KR20050020828A - 수용성 섬유 반응성 디스아조 염료, 이의 제조 방법 및 그용도 - Google Patents

수용성 섬유 반응성 디스아조 염료, 이의 제조 방법 및 그용도 Download PDF

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다이스타 텍스틸파르벤 게엠베하 운트 콤파니 도이칠란트 카게
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Abstract

본 발명은 일반식 (1)의 염료 (식 중, R1, R2, M, Z, v 및 x는 청구항 제 1 항에서 정의된 바와 같음), 그의 제조 및 상기 염료를 바람직하게는 섬유 물질인 히드록시 및/또는 카본아미드기 함유 물질의 착색 및 프린팅에 사용하는 것에 관련된다:
[일반식 1]

Description

수용성 섬유 반응성 디스아조 염료, 이의 제조 방법 및 그 용도{WATER-SOLUBLE FIBRE-REACTIVE DISAZO DYES, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND THE USE THEREOF}
본 발명은 섬유 반응성 구리 착물 디스아조 염료 분야에 관련된다.
하나 이상의 섬유 반응성 기를 가진 섬유 반응성 디스아조 화합물의 구리 착물은 일례로 다음 문헌에 공지이다: DE-B-1 544 541, DE-B-1 644 155, EP 668 328, DE 32 02 120, EP 085 378, EP 040 806, EP 085 378, EP 203 505, DE 3941620, DE 4039866, EP 281898, EP 395951. 그러나, 이들은 특정의 적용상 문제를 가지며, 일례로 염색 과정 중 가변 인자에 대한 착색 수율의 지나친 의존성, 코튼 상의 불충분 또는 불균일 색조 축적, 그리고, 염료 욕조 내에서 고농도 염료에서의 사용시 강한 염색을 제공하기 위한 염료의 능력에서 비롯되는 상당한 색조 축적이 있다. 또한, 이들 염료는, 불만족스러운 고정 수율을 나타내는데, 즉 염색할 물질에 영구 고정되는 염료의 분율이 특히 저온에서 너무 낮고 또한 불만족스러운 내세척성 (washfastness) 및 내광성 (lightfastness)을 가진다.
그러나 생태 및 경제적 이유로, 염료 장치 배출물 내의 고정화되지 않은 염료의 분율을 최소화하기 위해, 특히 높은 고정 수율을 갖는 염료를 제공하는 것이 중요하다. 또한 이상적으로는, 일례로 염료 과정 중의 염료 온도와 같은 변화하는 염색 인자와 무관하게, 염료는 균질하게 강한 염색을 항상 제공하여야 한다. 또한, 내세척성 요건 또한 현재 매우 엄격하다.
본 발명은 이제, 일반식 (1)의 염료를 제공하며, 이는 매우 양호한 축적과 커플링된 매우 우수한 내광성 및 내세척성을 놀랍게 제공한다. 또한 이들 염료는 높은 고정 수율 및, 염색 중 매우 낮은 인자 의존도를 가진다. 이들은 따라서 매우 낮은 온도에서 고정화하는 기타 염료와 또한 보다 상용성이다.
본 발명은 따라서 하기 일반식 (1)의 염료를 제공한다:
[식 중,
M은 수소, 알칼리, 암모늄 또는 알칼리토금속 이온의 동등물이고,
v는 0 또는 1이고,
Z는 -CH=CH2, 또는 -CH2CH2Z1 이고 (Z1은 히드록시 또는 알칼리 분리성기임),
R1은 수소 또는 C1-C4-알킬이고;
R2는 일반식 (2), (3), (4) 또는 (5)의 잔기이고,
식 중,
T1은 수소, 메틸, 불소 또는 염소이고,
T2는 수소, 불소 또는 염소이되 여기에서 T2 및 T1이 함께 수소는 아니며,
T3는 수소, 불소 또는 염소이고;
A는, 염소, 브롬, 히드록시 및 카복시로 이루어지는 군에서 선택되는 2개 이하의 치환기로 치환될 수 있는 C1 내지 C4-알킬, 염소, 브롬 및 히드록시로 이루어지는 군에서 선택되는 2개 이하의 치환기로 치환될 수 있는 C2 내지 C4-알케닐 또는 페닐이고,
L은, 염소, 브롬, 히드록시, 특히 메틸, 에틸인 C1 내지 C4-알킬, 설포 및 시아노 또는 C2 내지 C6 알킬렌으로 이루어지는 군에서 선택되는 2개 이하의 치환기로 치환될 수 있는 페닐렌 또는 나프탈렌이고;
Z는 -CH=CH2, -CH2CH2Z1 임 (Z1은 히드록시 또는 알칼리 분리성기임)].
