KR20050094933A - Apparatus for cleaning flat display panel - Google Patents
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Abstract
기체나 액체와 같은 세정용 유체가 2종 이상 혼합된 혼합유체의 분사작용에 의해 기판을 세정하는 세정장치로서, 유체를 분사하기 위한 유로(流路)의 형성이 용이할 뿐만 아니라, 기체의 분사 흐름에 의해 액체의 혼합 분사가 유도되도록 하여 기판 세정을 위한 세정용 액체의 사용량을 대폭 줄일 수 있음은 물론이거니와 더욱 향상된 분사효율 및 세정품질을 얻을 수 있는 평판디스플레이용 세정장치에 관한 것이다.A cleaning device that cleans a substrate by a spraying action of a mixed fluid in which two or more cleaning fluids, such as gas or liquid, are mixed. It is not only easy to form a flow path for injecting fluid, but also sprays of gas. The present invention relates to a flat panel display cleaning device capable of drastically reducing the amount of cleaning liquid used for cleaning a substrate by inducing a mixed injection of a liquid by flow, and further improving injection efficiency and cleaning quality.
이러한 세정장치는, 기판을 세정하기 위한 세정용 액체가 담겨지는 액체공급부와, 이 액체공급부와 마주하는 자세로 위치하며 기판을 세정하기 위한 세정용 기체가 담겨지는 기체공급부와, 상기 액체공급부와 기체공급부 사이에 위치하고 세정용 기체는 물론이거니와 이 기체의 분사작용에 의해 세정용 액체가 혼합 분사되도록 하는 유로를 제공하는 분사수단을 포함하며,The cleaning apparatus includes a liquid supply part containing a cleaning liquid for cleaning a substrate, a gas supply part located in a posture facing the liquid supply part and containing a cleaning gas for cleaning the substrate, and the liquid supply part and the gas. And injection means provided between the supply portions and providing a flow path for allowing the cleaning liquid to be mixed and injected by the injection action of the gas as well as the cleaning gas,
상기 분사수단은, 상기 액체공급부에 대응하는 자세로 위치하며 세정용 액체를 분사하기 위한 유로 구간이 박판들에 의해 분할 형성되는 액체 유로어셈블리와, 이 액체 유로어셈블리와 마주하는 자세로 위치하며 세정용 기체를 분사하기 위한 유로 구간이 박판들에 의해 분할 형성됨과 아울러 기체 유로를 통하여 세정용 기체가 분사될 때에 이 기체의 일방향 분사 분위기에 의해 상기 액체 유로를 통하여 세정용 액체가 흡인되면서 혼합 분사가 이루어지도록 유도하는 기체 유로어셈블리를 포함한다.The injection means is positioned in a position corresponding to the liquid supply part, and a liquid flow path assembly in which a flow path section for injecting a cleaning liquid is divided by thin plates, and positioned in a position facing the liquid flow path assembly for cleaning. The flow path section for injecting the gas is divided by the thin plates, and when the cleaning gas is injected through the gas flow path, the cleaning liquid is sucked through the liquid flow path by the one-way injection atmosphere of the gas and mixed injection is performed. It includes a gas flow assembly that leads to
Description
본 발명은 평판디스플레이용 세정장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기체나 액체와 같은 세정용 유체가 2종 이상 혼합된 혼합유체의 분사작용에 의해 기판 세정하는 세정장치로서, 세정용 유체를 분사하기 위한 유로의 형성이 용이할 뿐만 아니라, 기체의 분사 흐름에 의해 액체의 혼합 분사가 유도되도록 하여 기판 세정을 위한 세정용 액체의 사용량을 대폭 줄일 수 있음은 물론이거니와 더욱 향상된 분사효율 및 세정품질을 얻을 수 있는 평판디스플레이용 세정장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat panel display cleaning device. More particularly, the present invention relates to a cleaning device for cleaning a substrate by spraying a mixture of two or more types of cleaning fluids such as gas or liquid. Not only can the flow path be easily formed, but also the mixed injection of the liquid is induced by the injection flow of the gas, so that the amount of the cleaning liquid used for cleaning the substrate can be drastically reduced, and further improved injection efficiency and cleaning quality can be obtained. The present invention relates to a flat panel display cleaning device.
일반적으로 세정용 유체의 분사작용에 의한 세정장치는 평판디스플레이 패널 즉, 기판의 표면에 부착된 이물질을 기체나 액체 등과 같은 단일 또는 이들의 혼합 유체를 일정한 압력으로 분사하여 제거하는 것으로서, 기판 세정을 위한 세정영역 즉, 베스 내부에서 기판의 이송 구간내에 위치하여 이 구간을 따라 이동하는 기판 표면의 세정이 가능한 자세로 설치된다.In general, the cleaning device by spraying the cleaning fluid is a flat panel display, that is, by removing a single or mixed fluid such as gas or liquid at a constant pressure to remove foreign substances adhering to the surface of the substrate, the substrate cleaning The cleaning area for the substrate is positioned in a transport section of the substrate within the bath and moves in the transport zone.
그리고, 세정장치는 기판 이송구간을 가로지르는 자세로 설치되는 장방형 본체에 유체의 분사를 위한 노즐들이 상기 본체의 길이 방향으로 다수개가 이격 설치되어 예를들면, 기판의 이송 구간내에서 세정 구간 즉, 세정장치의 영역을 통과할 때에 세정 유체가 노즐을 통해서 기판의 표면을 향하여 분사되도록 하여 이와 같은 세정용 유체의 분사작용에 의해 기판 표면에 달라붙은 이물질을 제거하는 구조이다.In addition, the cleaning apparatus includes a plurality of nozzles for spraying a fluid in a rectangular main body installed in a posture crossing the substrate transporting section in the longitudinal direction of the main body, for example, a cleaning section within the transporting section of the substrate. The cleaning fluid is sprayed toward the surface of the substrate through the nozzle when passing through the region of the cleaning apparatus to remove foreign matters stuck to the surface of the substrate by the spraying of the cleaning fluid.
상기한 세정장치에 다수개가 설치되는 노즐들은 세정용 유체의 분사를 위한 유로가 대부분 환상(環狀)의 형태로 이루어지므로 이와 같은 유로를 통해 분사되는 세정용 유체는 기판의 표면에서 예를들면, 상기 유로의 모양에 대응하는 환상의 모양에 한정된 분사 면적을 가지므로 세정 구간을 패스하는 기판의 표면 전체에 대응하여 유체의 균일한 분사가 어려우므로 세정용 유체의 분사효율을 물론이거니와 만족할 만한 세정품질을 얻기에는 한계가 있다.Since a plurality of nozzles installed in the cleaning device are formed in a substantially annular shape for the flow path of the cleaning fluid, the cleaning fluid injected through the flow path is, for example, on the surface of the substrate. Since it has a spray area limited to an annular shape corresponding to the shape of the flow path, it is difficult to uniformly spray the fluid corresponding to the entire surface of the substrate passing the cleaning section, so that the cleaning efficiency of the cleaning fluid is of course satisfactory. There is a limit to getting.
