KR20050044900A - 고분자 히알루론산 조성물 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 고분자 히알루론산 조성물 제조방법에 관한 것이며,

미리 설정된 농도 이하의 고분자 히알루론산이 포함된 수성 조성물을 제공하는 단계와;

공경이 0.45마이크로미터 이하의 크기를 가지는 필터를 통하여 상기 수성 조성물을 여과시키는 단계와;

미리 설정된 농도에 도달할 때까지 진공 및 증류과정을 통하여 상기 수성 조성물을 농축하는 단계;로 구성하여 멸균된 제재로 사용가능한 것을 특징으로 하고 있다.

Description

고분자 히알루론산 조성물 제조방법{process for preparing a sterile high molecular weight hyaluronic acid formulation}

본 발명은 최종적으로 제약용 제재로 사용할 수 있도록 멸균처리된 고분자 히알루론산 조성물을 제조하는 방법에 관한 것이다.

히알루론산은 그 염기 형태에 따라, 예를 들면 히알루론산 나트륨이나 히알루론산 칼륨, 히알루론산 마그네슘, 히알루론산 칼슘등 여러 가지 형태를 포함할 수 있다.

일반적으로 히알루론산은 생물학적 기관에 있어서 점액상의 다당류에 속하며, 자연에 널리 분포되어 있다. 예를들면, 히알루론산은 동물기관에서 탯줄이나, 관절의 체액 또는 투명한 생리체액에 존재할 뿐만 아니라, 피부조직이나 연골조직과 같은 연결조직에 존재하는 것으로 알려져 있다.

특히, 히알루론산은 화학적으로 그리코사미노글리간의 일종이며, D-글루쿠론산과 N-아세틸-글루코사민의 구조가 연속적으로 바뀌면서 13x10⁶달톤 이상의 분자량의 선형 사슬구조를 형성하도록 조성할 수 있다.

본 발며의 설명에 있어서, 종래 고분자 히알루론산은 평균적으로 0.5x10⁶달톤 이하의 분자량을 구비하고 있다.

최종적으로 제재용으로 사용하기 위한 히알루론산이나 그에 관한 염기는 학술적으로 폭넓게 게시되어 있다. 히알루론산은 그 자체로 비면역체이며, 점성과 친수성을 가지기 때문에 지난 수년동안 안과용 눈물이나 관절의 유동체액 또는 안과수술시 보조매체로 사용되어 왔으며, 이와 같은 기술은 블라즈의 미국특허등록 제4,141,979호에 게시되어 있다.

관절유동부분에 있어서, 점성의 히알루론산 수용액은 관절의 세포를 보호하도록 윤활제로 작용하며, 이에 따라 관절통증의 처방이나 치료에 많이 사용되고 있다.

유럽특허 제781547호는 안과수술시 사용하기 위한 안과용 조성물의 히알루론산 나트륨을 게시하고 있다.

유럽특허제719559호는 엑시머레이져를 수단으로 각막절제 치료를 할 때 마스킹용액(masking fluid)으로 사용하기 위한 점성의 히알루론산 나트륨 수용액을 게시하고 있다.

유럽특허 제875248호는 히알루론산과 이를 관절세척용액으로 사용하기 위하여 제재용으로 승인가능한 히알루론산염의 수성 조성물에 대하여 게시하고 있다.

유럽특허 제698388호는 소정의 점성의 두께로써 히알루론산을 포함하는 인조눈물로 사용하기 위한 안과용 조성물을 게시하고 있다.

히알루론산이나 히알루론산염을 제약 및 제재용으로 사용하기 위해서는 순도가 높고 멸균처리된 제품이어야 한다.

히알루론산은 동물의 탯줄이나 닭의 볏(rooster comb)으로부터 추출 및 정제하여 조성하거나 연쇄구균의 A와 C 그룹으로부터 추출한 미생물 자원으로부터 추출 및 정제하여 조성할 수 있으며, 이와 같은 기술은 브라즈의 미국특허등록 제4,141,973호나 로메오등의 미국특허등록 제5,559,104호등에 공개되어 있다.

