KR20050076609A - 기판 지지부재, 이를 포함하는 증착 장치 및 이를 이용한기판의 이송 방법 - Google Patents

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KR20050076609A
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Abstract

본 발명은 공정챔버의 내부에 설치된 서셉터의 상면으로 기판을 안착 또는 서셉터의 상면에 안착된 기판이 공정챔버의 외부로 반송되기까지 기판의 저면을 지지하기 위하여 서셉터의 상부에서 공정챔버의 내부를 가로질러 형성되는 와이어를 포함하는 기판 지지부재, 이를 포함하는 증착 장치 및 상기 기판 지지부재를 이용한 기판 이송 방법이 제공된다.
종래 공정챔버의 내부에서 기판을 지지하기 위하여 사용된 리프트핀의 경우와 비교할 때, 리프트핀의 열적 손상에 따라 야기되는 제품의 불량률을 크게 감소시킴과 동시에 기판 전체에 걸쳐 증착의 균일도를 향상시킬 수 있다.

Description

기판 지지부재, 이를 포함하는 증착 장치 및 이를 이용한 기판의 이송 방법{Substrate supporting Member, Deposition Apparatus Having the Member and Method of Transferring Substrate Using the Same}
본 발명은 증착 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 공정챔버 내부로 인입되는 기판을 지지하는 부재, 이를 포함하는 증착 장치 및 이를 이용하여 공정챔버의 내부로 인입된 기판을 지지하는 방법에 관한 것이다.
최근, 정보화 시대로 사회가 진전됨에 따라, 소비전력이 낮고, 경량이며 휴대성이 우수한 평판표시장치의 필요성이 대두되고 있는데, 이중 액정표시소자는 해상도, 컬러표시, 화질 등에 있어 우수하여 노트북, 컴퓨터모니터, 휴대폰 등에 활발하게 적용되고 있다.
일반적으로 액정표시소자(Liquid Crystal Display)란 어레이 기판과 컬러 필터 기판 사이에 액정을 주입하여 액정의 특성에 의하여 영상효과를 얻은 비발광소자를 말한다. 이와 같은 어레이 기판과 컬러 필터 기판은 별도로 설치되는 증착 및 식각 장치를 통하여 각각 유리등의 재질로 이루어지는 투명 기판 상에 수 차례에 걸친 박막의 증착, 패터닝 및 식각 공정을 통하여 제조된다. 최근에는 기판의 상면으로 소스가스를 증착하는 공정은 플라즈마강화 화학기상증착(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD) 장치를 통하여 이루어지는데, 이를 간단히 설명한다.
도 1은 종래의 액정표시장치용 PECVD 증착 장치를 개략적으로 도시한 단면도로서, 외부 영역과 분리되어 증착 공정이 수행되는 공정챔버(100)는 상부의 리드(112)와 하부의 챔버바디(114)로 크게 구분된다.
상기 리드(112)의 상단 중앙에는 가스 유입관(122)이 외부의 가스공급원(미도시)으로부터 공급된 소스가스를 상기 리드(112)의 중앙 및 리드(112)의 측벽을 횡단하여 설치되는 백킹 플레이트(backing plate, 미도시)를 관통하도록 설치되어 소스가스를 백킹 플레이트의 하부로 주입시킨다. 이와 같이 유입된 가스는 상기 백킹 플레이트 하부에 설치되는 샤워헤드(120)에 형성된 다수의 관통홀(미도시)을 통하여 공정챔버(100)의 서셉터(130) 상부로 분산된다. 또한, 상기 샤워헤드(120) 및 백킹 플레이트를 포함하는 가스분산부는 고주파 RF 전원(124)과 전기적으로 연결되어 있어 유입된 소스가스를 플라즈마 상태로 활성화시키게 된다. 따라서 상기 가스분산부의 샤워헤드(120)는 상부전극으로도 기능한다.
한편, 챔버바디(114)의 내부에는 공정챔버 내부로 인입된 기판(S)이 안착되는 재치대로서의 서셉터(130)가 설치된다. 상기 서셉터(130)의 내부에는 증착공정이 진행되는 동안 기판(S)을 적절한 온도로 상승시키기 위하여 히터(미도시)가 부설되어 있는데, 이 경우 상기 히터는 외부 전원(바이어스 전원)과 전기적으로 연결되어 있다. 따라서 서셉터(130)는 상기 샤워헤드(120)에 대응되어 하부전극으로 기능하게 된다. 또한, 상기 서셉터(130)의 중앙 저면으로는 연직방향의 서셉터 지지대(134)가 구비되며, 상기 서셉터 지지대(134)의 외부에는 모터 등의 구동수단(미도시)과 연결되는 승하강 어셈블리(144)가 결합됨으로써, 공정의 진행에 따라 상기 서셉터(130)를 상승 또는 하강시킨다. 한편, 증착공정이 완료된 후에 공정챔버(100)의 내부에 잔류하는 가스 또는 파티클(particle) 등을 제거하기 위하여 펌프(미도시)와 연결되는 가스배기관(142)이 챔버바디(114)의 저면에 설치된다.
특히, 챔버바디(114)의 측벽에 설치된 슬롯밸브(146)를 통하여 인입된 기판(S)이 서셉터(130)의 상면에 재치되기까지, 또는 서셉터(130)의 상면에 재치되어 있는 기판(S)이 공정챔버(100)의 외부로 반송되기까지 상기 기판(S)을 지지하기 위하여 다수의 리프트핀(150)이 서셉터(130)를 수직으로 관통하여 설치되어 있다.
따라서, 기술한 것과 같이 기판(S)이 공정챔버(100) 내부로 인입 또는 외부로 반송되는 과정에서 승하강 어셈블리(144)의 구동에 의하여 서셉터(130)가 상승과 하강을 반복하게 되는데, 이에 따라 리프트핀(150) 역시 서셉터(130)의 상면으로 돌출되거나 서셉터(130)의 내부로 내입되는 과정을 반복하여 기판(S)을 저면에서 지지하게 된다. 이와 같이 다수의 리프트핀(150)에 의하여 공정챔버(100) 내부로 인입된 기판(S)이 지지되는 방법을 설명하면 다음과 같다.
도 2a 내지 도 2c는 각각 종래 액정표시장치용 증착 장치에서 리프트핀을 이용하여 기판이 서셉터의 상면으로 안착하기까지의 과정을 도시한 도면이다. 우선 도 2a에 도시된 바와 같이 외부의 가열챔버(Heat Chamber, 미도시)에서 예열된 기판(S)은 로봇 암(160)이 저면에서 지지된 상태로 이송되어, 공정챔버의 측벽에 설치된 슬롯밸브(146, 도 1 참조)를 통하여 공정챔버의 내부로 로딩/인입된 뒤, 슬롯밸브가 설치된 측벽의 반대편 즉 공정챔버의 중앙을 가로질러 전진한다. 따라서, 공정챔버 내부에 인입된 기판(S)은 하부에 로봇 암(160)에 의하여 여전히 지지된 상태에서 서셉터(130)의 상부에 위치하게 되고, 다수의 리프트핀(152, 154)은 기판의 저면과 이격된 상태에서 서셉터(130)에 형성된 리프트핀 홀(136)을 관통하여 서셉터(130)의 상면에 돌출되어 있다. 계속해서, 상기 로봇 암(160)은 소정의 거리만큼 하강하게 되어 다수의 리프트핀(152, 154)의 직상부에서 기판(S)을 지지하게 된다.
이어서 도 2b에 도시한 것과 같이, 기판(S)의 저면에서 이를 지지하고 있던 로봇 암(160)이 슬롯밸브를 통하여 공정챔버의 외부로 반송됨으로써, 기판(S)의 저면은 다수의 리프트핀(152, 154)에 의하여 지지되게 된다. 이 경우에도 상기 다수의 리프트핀(152, 154)은 서셉터(130)의 상면에 돌출된 상태를 유지하고 있다. 이어서 도 2c에 도시된 것과 같이, 승하강 어셈블리(도 1의 134)에 연결되어 있는 구동 수단의 작동에 의하여 서셉터(130)가 상승함에 따라, 기판(S)의 저면을 지지하고 있던 리프트핀(152, 154)은 서셉터(130)에 형성된 리프트핀 홀(136)을 관통하여 아래 방향으로 이동되고, 기판(S)이 서셉터(130)의 상면에 안착된 상태를 유지하고 있다. 이 때, 리프트핀(150)이 서셉터에 형성된 리프트핀 홀(136)로부터 완전히 이탈되는 것을 방지할 수 있도록, 통상적으로 리프트핀(150)의 상단(150a)은 다른 영역에 비하여 큰 직경을 가지도록 구성되며, 리프트핀 홀(136)의 상단(136a) 역시 그에 대응되는 형상을 가지고 있다.
이와 같이, 서셉터(130)가 상승하여 기판(S)이 서셉터의 상부에 안착된 상태에서 기판의 상면으로 소스가스, RF 전압 및 열 등을 인가하여 박막이 기판의 상면에 증착되고, 증착 완료 후 서셉터(130)가 원 위치로 하강함에 따라 서셉터 상부로 돌출된 리프트핀(152, 154)에 의하여 기판이 지지된 뒤, 다시 로봇 암이 기판(S)과 리프트핀(152, 154) 사이로 이송되어 기판을 공정챔버 외부로 반송시킨다.
그러나, 기술한 것과 같이 공정챔버 내부로 인입된 기판을 지지하기 위하여 사용된 리프트핀은 내부에 히터가 병설되어 있는 서셉터를 관통하여 그 상부에 배치되기 때문에 증착 과정에서 고온으로 가열되는 히터로부터 발생되는 열에 의한 충격에 의하여 파손되기 쉽다. 특히, 증착 공정에서 고온으로 가열되는 히터가 내부에 내입되어 있는 서셉터의 중앙 영역을 관통하는 다수의 리프트핀은 고온으로 열화되어 파손되는 경향이 심하다.
또한, 기판이 리프트핀으로부터 이탈되는 과정에서 리프트핀의 상부에 정확히 안착되지 못하여 유리기판이 파손되는 문제점이 발생한다. 이와 같은 문제점을 해결하기 위해서 대한민국 공개특허 제 2002-0058711호에서는 외주변으로부터 내주변으로 소정의 각도로 경사면을 갖는 리프트핀을 채택하여 기판이 리프트핀의 일 방향으로 미끄러지는 것을 방지할 수 있다고 개시되어 있다.
하지만, 상기 기술된 선행 기술 역시 기판을 지지하기 위한 수단으로서 리프트핀을 채용하기 때문에 히터로부터의 열 충격에 의한 리프트핀의 파손을 방지할 수는 없다. 특히, 최근 기판의 사이즈가 점차 대형화됨에 따라 기판을 지지하기 위한 리프트핀은 서셉터의 중앙 및 주변부의 상면에 다수가 형성되는데, 특히, 서셉터 중앙 영역을 관통하여 설치되는 리프트핀이 파손되는 경우, 기판의 중앙 영역은 정확히 지지될 수 없어, 아래 방향으로 휘어지거나 심한 경우 파손되어 제품의 불량을 초래하고 생산성을 크게 떨어뜨린다.
뿐만 아니라, 다수의 리프트핀을 관통시키기 위하여 서셉터에도 리프트핀이 삽입/관통될 수 있는 다수의 리프트핀 홀이 형성되어야 한다. 서셉터 내부에 형성된 다수의 리프트핀 홀로 인하여 서셉터 내부에 병설된 히터로부터 전달된 열이 기판의 저면으로 충분히 전달되지 못하고 리프트핀 홀을 통하여 외부로 방출되기 때문에 기판의 상면으로 소스가스가 제대로 증착되지 못한다. 특히 플라즈마 강화 화학기상증착 방식에 의하여 소스가스를 기판의 상면으로 증착시키는 액정표시장치용 증착 장치에서 리프트핀 홀 주변의 기판 영역과 기판의 다른 영역에 생성되는 플라즈마 밀도 차이로 인하여 성막되는 박막의 두께 차이가 발생하기 때문에 박막의 품질을 크게 저하되는 문제가 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 본 발명의 주된 목적은 기판이 공정챔버로 인입 및 공정챔버로부터 외부로 반송되는 과정에서 종래의 리프트핀, 특히 기판 중앙 영역의 저면을 지지하는 다수의 리프트핀을 대체할 수 있는 기판 지지 부재, 이를 포함하는 증착 장치 및 이를 이용한 기판 이송 방법을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 증착공정에서 손쉽게 파손되는 리프트핀을 대체하고, 증착공정에서 히터로부터 전달된 열을 기판으로 균일하게 전달할 수 있는 기판 지지 부재 및 기판 이송 방법을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 공정챔버 내부로 인입된 기판의 파손을 감소시키고, 박막의 균일도를 크게 향상시킬 수 있는 기판 지지 부재 및 이를 이용한 기판 이송 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 일 관점에 따르면, 공정챔버의 내부에 인입된 기판이 안착되는 서셉터의 상부에 위치하여 상기 인입된 기판의 저면과 접촉하는 와이어를 포함하는 기판 지지 부재를 제공한다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 상기 기판 지지 부재는 인입된 기판을 지지하는 와이어와, 상기 와이어의 양끝단과 연결되는 지지프레임을 포함하는데, 바람직하게는 상기 지지프레임의 외주면에 연결되어 상기 지지프레임을 상기 공정챔버의 내벽에 고정시키는 고정단을 더욱 포함할 수 있다. 이와 같이 지지 프레임을 구비하는 경우 그 지지프레임의 일 측면 중앙은 개구되어 있어 기판 및 로봇 암이 서셉터의 기판 지지 부재의 내부로 자유롭게 인입될 수 있다.