더욱이, 대면적 기판을 세정하려면 이에 대응하여 상기 세정장치 본체에 유체의 분사를 위한 노즐들을 더 설치하여야 하므로 구조가 복잡할 뿐만 아니라, 제작 및 유지보수 등에 과다한 비용이 소요되므로 만족할 만한 장치의 효율성을 기대하기 어렵다.Furthermore, in order to clean a large-area substrate, nozzles for dispensing fluid must be further installed in the cleaning apparatus main body, which is not only complicated in structure, but also requires excessive cost for manufacturing and maintenance. It's hard to expect
상기한 분사 구조를 갖는 세정장치의 단점을 보완한 장치로는 본원 출원인에 의해 2002년 특허 출원되어 2003년 10월30일자로 공개된 특허출원번호 10-2002-0021553호가 있다.Apparatus that supplements the shortcomings of the cleaning device having the above-described injection structure is Patent Application No. 10-2002-0021553 published in October 30, 2003, the patent application by the present applicant.
상기 세정장치의 구조를 간략하게 설명하면, 장방형 노즐을 구비한 장방형 몸체와,Briefly describing the structure of the cleaning device, a rectangular body having a rectangular nozzle,
상기 몸체 내부를 대기압 상태의 세정액 저장부와 압력기체 저장부로 분리하도록 상기 몸체 내측 중심부에 상기 몸체의 장축을 따라 구비된 분리격벽과,A separating partition wall provided along the long axis of the body at an inner center of the body to separate the inside of the body into an atmospheric pressure washing liquid storage unit and a pressure gas storage unit;
상기 분리격벽 일측의 상기 기체 저장부 상부에 설치된 기체 공급구와,A gas supply port provided at an upper portion of the gas storage part at one side of the separation partition wall;
상기 기체 공급구로부터 유입되는 압력기체를 층류로 변환하도록 상기 기체 저장부 내에 설치된 층류변환수단과,Laminar flow converting means installed in the gas reservoir to convert the pressure gas flowing from the gas supply port into laminar flow;
상기 분리격벽 타측의 상기 세정액 저장부 상부에 설치된 세정액 공급구와,A cleaning liquid supply port provided in an upper portion of the cleaning liquid storage part on the other side of the separation partition wall;
상기 세정액 저장부 하단에 마련된 수평유로와 상기 기체 저장부 하단에 마련된 수직 유로로부터 각각 공급받은 세정액과 압력기체를 혼합시켜 상기 노즐을 통하여 평판디스플레이측으로 분사하도록 상기 분리격벽 저면에 구비된 "??"자 형 액체 기체 혼합분사기 및 상기 노즐 간극의 탄성 변형을 방지하도록 상기 노즐의 단축 방향에서 상기 노즐을 체결하는 등간격의 유선형 기구들을 포함하는 구조로 이루어진다.“??” provided on the bottom surface of the separation partition wall to mix the cleaning liquid and the pressure gas supplied from the horizontal flow path provided at the bottom of the cleaning liquid storage unit and the vertical flow path provided at the bottom of the gas storage unit, and spray them to the flat panel display side through the nozzle. And a streamlined mechanism having equal intervals for engaging the nozzle in the minor axis direction of the nozzle to prevent elastic deformation of the nozzle-shaped liquid gas mixing sprayer and the nozzle gap.
즉, 상기한 구조의 세정장치는 세정액 저장부와 압력기체 저장부 사이에 유체 혼합 및 분사를 위한 분리격벽이 형성되고 이 격벽의 하단부에 위치하며 상기 저장부들의 액체와 기체의 혼합을 위한 유로 구간을 갖는 액체 기체 혼합기 즉, 상기 격벽을 사이에 두고 상기 기체 공급부의 압력기체가 수직 유로를 따라 노즐을 통하여 분사될 때에 이 기체의 분사 흐름에 의해 상기 액체 저장부의 액체가 흡인되면서 수평 유로를 따라 압력기체와 혼합된 후 노즐을 통해 혼합 분사되면서 이와 같은 세정 유체의 분사 작용에 의해 기판 표면에 달라붙은 이물질을 제거하는 구조이다.That is, in the cleaning apparatus having the above-described structure, a separation partition for fluid mixing and injection is formed between the cleaning liquid storage unit and the pressure gas storage unit and is located at the lower end of the partition wall, and a flow path section for mixing liquid and gas in the storage units. Liquid gas mixer having a gas flow path, that is, when the pressure gas of the gas supply part is injected through the nozzle along a vertical flow path with the partition interposed therebetween, the liquid flow of the liquid storage part is sucked by the injection flow of the gas and is pressed along the horizontal flow path. After mixing with gas, the mixture is sprayed through a nozzle to remove foreign substances adhering to the surface of the substrate by the spraying action of the cleaning fluid.
그러나, 이와 같은 종래의 장방형 유체 분사 노즐을 갖는 세장장치는, 상기 2개의 저장부 사이에 위치하는 유로 영역 즉, 격벽과 혼합기 그리고 노즐이 상기 저장부들과 일체로 형성된 구조이므로 유로의 제작이 어려울 뿐만 아니라, 만족할 만한 정밀도 등을 얻을 수 없으며, 상기 저장부들의 셋팅 상태에 따라 유로 내부의 환경이 쉽게 변화될 수 있으므로 최적의 유로 환경을 제공하기에는 구조적으로 한계가 있다.However, in the conventional washing apparatus having a rectangular fluid injection nozzle, it is difficult to manufacture the flow path because the flow path region located between the two reservoirs, that is, the partition, the mixer, and the nozzle are integrally formed with the reservoirs. In addition, satisfactory precision and the like cannot be obtained, and since the environment inside the flow path can be easily changed according to the setting state of the storage units, there is a structural limitation in providing an optimal flow path environment.
게다가, 상기 저장부에서 예를들면, 하중이나 외력 등에 의해 휨이나 비틀림과 같이 표면의 형태 변형이 발생되면 상기 2개의 저장부 사이에 형성되는 유로의 형태도 함께 변형되므로 만족할 만한 내구성 및 분사품질을 기대할 수 없다.In addition, when the shape deformation of the surface such as bending or torsion occurs, for example, by load or external force in the storage part, the shape of the flow path formed between the two storage parts is also deformed together to obtain satisfactory durability and spray quality. Can't expect
그리고, 상기 노즐은 단축 방향으로 유선형 기구들을 체결하더라도 상기한 저장부들의 형태 변형이나 세정용 유체의 분사압력 등에 의해 노즐부 간극의 탄성 변형이 쉽게 유발되므로 세정용 유체의 분사효율 및 품질 등을 더욱 저하시키는 한 요인이 된다.Further, even when the nozzle is fastened with streamlined mechanisms in the short axis direction, the elastic deformation of the gap between the nozzle parts is easily caused by the shape deformation of the storage parts or the injection pressure of the cleaning fluid, so that the injection efficiency and quality of the cleaning fluid can be further improved. It is one factor that lowers.