히알루론산에 관한 추출공정이나 정제공정은 히알루론산 나트륨과 같은 건조분말 형태로 처리된 히알루론산염을 제공한다. 제재용으로 정제된 건조분말은 제재의 용도에 적합한 수용액으로 처리되어 사용되는데, 예를 들면 관절용 주사제나 눈물제재 또는 투명한 대체 체액과 같이 여러 가지 약제로 조성하여 사용된다.

제재용으로 조성하기 위한 일반적인 공정은 물의 용적과 히알루론산 나트륨의 무게 및 질량을 정확히 조절하여 혼합하는 공정, 예를 들면 염화나트륨과 인산염 및 다른 첨가물등을 혼합하는 공정, 예를 들면 염화나트륨과 인산염 및 다른 첨가물등을 혼합하는 공정을 포함한다.

또한 제재용으로 조성하기 위해서는 조성물의 농축과 합성공정이 아주 좁은 범위 이내로 정의되어야 하며, 여러 가지 구성요소들도 주의 깊게 측정되어야 한다.

이후, 조성물은 각각의 용도에 적합하게 투약용량이 정의된 주사기나 약병의 용기에 충전되며, 이어서 의료용 고압솥에서 통상적으로 약 섭씨 121도에서 15분 정도 멸균처리된다.

히알루론산을 멸균처리하기 위하여 열을 사용하는 것은 히알루론산의 분자구조를 깨뜨리는 효과가 있으며, 그에 따라 히알루론산의 평균 분자량을 감소시키는 문제점이 있는 것으로 알려져 있다.

고분자 히알루론산은 중요한 약리적 특징이 있다. 이에 대하여 여러 가지 기술이 공개되어 있는데, 미국특허등록 제4,141,973호에 따르면 조성물에 있어서 저분자 히알루론산은 염증유발효과가 있으며, 고분자 히알루론산에 비하여 유동학적(reologocal) 특성이 감소되어 바람직하지 않은 것으로 알려져 있다.

상술한 멸균처리방법에 있어서, 히알루론산 제품의 저품질화 문제점을 극복하기 위하여 조성물의 처리과정 초기에 히알루론산이나 히알루론산염의 평균 부자량을 최종 조성물로써 요구되는 최소의 평균분자량보다 높게 하는 기술이 있다.

그러나, 요구되는 평균 분자량이 증가하는 만큼 히알루론산의 자원의 투입에 따른 수율을 감소시킴에 따라 경제적 효율성을 저하시키는 문제점이 있다.

히알루론산의 멸균처리를 위한 다른 방법은 여과에 의한 방법이 있다.

이 기술은 일반적으로 농축된 형태 또는 건조분말 형태의 히알루론산염을 정게하기 위한 공정에 적용하며, 그에 따라 저농도 수용액이 필터를 통과하면서 건조되는 방식이다.

이와같은 멸균처리방법은 유럽특허 제867453호와 PCT출원 WO00/44925호에 게시되어 있다. 또한, 상기 특허에는 멸균처리를 위하여 필터가 0.22마이크로미터 정도의 작은 공격(pore size)을 가지는 것으로 게시되어 있다.

일반적으로 0.22마이크로미터 정도의 작은 공경을 가지는 필터는 가장 작은 박테리아 미생물로 알려진 슈도모나스 디미뉴타(Pseudomonas Diminuta)종으로써, 1x10^-6 이하의 크기를 가진 박테리아의 도전을 받을 수 있으며, 0.45마이크로미터 정도의 공경을 가지는 필터 역시 1x10^-4 이하의 박테리아의 도전을 받는다.

상기 이유로 인하여, 일반적으로 0.45마이크로미터 이하의 공경의 필터가 멸균처리를 위하여 고려되고 있는 실정이다.

히알루론산이 높은 점성으로 농축된, 통상적으로 1% 내지 2% 중량용적비(wt/v) 범위의 점성을 가지는 히알루론산 조성물은 0.22마이크로미터의 필터를 모두 통과할 수 없기 때문에 종래의 필터에 의한 멸균처리방법은 상기와 같이 높은 점성의 제재용 조성물을 제조하기 위한 기술로 사용할 수 없다.