또한, 본 발명의 바람직한 양태에 따르면 상기 기판 지지부재의 일 측면 중앙에 개구를 형성하지 않고, 측면 중앙에 인접한 부위를 하향 연장되도록 구성할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 지지부재는 와이어의 양 끝단을 연결하는 지지프레임을 별도로 구성하지 않을 수 있는데, 이 경우 와이어는 공정챔버의 내벽 또는 공정챔버의 하면 중 적어도 어느 하나에 고정되는데, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지부재를 이루는 와이어는 공정챔버의 대응되는 내벽에 양 끝단을 고정시킬 수 있다.
한편, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 지지부재의 경우에는 와이어의 양 끝단 중 적어도 일단이 공정챔버의 하면에 고정되어 있는데, 이 경우 와이어의 확장 방향을 바꾸는 와이어 방향 변경수단을 포함할 수 있고, 특히 상기 와이어의 적어도 하나의 일 단에 상기 와이어의 장력을 조절하는 구동수단이 구비되어 있는 것을 특징으로 한다.
한편, 본 발명에 따른 상기 와이어는 기판이 인입되는 방향을 따라 다수 형성될 수 있고, 바람직하게는 기판이 인입되는 방향을 따라 다수 형성되는 제 1 와이어와, 상기 제 1 와이어에 직교하는 제 2 와이어를 포함할 수 있다.
본 발명의 바람직한 양태에 따른 상기 와이어는 고장력(高張力)을 가지며, 내식성이 우수한 금속으로서, 보다 구체적으로는 스테인레스, 인코넬(inconel), 피아노선 등에 사용되는 고탄소강 등이 사용될 수 있다.
한편, 본 발명의 다른 관점에서는 실질적인 증착공정이 수행되며, 가스유입관, 가스 배기관 및 기판이 인입되는 슬롯밸브를 갖는 공정챔버와; 상기 공정챔버의 내부에 인입된 기판이 안착되는 서셉터와; 상기 서셉터의 상부에 위치하며, 상기 인입된 기판의 저면과 접촉하는 와이어를 포함하는 기판 지지 부재를 포함하는 증착 장치를 제공한다.
본 발명의 상기 기판 지지부재는 위에서 기술된 것과 같은 모든 바람직한 특성을 모두 구비할 수 있으며, 특히 본 발명의 기판 지지부재의 필수적 구성인 와이어가 내입될 수 있도록 서셉터의 상면에는 와이어 홈이 소정의 높이 및 폭을 가지고 형성되어 있다.
특히, 본 발명의 바람직한 양태에 따른 증착 장치에는 서셉터의 가장자리를 따라 서셉터를 관통하는 다수의 리프트핀을 더욱 포함할 수 있다.
한편, 본 발명의 상기 서셉터의 상면으로 상기 와이어 또는 제 1 및 2 와이어가 각각 내입될 수 있는 다수의 와이어 홈 또는 제 1 및 제 2 와이어 홈이 구비될 수 있고, 상기 다수의 와이어 홈 또는 제 1 및 제 2 와이어 홈의 개수는 각각 상기 와이어 또는 제 1 및 제 2 와이어의 개수보다 많고, 상기 다수의 와이어 홈 또는 제 1 및 제 2 와이어 홈 각각은 서로 동일한 거리로 이격되도록 배치될 수 있다. 이때 상기 다수의 와이어 홈의 이격 거리 또는 다수의 제 1 및 제 2 와이어 홈 각각의 제 1 및 제 2 이격 거리는 각각 1mm ~ 2mm 일 수 있다.
그리고, 본 발명의 상기 다수의 와이어 홈 또는 제 1 및 제 2 와이어 홈의 단면 형상은 직사각형, 사다리꼴, 삼각형 중의 하나일 수 있다.
더욱이, 본 발명의 또 다른 관점에서는 상기한 것과 같은 기판 지지부재를 이용하여 기판을 공정챔버로 인입하여 반송하기까지 기판을 이송하는 방법이 또한 제공된다.
바람직한 양태에 따르면, 공정챔버 내부로 인입된 기판은 공정챔버를 횡단하는 상기 와이어에 의하여 그 중앙 부분이 지지되고, 기판의 가장자리 영역으로는 서셉터를 관통하는 다수의 리프트핀에 의하여 지지될 수 있다.
특히, 본 발명과 관련하여 공정챔버 내부로 인입된 기판의 저면을 지지하는 기판 지지 부재를 구성하는 와이어는 본 명세서 및 첨부되는 청구의 범위에 걸쳐 단순히 금속 재질로 한정되는 것은 아니며, 일정한 장력(tension)을 가진 채로 기판의 저면을 지지할 수 있도록 서셉터의 상부에서 공정챔버를 횡단하여 구성되는 임의의 현 또는 줄(string)을 모두 포함하는 것임에 유의하여야 할 것이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부하는 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치용 증착 장치를 개략적으로 도시한 단면도로서, 본 실시예에 의한 공정챔버(300)는 상부의 리드(312)와 하부의 챔버바디(314)로 구분되어 있다.
도 3에 도시되어 있는 증착 장치는 이른바 샤워헤드 방식에 의하여 소스가스가 공정챔버의 내부에 공급되는 것으로서, 상기 리드(312)의 상단 중앙에는 가스 유입관(322)이 외부의 가스공급원(미도시)으로부터 공급된 소스가스를 상기 리드(312)의 중앙 및 리드(312)의 측벽을 횡단하여 설치되는 백킹 플레이트(미도시)를 관통하도록 설치되어 소스가스를 백킹 플레이트의 하부로 주입시킨다. 이와 같이 유입된 가스는 상기 백킹 플레이트 하부에 설치되는 샤워헤드(320)에 형성된 다수의 관통홀(미도시)을 통하여 공정챔버(300)의 서셉터(330) 상부로 분산된다. 또한, 상기 샤워헤드(320) 및 백킹 플레이트를 포함하는 가스분산부는 고주파 RF 전원(324)과 전기적으로 연결되어 있어 유입된 소스가스를 플라즈마 상태로 활성화시키게 된다.
물론, 도 3에 도시되어 있는 것과 같은 샤워헤드 방식이 아니라 소스가스가 공정챔버(300)의 측벽을 통하여 공정챔버(300) 내부로 공급되는 경우에는 가스 유입관및 가스분산부는 각각 공정챔버(300)의 측벽을 따라 형성될 수 있으며, 특히 상기 가스분산부는 인젝터(injector) 형태로 서셉터(330)의 외측 상단에 설치될 수 있음은 물론이다.
한편, 챔버바디(314)의 내부에는 공정챔버(300) 측벽에 설치된 슬롯밸브(346)를 통하여 공정챔버(300) 내부로 인입된 기판(S)이 안착되는 서셉터(330)가 상기 샤워헤드(320)와 소정 간격 이격되어 설치된다. 도시하지는 않았으나, 서셉터(330)의 내부에는 외부 전원과 연결되는 히터가 병설되어 증착공정에서 그 상부에 안착된 기판(S)을 소정 온도로 상승시킨다. 특히, 상기 서셉터(330)의 중앙 하단에는 모터 등의 구동수단(미도시)과 연결되는 승하강 어셈블리(344)가 외부에 결합되는 서셉터 지지대(334)가 연직 방향으로 연결되어 있다. 한편, 챔버바디(314)의 저면에는 가스배기관(342)이 구비되어 공정챔버(300) 내부에 잔류하는 가스 및 불순물 등의 물질을 외부로 배출시킨다.
특히, 본 실시예에서는 상기 서셉터(330)의 상면으로 기판(S)의 저면을 지지하기 위하여 공정챔버(300)의 내부를 가로지르는 와이어(352, 도 4a 참조)를 포함하는 기판 지지 부재(350)가 구비되는데, 이를 설명하면 다음과 같다.
도 4a 및 도 4b는 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지부재 및 다른 구성 요소 사이의 위치 관계를 도시한 평면도 및 사시도로서, 도시한 것과 같이 본 실시예에 따른 기판 지지부재(350)는 실질적으로 기판의 저면이 안착되는 와이어(352, 353)와, 상기 와이어(352)의 양 끝단이 연결되어 있는 지지프레임(354, 356, 357) 및 상기 지지프레임(354, 356, 357)을 공정챔버의 내벽에 고정시키기 위한 고정단(359)을 포함하고 있다.
상기 와이어(352, 353)는 공정챔버(300) 내부로 인입된 기판(S)이 서셉터(330)의 상면으로 안착되기까지, 또는 서셉터 상면에 안착된 기판(S)이 공정챔버의 외부로 반송되기까지 기판(S)의 저면과 실질적으로 접촉하여 기판을 지지하는 부분으로서, 바람직하게는 기판의 주변부 영역을 따라 기판이 인입되는 방향과 평행하게 2개 이상 형성될 수 있고(352), 더욱 바람직하게는 상기 기판이 인입되는 방향과 평행하게 구성되는 제 1 와이어(352)에 직교하는 형태로 하나 이상의 제 2 와이어(353)를 더욱 포함할 수 있는데, 이 경우 상기 제 2 와이어(353)는 기판(S)이 인입되는 슬롯밸브(346)와 마주보는 쪽에 형성되는 것이 바람직하다.
상기 기판이 인입되는 방향과 평행하게 구비되는 제 1 와이어(352)와 관련하여, 서셉터(330)의 중앙 상단을 횡단하는 하나의 와이어만으로 구성될 수 있으나, 기판(S)의 저면이 와이어(352)의 상면에 접촉하여 안착되는 과정에서 기판이 측면 방향으로 기울어져 기판이 파손될 수 있기 때문에 도시된 것과 같이 2 이상의 와이어를 서로 대칭적으로 구성되는 것이 특히 바람직하다.
또한, 상기 와이어(352, 353)에 일정한 장력(tension)을 유지시켜, 기판(S)을 정확하게 지지할 수 있도록 본 실시예에서는 상기 와이어(352)의 양 끝단을 고정하는 지지프레임(354, 356, 357)이 구비된다. 상기 지지프레임(354, 356, 358)은 바람직하게는 공정챔버의 측벽에 설치된 슬롯밸브(346, 도 3 참조)를 통하여 인입된 기판(S)의 형태에 대응되도록 직사각형 형태를 취할 수 있다. 즉, 도시한 것과 같이, 본 실시예에 따르는 기판 지지부재(350)를 구성하는 상기 지지프레임(354, 356, 357)은 각각 평행하게 구성되는 장변(354)과 단변(356, 357)을 가질 수 있다. 물론, 본 실시예에 따르는 상기 지지프레임이 반드시 직사각형의 형상일 필요는 없고, 공정챔버(300) 내부로 인입되는 기판(S)의 형태에 따라 그 형상은 차이가 있을 수 있다.
이와 같이 지지프레임(354, 356, 357)이 형성되는 경우에 상기 와이어(352)는 기판(S)이 인입되는 방향과 동일한 방향으로 하나 이상, 바람직하게는 2 이상 형성된다. 즉, 도면에서와 같이, 와이어(352)의 양 끝단은 기판(S)이 인입되는 슬롯밸브(346)에 인접한 면에 형성되어 있는 단변(357)과 그 반대편의 단변(356)에 각각 양 끝단이 연결되어 있다.