또한, 상기 유로 영역의 부분적인 파손이 발생하면 저장부 전체를 교체하여야 하며, 기판의 크기나 형태에 따라 세정용 유체의 분사량이나 압력 등을 조절하려면 이에 대응하는 형태를 갖는 저장부로 교체하거나 새로 제작하여야 하므로 만족할 만한 작업 호환성 및 능률을 기대하기 어렵다In addition, if a partial breakage of the flow path region occurs, the entire storage portion must be replaced. To adjust the injection amount or pressure of the cleaning fluid according to the size or shape of the substrate, the storage portion having a corresponding shape can be replaced or newly manufactured. It is difficult to expect satisfactory work compatibility and efficiency
본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 2종 이상의 세정용 유체를 이용하여 이들의 분사작용에 의해 용이하게 기판을 세정할 수 있으며 특히, 유체의 분사를 위한 유로 영역이 각각의 유로 구간을 갖는 박판들에 의해 분할 형성되므로 제작이 용이할 뿐만 아니라 더욱 향상된 내구성 및 분사품질을 얻을 수 있는 평판디스플레이용 세정장치를 제공하는데 있다. The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, the object of the present invention is to clean the substrate by their injection action using two or more cleaning fluids, in particular, Since the flow path region for injection is divided by thin plates having respective flow path sections, it is easy to manufacture, and to provide a flat panel display cleaning apparatus which can obtain more improved durability and injection quality.
상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 실현하기 위하여, 기판을 세정하기 위한 세정용 액체가 담겨지는 액체공급부와, 이 액체공급부와 마주하는 자세로 위치하며 기판을 세정하기 위한 세정용 기체가 담겨지는 기체공급부와, 상기 액체공급부와 기체공급부 사이에 위치하고 세정용 기체는 물론이거니와 이 기체의 분사작용에 의해 세정용 액체가 혼합 분사되도록 하는 유로를 제공하는 분사수단을 포함하며,In order to realize the object of the present invention as described above, a liquid supply portion containing a cleaning liquid for cleaning the substrate, and a gas containing a cleaning gas for cleaning the substrate is located in a position facing the liquid supply portion And a spraying means positioned between the liquid supplying portion and the gas supplying portion and providing a flow path for mixing the spraying liquid with the cleaning gas as well as the cleaning gas.
상기 분사수단은, 상기 액체공급부에 대응하는 자세로 위치하며 세정용 액체를 분사하기 위한 유로 구간이 박판들에 의해 분할 형성되는 액체 유로어셈블리와, 이 액체 유로어셈블리와 마주하는 자세로 위치하며 세정용 기체를 분사하기 위한 유로 구간이 박판들에 의해 분할 형성됨과 아울러 기체 유로를 통하여 세정용 기체가 분사될 때에 이 기체의 일방향 분사 분위기에 의해 상기 액체 유로를 통하여 세정용 액체가 흡인되면서 혼합 분사가 이루어지도록 유도하는 기체 유로어셈블리를 포함하는 평판디스플레이용 세정장치를 제공한다.The injection means is positioned in a position corresponding to the liquid supply part, and a liquid flow path assembly in which a flow path section for injecting a cleaning liquid is divided by thin plates, and positioned in a position facing the liquid flow path assembly for cleaning. The flow path section for injecting the gas is divided by the thin plates, and when the cleaning gas is injected through the gas flow path, the cleaning liquid is sucked through the liquid flow path by the one-way injection atmosphere of the gas and mixed injection is performed. It provides a cleaning device for a flat panel display comprising a gas flow path assembly to guide the.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail.
도 1, 도 2, 도 3을 참조하면, 기판(G)을 세정하기 위한 세정액(W)이 담겨지는 액체공급부(2)와, 이 액체공급부(2)와 마주하는 자세로 위치하며 기판(G)을 세정하기 위한 압력기체(A)가 담겨지는 기체공급부(4)와, 상기 액체공급부(2)와 기체공급부(4) 사이에 위치하며 압력기체(A)는 물론이거니와 이 기체(A)의 분사작용에 의해 세정액(W)이 혼합 분사되도록 하는 분사수단(6)을 포함하며, 본 실시예에서는 기판(G)의 세정을 위한 영역 예를들면, 세정용 베스 내부에서 도 1에서와 같이 기판이송장치(M)를 따라 이동하는 기판(G)의 이동 구간에 대응하여 도면에서와 같은 자세로 설치될 수 있다.1, 2, and 3, the liquid supply part 2 in which the cleaning liquid W for cleaning the substrate G is contained, and the substrate G is positioned in a position facing the liquid supply part 2. ) Is located between the gas supply part 4, which contains the pressure gas A for cleaning, and between the liquid supply part 2 and the gas supply part 4, as well as the pressure gas A. Injecting means 6 for causing the cleaning liquid W to be mixed and sprayed by the spray action, in the present embodiment, the substrate for cleaning the substrate G, for example, inside the cleaning bath as shown in FIG. Corresponding to the moving section of the substrate (G) to move along the transfer device (M) may be installed in the same attitude as in the figure.
상기 액체공급부(2)는, 기판(G) 세정을 위한 세정액(W)이 담겨질 수 있는 공간부(2a)를 갖는 박스 형태로 이루어지며, 도 1에서와 같이 후술하는 분사수단(6)에 대응하는 장방형 모양으로 이루어지고, 일측면이 개방되어 이 개방측에 별도의 커버(C)가 볼트와 같은 체결부재로 분리 가능하게 결합되는 구조일 수 있다.The liquid supply part 2 is formed in the form of a box having a space part 2a in which the cleaning liquid W for cleaning the substrate G is contained, and corresponds to the injection means 6 described later as in FIG. 1. It has a rectangular shape, and may be a structure in which one side is opened so that a separate cover C is detachably coupled to a fastening member such as a bolt on the open side.
상기 액체공급부(2)의 재질은 내구성 및 내화학성 그리고 가공성 등이 우수한 합성수지이거나 금속재가 사용될 수 있다. 그리고, 상기와 같이 내부 공간부(2a)가 별도의 커버(C)로 개방 또는 밀폐 가능한 구조로 이루어지면 상기 액체공급부(2) 내부의 유지보수 등은 용이하지만 내부의 세정액(W)이 외부로 유실될 수 있으므로 예를들면, 시일을 위한 통상의 고무링 등을 설치하여 충분하게 시일이 유지될 수 있도록 제작되어야 한다.The material of the liquid supply part 2 may be a synthetic resin or a metal having excellent durability, chemical resistance, and workability. In addition, when the internal space 2a is configured to be opened or closed with a separate cover C as described above, the maintenance of the inside of the liquid supply part 2 is easy, but the internal cleaning liquid W is moved to the outside. For example, it should be manufactured so that the seal can be sufficiently maintained by installing a conventional rubber ring or the like for the seal.
상기 액체공급부(2)에 저장되는 세정액(W)은 기판(G)의 표면에 존재하는 이물질이나 입자를 신속하게 분해 및 제거할 수 있는 예를들면, 순수 등과 같은 이미 잘 알려진 세정용제가 사용될 수 있으며, 이 세정액(W)은 도 1에서와 같이 상기 액체공급부(2)와 연결된 액체공급관(P1)을 통해 유입되는 구조일 수 있다.As the cleaning liquid W stored in the liquid supply part 2, a well-known cleaning solvent such as pure water may be used, for example, to quickly decompose and remove foreign substances or particles existing on the surface of the substrate G. In addition, the cleaning liquid W may have a structure flowing through the liquid supply pipe P1 connected to the liquid supply unit 2 as shown in FIG. 1.