(C1-C4)-알킬기 A 및 R1은 직쇄 또는 분지쇄이며 특히, 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, n-부틸, i-부틸, sec-부틸 및 tert-부틸로 이루어진 군에서 선택된다. 바람직한 것은 메틸 및 에틸이다. 치환된 C1 내지 C4 알킬기 A는, 특히 카복시에틸, 카복시프로필, 1,2-디브로모에틸 또는 클로로메틸이다. 치환된 알케닐 라디칼 A는 바람직하게 2-브로모에테닐 또는 2-클로로에테닐이다.
일반식 (2)의 바람직한 R2 라디칼의 예는 다음과 같다: 2,4-디플루오로피리미딘-6-일, 4,6-디플루오로피리미딘-6-일, 5-클로로-2,4-디플루오로피리미딘-6-일, 5-클로로-4,6-디플루오로피리미딘-6-일, 4,5-디플루오로피리미딘-6-일, 5-클로로-4-플루오로피리미딘-6-일, 2,4,5-트리클로로피리미딘-6-일, 4,5-디클로로피리미딘-6-일, 2,4-디클로로로피리미딘-6-일, 4-플루오로피리미딘-6-일, 4-클로로피리미딘-6-일. 특히 바람직한 것은 R2가 2,4-디플루오로피리미딘-6-일 또는 5-클로로-2,4-디플루오로피리미딘-6-일인 것이다.
일반식 (3)의 바람직한 R2 라디칼의 예는 2,3-디클로로퀴녹살린-6-카보닐이다.
일반식 (4)의 바람직한 R2 라디칼의 예는 아세틸, n-프로피오닐 및 n-부티릴이고 특히 바람직한 것은 R2가 아세틸인 것이다.
일반식 (5)의 바람직한 R2 라디칼의 예는 3-클로로에틸-설포닐벤조일 및 2-클로로에틸설포닐 프로피오닐이다.
상기한 일반식 및 하기 일반식들 중에서, 임의의 한 일반식에서 상이 또는 동일한 기호를 가지는 여부와 관계없이, 각각의 심볼은 서로 동일 또는 상이한, 그들의 정의에 따른 의미를 가진다.
일반식 (1)의 염료는, Z의 의미 내에서 섬유 반응성인 -SO2Z의 상이한 기를 가질 수 있다. Y 또는 Y' 에틸기의 β 위치에서의 알칼리 제거 가능성 치환기 Z1의 예는, 염소 및 브롬과 같은 할로겐 원자, 알킬카복시산과 같은 유기 카복시산 및 설폰산의 에스터기, 2 내지 5개의 탄소 원자를 가진 알카노일옥시기와 같은 임의 치환된 벤젠설폰산 및 임의치환된 벤젠카복시산으로, 특히 아세틸옥시, 벤질옥시, 설포벤조일옥시, 페닐설포닐옥시 및 톨릴설포닐옥시이며, 인산, 황산 및 티오황산 (포스페이토, 설페이토 및 티오설페이토기)의 추가의 무기산의 산성 에스터기, 디메틸아미노 및 디에틸아미노와 같은 각각 1 내지 4 개의 탄소 원자의 알킬기를 가진 유사한 디알킬아미노기이다.