특히, 바람직하게는 본 실시예에 따른 기판 지지부재(350)를 이루는 상기 지지프레임(354, 356, 357)의 일면에는 개구(358)가 형성되도록 하여 슬롯밸브를 통하여 인입된 기판(S) 및 로봇 암(360, 도 6a 참조)이 서셉터(330)의 상면에서 자유롭게 전진, 후퇴하도록 구성된다. 상기 개구(358)는 바람직하게는 기판(S) 및 로봇 암(360)이 공정챔버 내부로 인입되는 슬롯밸브(346)가 형성되어 있는 쪽에 구비된다. 예를 들어, 도면에 도시된 것과 같이 지지프레임을 이루는 2개의 단변 중 기판(S)이 인입되는 단변(357)의 중앙에 개구(358)가 형성될 수 있다.
한편, 상기 지지프레임(354, 356, 357)의 외주변에 볼트/나사 등의 체결수단을 통하여 직접 챔버바디(314)와 지지프레임이 직접 결합되도록 구성될 수 있으나, 바람직하게는 상기 지지프레임(354, 356, 357)의 외주변으로 고정단(359)을 형성함으로써, 상기 고정단(359)을 통하여 지지프레임(354, 356, 357)이 챔버바디(314)의 내벽에 연결되어 일정한 위치에서 고정되도록 구성될 수 있다. 이 때, 상기 고정단(359)은 바람직하게는 슬롯밸브(346)를 통하여 기판(S) 및 로봇 암(360)이 인입되는 면을 제외한 면에 형성되어 상기 지지프레임을 안정적으로 챔버바디(314)의 내벽에 고정시킬 수 있다. 예컨대, 도면에 도시된 것과 같이, 상기 고정단(359)은 상기 지지프레임 중 장변(354)의 외주변에 각각 대칭적으로 형성되고, 개구(358)가 형성되지 않은 단변(356)의 외주변에 형성될 수 있다.
한편, 본 실시예에 따라 기판 지지부재(350)를 구성하는 지지프레임(354, 356, 357)은 소정의 높이를 갖는데, 상기 지지프레임(354, 356, 357)의 내면으로 연결되는 상기 와이어(352)는 지지프레임(354, 356, 357)의 상단, 중앙, 하단 어느 곳에 연결될 수 있고, 특히 바람직하게는 와이어(352)는 지지프레임의 내면 하단으로 연결될 수 있다.
상기에서 기술된 본 실시예에 따른 기판 지지부재(350)와 공정챔버(300) 내부의 다른 구성 사이의 위치 관계를 이하에서 간략하게 설명한다. 도 5는 도 4a의 Ⅴ-Ⅴ'선을 따라 절단한 면을 도시한 단면도로서, 챔버바디(314)의 내부에 형성된 서셉터(330)의 상면에는 공정챔버를 가로지르는 와이어(352, 353)가 구비되어 있고, 상기 와이어(352, 353)의 끝단이 연결되는 지지프레임의 장변(354)이 상기 서셉터(330) 주변부 상부에 구비되어 있다. 또한, 상기 장변(354)의 저면의 일부는 챔버바디(314)의 내벽에 고정되어 있는 고정단(359)의 상단과 접촉하고 있다. 한편, 상기 와이어(352, 353) 및 장변(354)의 상부로는 공정챔버 내부로 인입된 기판의 가장자리 영역을 커버하는 에지프레임(362)이 에지프레임 고정단(364)을 통하여 챔버바디(314)의 내벽과 연결되어 있다.
특히, 본 실시예에 따라 기판 지지부재(350)를 이루는 장변(354)을 포함하는 지지프레임(354, 356,357)의 내주변이 서셉터(330) 외주변의 외측 상부에 위치하도록 함으로써, 기판(S)이 서셉터(330)의 상면에 안착되는 경우, 지지프레임이 서셉터의 외측에 위치하도록 구성할 수 있으나, 도시된 것과 같이, 본 실시예에 따른 장변(354)을 포함하는 지지프레임의 내주변과 서셉터(330) 외주변이 어느 정도 겹쳐지도록 하여, 서셉터(330)가 상승함에 따라 서셉터(330)의 외주변과 지지프레임의 내주변이 접촉할 수 있다. 이는 후술하는 것과 같이, 서셉터(330)가 계속 상승함에 따라 기판을 지지하고 있는 와이어(352, 353)를 포함하여 기판 지지프레임 또한 동반 상승하도록 구성될 수 있다. 이와 같이 기판 지지부재를 구성하는 경우, 상기 고정단(359)은 단순히 상기 지지프레임(354)을 챔버바디(314)에 연결 또는 부착시키는 역할만을 수행하는 것은 아니고, 증착 공정이 완료되어 서셉터(330)가 하강하는 경우, 동반 하강하는 지지프레임(354)이 소정의 높이 이하로 계속 하강하는 것을 방지할 수 있다.
한편, 후술하는 것과 같이 공정의 진행에 따라 서셉터(330)가 상승하는 경우, 상기 서셉터(330)의 상면으로 기판(S)의 저면이 정확히 수평하게 안착되어야 한다. 만약 기판(S)이 수평하게 안착되지 못하면, 서셉터(330) 내부에 병설된 히터에 의하여 발생된 열이 기판(S)에 정확하게 전달되지 못하여 기판 상면으로의 소스가스의 증착이 불균일하게 일어날 수 있다. 이를 위해서 상기 서셉터(330)의 주변부 상면으로는 상기 와이어(352)가 내입될 수 있는 와이어 홈(332)이 구비되는 것이 바람직하다.
상기와 같이 구성되는 본 실시예에 따른 기판 지지부재(350)를 포함하고 있는 공정챔버(300) 내에서의 기판의 로딩/언로딩을 포함하는 이송방법은 종래 리프트핀을 이용한 기판의 이송방법과 큰 차이가 있는데, 이를 설명한다. 도 6a 내지 도 6f는 각각 본 발명의 일 실시예에 따라 기판이 공정챔버 내부로 인입되어 실질적인 증착 공정이 수행되기까지의 과정을 도시한 사시도이고, 도 7a 내지 도 7f는 도 6a 내지 도 6f에 도시된 각 구성 요소 사이의 위치관계를 정확히 보여주기 위한 단면도이다.
우선 도 6a 및 도 7a에 도시된 것과 같이, 외부의 가열챔버(미도시)에서 예열된 기판(S)은 로봇 암(360)에 의하여 저면이 지지된 상태로 공정챔버로 이송되어, 챔버바디(314)의 일 측벽에 설치된 슬롯밸브(346, 도 3 참조)를 통하여 공정챔버 내부로 인입될 준비를 하고 있다. 이 경우, 챔버바디(314)의 내부에는 상단으로부터 에지프레임(362), 지지프레임(354, 356, 357) 및 서셉터(330)가 각각 형성되며, 특히 상기 에지프레임(362) 및 지지프레임(354, 356, 357)은 각각 에지프레임 고정단(364) 및 고정단(359)에 의하여 챔버바디(314)의 내벽에 연결된 상태이다.
이어서, 도 6b 및 도 7b에 도시된 것과 같이, 챔버바디(314)의 측벽에 설치된 슬롯밸브(346)를 통하여 인입된 기판(S)을 저면에서 지지하는 로봇 암(360)은 슬롯밸브를 통과한 상태에서 그 반대편 측벽을 향하여 더욱 전진하여 기판(S)의 중앙이 공정챔버 내부의 중앙에 위치하게 된다. 즉, 공정챔버 내부로 인입된 기판(S) 및 그 저면의 로봇 암(360)은 도 6b에 도시되어 있는 것과 같이 공정챔버의 하부에 설치되어 있는 서셉터(330)의 상부에 위치한다. 특히, 본 실시예에서는 종래 기판을 지지하는 데 사용되었던 다수의 리프트핀을 대신하여 서셉터(330) 외측 상부에 형성되어 있는 지지프레임(354, 356, 357)에 의하여 일정 정도의 장력이 걸려 있는 와이어(352)를 포함하는 기판 지지부재를 사용하고 있는데, 도 7b에 도시된 것과 같이, 이 시점에서 와이어(352) 및 지지프레임(354)은 로봇 암(360)의 저면 및 서셉터(330)의 상면과 모두 이격되어 있는 상태이다.
이어서, 도 6c에 도시된 것과 같이 로봇 암(360)이 챔버바디의 측벽에 형성된 슬롯밸브를 따라 소정의 높이만큼 아래로 하강하면, 상기 로봇 암(360)에 의하여 지지되는 기판(S) 역시 로봇 암(360)이 하강한 만큼 아래 방향으로 하강하게 된다. 이에 따라, 공정챔버 내부로 인입된 기판(S) 및 그 저면의 로봇 암(360)은 지지프레임(354, 356, 357)의 내부에 위치하게 된다. 이 때, 바람직하게는 상기 로봇 암(360)은 본 실시예에 의한 기판 지지부재(350)를 이루는 와이어(352)와 접촉하지 않도록 구성되어 있으므로, 도 7c에 도시된 것과 같이, 로봇 암(360)은 지지프레임(354)의 하단까지 하강하고, 이에 따라 기판(S)의 저면이 와이어(352)의 상면과 접촉하여 기판(S)이 와이어(352)에 의하여 지지된다.
이어서, 도 6d 및 도 7d에서와 같이, 기판(S)의 저면을 지지하고 있던 로봇 암(360)이 챔버바디에 형성된 슬롯밸브의 하단을 경유하여 공정챔버의 외부로 반송되는데, 상술한 것과 같이 본 실시예에 의한 기판 지지부재를 이루는 지지프레임(354, 356, 357) 중 바람직하게는 슬롯밸브가 형성된 면의 지지프레임(357)의 중앙은 개구(358)되어 있기 때문에, 로봇 암(360)은 지지프레임의 개구(358)된 부분을 경유한 뒤, 공정챔버로 인입된 경우와 마찬가지로 챔버바디 측벽의 슬롯밸브를 통하여 공정챔버의 외부로 반송된다. 이에 따라, 상기 기판(S)의 저면은 챔버바디(314)의 측벽에 연결되어 있는 지지프레임(354, 356, 357)의 내벽에 양 끝단이 고정되어 있는 와이어(352)에 의하여 전적으로 지지된 상태이다.
이어서, 도 6e에 도시된 것과 같이 증착공정을 위하여 서셉터(330)가 모터 등의 구동수단에 의하여 상승하면 서셉터(330)의 상면과 소정 간격 이격되었던 기판 지지부재(350)의 와이어(352)는 서셉터(330)의 상면에 접하게 된다. 특히, 본 실시예에 따라 기판 지지부재(350)를 구성하는 와이어(352)는 기판(S)의 전체 저면을 지지하는 것은 아니기 때문에, 와이어(352)에 의하여 지지되지 않은 기판 영역은 서셉터(330)의 상면에 접촉하는 반면에, 와이어에 의하여 지지되는 기판 영역은 서셉터(330)의 상면과 접촉하지 않을 수 있다. 이로 인하여 와이어에 의하여 지지된 기판 영역으로는 서셉터(330) 내부에 병설된 히터로부터 발생된 열이 제대로 전달되지 못하여 증착공정에서 기판의 상면으로 증착이 균일하게 일어나지 못할 수 있다. 따라서 도 7e에 도시되어 있는 것과 같이, 서셉터(330)가 상승하여 기판(S)의 저면이 서셉터(330)의 상면으로 안착되는 경우, 상기 서셉터(330)의 주변부 상면으로는 상기 와이어(352)에 대응되는 와이어 홈(332)을 구비함으로써 기판(S)의 저면을 안착하고 있는 와이어(352)가 상기 와이어 홈(332)으로 내입될 수 있도록 구성하는 것이 바람직하다.
특히, 본 실시예와 관련하여 기판 지지부재(350)의 와이어(352)의 양 끝단을 고정시키는 지지프레임(354, 356, 357)의 내주변이 서셉터(330) 외주변의 외측 상단에 위치하도록 구성하여 서셉터(330)의 상승에도 불구하고 서셉터(330)와 지지프레임(350)이 접촉하지 않도록 구성하게 되면, 서셉터(330)의 계속된 상승에 따라 서셉터(330)에 내입된 와이어(352)의 장력을 일정 수준으로 유지하기 곤란할 수 있다. 따라서, 도 7e에 도시되어 있는 것과 같이, 와이어(352)의 양 끝단을 고정하는 지지프레임(354, 356, 357)의 외주변은 고정단(359)의 상단에 접촉하도록 하고, 내주변은 서셉터(330)의 외주변에 대응되도록 하여, 서셉터(330)의 상승에 따라 서셉터 외주변의 상면이 지지프레임(354) 내주변의 저면과 접촉하도록 구성할 수 있다.