상기 액체공급부(2)는 내부에서 대기압 상태로 세정액(W)이 담겨질 수 있도록 예를들면, 도면에는 나타내지 않았지만 상기 액체공급관(P1)을 통해서 세정액(W)이 일정량 이상이 담겨지면 배출관 등을 통해서 다시 오버플로우되도록 하여 상기 액체공급부(2) 내부의 공간부(2a)에서 항상 일정한 수두 압력이 유지되도록 셋팅된다.For example, the liquid supply part 2 may contain the cleaning liquid W at atmospheric pressure therein. For example, although the liquid supply part 2 is not contained in the drawing, when the cleaning liquid W is contained in a predetermined amount or more through the liquid supply pipe P1, the liquid supply part 2 may be discharged. It is set so as to overflow again so that a constant head pressure is always maintained in the space portion 2a inside the liquid supply portion 2.
상기 액체공급부(2) 내부에는 공간부(2a)에 담겨진 세정액(W)이 후술하는 분사수단(6)측으로 흐를 수 있는 배출홀(2b)이 형성되며, 이 홀(2b)은 상기 공간부(2a)의 바닥면에 대응하여 세정액(W)이 수평하게 흐를 수 있도록 도 3 및 도 4에서와 같은 위치에서 예를들면, 장홀 형태로 뚫려져서 상기 액체공급부(2)의 길이방향으로 다수개가 이격 형성될 수 있다.Inside the liquid supply part 2, there is formed a discharge hole 2b through which the cleaning liquid W contained in the space 2a can flow to the injection means 6 described later, and the hole 2b is formed in the space part ( For example, at a position as shown in FIGS. 3 and 4 so that the cleaning liquid W may flow horizontally in correspondence with the bottom surface of 2a), a plurality of spaced apart in the longitudinal direction of the liquid supply part 2 may be formed. Can be formed.
상기 기체공급부(4)는, 기판(G)을 세정을 위한 압력기체(A)가 후술하는 분사수단(6)에 일정한 압력으로 공급될 수 있도록 한 것으로서, 압력기체(A)가 경유하기 위한 공간부(4a)를 갖는 박스 형태로 제작된다. 본 실시예에서는 상기 기체공급부(4)가 도 1 및 도 2에서와 같이 상기 액체공급부(2)에 대응하는 장방형 모양으로 이루어지고 상기 공간부(4a)의 개구측에 별도의 커버(C)가 볼트와 같은 체결부재로 분리 가능하게 결합되는 구조를 일예를 나타내고 있다.The gas supply part 4 is to allow the pressure gas A for cleaning the substrate G to be supplied at a constant pressure to the injection means 6 to be described later, and the space for the pressure gas A to pass through. It is manufactured in the form of a box having a portion 4a. In the present embodiment, the gas supply part 4 has a rectangular shape corresponding to the liquid supply part 2 as shown in FIGS. 1 and 2, and a separate cover C is formed at the opening side of the space part 4a. An example of a structure that is detachably coupled to a fastening member such as a bolt is shown.
상기 기체공급부(4)의 재질은 내부의 공간부(4a)를 경유하면서 압력기체(A)가 배출될 때에 압력 등에 의해 형태가 변형되거나 파손되는 것을 방지할 수 있도록 내구성 및 내화학성 등이 우수한 금속 또는 합성수지가 사용될 수 있다.The material of the gas supply part 4 is a metal having excellent durability and chemical resistance so as to prevent deformation or breakage due to pressure or the like when the pressure gas A is discharged while passing through the internal space 4a. Or synthetic resins may be used.
상기한 기체공급부(4)의 재질은 예를들면, SUS계열 등의 금속재질이거나 엔지니어링 플라스틱과 같은 합성수지 등이 사용될 수 있다. 그리고, 상기 커버(C)가 분리 가능하게 결합되는 공간부(4a)의 개구측에는 압력기체(A)가 외부로 유실되는 것을 방지하기 위해 상기한 액체공급부(2)와 같이 시일을 위한 고무링 등을 이용하여 충분한 시일이 유지될 수 있도록 이루어진다.The material of the gas supply unit 4 may be, for example, a metal material such as SUS series or a synthetic resin such as engineering plastic. And, in order to prevent the pressure gas (A) from being lost to the opening side of the space portion (4a) that the cover (C) is detachably coupled, such as a rubber ring for sealing, such as the liquid supply portion (2) By using a sufficient seal can be maintained.
그리고, 상기 기체공급부(4)에 공급되는 압력기체(A)는 상기 세정액(W)과 혼합 분사될 때에 예를들면, 블로윙 작용에 의해 기판(G) 표면에서 이물질은 물론이거니어 분사된 세정액(W)이 신속하게 제거될 수 있도록 한 것으로서 예를들면, CDA(Clean Dry Air) 등과 같은 이미 잘 알려진 세정용 기체가 사용될 수 있다.In addition, when the pressure gas A supplied to the gas supply part 4 is injected and mixed with the cleaning liquid W, for example, the cleaning liquid is injected as well as foreign matter from the surface of the substrate G by a blowing action ( As W) can be quickly removed, for example, a well known cleaning gas such as Clean Dry Air (CDA) or the like can be used.
상기 기체공급부(4)는 도 1에서와 같은 기체공급관(P2)과 연결되어 이 공급관(P2)으로부터 압력기체(A)가 유입되는 구조일 수 있으며, 이와 같이 공급된 압력기체(A)는 상기 공간부(4a)를 경유하여 도 3에서와 같은 배출홀(4b)을 통해 후술하는 분사수단(6) 측으로 직접 공급되도록 이루어진다.The gas supply unit 4 may be connected to the gas supply pipe (P2) as shown in Figure 1 may be a structure in which the pressure gas (A) flows from the supply pipe (P2), the pressure gas (A) supplied as described above Via the space portion 4a is made to be supplied directly to the injection means 6 to be described later through the discharge hole 4b as shown in FIG.
도 3을 참조하면, 상기 기체공급부(4)의 공간부(4a)에는 상기 기체공급관(P2)으로부터 유입되는 압력기체(A)를 난류 상태에서 층류 상태로 변환하기 위한 수단이 도면에서와 같이 형성될 수 있다. 이 수단은, 상기 기체공급부(4)의 공간부(4a)에서 압력기체(A)가 흐르는 구간에 대응하여 도 3 및 도 4에서와 같은 차단막(8)이 형성되어 상기 단일의 공간부(4a)가 상하방향으로 분할된 2개의 공간 즉, 상측공간부(10a)와 하측공간부(10b)로 분할 형성되고, 상기 차단막(8)에는 압력기체(A)를 난류에서 층류로 변환하기 위한 다수개의 홀(12)들이 타공된 구조일 수 있다.Referring to FIG. 3, in the space portion 4a of the gas supply unit 4, a means for converting the pressure gas A introduced from the gas supply pipe P2 from the turbulent state to the laminar flow state is formed as shown in the drawing. Can be. This means is provided with a blocking film 8 as shown in FIGS. 3 and 4 corresponding to a section in which the pressure gas A flows in the space portion 4a of the gas supply portion 4, so that the single space portion 4a is formed. ) Is divided into two spaces divided up and down, that is, the upper space portion 10a and the lower space portion 10b, and the blocking film 8 includes a plurality of spaces for converting the pressure gas A from turbulent flow to laminar flow. Holes 12 may be perforated.
