 일단을 움켜쥔 채 수평방향으로 슬라이딩 이동하여 웨이퍼 카세트(3)를 반도체 장비에 투입한다.

이와 같이 SMIF 시스템에 의해 로딩/언로딩되는 웨이퍼(6)를 보호하기 위해 SMIF 내부에는 웨이퍼 카세트(3) 또는 웨이퍼(6)의 상태를 광학적으로 체크하기 위한 다양한 감지수단 및 광학 부재들이 설치되어 있다.

예를 들면, 레이저 광원, 레이저에서 발생된 빔을 분리하기 위한 빔 다수의 스플리터(beam splitters), 빔의 경로를 변경하기 위한 다수의 반사 미러(mirror), 웨이퍼(b)의 돌출 여부를 체크하기 위한 웨이퍼 돌출 센서, 웨이퍼의 중심 위치를 체크하기 위한 웨이퍼 위치 센서, 카세트의 위치를 체크하기 위한 카세트 슬롯 센서 등이 구비되어 있다.

그런데 이와 같은 종래의 SMIF 시스템은 공정 진행 후 웨이퍼에 잔류하는 잔류 가스 등이 웨이퍼 카세트(3)와 함께 SMIF 시스템으로 언로딩 되면서 SMIF 시스템 내부를 오염시키는 문제가 있었다.

SMIF 시스템 내부가 잔류 가스 등에 의해 오염되면 SMIF 시스템 내부의 여러 가지 감지수단 및 광학적 부재들이 오염되어 정상적으로 작동되지 않을 뿐만 아니라 장기적으로 부식의 우려가 있다. 한편, 감지수단의 오염은 오동작을 유발하여 웨이퍼(6)를 파괴시키거나 웨이퍼(6)에 흠집을 낼 우려가 있으며, 빈번한 SMIF 시스템의 에러는 장비를 안정적으로 사용하지 못하게 하여 장비 가동율의 저하 및 이로 인한 생산 차질을 가져온다.

따라서 본 발명은 이와같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 웨이퍼가 공정 진행을 위해 SMIF 시스템 내부에 대기중이거나 또는 공정을 마친 후 웨이퍼가 언로딩되면서 잔류 가스에 의해 SMIF 시스템 내부가 오염되는 것을 방지하기 위한 스탠더드 메커니컬 인터페이스 시스템을 제공하는데 그 목적이 있다.

이와 같은 목적을 실현하기 위한 본 발명은 웨이퍼를 반도체 장비에 로딩/언로딩시키기 위해 밀폐된 공간을 형성하는 커버와, 커버의 상부에 형성되어 SMIF 파드에 저장된 웨이퍼 카세트를 커버의 내부로 이송/ 배출하는 포트 도어(port door)와, 포트 도어를 승,하강시키기 위한 슬라이딩 기구와, 웨이퍼 카세트를 파지하여 이송시키기 위한 그리퍼를 구비한 스탠더드 메커니컬 인터페이스 시스템에 있어서, 커버의 양측면에 내부의 잔류 가스를 외부로 배출시키는 배출 팬이 설치되는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 상기 목적과 여러 가지 장점은 이 기술 분야에 숙련된 사람들에 의해 첨부된 도면을 참조하여 아래에 기술되는 발명의 바람직한 실시예로부터 더욱 명확하게 될 것이다.

도 1은 종래기술에 따른 SMIF 시스템을 개략적으로 도시한 사시도,

도 2는 본 발명에 따른 SMIF 시스템을 개략적으로 도시한 사시도,

＜도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

1 ; 커버 2 ; SMIF 파드

3 ; 웨이퍼 카세트 4 ; 포트 도어

5 ; 파드 도어 6 ; 웨이퍼

10 ; 배출 팬

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 SMIF 시스템을 상세하게 설명 한다.

도 2는 본 발명에 따른 SMIF 시스템을 개략적으로 도시한 사시도이다. 한편, 종래와 동일한 구성부재에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하여 설명한다.

본 발명에 따른 SMIF 시스템은 커버(1), 포트 도어(port door;4), 포트 도어(4)를 승,하강시키기 위한 슬라이딩 기구(미도시)와, 웨이퍼 카세트(3)를 파지하여 이송시키기 위한 그리퍼(미도시) 및 커버(1)의 양측면에 내부의 잔류 가스를 외부로 배출시키는 배출 팬(10)이 설치되는 것을 특징으로 한다.