계속해서 도 6f에 도시된 것과 같이, 증착공정을 위해서 서셉터(330)가 더욱 상승하게 되면, 서셉터의 상단 측벽에 고정되어 있던 에지프레임(362)이 서셉터(330)의 주변 영역 및 상기 서셉터(330)의 상면에 안착되어 있는 기판(S)의 주변 영역을 상면에서 덮어, 기판(S) 및 서셉터(330)의 주변 영역을 통하여 소스가스가 누설되지 않도록 한다. 이 때, 도 7f에 도시된 것과 같이, 본 실시예에 따른 지지프레임(354)의 내주변은 서셉터(330)의 외주변 상면에 얹혀진 상태로서, 서셉터(330)이 상승함에 따라 서셉터의 중앙부위 상면에 재치되어 있는 기판(S)은 물론이고, 서셉터(330)의 외주변 상면에 안착되어 있는 지지프레임(354) 및 상기 지지프레임(354)에 의하여 고정된 채로 서셉터 상단의 와이어 홈(332)에 내입되어 있는 와이어(352) 역시 동반 상승한다. 즉, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 기판(S)의 저면과 실질적으로 접촉하는 와이어(352)의 양 끝단을 고정시키는 지지프레임(354, 356, 358)은 고정단(359)에 의하여 챔버바디(314)의 내벽에 완전히 고정되어 있는 것이 아니고, 서셉터(330)의 승하강에 연동하여 승하강 될 수 있도록, 적어도 그 내주변이 서셉터(330)의 외주변과 접촉할 수 있도록 중심을 향하여 돌출되는 구성을 갖는다.
이와 같이 서셉터가 상승된 상태에서 가스유입관 및 샤워헤드를 통하여 분산된 소스가스는 플라즈마 상태로 여기되어 기판(S)의 상면으로 원하는 두께가 될 때까지 증착된다. 증착공정이 완료된 후에는 상기에서 기술한 것과 반대의 순서를 통하여 박막이 증착된 기판(S)이 공정챔버의 외부로 반송된다. 즉, 증착공정이 완료되면 서셉터(330) 및 상기 서셉터(330) 외주변의 상면에 안치되어 있는 지지프레임(354)이 원 위치로 하강하게 되고, 이에 따라 와이어 홈(332)에 내입되어 있던 와이어(352) 및 와이어(352)의 양 끝단이 연결되어 있는 지지프레임(354, 356, 357)은 서셉터(330)의 상부로 돌출됨으로써, 기판(S)의 저면을 지지한다. 이어서 공정챔버 측벽의 슬롯밸브를 통하여 챔버 내부로 인입된 로봇 암은 상기 지지프레임의 일면에 형성된 개구(358)를 통하여 전진하여 와이어(352)의 상단과 기판(S)의 저면 사이로 전진하여 다시 기판(S)의 저면을 지지하게 된다. 이어서 로봇 암(360) 및 박막이 증착된 기판(S)은 상기 개구(358) 및 슬롯밸브를 경유하여 공정챔버의 외부로 반송되는 것이다.
이와 같이, 본 실시예에서는 기판 사이즈 증가에 비례하여 그 수가 증가할 수밖에 없는 리프트핀을 사용하지 않고서도 충분히 공정챔버 내부에서 기판을 지지할 수 있으므로, 다수의 리프트핀의 사용에 의하여 야기될 수 있는 문제점을 해결할 수 있다.
특히, 상술한 것과 같이, 본 발명에 따른 상기 와이어(352, 353)는 기판(S)을 그 저면에서 지지할 뿐 아니라, 서셉터(330)가 상승함에 따라 서셉터(330)의 상면이 기판(S)의 저면을 지지하게 되면, 증착 공정에서 고온으로 가열되는 히터(미도시)가 내입되어 있는 서셉터(330)의 상면에 형성된 와이어홈(332)으로 삽입된다. 뿐만 아니라, 증착 공정이 완료된 후에는 통상적으로 공정챔버(300) 내부에 잔류하여 폴리머 등의 형태로 잔류하는 공정가스를 제거하기 위하여 통상 플루오르를 포함하는 세정가스가 공정챔버(300) 내부로 공급, 분사되는 세정 과정이 수행된다. 따라서, 본 발명에 따라 기판 지지부재(350)를 구성하는 상기 와이어(352, 353)는 상기 기판(S)을 저면에서 충분히 지지할 수 있도록 고장력(高張力)을 가질 뿐 아니라, 증착 공정 이후에 공정챔버(100) 내부에 공급되는 세정 가스로 통상 사용되는 불소(F), 염소(Cl) 등을 포함하고 있는 할로겐 활성종 가스에 대하여 식각되지 않도록 내식성을 가지며, 내열성을 갖는 금속류인 것이 바람직하다. 보다 구체적으로는 크롬 또는 니켈을 주성분으로 포함하는 스테인레스 강, 인코넬(inconel)계 합금, 모넬(monel)계 합금, 하스텔로이(hastelloy)계 합금 또는 피아노선에 사용되는 철강, 고탄소강 등의 내열성, 내식성 등의 기계적 성질이 뛰어난 금속이다.
상기 기술된 것과 같이 와이어를 고정하는 지지프레임의 일 측면의 중앙이 개구되어 공정챔버 내부로 로딩된 기판을 지지하는 로봇암이 외부로 반송되도록 할 수 있으나, 다른 형상을 갖는 것도 가능하다. 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 지지부재(350)를 도시한 사시도로서, 상기 도 4a 내지 도 4b에서 상술한 것과 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면번호를 부여하였으며, 이에 대한 자세한 설명은 생략하기로 한다.
도 8에 도시된 것과 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 지지부재(350)에서 와이어(352)를 고정시키는 지지프레임(354, 356)의 일 측면은 요철 형상을 갖는다. 바람직하게는 공정챔버 내부에 형성된 서셉터의 상부를 가로지르는 다수의 와이어(352a, 352b)를 고정시키는 지지프레임의 단변(356) 중 기판 및 로봇암이 인입/반송되는 측면의 중앙부와 가장자리 영역 사이에 하향 연장되는 오목부(359)가 형성된다. 즉, 본 실시예에 따른 지지프레임 중 일 측면의 중앙부(355a) 및 양 측부(355b) 사이로는 하향 절곡면(359a)을 가지는 오목부(359)가 구비되어 있다. 또한, 기판 지지부재(350)에 고정된 와이어는 각각 기판 지지부재(350)의 측면 중앙(355a)과 양 측부(355b)의 내면에 고정되어 있음을 알 수 있다.
상기와 같이 구성되는 기판 지지부재(350)에서 기판의 인입 및 로봇암의 반송 과정을 간략하게 설명하면 다음과 같다. 도 9a는 도 8에 도시되어 있는 기판 지지부재(350)를 구비하고 있는 공정챔버 내부로 로봇암(360)에 의하여 지지된 기판(S)이 인입되는 과정을 도시한 사시도이다. 도 6a 내지 도 6f를 통하여 기술한 것과 같이, 증착 공정을 위하여 준비된 기판(S)은 로봇암(360)에 의하여 저면이 지지되어 공정챔버의 측벽에 설치된 슬롯밸브의 상단을 통하여 공정챔버 내부로 인입된다. 인입된 기판(S) 및 그 저면의 로봇암(360)은 와이어(352a, 352b)가 고정되어 있는 기판 지지부재(350)의 상부에 위치한다. 이어서, 로봇암(360)이 하강하여 로봇암(360)에 의하여 지지되었던 기판(S)은 기판 지지부재(350)를 가로지르는 다수의 와이어(352a, 352b)의 상단에 접하면서 지지된다. 이 때, 기판 지지부재(350)의 일 측면, 보다 구체적으로는 기판(S)이 인입되는 방향의 측면 중앙과 가장자리 사이는 상술한 것과 같이 하향 절곡되는 오목부(359)가 구비되어 있기 때문에, 기판(S)이 와이어(352a, 352b)의 상단과 접할 정도로 로봇암(360)이 하강하는 경우, 로봇암(360)은 움푹 패인 형상을 갖는 오목부(359)의 내부 공간으로 내입될 수 있고, 이 오목부(359)에 내입된 로봇암(360)은 슬롯밸브의 하단부를 통하여 외부로 반송될 수 있다 (도 9b). 도면에서는 본 실시예에 따른 오목부(359)가 하향 절곡되도록 구성되어 있으나, 상술한 것과 같이, 인입된 로봇암이 하강할 수 있는 스페이스를 제공할 수 있다면, 하향 절곡하는 것에 한정되지는 않고, 하향 연장되는 임의의 형태를 취할 수 있다.
한편, 상술한 것과 같은 기판 지지부재에 고정된 와이어만으로 기판을 지지하고자 하는 경우에, 서셉터의 내장되어 있는 히터로부터 전달된 열로 인하여 서셉터가 열팽창하게 되고, 이로 인하여 기판 지지부재를 구성하는 와이어가 서셉터 상면에 구비된 와이어 홈에 정확히 내입되지 않을 수 있다. 따라서, 바람직하게는 상술한 것과 같은 와이어와 함께 다른 기판 지지수단을 동시에 사용할 수 있다.
도 10은 와이어가 고정 설치되는 기판 지지부재와 함께 리프트핀을 포함하는 액정표시장치용 증착 장치의 단면도이고, 도 11은 기판 지지부재 및 리프트핀이 관통되어 있는 서셉터 등을 도시한 사시도이다. 본 실시예에 따라 공정챔버(300) 내부로 인입되는 기판(S)은 기판 지지부재(350)를 관통하는 와이어(352) 및 서셉터(330)의 주변부를 관통하여 설치되는 다수의 리프트핀(400)에 의하여 지지된다. 즉, 본 실시예에 따르면, 공정챔버(300) 내부로 인입된 기판(S) 중앙부는 기판 지지부재(350)의 장변(354)을 따라 그 중앙을 횡단하여 구성되는 중앙의 와이어(352)에 의하여 지지되고, 기판(S)의 주변부는 서셉터(330)의 주변부를 따라 소정 간격으로 배치되어 있는 다수의 리프트핀(400)에 의하여 지지될 수 있다. 본 실시예에 따른 기판 지지부재(350)의 일 측면 중앙(355) 내면에는 와이어(352)가 고정되고, 측면 중앙(355)과 양 측부(355b) 사이에서 기판 지지부재(350)는 하향 연장되어 공정챔버 내부로 인입된 로봇암이 하강할 수 있는 오목부(359)가 마련되어 있다.
본 실시예에 따라 기판(S)이 공정챔버 내부로 인입되어 실질적인 증착 공정이 수행되기까지의 공정은 도 12a 내지 도 12d에 도시되어 있다. 도 12a 도시된 것과 같이, 기판(S)이 공정챔버 내부로 인입되기 전에 챔버바디(314)의 내부에는 지지프레임 고정단(359)에 의하여 고정된 지지프레임의 중앙을 횡단하는 와이어(352)가 구비되어 있으며, 서셉터(330)의 주변부 상면으로는 다수의 리프트핀(400)이 상향 돌출되어 있다.
이어서, 도 12b에 도시한 바와 같이, 챔버바디(314)의 측벽에 설치된 슬롯밸브 상단을 통하여 인입된 기판(S)을 저면에서 지지하고 있는 로봇암(360)은 반대편 측벽을 향하여 더욱 전진하여 기판(S) 및 그 저면의 로봇암(360)은 서셉터(330), 리프트핀(400) 및 와이어(352)와 이격된 채로 그 들의 상부에 위치한다.
계속해서 도 12c에 도시된 것과 같이, 로봇암(360)이 소정의 높이만큼 하강하면, 기판(S) 및 로봇암(360)은 지지프레임에 의하여 둘러싸이게 되는데, 상술한 것과 같이, 지지프레임의 일 측면의 중앙부와 측부 사이는 하향 연장되어 있기 때문에, 로봇암(360)은 와이어(352) 및 리프트핀(400)의 상단보다 더 아래로 하강할 수 있다. 따라서, 이 시점에서 기판(S)의 저면 중앙은 와이어(352)의 상단과 접촉하고, 주변부는 리프트핀(400) 상단과 접촉하며, 로봇암(360)은 기판의 저면으로부터 이격된다. 이와 같이 기판의 저면과 이격된 로봇암(360)은 챔버바디(314)의 슬롯밸브 하단을 통하여 외부로 반송된다.