보다 특별하게, 섬유 반응성기 -SO2Z는 먼저 비닐설포닐기이며 다음으로 -CH2CH2Z1 기로, 바람직하게는 β-티오설파토에틸 및 특히 β-설파토에틸설포닐기이다.
설포 및 카복시기들은 그 산 형태 및 그의 염 형태까지 포함한다. 따라서 설포기는 -SO3M의 일반식에 상응하는 기이며, 카복시기는 일반식 -COOM에 상응하는 기이고, 각각에서 M은 상기 정의한 바와 같다.
일반식 (1)의 디아조 화합물로 바람직한 것은 하기 일반식 (1a)에 상응하는 것이다:
(식 중, M, R1 및 R2 각각은 상기 정의한 바와 동일하다)
본 발명에 따른 일반식 (1)의 염료는 일례로 하기 일반식 (6)의 치환 방향족 아민을 디아조화하고:
하기 일반식 (7)의 치환 아미노나프톨에 커플링하고:
수득한 하기 일반식 (8)의 아미노모노아조 염료를 연속 디아조화하고:
적절한 경우에는 분산제 존재 하에, pH 6-9에서 일반식 (9)의 말단 커플링 성분에 커플링하고:
이후 구리 설페이트 5수화물과 구리화 반응을 연이어 실시하여 제조 가능하다.
일반식 (6)의 착물 라디칼 소지 디아조화 가능 아민은, 일례로 3-아미노-4-히드록시-5-설포페닐 β-설파토에틸 설폰 또는 3-아미노-4-히드록시-5-설포페닐 비닐 설폰이다.
일반식 (7)의 화합물은, 일례로 2-아미노-5-히드록시나프탈렌-7-설폰산, 2-아미노-8-히드록시나프탈렌-6-설폰산, 2-아미노-5-히드록시나프탈렌-1,7-디설폰산 및 2-아미노-8-히드록시나프탈렌-3,6-디설폰산이다.
일반식 (8) 및 (9) 화합물은 일례로 EP 0 085 378, EP 0 084 849 에 공지이고, 통상의 방법으로 제조 가능하다.
본 발명의 일반식 (1) 화합물을 수성 합성 용액에서 수거 및 분리하는 것은, 수용성 화합물에 대한 일반 공지 방법에 의해 따라 실시 가능하며, 일례로 소듐클로라이드 또는 포타슘클로라이드와 같은 전해질 수단에 의한 반응 매질로부터 일례로 침전, 또는 일례로 분무 건조에 의한 반응 용액 자체의 증발에 의한 것이다. 후자의 경우, 용액 중 설페이트 모두를 칼슘 설페이트로 먼저 침전시킨 후 여과에 의해 제거하는 것이 종종 바람직하다.
본 발명의 염료는, 고체 또는 액체 (용해된) 형태의 제제로 제조 가능하다. 고체 형태에서, 이는 소듐클로라이드, 포타슘클로라이드 및 소듐설페이트와 같은 수용성 및 특히 섬유 반응성 염료를 위한 통상의 전해질 염을 보통 포함하며, 또한 소듐아세테이트, 소듐보레이트, 소듐바이카보네이트, 소듐디히드로겐포스페이트, 소듐트리시트레이트 및 디소듐히드로겐포스페이트와 같은 수용액 pH를 3-7로 고정할 수 있는 완충 물질과 같은 시판 염료 통상의 부가제 또는, 소량의 건조제를 포함할 수 있는데, 이들이 액체, 수용액에 존재하는 경우 (프린트 페이스트에서 통상의 타입인 점증제의 존재 경우 포함), 이는 또한 일례로 곰팡이 방지제와 같은 이들 제제의 수명을 증가시키는 물질을 포함할 수 있다.