이는 히알루론산의 농도의 변화나 손실을 초래하기 때문에 높은 점성의 제재용 조성물을 제조하기 위한 여과멸균방식이 논점이 되고 있다.

미국특허등록 제5,093,487호는 수성의 제약 조성물을 제조하는데 있어서, 고분자 히알루론산나트륨이 0.22마이크로미터의 필터를 통하여 멸균되는 것을 게시하고 있다.

그러나, 상기와 같은 멸균방식은 히알루론산의 점성을 감소시키지 않도록 0.22마이크로미터의 필터를 통과하는 히알루론산 수용액의 통과수율에 의존하는 기술이다.

상기 특허는 제재용 수성 조성물의 멸균과정에서 히알루론산의 농도가 1% 또는 그 이상인 것을 공개하고 있으며, 이 기술에 따르면 필터를 반복적으로 통과시킴에 따라 히알루론산의점성이 저하될 가능성이 있다.

또한, 상기 특허는 히알루론산의 분자량을 감소시키지 않고 점성이 저하된다는 논점이 제기되고 있다. 이와 같은 특성에 대하여 적법한 확인없이 점성이 저하될 수 있는 히알루론산을 관절치료제등 제약용으로 다양하게 적용하는 것은 바람직하지 않다.

도 1은 본 발명의 한 실시예를 나타낸 흐름도이며, 도 2와 도 3은 온도가 섭씨 20도, 중성의 pH, 0.22마이크로미터의 공경을 가지는 필터를 통과하는 분자량이 각각 1.1.백만 달톤 및 2.2백만 달톤인 히알루론산 나트륨의 백분율과 농도(물 1데시리터당 히알루론산 나트륨의 그램수=%wt/v)에 대한 관계를 그래프로 나타낸 것이다.

도 4는 농축단계에서 조성물에 230nm의 광학밀도를 투사하여 분광측광기로 측정한 그래프이다.

본 발명은 히알루론산을 경제적으로 멸균처리하여 제조하는 방법을 제공하는데 그 목적이 있다. 이에 따라 본 발명은 농도가 향상된 조성물을 아주 작은 허용오자 범위로 제공하는 장점이 있다.

본 발명의 목적은 청구범위의 청구항 1에 게시한 바와 같이 멸균처리된 고분자 히알루론산 조성물을 제조하는 방법에 의하여 달성된다.

상술한 청구범위에서 제시하고 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 고분자 히알루론산 조성물 제조방법은 미리 설정된 최종적인 농도 이하의 고분자 히알루론산이 포함된 수성 조성물을 제공하는 단계와;

공경이 0.45마이크로미터 이하의 크기를 가지는 필터를 통하여 상기 수성조성물을 여과시키는 단계와;

미리 결정된 요구 농도에 도달할 때까지 진공 및 물 비등화 과정을 통하여 상기 수성 조성물을 농축하는 단계;로 구성되어 있다.

본 발명에 따르면 여과단계 이전에 수성 조성물의 낮은 농도는 점성을 낮추어 모든 히알루론산이 필터를 통과하여 멸균되며, 이어서, 수행되는 진공의 증류과정은 필수적으로 열에 의해 발생되는 히알루론산의 품질저하가 일어나지 않는 장점이 있다.

이와 같은 공정은 종래의 산업환경에 적용하기 매우 용이하며, 별도의 부가적인 멸균공정없이 히알루론산이 포함된 수성 제재의 조성물을 멸균된 약병이나 용기에 충전하여 각각의 용량에 따라 적절히 사용할 수 있는 것이다.

또한, 본 발명에 따라 제조된 조성물은 제약 처방으로 사용되기 전에 장기산동안 미생물학적으로 안정되게 유지되는 장점이 있다.

수용액 상태의 히알루론산의 점성은 여러 가지 요소, 즉 분자량과 농도, 온도, 염제의 품질 대비 농도 및 이온농도(pH)와 수용액의 전단율등에 의존하는 하나의 특성이다.