이어서, 도 12d에 도시한 바와 같이, 증착 공정을 위하여 서셉터(330)가 구동수단을 통하여 상승하면 서셉터(330)의 상면과 이격되어 있던 와이어(352)는 서셉터(330)의 중앙을 가로질러 구비되어 있는 와이어 홈(332)의 내부로 삽입되고, 서셉터(330) 주변부 상단에 돌출되어 있는 리프트핀(400) 역시 서셉터(330)에 형성된 리프트핀 홀(336)으로 내입된다. 특히, 리프트핀 홀(336)로 내입되는 리프트핀(400)이 리프트핀 홀(336)을 통하여 서셉터(330)로부터 완전히 이탈되는 것을 방지할 수 있도록, 상기 리프트핀의 상단(402)은 다른 부분에 비하여 그 직경이 큰 구성을 취하고 있고, 리프트핀 홀(336)의 상단 역시 이에 대응되는 구성을 취하고 있다.
계속해서 서셉터(330)는 더욱 상승하여 증착 공정이 수행되고, 증착 공정이 완료된 후에는 상기한 것과 역순으로 공정이 진행되어, 박막 증착이 완료된 기판(S)은 공정챔버의 외부로 반송된다.
한편, 본 발명의 또 다른 실시예에 따르면 기판을 지지하는 와이어를 포함하는 다른 양태의 기판 지지부재가 또한 가능한데, 도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 증착 장치를 개략적으로 도시한 단면도이고, 도 14a 및 도 14b는 각각 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 지지부재를 중심으로 다른 구성 요소 사이의 위치 관계를 도시한 단면도 및 사시도로서 이를 동시에 설명한다. 본 도면에서 기술된 도면번호 중 일부는 위에서 상세하게 기술된 것과 동일한 구성으로서 도면 번호를 달리한 것에 지나지 않으므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.
도 13에 도시된 것과 같이, 본 발명의 다른 실시예에 의하여 구성되는 공정챔버(800) 역시 상부의 리드(812)와 하부의 챔버바디(814)로 구분되고, 상기 리드(812)에는 가스유입관(822), 백킹 플레이트 및 샤워헤드(820)를 포함하는 가스분산부, 상기 가스분산부와 연결되어 접지되는 RF 전원(824) 등이 구성되고, 챔버바디(814)의 내부에는 서셉터(830), 서셉터 지지대(834), 승하강 어셈블리(844), 슬롯밸브(846), 가스배기관(846) 등이 형성되어 있으며, 특히 상기 서셉터(830)의 상면과 공정챔버(800) 내부로 인입된 기판(S)의 저면 사이로는 공정챔버(800)를 횡단하는 와이어(852)를 포함한 기판 지지부재(850)가 구비되어 있음을 알 수 있다.
특히, 본 실시예에 의하여 구성되는 기판 지지부재(850)는 상기에서 기술된 것과 같은 기판 지지부재(350)와 비교하여 크게 다른 구성을 취하고 있는데, 도 14a 및 도 14b를 참조하면, 본 실시예에 따른 기판 지지부재(850)는 서셉터(830)의 상면을 횡단하면서, 상기 서셉터(830)의 일 외측에서 연직방향으로 형성되어 있는 하나 이상, 바람직하게는 2 이상의 와이어(852)와, 상기 와이어(852)의 확장 방향을 수평 방향에서 연직 방향으로, 또는 연직 방향에서 수평 방향으로 변경할 수 있는 와이어 방향 변경 수단(854) 및 상기 와이어(852)의 양 끝단을 각각 챔버바디(814)의 측벽 및 공정챔버(800)의 바닥에 고정시킬 수 있도록 와이어(852)의 양 끝단에 연결되는 고정단(856, 857)을 포함한다. 특히, 상기 고정단 중 공정챔버(800)의 하부에 설치되는 고정단(857)은 와이어(852) 뿐 아니라, 상기 와이어 방향 변경수단(854)을 동시에 고정시키도록 구성할 수 있다. 한편, 본 실시예에 따른 기판 지지부재(850)를 이루는 와이어(852)의 경우 제 1 실시예에서와 달리 지지프레임에 의하여 지지되지 않은 상태이므로, 서셉터(830)가 상승함에 따라 와이어(852)의 장력(tension)이 기판(S)을 충분히 지지할 수 있을 정도로 유지하기 어려울 수 있다. 따라서, 바람직하게는 상기 와이어(852)의 양 끝단 중 공정챔버(800)의 저면에 연결된 일단으로는 와이어(852)의 상승에 따라 와이어(852)로의 장력을 적절하게 유지할 수 있는 구동수단(859)을 구비할 수 있다. 상기 와이어 장력 구동수단(859)은 예컨대 벨로우즈 타입으로 구성될 수 있고, 상기 서셉터 지지대(834)에 연결되는 구동수단(미도시)과 별도로 독립적으로 작동하도록 구성될 수 있다. 즉, 본 실시예에 따른 상기 와이어 장력 구동수단(859)은 서셉터(630)의 승하강과 독립적으로 상승 또는 하강함으로써, 서셉터(830)의 상승에 따라 와이어(852)의 장력을 변화시킬 필요가 있는 경우, 그에 따라 수축/ 확장되어 와이어의 장력을 유지할 수 있다.
결국, 본 실시예에서는 제 1 실시예에서 기술한 것과 같은 지지프레임을 기판 지지부재의 구성요소로 포함하지 않으면서도 공정챔버(800) 내부로 인입된 기판의 저면을 용이하게 지지할 수 있는 기판 지지부재(850)를 기술하고 있다. 본 실시예에 따른 와이어(852) 역시 바람직하게는 기판의 인입 방향을 따라 서로 평행하게 다수가 구비될 수 있고, 도시된 것과 같이 서셉터(830)의 중앙 영역과 양 가장자리 영역의 상면에 대칭적으로 형성될 수 있다. 또한, 본 실시예에서는 지지프레임을 사용하지 않고, 와이어(852)의 양 끝단을 각각 챔버 측벽 및 바닥에 고정시켰으므로, 와이어(852)의 일부 영역은 서셉터(830)의 상단을 횡단하고 있고, 나머지 일부 영역은 서셉터(830)의 외측에서 연직방향으로 연장되어 있다. 따라서 수평방향으로 확장된 와이어의 부분과 연직방향으로 확장된 와이어의 부분 사이에서 와이어의 연장 방향을 변경할 수 있도록 와이어 방향 변경수단(854)을 포함하고 있다. 본 실시예와 관련된 상기 와이어 방향 변경수단(854)은 각각 공정챔버(800)의 측벽과 바닥에 고정된 와이어(852)가 일정한 장력을 유지하여 기판(S)을 지지할 수 있도록 와이어의 확장 방향을 수직에서 수평으로, 또는 수평에서 수직으로 바꿀 수 있는 다양한 구성을 취할 수 있고, 바람직하게는 도르래(pulley)를 사용할 수 있다.
특히, 도시된 것과 같이 바람직하게는 상기 와이어(852)는 슬롯밸브(846)가 형성된 챔버바디(814)의 내벽과 그 맞은편 측벽을 횡단하도록, 즉 기판(S)이 인입되는 방향과 동일한 방향으로 확장될 수 있도록 형성되고, 상기 서셉터(830)의 외측 상단에 형성되어 있는 와이어 방향 변경수단(854)에 의하여 연직방향으로 확장되어 공정챔버(800)의 저면 또는 바람직하게는 상기 공정챔버(800)에 병설되어 있는 와이어 장력 구동수단(859)에 연결될 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다. 다시 말하면, 본 실시예에 따른 기판 지지부재(850)를 이루는 상기 와이어 방향 변경수단(854)은 슬롯밸브(846)가 구비되어 있는 챔버바디(814)의 내벽에 인접한 방향에 설치되며, 바람직하게는 서셉터(830)의 일 외측 영역의 상단에 형성된다. 이에 따라, 상기 와이어(852)를 고정시키는 고정단은 각각 슬롯밸브(846)가 설치된 챔버바디(814)의 맞은 편 내벽(856) 및 슬롯밸브 인근의 공정챔버(800)의 바닥(857)에 각각 형성되는 것이 바람직하다. 결국, 본 실시예에 따르는 기판 지지부재(850)는 와이어를 지지하기 위하여 위에서 기술한 것과 같은 지지프레임을 구성하지 않았으므로, 공정챔버(800) 내부로 인입된 기판(S) 및 로봇 암(860)은 자유롭게 전진, 후퇴할 수 있다. 한편, 본 실시예에 있어서도, 후술하는 것과 같이 서셉터(830)가 상승하여 기판(S)의 저면과 균일하게 접촉할 수 있도록 상기 서셉터(830)의 상단에는 상기 와이어(852)가 내입될 수 있는 와이어 홈(832)이 형성될 수 있다.
한편, 본 발명의 또 다른 실시예에 따르면 공정챔버의 저면을 통하여 고정되는 와이어를 포함하는 기판 지지부재가 가능하다. 도 15a 및 도 15b는 각각 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 지지부재를 중심으로 도시한 공정챔버의 단면도 및 사시도이다. 도시한 것과 같이, 본 실시예에 따른 기판 지지부재(850)는 상기 도 14a 및 도 14b에 도시한 것과 비교할 때, 기판(S)을 지지하는 와이어(852)의 양 끝단이 모두 공정챔버의 저면 바닥에 대칭적으로 연결되어 있다. 즉, 본 실시예에 따르는 기판 지지부재(850)를 구성하는 와이어(852)는 일단이 공정챔버의 저면과 연결되어 연직방향으로 확장되고, 서셉터(830)의 일 외측 상단에서 서셉터(830)의 상면을 횡단하도록 확장 방향이 변경된 뒤, 상기 서셉터(830)의 대응되는 타외측 상단에서 다시 연직 하향 방향으로 확장됨으로써, 타단이 공정챔버의 다른 저면과 연결될 수 있도록 구성되어 있다. 따라서, 본 실시예에서는 와이어(852)의 확장 방향을 변경할 수 있는 위치 변경수단(854, 856)이 서셉터(830)의 외측에서 서로 대응될 수 있도록 1쌍이 설치되어 있다. 또한, 서셉터(830)의 상승에 따라 그 상단에 형성된 와이어 홈(832)에 내입되는 와이어(852) 역시 상승하게 되는데, 와이어(852)의 양 끝단이 완전히 고정되면 서셉터(830) 상승으로 인하여 공정챔버를 가로질러 형성되는 와이어(852)로의 장력을 변하게 되어, 기판을 제대로 지지할 수 없는 문제가 있다.
따라서, 본 실시예에서는 공정챔버의 저면에 형성된 와이어 고정단(857)외에도, 와이어(852)의 양 끝단이 연결될 수 있는 와이어 장력 구동수단(859)를 공정챔버의 저면에 각각 대칭적으로 형성하였다. 상기 와이어 장력 구동수단(859)은 도 14a 도 14b를 통하여 기술된 것과 동일한 구성을 취할 수 있는바, 서셉터(830) 상단에 형성된 와이어 홈(832)에 내입된 와이어(852)가 상승하는 경우, 위쪽으로 수축 상승하고, 서셉터(830)의 하강에 따라 와이어(852)가 하강하는 경우, 연직 하향방향으로 확장될 수 있는 벨로우즈 형태일 수 있다. 특히, 본 실시예에 따른 상기 와이어 장력 구동수단(859)은 위에서와 달리, 모터 등의 구동수단(미도시)과 연결되는 서셉터 지지대(834)의 외측에 형성된 승하강 어셈블리(844)와 연결축(845) 등을 통하여 연동되도록 구성할 수 있다. 즉, 승하강 어셈블리(844)의 동작에 의하여 서셉터(830)가 연직 방향으로 상승하게 되면, 이에 따라 승하강 어셈블리(844)와 연결되어 있는 상기 와이어 장력 구동수단(859) 역시 일정 높이로 수축 상승함으로써, 와이어(852)의 장력을 유지시킬 수 있다. 승하강 어셈블리(844)와의 연결을 위해서 상기 와이어 장력 구동수단(859)의 하단에는 연결대(859a)를 구비할 수 있다.