일반적으로 본 발명의 염료는, 제제 또는 염료 분말을 기준으로 할 때, 표준화제로 또한 불리는 전해질 염 10-80 중량%를 함유하는 염료 분말로 존재한다. 이들 염료 분말은, 염료 분말에 대해 10 중량% 이하 총량의 상기 완충 물질을 추가로 함유 가능하다. 본 발명 염료가 수용액 내에 존재시, 이들 수용액의 총 염료 함량은 약 50 중량% 이하, 일례로 5-50 중량% 사이이고, 이들 수용액의 전해질 염 함량은 수용액에 대해 바람직하게는 10 중량% 미만이며; 수용액 (액체 제제)은, 일반적으로 10 중량% 이하, 바람직하게는 2 중량% 이하인 양의 상기 완충 물질을 함유 가능하다.
본 발명의 염료는 유용한 적용 특성을 가진다. 이는, 일례로 종이 및 가죽과 같은 시트상 구조 형태 및 일례로 폴리아미드 및 폴리유레탄인 일례로 폴리아미드로 구성된 필름 또는 벌크 형태의 히드록시 및/또는 카복스아미도 함유 물질의 염색 또는 프린팅에 사용되나, 특히 섬유 형태인 이들 물질의 염색 또는 프린팅에 사용된다. 유사하게, 적절하게는 완충 물질 첨가 이후 및 적절하게는 농축 또는 희석 이후, 이들 본 발명 염료의 합성 용액은 염색을 위한 액체 제제로 바로 사용 가능하다.
본 발명은 따라서 이들 물질의 염색 또는 프린팅에 본 발명의 염료를 사용하는 것, 및 본 발명의 염료를 착색제로 사용하여 통상의 방법으로 이들 물질을 염색 또는 프린팅하는 방법에 관련된다. 물질은, 섬유 물질 형태로 바람직하게 사용되며, 특히 타래 또는 권취된 묶음과 같은 형태의 조직 직물 또는 얀 (yarn)과 같은 직물 섬유의 형태이다.
히드록시 함유 물질은 천연 또는 합성 기원의 것으로, 일례로, 셀룰로스 섬유 물질 또는 이들의 재생산 제품 및 폴리비닐알콜이다. 셀룰로스 섬유 물질은 바람직하게는 코튼이나 또는 아마, 대마, 황마 및 라미 섬유와 같은 기타 섬유이고; 재생산 셀룰로스 섬유는 일례로 스테이플 비스코스 및 필라멘트 비스코스이다.
카복스아미도 함유 물질은 일례로 합성 및 천연 폴리아미드 및 폴리유레탄이고, 특히 섬유 형태의 것, 일례로 양모 및 기타 동물 헤어, 실크, 가죽, 나일론-6,6, 나일론-6, 나일론-11 및 나일론-4이다.
본 발명의 염료는 특히 언급한 섬유 물질인, 언급한 기질에 적용 및 고정화할 수 있으며, 이는 특히 섬유 반응성 염료인 수용성 염료를 위한 적용 기법에 의한다.
일례로, 셀룰로스 섬유상에서 이들은, 소듐클로라이드 또는 소듐설페이트와 같은 임의의 중성염 및 각종 산 결합제를 사용한 롱 리큐르 (long liquor)로부터 흡진법 (exhaust method)에 의해 매우 양호한 내세척성을 가지는 염색을 생산한다. 적용은, 바람직하게는 40-105℃ 사이, 임의로는 130℃ 이하 온도의 수조에서, 대기압 이상에서, 그리고 임의로는 통상의 염색 부가제 존재하에서 실시한다. 가능한 한 방법은, 물질을 온조에 가하고 온조를 목적 염색 온도로 서서히 승온하여, 그 온도에서 염색 과정을 종결 짓는 것이다. 염료의 흡진을 촉진하는 중성염은 또한, 원하는 경우 실제 온도가 도달된 이후에만 욕조에 가할 수 있다.
패딩 방법은 유사하게, 셀룰로스 섬유상에서 우수한 착색 수율 및 매우 양호한 색상 축적을 제공하며, 염료는 실온 또는 통상 방식의 건조 열 또는 스팀을 이용한 일례로 60℃ 이하의 승온에서 배치화함으로써 물질 상에서 고정되게 된다.