보다 높은 분자량과 농도는 점성을 증대시키는 반면에 보다 높은 수용액의 전단율과 나트륨염제는 점성을 저감시킨다.

온도 측면에서, 클리어 솔루션 바이오테크 인코퍼레이티드(Clear Solutions Biotech, Inc.)의 M.카도네즈등이 제출한 "가열 및 냉각시 히알루론산염 용액의 히스테리시스 반응(Hysteresis Behavior of Sodium Hyaluronate Solutions during Heating and Cooling)"의 기술보고서에 제시된 바와 같이 히알루론산은 특정한 히스테리시스 작용을 가지고 있다.

온도가 증가하거나 감소함에 따라 점성이 불규칙하게 증가 또는 감소하는 것이다.

히알루론산 수용액은 섭씨 60도와 70도 사이의 범위에서 최소의 점성을 가진다.

그러므로, 이와 같은 히스테리시스 특성은 상기 수용액의 점성을 증가 또는 감소시키는데 적용할 수 있으나, 온도와 온도유지기간의 비율에 따라 히알루론산의 분자구조나 분자량의 변형이 생기는 것을 고려하여야 한다.

여과단계 이후 농축단계에 있어서, 히알루론산의 농도는 미리 설정된 제약용 조성물로 사용될 수 있는 농도에 도달할 때 진공증류를 정지시킬 수 있도록 실시간으로 제어한다.

제어 및 계측공정은 분광측광기(spectrophoto-meter)를 통하여 조성물에 감지광선을 투사하여 히알룰론산의 농도에 따라서 방사되는 자외선을 흡수하도록 수행되는 장점이 있다.

본 발명에 따르면, 농축단계는 미리 설정된 요구 농도를 얻기 위하여 물과 히알루론산을 정확하게 혼합하지 않더라도 농축단계를 통과하는 동안에 농도를 유지할 수 있다.

대신에, 최초 물과 히알루론산을 혼합할 때 최종 조성물로 얻고자 하는 것 보다 약간 낮은 농도로 혼합하며, 그에 따라 공정이 간편해지는 장점이 있다.

농축공정이 진행되는 동안에 적용되는 진공은 절대 압력 200밀리바 이하로 유지하며 특히, 30밀리바 내지 60밀리바 범위로 유지하는 것이 바람직하다.

예를 들면, 40밀리바로 유지할 경우 비등온도는 섭씨 26도와 28도 사이에 존재하게 된다.

일반적인 공정설비는 상기와 같은 압력조건에서 신뢰성 있게 작동하여 매우 경제적이며, 상기와 같이 낮은 온도 범위는 히알루론산에 초래될 수 있는 분자량 저감작용을 방지한다.

필터의 공경은 0.22마이크로미터 또는 그 이하가 바람직하며, 그에 따라 고도로 멸균된 조성물을 제조할 수 있는 것이다. 상기 필터는 히알루론산의 농도를 1% 내지 3% 범위로 하여 높은 점성의 조성물로 사용되도록 멸균처리함에 따라 매우 경제적인 장점이 있다.

본 발명의 다른 장점과 특징은 이하 발명의 실시예의 설명과 도면에 예시된 것을 통하여 보다 명백하게 이해될 것이다.

도 1을 참조하면, 미리 설정된 요구농도에 따라 고분자 히알루론산 나트륨이 포함된 수성 제재 조성물을 제조하는 공정이 도시되어 있다. 상기 조성물을 제조하기 이전에 공정설비는 정제된 물로 깨끗이 청소되며(단계 1), 이어서 스팀으로 멸균청소하고(단계 2), 다음 증류수 투입장치(WFI)를 통하여 멸균처리되도록 세척되어 진다(단계 3)

수성의 히알루론산 조성물을 준비하는 단계 4는 히알루론산 나트륨 용액의 농도가 최종 제재용 조성물로 미리 설정된 농도 이하가 되도록 히석하여 정제할 조성물을 마련하도록 혼합반응기에 투입되는 것이다.

상기 수성의 히알루론산 용액은 건조공정 이전에 건조 히알루론산나트륨 또는 PCT 출원 WO 00/44925호에 따라 조성된 수용액 형태 중 어느 하나로 조성될 수 있다.