한편, 본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 공정챔버의 내부에 인입된 기판을 지지하는 와이어를 공정챔버의 내벽에 고정시킬 수 있는데, 도면을 참조하여 설명한다. 도 16a 및 도 16b는 각각 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 지지부재(850)를 중심으로 증착 장치의 다른 구성 요소 사이의 위치관계를 도시한 사시도 및 평면도이다. 도시한 것과 같이, 기판 지지부재(850)는 챔버바디(814)의 슬롯밸브(846)가 구비되어 있는 내벽(847)과 상기 슬롯밸브(846)와 마주보는 내벽에 각각 양 끝단이 고정됨으로써, 기판이 인입되는 방향과 평행하게 설치되는 다수의 제 1 와이어(852)와, 상기 제 1 와이어(852)와 직교하는 1 이상의 제 2 와이어(853)를 구비하고 있다. 이 때 바람직하게는 상기 제 2 와이어(853)는 슬롯밸브(846)와 마주보는 내벽 인근에 설치된다.
한편, 본 실시예에 따른 슬롯밸브(846)는 상단(848a)과 하단(848b)의 폭이 상이하다는 점을 알 수 있다. 즉, 도시한 것과 같이 상기 슬롯밸브(846)의 양측 중앙 인근에서 슬롯밸브(846)의 중앙을 향하여 하향 절곡됨으로써(847a, 847b), 슬롯밸브의 하단(848b)은 상단(848a)에 비하여 그 폭이 감소되어 있다. 이는 후술하는 것과 같이 슬롯밸브(846)의 상기 절곡면(847a)을 중심으로 그 상단(848a) 영역으로는 기판(S)과 로봇 암(860)이 동시에 인입/반송되는 영역으로서, 기판 (S)의 폭을 수용하기에 충분한 너비를 가지도록 한 것이고, 상기 하단(848b)으로는 로봇 암(860)만이 인입/반송되는 것이므로 기판(S)의 폭보다 좁은 로봇 암(860)의 폭을 수용할 수 있을 정도의 너비를 가지면 되기 때문이다. 따라서, 슬롯밸브(846)의 측면 중앙부에서 하향 절곡하는 단차를 갖는 것 외에도 상단에서 하단으로 중앙으로 향하는 경사면을 형성하는 것도 하나의 방법이 될 수 있다.
아울러 바람직하게는 본 실시예에 따르는 제 1 와이어(852)는 절곡부(847a, 847b)에 의하여 생성된 챔버바디(814)의 내벽(847)에 그 일단이 연결됨으로써, 와이어(852)의 높이와 슬롯밸브(846)의 높이를 자연스럽게 조정할 수 있다.
도 14a 및 도 14b, 도 15a 및 도 15b, 도 16a 및 도 16b에 각각 도시되어 있는 기판 지지부재(850)는 와이어의 양 끝단을 연결하는 지지프레임을 포함하지 않고 있으므로, 공정챔버(800) 내부로 기판을 로딩 또는 공정챔버(800)의 외부로 기판을 언로딩하는 과정을 포함하는 기판의 이송과정이 상이한데, 도 17a 내지 도 17f를 통하여 설명한다.
우선 도 17a에 도시된 것과 같이, 외부의 가열챔버에서 예열된 기판(S)은 로봇 암(860)이 저면에서 지지된 상태로 공정챔버로 이송되어, 공정챔버의 측벽에 설치된 슬롯밸브(846)의 절곡면(847, 도 16a 참조)을 기준으로 슬롯밸브의 상단(848a)을 통하여 공정챔버의 내부로 인입된다.
공정챔버의 내부로 인입된 로봇 암(860)이 더욱 전진함에 따라, 기판(S)은 공정챔버의 중앙, 즉 서셉터(830) 및 본 실시예에 따른 기판 지지부재(850)를 이루는 와이어(852)의 상부에 위치한다(도 17b). 그러나, 이 시점에서는 도시한 것과 같이 본 실시예에 따른 와이어(852)는 기판(S), 로봇 암(860)의 저면 및 서셉터(830)의 상면과 모두 이격되어 있는 상태이다.
이어서, 로봇 암(860)이 소정의 높이만큼 하강하게 되면 도 17c에 도시된 것과 같이 기판(S) 역시 그만큼 하강하게 되고, 와이어(852)의 상면은 로봇 암(860) 및 기판(S)의 저면과 매우 근접한 상태가 된다. 계속해서 로봇 암(860)이 상기 서셉터의 상부에서 다수 형성되어 있는 와이어(852) 사이의 영역을 따라 더욱 하강하면, 즉, 로봇 암(860)이 다수 형성된 와이어(852)의 하부와 서셉터(830)의 상단 사이로까지 하강하면, 로봇 암(860)이 지지하고 있던 기판(S)은 로봇 암(860)에 비하여 그 상부에서 공정챔버를 가로질러 형성되는 와이어(852)에 의하여 지지된다.
이어서, 도 17d에서와 같이, 로봇 암(860)이 슬롯밸브(846)의 하단(848b)을 통하여 공정챔버의 외부로 반송되면, 기판(S)의 저면은 서셉터(830)의 상부에서 공정챔버를 가로질러 다수 형성되는 와이어(852)의 상단과 접촉된 채로 지지된다.
이어서, 도 17e에 도시된 것과 같이 증착공정을 위하여 서셉터(830)가 상승하면 서셉터(830)의 상면과 소정 간격 이격되었던 와이어(852)는 서셉터(830)의 상면에 접하게 된다. 이 때, 기판(S)의 저면과 서셉터(830)의 상면 사이에 형성되어 있는 와이어(852)에 의하여 기판으로 전달되는 열이 차이가 생기게 되어 소스가스가 기판의 상면으로 균일하게 증착되지 못하는 것을 방지할 수 있도록 바람직하게는 상기 서셉터(830)의 상면에 상기 와이어(852)가 상기 와이어 홈(632)으로 내입될 수 있도록 구성할 수 있음은 기술한 것과 같다. 특히, 본 단계에 이르기까지는 공정챔버의 저면으로 와이어(852)의 일단이 연결되어 있는 와이어 장력 구동수단(859)는 서셉터의 소폭 상승에 관계없이 수축/상승되어 있지 않다. 이는 본 단계에서는 와이어(852)는 단순히 서셉터(830) 상단의 와이어 홈(832)에 안착되었을 뿐, 와이어(852)에 가해지는 장력은 이전단계와 동일하게 유지되어야 하기 때문이다.
이어서, 도 17f에 도시된 것과 같이 기판(S) 상면에 소스가스를 증착시킬 수 있도록 서셉터(830)가 더욱 상승하게 되면, 서셉터 상단의 와이어 홈(832)에 내입되어 있는 와이어(852) 역시 상승되어야 하는데, 만약 이전 단계에서처럼 와이어(852)가 단순히 연직방향-수평방향만으로 확장되는 경우에는 와이어(852)에 가해지는 장력을 변경시키기가 곤란하여, 서셉터(830)의 상승에 따라 와이어(852)가 절단되거나 아니면 기판(S)의 저면을 손상시킬 우려가 있다. 따라서, 서셉터(830)가 소정의 범위를 벗어나 상승하는 경우에는 이에 따라 그 상단에 내입된 와이어(852)에 가해지는 장력의 크기를 조절할 필요가 있다. 이를 위해서, 공정챔버의 저면으로 와이어(852)의 일단이 연결되어 있는 와이어 장력 구동수단(859)는 서셉터의 상승에 따라 위쪽으로 수축/상승되어 있고, 이에 따라 공정챔버의 내부로 들어가는 와이어(852)의 길이가 증가된다. 따라서, 서셉터(830)의 상승에 따라 와이어(852)에 가해지는 장력을 조절할 수 있게 되어, 도시한 것과 같이 와이어(852)는 단순히 연직 방향-수평 방향 외에도, 서셉터(830)의 외측에서는 그 중심을 향하여 상향 경사진 방향으로 확장된 형태를 취하고 있다. 물론, 도면에서는 상기 와이어 구동수단(859)이 서셉터(830)의 상승과 무관하게 독립적으로 작동되는 상태를 도시하였으나, 도 20a 및 도 20b에서 기술한 것과 같이, 상기 와이어 구동수단(859)과 서셉터(830)의 승하강을 연계시키는 구성도 가능하다.
이와 같이 서셉터(830)가 최고 높이로 상승된 상태에서 가스유입관 및 가스분산부를 통하여 분산된 소스가스는 플라즈마 상태로 여기되어 기판(S)의 상면으로 원하는 두께가 될 때까지 증착된다. 증착공정이 완료된 후에는 상기에서 기술한 것과 반대의 순서를 통하여 박막이 증착된 기판(S)이 공정챔버의 외부로 반송된다. 즉, 증착공정이 완료되면 서셉터(830)는 원래의 위치로 하강하고, 서셉터(830)의 하강에 따라 와이어(852)의 일단이 연결되며, 공정챔버의 저면에 설치되는 와이어 구동수단(859) 역시 하향 확장되어 와이어(852)에 가해지는 장력을 조절하게 된다. 이에 따라 와이어 홈(832)에 내입되어 있던 와이어(852)가 서셉터(830)의 상부로 돌출된 상태에서 기판(S)의 저면을 지지한다. 이어서 공정챔버 측벽의 슬롯밸브의 하단(848b)을 통하여 공정챔버 내부로 인입된 로봇 암(860)이 기판(S)의 저면 및 와이어(852) 상단 사이로 전진하여 로봇 암(860)이 다시 기판(S)을 지지하게 된다. 이어서 로봇 암(860) 및 박막이 증착된 기판(S)은 슬롯밸브(846)의 상단(848a)을 경유하여 공정챔버의 외부로 반송되는 것이다.
이와 같이 제 1 실시예에서 포함시킨 바 있는 지지프레임을 구비하지 않고 단순히 와이어의 확장 방향을 바꾸는 수단을 통해서도 간단히 공정챔버 내부로 인입되거나 공정챔버 외부로 반송되는 기판을 용이하게 지지할 수 있다.
한편, 도 18 및 도 19는 각각 본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따른 기판 지지 부재를 포함하는 공정챔버의 주요부분을 도시한 단면도 및 평면도이다. 도시한 것과 같이, 본 실시예에 따라 기판의 저면을 지지하기 위한 수단으로는 서셉터(830)의 장변(830a) 방향, 즉, 기판(S)이 공정챔버의 내부로 인입되는 방향을 따라 서셉터(830)의 상면 중앙을 가로지르는 와이어(852)를 포함하는 기판 지지부재(850)와, 상기 서셉터(830)의 장변(830a) 및 단변(830b)을 포함하는 주변 영역을 따라 소정 간격으로 배치되어 있는 다수의 리프트핀(900)을 포함하고 있다. 상기 기판 지지부재(850)의 구성은 단지 서셉터(830)의 중앙 영역을 가로질러 구성되는 와이어(852)를 제외하면 상기 도 19a 내지 도 19b에서 설명한 것과 동일하므로 자세한 설명은 생략한다.
즉, 본 실시예에 따른 기판 지지부재(850)를 이루는 와이어(852)는 공정챔버 내부로 인입된 기판(S)의 중앙부를 횡단하는 부분은 와이어(852)에 의하여 지지되며, 기판(S)의 주변부(periphery)는 상기 서셉터(830)의 주변부를 관통하여 배치되어 있는 다수의 리프트핀(900)에 의하여 지지되도록 구성된다. 본 실시예에 따른 상기 다수의 리프트핀(900)은 세라믹 또는 내열성 등이 우수한 스테인레스-스틸 금속 재질로 제조된다. 본 실시예에 따라 상기 와이어(852)를 포함하는 기판 지지 부재(850) 및 다수의 리프트핀(900)에 따른 기판지지 방법을 살펴보면 다음과 같다.
우선 도 20a에 도시된 것과 같이, 로봇암(660)에 의하여 저면이 지지된 기판(S)은 공정챔버로 이송되어, 그 측벽에 설치된 슬롯밸브(846)의 상단(848a)을 통하여 공정챔버의 내부로 인입된다. 공정챔버의 내부로 인입된 로봇 암(860)이 더욱 전진함에 따라, 기판(S)은 본 실시예에 따른 기판 지지부재(850)를 이루는 와이어(852) 및 서셉터(830)의 주변부를 관통하여 서셉터(830)의 상면으로 돌출되어 있는 다수의 리프트핀(900)의 상부에 위치한다(도 20b).