이를 좀 더 자세히 설명하면, 커버(1)는 대략 직육면체 형상을 가지며 그 내부로 웨이퍼 카세트(3)가 들어올 수 있는 밀폐된 공간을 형성하고 있다. 커버(1)의 상부면은 포트 도어(4)가 설치되어 슬라이딩 기구에 의해 승하강 된다. 포트 도어(4) 상부에는 웨이퍼(6)를 수납하는 용기인 SMIF 파드(2)가 놓여지고, SMIF 파드(2) 내부에 수납된 웨이퍼 카세트(3)는 외부와 차단된 상태에서 포트 도어(4)의 하강에 의해 SMIF 시스템의 커버(1) 내부로 들어간다.

이와 같은 SMIF 시스템은 반도체 웨이퍼(6) 제조공정시 국부적으로 청정(clean) 상태를 유지하면서 반도체 장비에 웨이퍼(6)를 투입하거나 배출하는 것으로, 외부로부터 유입되는 여러 가지 이물질(particle)로부터 웨이퍼(6)를 안전하게 보관할 수 있으며, 웨이퍼(6)의 청정도를 유지시켜 생산 웨이퍼의 품질을 향상시킬 수 있다.

한편, 반도체 공정을 진행하는 장비들은 공정 진행을 위하여 여러 가지 가스를 사용하여 여러 종류의 식각 단계 및 스트립(strip) 등의 공정을 진행한다. 이와 같이 가스를 사용하는 공정을 진행하면 공정 진행 후 남아있는 잔류 가스 등이 주변의 다른 장치를 오염시키거나 원하지 않는 화학반응이 일어나 이물질이 발생되는 소오스(source)로 작용하는 경우가 있다. 특히, 공정 진행 후 웨이퍼에 묻어 나오는 잔류 가스를 SMIF 시스템의 내부를 오염시킨다. SMIF 시스템 내부가 오염되면 공정 진행을 위해 대기중인 웨이퍼도 오염시킬 우려가 있다.

또한, SMIF 시스템에 의해 로딩/언로딩되는 웨이퍼(6)를 보호하기 위해 SMIF 내부에는 웨이퍼 카세트(3) 또는 웨이퍼(6)의 상태를 광학적으로 체크하기 위한 다양한 감지수단 및 광학 부재들이 설치되어 있다. 예를 들면, 레이저 광원, 레이저에서 발생된 빔을 분리하기 위한 빔 다수의 스플리터(beam splitters), 빔의 경로를 변경하기 위한 다수의 반사 미러(mirror), 웨이퍼의 돌출 여부를 체크하기 위한 웨이퍼 돌출 센서, 웨이퍼의 중심 위치를 체크하기 위한 웨이퍼 위치 센서, 카세트의 위치를 체크하기 위한 카세트 슬롯 센서 등이 구비되어 있다. 한편, SMIF 시스템 내부가 잔류 가스 등에 의해 오염되면 이들 감지수단 및 광학적 부재들이 오염되어 정상적으로 작동되지 않을 뿐만 아니라 장기적으로 부식의 우려가 있다.

따라서, 본 발명의 특징에 따른 배기 팬(10)은 SMIF 시스템 내부로 유입되는 잔류 가스를 외부로 배출하여 SMIF 시스템 내부가 오염되는 것을 방지한다.

이상, 상기 내용은 본 발명의 바람직한 일실시예를 단지 예시한 것으로 본 발명의 당업자는 본 발명의 요지를 변경시키지 않고 본 발명에 대한 수정 및 변경을 가할 수 있음을 인지해야 한다.

상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 웨이퍼가 공정 진행을 위해 SMIF 시스템 내부에 대기중이거나 또는 공정을 마친 후 웨이퍼가 언로딩되면서 잔류 가스에 의해 SMIF 시스템 내부가 오염되는 것을 방지하여, SMIF 시스템 내부의 여러 가지 감지수단 및 광학적 부재들이 장기적으로 부식되는 것을 방지할 수 있으며, 오동작으로 인한 웨이퍼의 파괴 또는 흠집 발생을 미연에 방지하는 효과를 얻을 수 있다. 또한, 장비의 가동율을 증대시키는 효과를 얻을 수 있다.

Claims

웨이퍼를 반도체 장비에 로딩/언로딩시키기 위해 밀폐된 공간을 형성하는 커버와, 커버의 상부에 형성되어 SMIF 파드에 저장된 웨이퍼 카세트를 커버의 내부로 이송/ 배출하는 포트 도어(port door)와, 포트 도어를 승,하강시키기 위한 슬라이딩 기구와, 웨이퍼 카세트를 파지하여 이송시키기 위한 그리퍼를 구비한 스탠더드 메커니컬 인터페이스 시스템에 있어서,

상기 커버의 양측면에 내부의 잔류 가스를 외부로 배출시키는 배출 팬이 설치되는 것을 특징으로 하는 스탠더드 메커니컬 인터페이스 시스템.