이어서, 농축된 나트륨 25배수를 부가하는 단계 5에서는 히알루론산이 부가되는 양에 따라 정확히 나트륨이 부가되도록 정량펌프(peristaltic pump)로 투입된다.

상기 나트륨 수용액은 최종 제재용 조성물에 적합하게 미리 특정된 통상의 염화 나트륨과 완화제 및 다른 첨가제를 포함하되, 최종 조성물의 생리학적 pH는 7.4RK 되게 하고 생리학적 삼투압은 300mOmt/lt가 되도록 부가된다.

또한, 상기 나트륨 수용액과 완화제 및 다른 첨가제는 여과단계 7 이후에 반응용기에 직접 부가될 수도 있다. 이는 나트륨이 히알루론산의 여과성을 저감시키고 그에 따라 보다 많은 정제용액의 희석이 요구되기 때문에 고분자 히알루론산을 조성하는데 바람직하다.

상기 첨가제의 양은 반은용기에 있는 전기 전도성 센서 또는 검지기(probe)에 의하여 실시간 제어된다. 상기 히알루론산의 전도성은 조성물에 포함된 첨가제의 양에 관계되어 있으며, 경험적으로 얻을 수 있다.

따라서, 히알루론산의 전도성을 측정하면서 필요한 농도에 도달할 때까지 첨가제를 반응용기에 부가하게 되며, 그에 따라 정확한 용량의 첨가제를 투입할 수 있는 것이다. 상술한 기술적 특성을 미리 사전에 수행해야 하는 용량의 계산이나 측정에 관한 별도의 과정을 미연에 제거하는 것이다.

또한, 다음에 수행되는 여과에 관한 단계 7이 진행되는 동안에도 히알루론산의 용량을 보상하기 위하여 특정하게 계산해야 하는 문제점을 제거하는 것이다.

본 발명의 실시예로써, 평균분자량이 2.2백만 달톤인 건조 히알루론산나트륨 45그램에 물 15리터를 혼합하여 조성물을 제조할 수 있다. 이 경우 전술한 바와 같이 고분자 히알루론산에 의하여 나트륨 및 완화제 수용액이 여과 이전에 필요 이상으로 희석되는 것을 피하기 위하여 여과단계 이후에 부가된다.

반응기에 있는 교반기는 여과될 수용액을 혼합하는 단계 6에서 균질화될 때까지 약 120분 동안 상기 수용액을 혼합한다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 여과 수용액은 히알루론산의 농도가 0.3% wt/v를 가진다. 상기 농도와 실내온도 및 생리학적 pH에서 분자량 2.2백만 달톤의 히알루론산은 공경이 0.22마이크로미터인 필터를 완전히 통과할 수 있는 낮은 점성을 가진다. 상기 히알루론산의 모든 조성물이 공경 0.22 마이크로미터의 필터를 통과하는 최대 점성을 섭씨 20도, 전단율 0.1s-1에서 측정할 때 약 5Pa.s의 점성도로 나타났다.

하지만, 상기 최대 점성은 필터의 공경의 크기에 따라 달라지며 보다 작은 크기의 공경, 예를 들면 0.1마이크로미터의 크기인 경우 히알루론산의 모든 조성물이 필터를 통과하는 최대 점성을 보다 낮아질 수 있다.

상술한 바와 같이, 실질적으로 히알루론산의 모든 조성물이 멸균필터, 예를 들면 0.22마이크로미터의 멸균필터를 통과하게 되는 히알루론산 수용액의 최대 점성을 히알루론산의 분자량에 의존한다. 이에 대하여 도 2 및 도 3에 그로프로 도시하였으며, 도 2는 실질적인 주변 온도가 섭씨 20도이며 중성의 pH, 공경 0.22마이크로미터의 필터를 통과하는 평균분자량이 1.1백만 달톤의 히알루론산 나트륨의 백분율과 농도에 대한 관계를 그래프로 나타낸 것이다.