이어서, 로봇암(860)이 서셉터(830)의 중앙 상면을 횡단하는 와이어(830) 및 서셉터(830)의 주변부 상면에 돌출되어 있는 다수의 리프트핀(900) 사이의 공간으로 하강하면, 로봇 암(860)이 지지하고 있던 기판(S)은 로봇 암(860)에 비하여 그 상부에서 서셉터(830)의 장축을 따라 서셉터(830)의 상면을 횡단하여 형성된 와이어(852)에 의하여 그 중앙 영역이 지지되고, 기판(S)의 주변부는 다수의 리프트핀(900)에 의하여 지지된다(도 20c). 즉, 상기 와이어(852)의 상면과 상기 다수의 리프트핀(900)의 상면은 실질적으로 동일한 높이를 점함으로써 상기 기판(S)을 안정되게 지지한다.
이어서, 도 20d에서와 같이, 로봇 암(860)이 슬롯밸브(846)의 하단(848b)을 통하여 공정챔버의 외부로 반송되면, 기판(S)의 저면은 상기 와이어(852) 및 다수의 리프트핀(900)에 의하여 각각 접촉하여 지지된다.
계속해서, 서셉터(830)가 증착 공정을 위하여 상승하면, 서셉터(830)의 상면과 소정 간격 이격되었던 와이어(852)는 서셉터(830)의 상면에 접하고 이어서, 서셉터의 장변(830a, 도 18 참조)을 따라 서셉터(830)의 중앙 상면을 횡단하여 설치되는 와이어 홈(832)으로 내입된다. 한편, 서셉터(830)의 주변부 상면으로 돌출되어 있는 다수의 리프트핀(900) 역시 서셉터(830)의 상승에 따라, 서셉터(830)에 형성되어 있는 리프트핀 홀(미도시)로 내입되고, 이에 따라 기판(S)의 저면은 서셉터(830)의 상면으로 안착되는 것이다 (도 20e).
계속해서, 도 20f에 도시된 것과 같이 기판(S) 상면에 소스가스를 증착시킬 수 있도록 서셉터(830)가 더욱 상승하게 되면, 서셉터 상단의 와이어 홈(832)에 내입되어 있는 와이어(852) 역시 상승한다. 이에 따라 와이어(852)의 일단이 연결되어 있는 와이어 장력 구동수단(859)은 위쪽으로 수축/상승된다. 한편, 서셉터(830)의 주변부에 형성된 리프트핀 홀에 완전히 내입된 다수의 리프트핀(900)은 서셉터(830)와 함께 상승되고, 증착이 수행된다.
증착이 완료되면, 상술한 과정의 역순에 따라 서셉터(830)가 하강하고, 증착이 완료된 기판(S)을 로봇암을 통하여 공정챔버의 외부로 언로딩된다.
한편, 상기 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 증착장치는 기판을 지지하는 와이어 및 서셉터를 포함하고, 서셉터 상단에는 와이어를 내입하는 와이어 홈이 형성되는데, 이러한 와이어 홈은 와이어와 동일한 개수로 형성된다. 그런데, 와이어는 기판을 안정적으로 지지하는데 필요한 적절한 개수로 이루어지게 되고 와이어 홈 역시 이와 동일한 개수로 형성되므로, 서셉터 상면의 일부 영역에만 와이어 홈이 형성된다. 이때, 서셉터 상면의 일부 영역에 형성된 와이어 홈에 의하여 기판에 형성되는 박막의 두께의 균일도(uniformity)에 문제가 발생할 수도 있는데, 이를 도 21a 및 21b를 참조하여 설명한다.
도 21a는 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시장치용 증착장치 내부에 배치된 서셉터 및 기판의 단면도이고, 도 21b는 도 21a의 기판 상부에 형성된 박막의 위치별 두께를 개략적으로 도시한 그래프이다.
도 21a에 도시한 바와 같이, 기판(S)은 그 상면에 와이어 홈(832)을 갖는 서셉터(830) 상부에 안착되어 있으므로, 와이어 홈(832)이 형성되어 있는 부분에서 기판(S)은 서셉터(830)와 접촉하지 않고 일정간격 이격되어 있다. 상기 서셉터(830) 내부에는 히터(미도시)가 내장되어 기판(S)을 가열하는 역할을 하는데, 와이어 홈(832)이 형성된 부분에서는 기판(S)과 서셉터(830)가 이격되어 있으므로 히터의 열전달이 그외의 부분과 상이할 수 있다.
또한, 상기 서셉터(830)는 상부의 가스분산부(미도시)와 쌍을 이루어 플라즈마를 형성하는 전극 역할을 하는데, 일반적으로 등전위선은 전극의 표면으로부터 동일한 거리에 위치하므로 상면에 와이어 홈(832)이 형성된 서셉터(830)는 그 상면의 형태와 유사한 요철을 갖는 등전위선을 만들게 된다. 이는 플라즈마를 형성하는 전기장이 균일하지 않음을 의미하고 그에 따라 형성된 플라즈마 역시 상기 와이어 홈(832)이 형성되어 있는 부분 근처에서는 그외의 부분과 다른 밀도를 갖는다.
이러한 기판의(S) 온도 및 플라즈마 밀도의 차이는 기판(S) 상에 형성되는 박막(F1)의 두께 차이로 나타나는데, 도 21b에 도시한 바와 같이 와이어 홈(도 21a의 832)에 대응되는 부분의 박막의 두께는 그외의 부분과 △t1의 차이를 가지며 더 얇게 형성될 수 있다. 이 경우, 전체 박막의 두께의 평균을 tavg1 이라 할 때, 박막(F1)의 균일도는 U(%)=(△t1/2tavg1)×100으로 나타낼 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에서는 이러한 박막의 두께 균일도를 향상시킬 수 있는 서셉터를 제안한다.
도 22 및 도 23은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 증착장치의 서셉터를 보여주는 평면도이다.
도 22 및 23에 도시한 바와 같이, 서셉터(930)의 상면에는 다수의 와이어 홈(932, 932a, 932b)이 형성되어 있고, 일부의 와이어 홈에는 와이어(미도시)가 내입된다. 이때, 와이어 홈(932, 932a, 932b)은 와이어의 개수와는 독립적으로 서셉터(930) 상면 전체에 균일하게 형성된다. 즉, 와이어 홈(932, 932a, 932b)은 와이어보다 더 많은 개수로 형성될 수 있으며 상기 와이어 홈(932, 932a, 932b)은 실질적으로 동일한 간격으로 서로 이격될 수 있다.
도 22에서는 와이어 홈(932) 및 와이어(미도시)가 일방향으로 형성되어 있으며, 도 23에서는 와이어 홈(932a, 932b) 및 와이어(미도시)가 서로 수직한 이방향으로 형성되어 있다.
와이어 홈이 서셉터 상면 전체에 균일하게 형성되어 있을 경우 가판에 형성되는 박막의 두께 균일도를 도면을 참조하여 설명한다.
도 24a는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 증착장치 내부에 배치된 서셉터 및 기판의 단면도이고, 도 24b는 도 24a의 기판 상부에 형성된 박막의 위치별 두께를 개략적으로 도시한 그래프이다.
도 24a에 도시한 바와 같이, 서셉터(930) 상면에는 다수의 와이어 홈(932)이 형성되어 있고 그 중 일부의 와이어 홈(932)에만 와이어(952)가 내입되어 있어서 와이어(952)가 내입되어 있지 않은 와이어 홈(932)도 있을 수 있다. 기판(S)은 서셉터(930) 상부에 배치되는데, 이때, 다수의 와이어 홈(932)이 형성된 부분에서는 기판(S)이 서셉터(930)와 접촉하지 않고 일정 간격 이격되어 있고 그 외의 부분에서는 기판(S)이 서셉터(930)와 접촉한다.
기판(S)이 상기 서셉터(930) 상부에 배치된 상태로 박막 증착 공정이 진행되는데, 이때에는 다수의 와이어 홈(932)이 서셉터(930) 상면 전체에 균일하게 형성되어 있어서 박막(F2)의 두께 균일도가 향상된다.
이를 상세히 설명하면, 도 24b에 도시한 바와 같이, 박막(F2)에는 하나의 와이어 홈(932)에 대응하여 와이어 홈(932)의 폭보다 넓은 하나의 오목부가 형성되는데, 상기 다수의 와이어 홈(932)은 박막(F2)의 인접한 오목부가 서로 중첩될 정도로 서로 이격되어 있어서 박막(F2)의 최고 두께와 최소 두께의 차 △t2가 앞서 설명한 도 21b의 박막(F1)의 두께차 △t1보다 감소한다. 따라서, 박막(F2)의 두께 균일도 U(%)=(△t2/2tavg2)×100 는 개선된다.
따라서, 상기 와이어 홈(932)이 박막의 오목부가 적절히 중첩될 수 있도록 서로 이격되어 형성되면 두께 균일도 향상의 효과는 얻을 수 있으며, 일례로 이러한 와이어 홈(932)의 이격거리는 1mm ~ 2mm 일 수 있다.
한편, 와이어(952)가 내입되는 와이어 홈(932)은 상기 와이어(952)에 대응되는 위치에 형성되도록 제작되지만, 서셉터(930)의 열팽창 또는 열수축에 의하여 그 위치가 다소 이동할 수도 있으며 이럴 경우 와이어(952)의 내입에 문제가 발생할 수도 있다.
이러한 와이어(952)의 내입 문제는 와이어 홈(932)의 단면 형상을 변경하여 해결할 수도 있는데, 이를 도면을 참조하여 설명한다.
도 25a 및 도 25b는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 증착장비의 서셉터를 나타내는 단면도이다.
도 25a 및 도 25b에 도시한 바와 같이, 서셉터(930)의 상면에는 다수의 와이어 홈(932)이 형성되는데, 상기 와이어 홈(932)은 그 단면이 직사각형 형상이 아니라 사다리꼴 또는 삼각형 형상이다. 즉, 와이어 홈(932)의 측면부는 서셉터(930)의 저면에 수직이 아닌 각으로 기울어진 경사면을 이룸으로써, 상기 와이어(952)가 상기 와이어 홈(932)의 정 중앙 상부에 배치된 경우가 아닐 때에도 탄성을 갖고 있는 와이어(932)가 와이어 홈(932)에 미끄러져서 내입된다. 따라서, 서셉터(930)의 열팽창 또는 열수축에 의한 와이어(952) 및 와이어 홈(932)의 위치 불일치 및 그에 따른 와이어(952)의 내입 불량을 개선할수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 기술하였으나, 이는 어디까지나 실시예에 불과하고 다양한 변형과 변경이 가능하다. 또한 그와 같은 변형과 변경은 본 발명의 정신을 훼손하지 않는 범위 내에서 본 발명의 권리범위에 속한다는 사실은 첨부하는 청구의 범위를 통하여 보다 분명해질 것이다.
상술한 것과 같이, 본 발명은 기판의 사이즈가 점차 대형화됨에 따라 그에 비례하여 보다 많은 수를 필요로 하는 리프트핀을 사용하지 않거나 또는 특히기판의 중앙 저면을 지지하는 리프트핀을 사용하지 않으면서도 공정챔버 내부로 인입된 기판을 안정적으로 지지할 수 있다.
따라서, 다수의 리프트핀의 사용에 의하여 야기될 수 있는 종래의 문제점을 해결할 수 있다. 즉, 리프트핀의 파손에 따른 기판의 훼손문제 및 다수의 리프트핀 홀로 야기되는 기판으로의 불균일한 열 전달 문제를 해소할 수 있게 되었으며, 기판 전체에 걸쳐 보다 균일한 박막 증착이 가능하게 되었다.