유사하게, 일례로 소듐바이카보네이트 또는 기타 산 결합제를 함유한 프린트 페이트스로 프린팅하고 연이어 100-103℃에서 스팀하는 1상 (single-phase) 또는, 일례로 중성 또는 약산성 프린트 색으로 프린팅하고 고온의 전해질 함유 알칼리 욕조를 통해 프린팅된 물질을 통과 또는 알칼리성 전해질 함유 패딩 액체로 오버패딩하여 연이어 고정화하고, 연이어 알칼리 오버패딩된 물질을 배치화 또는 건조한 고온으로 연이어 처리 또는 연이어 스팀하는 2상 (two-phase)에 의해 셀룰로스 섬유에 대한 통상의 프린팅 과정을 실시함에 의해, 뚜렷한 윤곽과 명료한 백색 배경을 가진 선명한 프린트가 제조된다. 프린트의 외관은 고정화 조건의 변화에 의해 크게 영향 받지 않는다.
건조한 열에 의해 통상의 열고정 과정에 의해 고정하는 경우, 120-200℃의 고온 공기를 이용한다. 101-103℃의 통상의 스팀 외에, 160℃ 이하의 초가열 스팀 및 고압 스팀을 또한 사용 가능하다.
셀룰로스 섬유에 대한 본 발명 염료의 고정에 영향을 미치는 산 결합제는, 일례로, 무기 또는 유기산의 알칼리 금속 및 유사한 알칼리토금속의 수용성 염기성 염 또는, 열에서 알칼리를 발생하는 화합물을 포함한다. 특히 적절한 것은, 약 내지 중성의 무기 또는 유기산의 알칼리금속 히드록사이드 및 알칼리 금속염이며, 바람직한 알칼리금속 화합물은 소듐 및 포타슘 화합물이다. 이러한 산 결합제는 일례로, 소듐히드록사이드, 포타슘히드록사이드, 소듐카보네이트, 소듐바이카보네이트, 포타슘카보네이트, 소듐포메이트, 소듐디히드로겐포스페이트, 디소듐히드로겐포스페이트, 소듐트리클로로아세테이트, 물유리 또는 트리소듐포스페이트를 포함한다.
고정되지 않은 염료 부분을 제거하기 위한 린스에 의한 통상의 후처리 이후 수득한 셀룰로스 염색물은, 매우 양호한 염색 특성을 소지하며, 섬유 반응성 염료의 당업계 통상의 적용 및 고정 방법에 의해, 셀룰로스 섬유 물질 특히 코튼 및 비스코스와 같은 명세서에서 언급한 물질 상에서 강한 어두운 청색 염색과, 매우 양호한 내성 특성, 특히 세척, 광, 알칼리, 산, 물, 해수, 땀, 및 문지름에 대한 매우 양호한 내성을 가지는 프린트를 제공한다. 염색은 또한 셀룰로스 물질 상에서의 높은 정도의 고정도와 양호한 축적이 주목할 만하다. 특히 유리한 것은, 선행 기술과 비교하여, 염색의 양호한 내세척성, 높은 고정값 및 낮은 온도 의존성이다.
또한, 본 발명의 염료는 양모의 섬유 반응성 염색에 사용 가능하다. 또한, 펠트가 없거나 펠트가 적게 마무리된 양모 (일례로, H. Rath, Lehrbuch der Textilchemie, Springer-Verlag, 3판 (1972), 295-299면, 특히, Hercosett 방법에 의한 마무리 (298면); J. Soc. Dyers and Colourists 1972, 93-99, 및 1975, 33-44 참조)는, 매우 양호한 내성 특성으로 염색될 수 있다.