도 3은 도 2에 설명한 것과 동일한 조건하에 히알루론산나트륨의 평균 분자량이 2.2백만 달톤에 대한 관계를 그래프로 나타낸 것이다.

도 2에 도시한 바에서 알 수 있는 바와 같이, 평균 분자량 1.1백만 달톤에서 모든 히알루론산 나트륨이 필터를 통과하는 농도는 0.92% wt/v(또는 g/dl)으로 나타났으며, 평균 분자량 2.2백만 달톤을 가지는 히알루론산 나트륨에 대한 최대 농도는 약 0.32% wt/v(또는 g/dl)으로 나타난다.

그러므로, 히알루론산 나트륨의 분자량이 1.2백만 달톤에서 2.2백만 달톤으로 증가할 때 공경 0.22마이크로미터의 필터를 100% 통과하는 히알루론산 수용액의 최대 농도는 0.94% wt/v에서 0.32% wt/v로 저감되는 것을 알 수 있다.

일반적인 산업상 제조공정에 있어서, 상기와 같은 히알루론산 나트륨의 분자량이나 주변 온도 및 혼합과정등을 배치하는데 따르는 여러 변수와 에러를 보전하기 위하여 소정의 보상조치를 통하여 여과 공정을 완전히 수행할 수 있도록 그 농도를 상한 값보다 약간 낮게 가져가는 것이 바람직하다.

상기 히알루론산 수용액은 혼합반응용기에서 소정의 압력으로 산소와 같은 가스를 투입, 예를 들면 약 3바아(bars)의 압력으로 가스를 투입함에 따라 멸균필터를 통과하게 된다(단계 7). 상기 멸균필터는 0.22마이크로미터의 공경을 가지는 것이 바람직하나, 경우에 따라 0.45마이크로미터 이하 및 0.1마이크로미터 이상의 공경을 가지는 필터를 사용할 수 있으며, 보다 넓은 범위의 상업적인 필터를 사용하는 것도 유용하다.

상기 필터를 통과하여 증류기에 모든 히알루론산 수용액이 투입되고, 증류기는 상기 필터와 혼합반응기로 부터 밀봉되며, 진공펌프가 작동함과 동시에 밸브조절수단에 의하여 상기 증류기 내부의 압력이 제어되는 과정이 각각 수행된다(단계 8, 단계 9, 단계 10).

상기 압력은 비등점이 섭씨 60도 보다 낮을수록 200밀리바 이하로 제어하되, 30밀리바 내지 60밀리바, 예를 들면 40밀리바로 제어하는 것이 바람직하며, 그에 따라 물의 비등점도 섭씨 26도 내지 28도 범위로 되어 주변 온도와 비슷해진다.

상기 증류기는 엷은 박막형 증발기 또는 다른 진공농축장치등이 단일하게 및 일련의 연속적인 장치로 변형하여 히알루론산 조성물을 연속적으로 농축하는데 적용할 수 있다.

상기 증발기 주위에 설치죈 히팅자켓(heating jacket)은 증류과정(boiling process)이 진행되는 동안에 열 에너지를 공급한다. 비등점을 섭씨 30도 이하로 하면 히알루론산의 변형이 필수적으로 일어나지 않으며 그에 따라 히알루론산의 분자량도 저감되지 않는 장점이 있다.

조성물속에 담길 수 있는 광섬유를 가지는 분광광도계 형태의 히알루론산 농도감지센서는 히알루론산의 농도를 실시간으로 측정하며(단계 11), 미리 설정된 농도에 도달하면 증류과정을 자동으로 정지하도록 제어한다.

예를 들면, 상기 분광광도계는 증류기의 수용액내에 설치되어 자외선(예를들면 230nm의 파장)을 흡수할 수 있다.

도 4는 전체 농축공정(예를 들면, 2% wt/v)이 수행돌 동안에 230nm의 광학밀도가 측정된 것을 도시한 것이다.

히알루론산의 농도를 실시간으로 측정하는 것은 희석 또는 여과 수용액의 조성과정시 매우 정밀한 품질로 제어해야 할 필요를 사전에 방지할 수 있으며, 그에 따라 공정이 매우 간단해지는 효과가 있는 것이다.