도 1은 종래 액정표시장치용 증착 장치를 개략적으로 도시한 단면도;
도 2a 내지 도 2c는 각각 종래 증착 장치에서 리프트핀을 이용하여 기판을 서셉터의 상면으로 안착하기까지의 과정을 도시한 단면도;
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치용 증착 장치를 개략적으로 도시한 단면도;
도 4a 및 도 4b는 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지부재 및 다른 구성 요소 사이의 위치 관계를 도시한 평면도 및 사시도;
도 5는 도 4a의 Ⅴ-Ⅴ' 선을 따라 절단한 면을 도시한 단면도;
도 6a 내지 도 6f는 각각 본 발명의 일 실시예에 따라 기판이 공정챔버 내부로 인입되어 실질적인 증착 공정이 수행되기까지의 과정을 도시한 사시도;
도 7a 내지 도 7f는 각각 본 발명의 일 실시예에 따라 기판이 공정챔버 내부로 인입되어 실질적인 증착 공정이 수행되기까지의 공정챔버 구성 요소 사이의 위치관계를 도시한 단면도;
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 지지 부재를 도시한 사시도;
도 9a 내지 도 9b는 각각 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 지지 부재를 통하여 기판의 인입 및 로봇암의 반송 상태를 도시한 사시도;
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 증착 장치를 개략적으로 도시한 단면도;
도 11은 도 10에 도시된 기판 지지 부재 및 서셉터 사이의 위치 관계를 개략적으로 도시한 사시도;
도 12a 내지 도 12d는 각각 도 10에 도시되어 있는 액정 표시장치용 증착 장치에서의 기판의 공정챔버 내부로 인입되어 증착 공정이 수행되기까지 공정을 도시한 단면도;
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 증착 장치를 개략적으로 도시한 단면도;
도 14a 및 도 14b는 각각 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 지지부재를 중심으로 다른 구성 요소 사이의 위치 관계를 도시한 단면도 및 사시도;
도 15a 및 도 15b는 각각 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 지지부재를 중심으로 다른 구성 요소 사이의 위치 관계를 도시한 단면도 및 사시도;
도 16a 및 도 16b는 각각 본 발명이 또 다른 실시예에 따른 기판 지지부재를 중심으로 다른 구성 요소 사이의 위치관계를 도시한 사시도 및 평면도;
도 17a 내지 도 17f는 각각 본 발명의 다른 실시예에 따라 기판이 공정챔버 내부로 인입되어 실질적인 증착 공정이 수행되기까지의 과정을 도시한 도면;
도 18은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 지지 부재를 포함하는 공정챔버의 주요 부분을 도시한 단면도;
도 19는 본 발명의 또 다른 실시예에 따라 기판을 지지하는 구성 요소 사이의 위치관계를 보여주기 위한 평면도;
도 20a 내지 도 20f는 각각 본 발명의 또 다른 실시예에 따라 기판이 공정챔버로 인입되어 실질적인 증착 공정이 수행되기까지의 과정을 도시한 도면;
도 21a는 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시장치용 증착장치 내부에 배치된 서셉터 및 기판의 단면도;
도 21b는 도 21a의 기판 상부에 형성된 박막의 위치별 두께를 개략적으로 도시한 그래프;
도 22 및 도 23은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 증착장치의 서셉터를 보여주는 평면도;
도 24a는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 증착장치 내부에 배치된 서셉터 및 기판의 단면도;
도 24b는 도 24a의 기판 상부에 형성된 박막의 위치별 두께를 개략적으로 도시한 그래프;
도 25a 및 도 25b는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 증착장비의 서셉터를 나타내는 단면도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
300, 800: 공정챔버 330, 830: 서셉터
332, 832: 와이어 홈 334, 834: 서셉터 지지대
344, 844: 승하강 어셈블리 346, 846: 슬롯밸브
350, 850: 기판 지지부재 352, 852: 와이어
354, 356, 357: 지지 프레임 358: 개구(開口)
359, 856, 857: 고정단 362: 에지 프레임
854: 와이어 방향변동수단 859: 와이어 장력 구동수단
400, 900: 리프트핀

Claims (40)

  1. 공정챔버의 내부에 인입된 기판이 안착되는 서셉터의 상부에 위치하여 상기 인입된 기판의 저면과 접촉하는 와이어를 포함하는 기판 지지 부재.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 기판 지지 부재는 인입된 기판을 지지하는 와이어와, 상기 와이어의 양끝단과 연결되는 지지프레임을 포함하는 기판 지지부재.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 지지프레임의 외주면에 연결되어 상기 지지프레임을 상기 공정챔버의 내벽에 고정시키는 고정단을 더욱 포함하는 기판 지지 부재.
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 지지프레임의 어느 일 측면 중앙은 개구되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 지지 부재.
  5. 제 2항에 있어서,
    상기 지지프레임의 일 측면의 중앙과 가장자리 사이는 하향 연장되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 지지 부재.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 와이어는 상기 공정챔버의 내벽 또는 상기 공정챔버의 하면 중 적어도 어느 하나에 고정되는 것을 특징으로 하는 기판 지지부재.
  7. 제 1항 또는 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 와이어는 상기 공정챔버의 내벽에 고정되는 것을 특징으로 하는 기판 지지 부재.
  8. 제 6항에 있어서,
    상기 공정챔버의 하면에 적어도 한 끝단이 고정되어 있는 와이어와,
    상기 와이어의 확장 방향을 바꾸는 와이어 방향 변경수단을 포함하는 기판 지지 부재.
  9. 제 6항 또는 제 8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 와이어의 적어도 하나의 일 단에 상기 와이어의 장력을 조절하는 구동수단이 구비되어 있는 기판 지지 부재.
  10. 제 1항에 있어서,
    상기 와이어는 기판이 인입되는 방향을 따라 다수 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 지지 부재.
  11. 제 1항에 있어서,
    상기 와이어는 기판이 인입되는 방향을 따라 다수 형성되는 제 1 와이어와, 상기 제 1 와이어에 직교하는 제 2 와이어를 포함하는 기판 지지 부재.
  12. 제 1항에 있어서,
    상기 와이어는 고장력의 금속으로서, 할로겐 활성종에 대하여 내식성이 있는 금속인 것을 특징으로 하는 기판 지지 부재.
  13. 실질적인 증착 공정이 수행되며, 가스유입관, 가스 배기관 및 기판이 인입되는 슬롯밸브를 갖는 공정챔버와;
    상기 공정챔버의 내부에 인입된 기판이 안착되는 서셉터와;
    상기 서셉터의 상부에 위치하며, 상기 인입된 기판의 저면과 접촉하는 와이어를 포함하는 기판 지지 부재를 포함하는 증착 장치.
  14. 제 13항에 있어서,
    상기 기판 지지 부재는 내부의 와이어와, 상기 와이어의 양 끝단과 연결되는 지지 프레임을 포함하는 증착 장치.
  15. 제 14항에 있어서, 상기 지지프레임의 외주면에 연결되어 상기 지지프레임을 상기 공정챔버의 내벽에 고정시키는 고정단을 더욱 포함하는 증착 장치.
  16. 제 14항에 있어서,
    상기 지지 프레임의 어느 일 측면 중앙은 개구되어 있는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  17. 제 14항에 있어서,
    상기 지지프레임의 일 측면 중앙과 가장자리 사이는 하향 연장되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 지지 부재.
  18. 제 13항에 있어서,
    상기 와이어는 상기 공정챔버의 내벽 또는 상기 공정챔버의 하면 중 적어도 어느 하나에 고정되는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  19. 제 13항 또는 제 18항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 와이어는 상기 공정챔버의 내벽에 고정되는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  20. 제 18항에 있어서,
    상기 공정챔버의 하면에 적어도 한 끝단이 고정되어 있는 와이어와,
    상기 와이어의 확장 방향을 바꾸는 와이어 방향 변경수단을 포함하는 증착 장치.
  21. 제 18항 또는 제 20항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 와이어의 적어도 하나의 일 단에 상기 와이어의 장력을 조절하는 구동수단이 구비되어 있는 증착 장치.
  22. 제 13항, 제 14항 또는 제 18항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 서셉터의 가장자리를 따라 관통하는 다수의 리프트핀을 더욱 포함하는 증착 장치.
  23. 제 13항에 있어서,
    상기 와이어는 기판이 인입되는 방향을 따라 다수 형성되는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  24. 제 23항에 있어서,
    상기 서셉터의 상면으로 상기 와이어가 내입될 수 있는 다수의 와이어 홈이 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  25. 제 24항에 있어서,
    상기 다수의 와이어 홈의 개수는 상기 와이어의 개수보다 많고, 상기 다수의 와이어 홈은 서로 동일한 거리로 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  26. 제 25항에 있어서,
    상기 다수의 와이어 홈의 이격 거리는 1mm ~ 2mm 인 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  27. 제 24항에 있어서,
    상기 다수의 와이어 홈의 단면 형상은 직사각형, 사다리꼴, 삼각형 중의 하나인 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  28. 제 13항에 있어서,
    상기 와이어는 기판이 인입되는 방향을 따라 다수 형성되는 제 1 와이어와, 상기 제 1 와이어에 직교하는 제 2 와이어를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  29. 제 28항에 있어서,
    상기 서셉터의 상면으로 상기 제 1 및 제 2 와이어가 각각 내입될 수 있는 다수의 제 1 및 제 2 와이어 홈이 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  30. 제 29항에 있어서,
    상기 다수의 제 1 와이어 홈의 개수는 상기 제 1 와이어의 개수보다 많고, 상기 다수의 제 2 와이어 홈의 개수는 상기 제 2 와이어의 개수보다 많고, 상기 다수의 제 1 와이어 홈은 서로 동일한 제 1 거리로 이격되어 있고, 상기 다수의 제 2 와이어 홈은 서로 동일한 제 2 거리로 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  31. 제 30항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 거리는 각각 1mm ~ 2mm 인 것을 특징으로 하는 착 장치.
  32. 제 29항에 있어서,
    상기 다수의 제 1 및 제 2 와이어 홈의 단면 형상은 직사각형, 사다리꼴, 삼각형 중의 하나인 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  33. (a) 공정챔버의 측벽에 설치된 슬롯밸브를 통하여 로봇 암에 안착된 기판을 상기 공정챔버의 내부로 인입시키는 단계;
    (b) 상기 로봇 암이 상기 슬롯밸브를 통하여 공정챔버의 외부로 반송됨과 동시에 상기 기판의 저면이 상기 공정챔버 내부를 횡단하는 와이어를 포함하는 기판 지지 부재에 안착되는 단계;
    (c) 상기 공정챔버의 하부에 설치된 서셉터가 상승하여 상기 기판의 저면이 상기 서셉터의 상면으로 안착되는 단계를 포함하는 기판의 이송 방법.
  34. 제 33항에 있어서,
    상기 (c) 단계에서, 상기 기판 지지 부재의 상기 와이어는 상기 서셉터의 상면에 형성된 와이어 홈으로 내입되는 것을 특징으로 하는 기판의 이송 방법.
  35. 제 34항에 있어서,
    상기 와이어 홈의 개수는 상기 와이어의 개수보다 많고, 상기 와이어는 상기 와이어 홈의 일부에 내입되는 것을 특징으로 하는 기판의 이송 방법.
  36. 제 33항에 있어서,
    상기 (b) 단계에서, 상기 기판의 저면 중앙은 상기 기판 부재에 의하여 안착되고, 상기 기판의 가장자리는 상기 서셉터를 관통하는 다수의 리프트핀에 의하여 지지되는 것을 특징으로 하는 기판의 이송 방법.
  37. 제 33항에 있어서,
    상기 (c) 단계 이후에, (d) 상기 서셉터가 더욱 상승하여 상기 공정챔버의 측벽에 고정된 에지프레임이 상기 기판의 가장자리 상면을 덮는 단계를 더욱 포함하는 기판의 이송 방법.
  38. 제 37항에 있어서,
    상기 지지 부재는 상기 와이어의 양끝단이 연결되는 지지프레임을 더욱 포함하고, 상기 (d) 단계에서 상기 지지프레임은 상기 서셉터와 함께 상승하는 것을 특징으로 하는 기판의 이송 방법.
  39. 제 37항에 있어서,
    상기 와이어는 상기 공정챔버의 내벽 또는 하면 중 적어도 어느 하나에 고정되고, 상기 와이어의 고정된 일끝단에는 상기 와이어의 장력을 조절하는 구동수단이 구비되고, 상기 (d) 단계에서 상기 구동수단에 의하여 상기 와이어의 장력은 감소되도록 제어되는 것을 특징으로 하는 기판의 이송 방법.
  40. 제 37항에 있어서,
    상기 (d) 단계 이후에,
    (e) 증착 공정이 완료된 후 서셉터가 원 위치로 하강함에 따라 상기 기판 지지부재가 기판의 저면을 지지하는 단계;
    (f) 슬롯밸브를 통하여 상기 공정챔버 내부로 인입된 로봇 암이 상기 기판의 저면을 지지하는 단계;
    (g) 상기 로봇 암 및 상기 기판이 상기 슬롯밸브를 통하여 상기 공정챔버의 외부로 반송되는 단계를 더욱 포함하는 기판의 이송 방법.
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