이때, 상기 차단막(8)에 형성되는 다수개의 홀(12)들은 도 5에서와 같은 배열로 타공 형성될 수 있으며, 이 홀(12)들은 상기와 같이 분할된 2개의 공간부(10a,10b)를 경유하면서 흐르는 압력기체(A)가 상기 홀(12)영역을 통과할 때에 예를들면, 유로의 직경 차이에 의해 난류에서 층류로 원활하게 변환될 수 있는 크기 범위내로 형성된다.In this case, the plurality of holes 12 formed in the blocking film 8 may be perforated in the arrangement as shown in FIG. 5, and the holes 12 may be divided into two space parts 10a and 10b. When the pressure gas A flowing while passing through the hole 12 passes through the hole 12 region, for example, it is formed within a size range that can be smoothly converted from turbulent flow to laminar flow by the diameter difference of the flow path.
상기한 구조의 층류변환수단은, 상기 기체공급관(P2)을 통해 유입되는 압력기체(A)가 상측공간부(10a)에 유입되면서 난류에서 층류로 변환되어 1차 저장되고, 이와 같은 상태에서 상기 차단막(8)에 형성된 홀(12)들을 통과할 때에 다시 난류에서 층류로 변환되어 2차 저장되도록 한 구조로서, 이러한 층류 변환 과정을 좀더 상세하게 설명하면, 압력 기체(A)가 상기 차단막(8)의 홀(12)들을 통과할 때에 유로의 직경차에 따른 압력에 의해 균일하게 압축되므로 이와 같은 작용에 의해 균일한 압력을 갖는 층류로 용이하게 변환됨과 아울러 층류로 변환된 압력기체(A)는 하측공간부(10b)에서 단면적이 급팽창되기 때문에 속도는 작아지고 이와 같은 속도에너지의 감소에 따라 상대적으로 압력에너지는 급증하게 되므로 이와 같은 작용에 의해 상기 차단막(8)을 통과하는 압력기체(A)를 용이하게 고압의 층류로 변환시킬 수 있는 것이다.The laminar flow converting means of the above structure, the pressure gas (A) flowing through the gas supply pipe (P2) is introduced into the upper space portion (10a) is converted into a laminar flow from turbulent flow is stored first, in this state When passing through the holes 12 formed in the blocking film 8, the structure is converted into turbulent flow into laminar flow and stored secondly. In detail, the laminar flow converting process will be described in detail. As it is uniformly compressed by the pressure according to the diameter difference of the flow path when passing through the holes 12 of), the pressure gas A which is easily converted into laminar flow having a uniform pressure by this action and converted into laminar flow is Since the cross-sectional area is rapidly expanded in the lower space portion 10b, the velocity decreases and the pressure energy relatively increases with the decrease of the velocity energy, thereby passing through the barrier film 8 by such an action. Is the ability to be easily converted into a laminar flow of high-pressure pressurized gas (A).
한편, 상기 액체공급부(2)와 기체공급부(4) 사이에는 분사수단(6)이 설치되는데, 이러한 수단의 구조를 첨부한 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.On the other hand, the injection means 6 is provided between the liquid supply part 2 and the gas supply part 4, the structure of such means will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2, 도 3을 참조하면, 상기 분사수단(6)은, 상기 액체공급부(2)에 대응하는 자세로 위치하며 박판(F1)들의 결합에 의해 분할된 구간이 연결되면서 세정액 (W)을 분사하기 위한 단일의 유로(H1)를 제공하는 액체 유로어셈블리(14)와, 이 액체 유로어셈블리(14)와 마주하는 자세로 위치하며 박판(F2)들의 결합에 의해 분할된 구간이 연결되면서 압력기체(A)를 분사하기 위한 유로(H2)를 형성함과 아울러 이 유로(H2)를 통하여 압력기체(A)가 일방향 흐름으로 분사될 때에 상기 액체 유로(H1)를 통하여 세정액(W)이 흡인되면서 혼합 분사되도록 유도하는 기체 유로어셈블리(16)을 포함하며, 본 실시예에서는 상기 액체 유로어셈블리(14)측에서 4개의 박판(P1)들이 1조로 이루어지고, 상기 기체 유로어셈블리(16)측에서 3개의 박판(P1)들이 1조로 이루어지는 것을 일예로 나타내고 있다.Referring to FIGS. 2 and 3, the spray means 6 is positioned in a position corresponding to the liquid supply part 2 and sprays the cleaning liquid W while the divided sections are connected by the combination of the thin plates F1. The liquid flow path assembly 14, which provides a single flow path H1, and is positioned in a position facing the liquid flow path assembly 14, and a section divided by the combination of the thin plates F2 is connected to the pressure gas ( In addition to forming a flow path H2 for injecting A), when the pressure gas A is injected in one direction through the flow path H2, the washing liquid W is sucked through the liquid flow path H1 and mixed. It includes a gas flow path assembly 16 for inducing to be injected, in the present embodiment, the four thin plates (P1) in the liquid flow path assembly 14 side is composed of one set, three on the gas flow path assembly 16 side As an example, the thin plates P1 consist of one set. It is.
상기 액체 유로어셈블리(14)의 박판(F1)들은 도 2에서와 같이 상기 액체공급부(2)에 대응하는 장방형 모양으로 이루어지며, 이 박판(F1)들의 하부측에는 세정액(W)이 흐르기 위한 분할된 유로구간을 제공하는 유로홈(20a)들이 도면에서와 같이 이격 형성된다.The thin plates F1 of the liquid flow path assembly 14 have a rectangular shape corresponding to the liquid supply part 2 as shown in FIG. 2, and the lower side of the thin plates F1 is divided to allow the cleaning liquid W to flow. Flow path grooves 20a providing the flow path section are spaced apart as shown in the figure.
상기 박판(F1)에 형성되는 유로홈(20a)들은 도 3 및 도 4에서와 같이 상기 유로홈(20a)들에 의해 분할된 4개의 구간이 연결되면서 도면에서와 같은 단일의 유로(H1)가 형성되도록 타공된 구조로서, 본 실시예에서는 도 2를 기준으로 할 때에 액체공급부(2)에 인접한 박판(F1)의 유로홈(20a)은 원형모양으로 타공되고, 나머지 3개의 박판(F1)에는 하부측이 개구된 예를들면, "∩"자 모양으로 타공되어 상기 액체공급부(2)의 배출홀(2b)에 대응하는 단일의 유로영역를 형성하는 구조를 일예로 나타내고 있다.As the flow path grooves 20a formed in the thin plate F1 are connected to four sections divided by the flow path grooves 20a as shown in FIGS. 3 and 4, a single flow path H1 as shown in FIG. In the present embodiment, the flow path groove 20a of the thin plate F1 adjacent to the liquid supply part 2 is perforated in a circular shape, and the remaining three thin plates F1 are formed in a perforated structure to be formed. For example, a structure in which the lower side is opened, for example, is perforated in a '∩' shape to form a single flow path region corresponding to the discharge hole 2b of the liquid supply part 2 is shown as an example.