양모 상의 염색 과정은, 산성 매질을 통한 통상의 방법으로 실행 가능하다. 일례로, 아세트산 및/또는 암모늄 설페이트 또는 아세트산 및 암모늄 아세테이트 또는 소듐아세테이트를 염색 욕조에 가하여, 목적 pH를 얻을 수 있다. 수용할 수 있을 정도의 염색 균일도를 얻기 위해, 통상의 균일화제를 첨가하는 것이 바람직하며, 일례로, 시아누르산 클로라이드의 반응 생성물에 대하여 3배 몰 분량의 아미노벤젠설폰산 및/또는 아미노나프탈렌설폰산 또는 일례로 스테아릴아민의 반응 생성물에 대해 에틸렌 옥시드를 사용한다. 일례로, 본 발명의 염료는 pH 조절 하의 약 3.5 내지 5.5 pH를 가지는 산성 염료 욕조에서 먼저 흡진 과정을 바람직하게 거치고, 이후 염색 시간이 종결되어 감에 따라 pH를 중성 및 임의로는 8.5 이하의 약알칼리성으로 바꾸어, 특히 매우 짙은 염색의 경우, 본 발명의 염료와 섬유간에 완전한 반응성 결합이 생기도록 한다. 동시에 반응성 결합을 일으키지 않은 염료 부분을 제거한다.
여기에 개시된 방법은 또한 기타 천연 폴리아미드 또는 합성 폴리아미드 및 폴리유레탄으로 구성된 섬유 물질 상의 염색을 제조하는데 적용된다. 일반적으로, 염색할 물질을 약 40℃ 온도의 욕조에 넣고, 어느 시간 동안 저어준 후, 염색 욕조를 목적하는 약산성, 바람직하게는 약 아세트산 pH로 조절하고, 60-98℃의 온도에서 실제 염색을 실시한다. 그러나, 염색은 또한 끓거나 또는 106℃ 이하 온도의 밀봉된 염색 기구 내에서 실행 가능하다. 본 발명 염료의 수용성이 매우 양호하므로, 이들은 또한 통상의 연속 염색 방법에서 유리하게 사용될 수 있다. 본 발명의 염료는, 상기한 물질을 깊은 청색조로 염색한다.
이하의 실시예는 본 발명 예시를 위한 것이다. 부 및 백분율은 달리 언급되지 않는 한 중량 기준이다. 실시예에서 일반식으로 기재된 화합물은 자유산 형태로 일부 기재되었고, 일반적으로 이들 화합물은 그의 염 형태, 바람직하게는 소듐 또는 포타슘 염으로 제조 및 분리되며, 그의 염 형태로 염색에 사용된다. 하기 실시예, 특히 표의 실시예에 언급된 출발 물질은 소듐 또는 포타슘 염과 같은, 바람직하게는 알칼리 금속염인 그들 염 형태 또는 자유산 형태로 합성에 사용된다.
실시예 1
4-β-설파토에틸설포닐-2-아미노페놀-6-설폰산 377부를 소듐나이트라이트로 디아조화하고, pH 6-7에서 2-아미노-5-히드록시나프탈렌-7-설폰산 239부에 커플링하였다. 하기식의 모노아조 화합물을 디아조화하여:
하기식의 N-아세트아미노-3,6-디설포-8-히드록시나프탈렌 361부에 커플링시켜:
하기식의 수득된 비스아조 염료를 구리 설페이트 5수화물 245부로 연이어 금속화하여:
하기식 A에 해당하는 청색 염료를 수득하고:
(λmax = 587nm)
이를 소듐클로라이드로 염석하여, 감압 및 50℃ 하에서 여과하고 건조하였다. 염료는 강하면서도 어두운 청색 염색을 생산하며, 코튼 상에서 매우 양호한 내성을 가지며 프린팅되고, 이러한 내성은 광, 세척, 물, 및 땀에 대한 내성으로써, 또한 염소화 물, 용매에 내성이며, 크로킹 (crocking) 및 고온 프레싱을 특히 언급할 수 있다.