또한, 진공의 증류과정은 혼합공정이나 여과공정시 고압의 산소투입과정에서 최종적인 제재용 조성울에서 용인될 수 없는 미세기포가 용해된 가스를 제거하는 효과가 있다.

증류기에 있는 히알루론산 농도감지센서가 미리 설정된 농도에 도달했다는 신호를 감지하면 상기 증류기는 즉시 가스를 투입, 예를 들면 산소를 투입하여 증류기의 압력을 증가시키며, 상기 증류기 주위에 설치된 히팅자켓은 주변 온도 또는 주변 온도 이하로 냉각되며 그에 따라 조성물의 농축공정이 신속하게 정지된다(단계12).

본 발명의 조성물 제조공정에 따르면, 히알루론산 조성물의 농도는 최종적인 제약용 또는 제재용으로 미리 설정된 것에 비교하여 3% 이상의 범위로 제어 할 수 있다.

이어서, 상기의 조성물은 사용을 목적으로 펌프나 산소와 같은 소정의 가스에 의한 압력을 이용하여 다른 위치에 있는 멸균탱크로 투입하거나(단계 14, 단계 15), 별도의 멸균용기(예를 들면, 주사기)로 투입할 수 있다(단계 16).

또한, 상기와 같은 제약 조성물은 멸균탱크에 있는 별도의 중간 저장재를 통하지 않고 직접 멸균용기에 충전하여 사용할 수 있음은 물론이다.

상기와 같은 본 발명의 히알루론산 조성물 제조방법은 최종적으로 제재용으로 사용될 수 있는 고분자 히알룰론산 조성물을 제조하는데 매우 유용하게 적용할 수 있다.

Claims (9)

1. 미리 설정된 농도 이하의 고분자 히알루론산이 포함된 수성 조성물을 제공하는 단계와;

   공경이 0.45마이크로미터 이하의 크기를 가지는 필터를 통하여 상기 수성 조성물을 여과시키는 단계와;

   미리 설정된 농도에 도달할 때까지 진공 및 증류과정을 통하여 상기 수성 조성물을 농축하는 단계;로 구성하여 멸균된 제재로 사용가능한 것을 특징으로 하는 고분자 히알루론산 조성물 제조방법
2. 청구항 1에 있어서, 상기 농축단계 이후에 상기 조성물이 멸균용기로 투입되거나, 멸균탱크가 비어있는 상태에서 멸균용기로 직접 투입되는 단계를 더 포함하여 멸균된 제재로 사용가능한 것을 특징으로 하는 고분자 히알루론산 조성물 제조방법
3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 농축단계에서 진공과정의 절대압력이 200밀리바 이하인 것을 특징으로 하는 고분자 히알루론산 조성물 제조방법
4. 청구항 1 내지 청구항 3에 있어서, 상기 진공과정의 압력이 30밀리바에서 60밀리바 범위에 있는 것을 특징으로 하는 고분자 히알루론산 조성물 제조방법
5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서, 히알루론산의 평균분자량이 800,000 달톤 내지 5,000,000달톤의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 고분자 히알루론산 조성물 제조방법
6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서, 상기 필터가 0.22마이크로미터 또는 그 이하의 공경을 가지는 것을 특징으로 하는 고분자 히알루론산 조성물 제조방법
7. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서, 농축단계에서 히알루론산의 농도가 실시간으로 측정되며, 미리 설정된 농도가 측정되면 진공 및 증류과정이 자동으로 정지되는 것을 특징으로 하는 고분자 히알루론산 조성물 제조방법
8. 청구항 1 내지 청구항 7에 있어서, 분광광도계가 조성물의 파장을 흡수하여 히알루론산의 농도를 측정하는 것을 특징으로 하는 고분자 히알루론산 조성물 제조방법
9. 청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서, 상기 여과 단계 이후에 완화제가 조성물에 부가되며, 히알루론산의 농도는 완화제가 요구된 값에 도달할 때까지 히알루론산 조성물의 전도성이 실시간으로 측정되는 것을 특징으로 하는 고분자 히알루론산 조성물 제조방법