이때, 상기와 같이 4개의 박판(F1)들에 의해 형성되는 액체 유로(H1) 구간은 도 3에서와 같이 상기 액체공급부(2)측에서 상기 기체 유로어셈블리(16)와의 경계지점을 향하여 점차 하측으로 경사지게 형성되거나 도면에는 나타내지 않았지만 유입측과 배출측이 서로 수평한 구간을 갖는 구조일 수 있다.At this time, the liquid flow path (H1) section formed by the four thin plates (F1) as described above gradually toward the boundary point with the gas flow path assembly 16 on the liquid supply part 2 side as shown in FIG. It may be formed to be inclined or may have a structure in which the inlet side and the outlet side are horizontal to each other, although not shown.
도 3을 참조하면, 상기와 같이 박판(F1)들의 결합에 의해 형성되는 액체 유로(H1)의 구간 길이(L1)는 대략 0.1mm 내지 0.2mm 범위내로 이루어지며, 상기 박판(F1)의 두께는 상기 액체 유로어셈블리(14) 영역에 셋팅되는 박판(F)의 수에 따라 상기와 같은 길이 범위를 갖는 유로 구간의 형성이 가능하도록 이에 대응하는 범위내로 형성된다.Referring to FIG. 3, the section length L1 of the liquid flow path H1 formed by the bonding of the thin plates F1 is made in the range of about 0.1 mm to 0.2 mm, and the thickness of the thin plate F1 is According to the number of thin plates F set in the liquid flow path assembly 14 region, the flow path section having the length range as described above is formed within the corresponding range.
그리고, 상기 유로홈(20a)은 박판(F1)의 두께를 감안하면 물리적인 절삭 가공이 어려우므로 예를들면, 포토 에칭(etching) 등과 같이 부식 작용에 의해 형성될 수 있으며, 박판(F1)의 재질은 이와 같은 에칭 가공에 적합하고 내구성이 우수한 재질 중에서 어느 하나가 사용될 수 있다.In addition, since the flow path groove 20a is difficult to physically cut in consideration of the thickness of the thin plate F1, for example, the flow path groove 20a may be formed by a corrosive action such as photo etching, and the like. As the material, any one of materials suitable for such an etching process and excellent in durability may be used.
상기 기체 유로어셈블리(16)는 도 2에서와 같이 상기 기체공급부(4)에 대응하는 장방형 모양을 갖는 박판(F2)들로 이루어지며, 이 박판(F2)들의 하부측에는 압력기체(A)가 흐르기 위한 분할된 유로구간을 제공하는 유로홈(20b)들이 도면에서와 같이 이격 형성된다.The gas flow path assembly 16 is formed of thin plates F2 having a rectangular shape corresponding to the gas supply unit 4 as shown in FIG. 2, and a pressure gas A flows through the lower sides of the thin plates F2. Flow path grooves 20b for providing divided flow path sections are spaced apart as shown in the drawing.
상기 박판(F2)에 형성되는 유로홈(20b)들은 도 3 및 도 4에서와 같이 상기 3개의 유로홈(20b)들에 의해 분할된 구간이 연결되면서 단일의 기체 유로(H2)가 형성되도록 타공된 구조로서, 본 실시예에서는 도 2를 기준으로 할 때에 기체공급부(4)에 인접한 박판(F2)의 유로홈(20b)은 원형모양으로 타공되고, 나머지 2개의 박판(F2)들에는 하부측이 개구된 예를들면, "∩"자 모양으로 타공되어 상기 기체공급부(4)의 배출홀(4b)에 대응하여 도면에서와 같은 단일의 기체 유로(H2)를 형성하는 구조를 일예로 나타내고 있다.The flow path grooves 20b formed in the thin plate F2 are perforated to form a single gas flow path H2 while the sections divided by the three flow path grooves 20b are connected as shown in FIGS. 3 and 4. As shown in FIG. 2, the flow path groove 20b of the thin plate F2 adjacent to the gas supply unit 4 is punched in a circular shape in the present embodiment, and the lower two sides of the thin plate F2 are lowered. For example, a structure in which a single gas flow path H2 is formed as shown in the drawing in correspondence with the discharge hole 4b of the gas supply part 4 is punched in the shape of the opening, for example. .
이때, 상기 3개의 박판(F2)들에 의해 형성되는 기체 유로(H2) 구간은 도 3에서와 같이 상기 유로(H2)를 통하여 압력기체(A)가 분사될 때에 이 기체(A)의 일방향 흐름에 의해 상기 액체유로(H1)를 통하여 세정액(W)이 흡인되도록 가이드함과 아울러 도면에서와 같이 상기 액체 유로(H1)의 배출측과 일정 구간이 서로 연통되도록 하여 이 연통된 구간에서 2개의 유체가 혼합 분사되도록 하는 예를들면, 벤츄리관과 같은 유체의 흐름 및 작용이 이루어지도록 형성된다.At this time, the gas flow path (H2) section formed by the three thin plates (F2) is one-way flow of the gas (A) when the pressure gas (A) is injected through the flow path (H2) as shown in FIG. It guides the cleaning liquid (W) is sucked through the liquid flow path (H1) by, and as shown in the drawing so that the discharge side and the predetermined section of the liquid flow path (H1) to communicate with each other two fluids in this communication section Is formed to allow the flow and action of a fluid such as, for example, a venturi tube, to allow a mixed injection.
그리고, 상기에서 "∩"자 모양으로 타공된 유로홈(20b)은 도 2에서와 같이 타공영역의 상부측과 하부측 사이의 중간부분이 도면에서와 같이 유선형태로 연결되면서 오목하게 들어간 모양으로 제작될 수 있으며, 이와 같은 구조로 유로홈(20b)이 타공되면, 상기 기체공급부(4)로부터 압력기체(A)가 상기 기체 유로(H2) 구간을 패스할 때에 이 구간내에서 유로(H2)의 직경차에 의해 압력기체(A)의 압력이 증가하게 되므로 분사 효율을 더욱 향상시킬 수 있는 구조가 된다.In addition, the flow path groove 20b perforated in the shape of “∩” in the shape is recessed while the middle portion between the upper side and the lower side of the perforation area is connected in a streamline shape as shown in the figure. When the flow path groove 20b is formed in such a structure, when the pressure gas A passes through the gas flow path H2 from the gas supply part 4, the flow path H2 is in this area. Since the pressure of the pressure gas (A) is increased by the diameter difference of, it becomes a structure that can further improve the injection efficiency.