하기의 표 실시예는, 본 발명 일반식 (1-A)의 추가의 염료를 기재한다. 반응성 염료에 대한 통상의 염색 기법에 의해 적용된 염료는, 일례로 코튼 상에서, 모든 면에서 양호한 내성을 가지는 깊은 청색의 염색을 제공한다.
실시예 1의 과정은 유사하게 하기한 일반식 (1-B)의 화합물을 제공한다. 반응성 염료에 대한 통상의 염색 방법에 의해 적용시, 이들은 일례로 코튼 상에 모든 면에서 양호한 내성을 가지는 황색빛 내지 갈색빛 적색 염색을 제공한다.
실시예 1의 과정은 유사하게 하기한 일반식 (1-C)의 화합물을 제공한다. 반응성 염료에 대한 통상의 염색 방법에 의해 적용시, 이들은 일례로 코튼 상에 모든 면에서 양호한 내성을 가지는 황색빛 내지 갈색빛 적색 염색을 제공한다.

Claims (9)

  1. 하기 일반식 (1)의 염료:
    [식 중,
    M은 수소, 알칼리, 암모늄 또는 알칼리토금속 이온의 동등물이고,
    v는 0 또는 1이고,
    Z는 -CH=CH2, 또는 -CH2CH2Z1 이고 (Z1은 히드록시 또는 알칼리 분리성기임),
    R1은 수소 또는 C1-C4-알킬이고;
    R2는 일반식 (2), (3), (4) 또는 (5)의 잔기이고,
    식 중,
    T1은 수소, 메틸, 불소 또는 염소이고,
    T2는 수소, 불소 또는 염소이되 여기에서 T2 및 T1이 함께 수소는 아니며,
    T3는 수소, 불소 또는 염소이고;
    A는, 염소, 브롬, 히드록시 및 카복시로 이루어지는 군에서 선택되는 2개 이하의 치환기로 치환될 수 있는 C1 내지 C4-알킬, 염소, 브롬 및 히드록시로 이루어지는 군에서 선택되는 2개 이하의 치환기로 치환될 수 있는 C2 내지 C4-알케닐 또는 페닐이고,
    L은, 염소, 브롬, 히드록시, 특히 메틸, 에틸인 C1 내지 C4-알킬, 설포 및 시아노 또는 C2 내지 C6 알킬렌으로 이루어지는 군에서 선택되는 2개 이하의 치환기로 치환될 수 있는 페닐렌 또는 나프탈렌이고;
    Z는 -CH=CH2, -CH2CH2Z1 임 (Z1은 히드록시 또는 알칼리 분리성기임)].
  2. 제 1 항에 있어서, R2가 일반식 (4)의 잔기인 염료.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, v 가 0 인 염료.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항 이상에 있어서, SO2Z 기가 아조기에 대해 메타인 염료.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항 이상에 있어서, R2가 CH3CO- 라디칼인 염료.
  6. 하기에 의해 제 1 항의 화합물을 제조하는 방법:
    하기 일반식 (6)의 치환 방향족 아민을 디아조화하고:
    하기 일반식 (7)의 치환 아미노나프톨에 커플링하고:
    수득한 하기 일반식 (8)의 아미노모노아조 염료를 연속 디아조화하고:
    pH 6-9에서 하기 일반식 (9)의 말단 커플링 성분에 커플링하고:
    이후 구리 설페이트 5수화물과 연속 구리화 반응시킴.
  7. 히드록시 및/또는 카복스아미도 함유 물질, 바람직하게는 섬유 물질의 염색 또는 프린팅에 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항 이상의 염료를 사용하는 용도.
  8. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항 이상의 염료를 사용함을 포함하며, 용해 형태인 하나 이상의 염료를 물질에 적용하고 열 또는 알칼리제의 도움 또는 모두의 방법에 의해 염료 또는 염료들을 고정화함에 의한, 바람직하게는 섬유 물질인 히드록시 및/또는 카복스아미도 함유 물질의 염색 또는 프린팅 방법.
  9. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항 이상의 염료를 함유하는 염료 제제.
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