상기와 같이 박판(F2)들의 결합에 의해 형성되는 기체 유로(H2)의 구간 길이(L2)는 상기한 액체 유로(H1)의 구간 길이와 동일하게 대략 0.1mm 내지 0.2mm 범위내로 이루어진다.As described above, the section length L2 of the gas flow path H2 formed by the bonding of the thin plates F2 is made within the range of about 0.1 mm to 0.2 mm, the same as the section length of the liquid flow path H1.
그리고, 상기 박판(F2)의 유로홈(20b)은 상기한 액체유로 어셈블리(14)의 박판(F1)들과 동일하게 예를들면, 포토 에칭(etching) 등과 같은 방법으로 형성될 수 있으며, 이와 같은 에칭 가공 등에 적합하고 내구성이 우수한 재질 중에서 어느 하나가 사용될 수 있다.The flow path groove 20b of the thin plate F2 may be formed in the same manner as the thin plate F1 of the liquid flow path assembly 14 by, for example, photo etching or the like. Any material suitable for the same etching process and the like and excellent in durability may be used.
상기한 구조의 액체 유로어셈블리(14)과 기체 유로어셈블리(16)에 형성되는 유로(H1,H2)들은 도 3에서와 같이 이들의 경계 지점을 사이에 두고 도면에서와 같은 모양의 구간을 갖으며 도 1에서와 같이 세정영역에서 일방향으로 이동하는 기판(G)을 가로지르는 방향으로 도 6에서와 같이 다수개가 이격 형성되어 세정 구간을 통과하는 기판(G)의 표면에 대응하여 예를들면, 세정용 유체가 장방형 모양의 분사 면적을 갖으며 균일하게 분사되도록 한 구조이다.(도 7참조)The flow paths H1 and H2 formed in the liquid flow path assembly 14 and the gas flow path assembly 16 having the above-described structures have sections as shown in FIG. 3 with their boundary points therebetween. As shown in FIG. 1, in the direction crossing the substrate G moving in one direction in the cleaning region, as shown in FIG. 6, a plurality of spaces are formed to correspond to the surface of the substrate G passing through the cleaning section. The fluid has a rectangular spray area and is configured to be uniformly sprayed (see FIG. 7).
그리고, 상기 액체 유로어셈블리(14)와 기체 유로어셈블리(16)를 상기 액체 공급부(2)와 기체공급부(4) 사이에 셋팅할 때에는 예를들면, 상기 액체 유로(H1)측 박판(F1)과 기체 유로(H2)측 박판(F2)들이 도 3 및 도 4에서와 같은 가이드핀(22)에 끼워지고 이 가이드핀(22)이 상기 액체공급부(2)와 기체공급부(4)의 측벽면에 끼움 결합으로 고정되는 구조일 수 있다.When the liquid flow path assembly 14 and the gas flow path assembly 16 are set between the liquid supply part 2 and the gas supply part 4, for example, the liquid flow path H1 side thin plate F1 and The thin plate F2 on the side of the gas flow path H2 is fitted to the guide pin 22 as shown in FIGS. 3 and 4, and the guide pin 22 is attached to the side wall surface of the liquid supply part 2 and the gas supply part 4. It may be a structure that is fixed by fitting engagement.
상기 액체공급부(2)와 기체공급부(4) 그리고 이들 사이에 위치하는 분사수단(6)의 결합은 예를들면, 볼트 및 너트와 같은 체결부재가 도 2에서와 같이 상기 액체공급부(2)와 분사수단(6) 그리고, 기체공급부(4)를 수평하게 관통하는 자세로 체결되어 도 3에서와 같은 모양 및 배열로 견고하게 셋팅되는 구조일 수 있다.The coupling of the liquid supply part 2 and the gas supply part 4 and the injection means 6 located therebetween is such that, for example, a fastening member such as a bolt and a nut is connected to the liquid supply part 2 as shown in FIG. 2. The injection means 6 and the gas supply part 4 may be fastened horizontally to be firmly set in the shape and arrangement as shown in FIG. 3.
상기한 구조로 이루어지는 본 발명에 따른 평판디스플레이용 세정장치는 도 1에서와 같이 세정영역에서 기판이송장치(M)에 의해 기판(G)이 일방향으로 이동하면서 세정구간을 통과할 때에 다음과 같은 작용에 의해 기판(G)의 표면을 세정하는 것이다.The flat panel display cleaning apparatus according to the present invention having the above structure has the following effects when the substrate G is moved in one direction by the substrate transfer device M in the cleaning region and passes through the cleaning section as shown in FIG. The surface of the substrate G is cleaned by this.
먼저, 상기 기체공급관(P2)을 통해 기체공급부(4)에 압력기체(A)가 유입되면 이 압력기체(A)가 도 3에서와 같이 기체 유로어셈블리(16)측에 공급되어 기체 유로(H2) 구간을 경유하면서 도면에서와 같은 방향으로 일정한 압력을 갖으며 분사된다.First, when the pressure gas A flows into the gas supply unit 4 through the gas supply pipe P2, the pressure gas A is supplied to the gas flow path assembly 16 as shown in FIG. ) Is injected with a constant pressure in the same direction as shown in the drawing via the section.
이때, 상기 기체유로(H2)와 액체유로(H1)의 연통된 구간에서는 상기 압력기체(A)가 통과할 때에 이 압력기체(A)의 일방향 흐름에 의해 상기 액체공급부(2)에서 대기압 상태로 저장된 세정액(W)이 상기 액체 유로어셈블리(14) 즉, 액체 유로(H1) 구간을 따라 흡인되면서 도 3에서와 같이 액체 유로(H1)와 기체 유로(H2)의 연통된 구간에서 압력기체(A)와 혼합된 후 도면에서와 같이 기판(G) 표면을 향하여 일정한 압력으로 분사되므로 이와 같은 세정용 유체의 분사작용에 의해 기판(G)의 표면에 달라붙은 이물질들을 용이하게 제거할 수 있는 것이다.At this time, in the section where the gas flow path (H2) and the liquid flow path (H1) are in communication, when the pressure gas (A) passes through the one-way flow of the pressure gas (A) to the atmospheric pressure state in the liquid supply unit (2) The stored cleaning liquid W is sucked along the liquid flow path assembly 14, that is, the liquid flow path H1, and the pressure gas A is in communication with the liquid flow path H1 and the gas flow path H2 as shown in FIG. 3. ) And then sprayed at a constant pressure toward the surface of the substrate (G) as shown in the drawing, it is possible to easily remove the foreign matter adhering to the surface of the substrate (G) by the injection action of the cleaning fluid.
상기에서는 액체 유로어셈블리(14) 및 기체 유로어셈블리(16)측에서 액체 및 기체 유로(H1,H2)를 형성을 위한 박판(F1,F2)들이 도 2에서와 같이 각각 4개와 3개가 1조로 이루어지고, 이들 박판(F1,F2)들에 형성된 유로홈(20a,20b)들이 의해 분할된 구간이 연결되면서 단일의 액체 및 기체 유로(H1,H2)를 형성하는 것을 일예로 설명 및 도면에 나타내고 있지만 이에 한정되는 것은 아니다.In the above, the thin plate (F1, F2) for forming the liquid and gas flow path (H1, H2) on the liquid flow path assembly 14 and the gas flow path assembly 16 side as shown in Fig. Although the sections divided by the flow path grooves 20a and 20b formed in the thin plates F1 and F2 are connected to each other to form a single liquid and gas flow path H1 and H2 as an example, the description and the drawing are shown. It is not limited to this.
예를들면, 도면에는 나타내지 않았지만 상기 액체 유로어셈블리(14) 또는 기체 유로어셈블리(16) 측에 대응하여 2개 또는 그 이상이 1조로 이루어질 수 있으며, 물론 이때에도 유로 구간 길이는 상기한 실시예와 동일한 길이범위 즉, 0.1mm 내지 0.2mm 범위내로 형성되며, 이와 같은 유로 구간의 형성은 이 구간 길이에 대응하여 분할된 두께를 갖는 박판을 제작하여 셋팅하면 된다.For example, although not shown in the drawings, two or more pieces may be formed in one pair corresponding to the liquid flow path assembly 14 or the gas flow path assembly 16, and of course, the length of the flow path may be different from that of the above-described embodiment. It is formed in the same length range, that is, 0.1mm to 0.2mm range, the formation of such a flow path section may be set by manufacturing a thin plate having a divided thickness corresponding to the length of this section.
상기에서는 본 발명에 따른 평판디스플레이용 세정장치가 세정영역에서 기판(G)의 이송방향에 대응하여 상측 표면의 세정이 가능한 자세로 1개가 설치된 것을 일예로 나타내고 있지만 이에 한정되는 것은 아니다.In the above description, the flat panel display cleaning apparatus according to the present invention is provided as one example in an attitude capable of cleaning the upper surface corresponding to the transfer direction of the substrate G in the cleaning region, but is not limited thereto.
예를들면, 기판(G)의 이송구간에 대응하여 도 8에서와 같이 2개 또는 그 이상이 이격 설치될 수 있으며, 이외에도 기판(G)의 일측면에 한정되지 않고 양측면에 대응하여 동시에 세정이 가능하도록 도 9에서와 같이 셋팅될 수도 있다.For example, two or more spaces may be spaced apart from each other as shown in FIG. 8 to correspond to the transfer section of the substrate G. In addition, cleaning is not limited to one side of the substrate G. It may be set as shown in FIG. 9 to enable it.
상기에서는 본 발명에 따른 평판디스플레이용 세정장치의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다. In the above, a preferred embodiment of the flat panel display cleaning apparatus according to the present invention has been described, but the present invention is not limited thereto, and various modifications are made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. It is possible and this also belongs to the scope of the present invention.
이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 평판디스플레이용 세정장치는, 액체 및 기체와 같은 2종 이상의 세정용 유체를 혼합 분사하기 위한 유로를 제공하는 분사수단에 의해 용이하게 기판을 세정할 수 있으며, 상기 분사수단은 다수개의 박판들에 의해 분할된 구간들이 연결되면서 세정용 액체 및 기체가 흐르기 위한 단일의 유로가 형성됨과 아울러 세정용 압력기체의 흐름 분위기에 의해 세정용 액체가 흡인되어 이들이 서로 혼합 분사되도록 한 구조이므로 유로의 제작이 용이할 뿐만 아니라 더욱 향상된 내구성 및 분사효율을 얻을 수 있으며, 기판 크기나 형태에 따라 이에 대응하도록 세정용 유체의 분사 환경을 용이하게 셋팅할 수 있으므로 작업 호환성 및 세정품질 등을 더욱 향상시킬 수 있다.As described above, the flat panel display cleaning apparatus according to the present invention can easily clean the substrate by the injection means for providing a flow path for mixing and spraying two or more kinds of cleaning fluids such as liquid and gas. The means is formed by connecting the sections divided by the plurality of thin plates to form a single flow path for the cleaning liquid and the gas flow, and the cleaning liquid is sucked by the flow atmosphere of the cleaning pressure gas so that they are mixed and sprayed together. As it is the structure, it is not only easy to manufacture the flow path, but also more improved durability and spraying efficiency can be obtained, and it is possible to easily set the spraying environment of the cleaning fluid according to the size and shape of the substrate. It can be further improved.
도 1은 본 발명에 따른 평판디스플레이용 세정장치의 설치 상태를 나타내는 전체사시도.1 is an overall perspective view showing an installation state of a cleaning device for a flat panel display according to the present invention.
도 2는 본 발명에 따른 평판디스플레이용 세정장치의 구조를 설명하기 위한 전체 분해사시도.Figure 2 is an overall exploded perspective view for explaining the structure of the cleaning device for a flat panel display according to the present invention.
도 3은 본 발명에 따른 평판디스플레이용 세정장치의 내부 구조를 설명하기 위한 측단면도.Figure 3 is a side cross-sectional view for explaining the internal structure of the cleaning device for a flat panel display according to the present invention.
도 4는 본 발명에 따른 평판디스플레이용 세정장치의 내부 구조를 설명하기 위한 단면사시도.Figure 4 is a cross-sectional perspective view for explaining the internal structure of the cleaning device for flat panel display according to the present invention.
도 5는 도 3의 층류변환수단의 타공 구조를 설명하기 위한 평면도.5 is a plan view for explaining the perforation structure of the laminar flow converting means of FIG.
도 6은 본 발명에 따른 평판디스플레이용 세정장치의 유로 배열을 설명하기 위한 저면도.Figure 6 is a bottom view for explaining the flow path arrangement of the cleaning device for flat panel display according to the present invention.
도 7은 본 발명에 따른 평판디스플레이용 세정장치의 분사 작용시 기판에 대응하는 분사 면적을 나타내는 평면도.7 is a plan view showing a spraying area corresponding to a substrate during the spraying operation of the flat panel display cleaning apparatus according to the present invention.
도 8은 본 발명에 따른 평판디스플레이용 세정장치의 다른 설치실시예를 설명하기 위한 사시도.Figure 8 is a perspective view for explaining another embodiment of the flat panel display cleaning apparatus according to the present invention.
도 9는 본 발명에 따른 평판디스플레이용 세정장치의 또 다른 설치실시예를 설명하기 위한 사시도이다.Figure 9 is a perspective view for explaining another embodiment of the flat panel display cleaning apparatus according to the present invention.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100888190B1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-03-10 | 주식회사 디엠에스 | Air curtain |
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Families Citing this family (9)
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JP2003145064A (en) * | 2001-11-12 | 2003-05-20 | Tokyo Electron Ltd | Two-fluid jet nozzle and substrate cleaning device |
KR100586239B1 (en) * | 2002-04-19 | 2006-06-02 | 주식회사 디엠에스 | Cleaning apparatus having fluid mixing nozzle for manufacturing flat panel display |
JP2003332401A (en) * | 2002-05-09 | 2003-11-21 | Hugle Electronics Inc | Substrate conveying and dust cleaning device |
JP2004074021A (en) * | 2002-08-19 | 2004-03-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate processing apparatus and substrate cleaning unit |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100888190B1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-03-10 | 주식회사 디엠에스 | Air curtain |
KR101303808B1 (en) * | 2011-12-07 | 2013-09-04 | 주식회사 케이씨텍 | Auto Shutter |
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