KR20050015393A - 평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치 및 이를이용한 평판 디스플레이 처리 장치 - Google Patents

평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치 및 이를이용한 평판 디스플레이 처리 장치

Info

Publication number
KR20050015393A
KR20050015393A KR1020030054182A KR20030054182A KR20050015393A KR 20050015393 A KR20050015393 A KR 20050015393A KR 1020030054182 A KR1020030054182 A KR 1020030054182A KR 20030054182 A KR20030054182 A KR 20030054182A KR 20050015393 A KR20050015393 A KR 20050015393A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
unit
base
free end
processing
Prior art date
Application number
KR1020030054182A
Other languages
English (en)
Inventor
이승원
Original Assignee
주식회사 디엠에스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 디엠에스 filed Critical 주식회사 디엠에스
Priority to KR1020030054182A priority Critical patent/KR20050015393A/ko
Publication of KR20050015393A publication Critical patent/KR20050015393A/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706Mechanical details, e.g. roller, belt
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67715Changing the direction of the conveying path
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67742Mechanical parts of transfer devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67748Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber horizontal transfer of a single workpiece

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

평판 디스플레이 패널의 제조 과정에서 세정, 에칭, 스트립, 현상 등의 작업에 이용될 수 있는 평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치 및 이를 이용한 평판 디스플레이 처리 장치를 개시한다. 이러한 평판 디스플레이 처리 장치는 베이스; 상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 자유단부로 이루어지며, 기판 이송을 위한 구동부가 구비되며, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되는 기판 공급부; 상기 베이스에 배치되며, 상기 기판 공급부를 통하여 이송되는 기판을 처리하는 하나 이상의 프로세싱 베스; 상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 자유단부로 이루어지며, 상기 프로세싱 베스를 통하여 배출되는 기판을 전달받으며, 기판 이송을 위한 구동부가 구비되고, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되는 기판 인출부, 그리고 상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 자유단부로 이루어지며, 상기 자유단부가 상기 기판 인출부의 자유단부에 대향되는 자세로 배치되고, 상기 기판 인출부로 전달된 기판을 전달받으며, 기판 이송을 위한 구동부가 구비되고, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합 부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되거나 또는 상기 기판 인출부와 동일 평면을 이루도록 이동되는 기판 전달부를 포함하는 기판 방향 전환부; 상기 기판 방향 전환부에 전달된 기판을 공급받아 처리하며, 상기 프로세싱 베스와 나란하게 배치되는 하나 이상의 또 다른 프로세싱 베스; 상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 또 다른 자유단부로 이루어지며, 상기 자유단부가 상기 기판 공급부의 자유단부에 대향하는 자세로 배치되며, 상기 프로세싱 베스를 통하여 전달되는 기판을 이송하기 위한 또 다른 구동부가 제공되며, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되는 기판 배출부를 포함한다.
따라서 본 발명은 기판이 경사진 형태로 처리됨과 아울러 기판 공급부 및 기판 배출부가 서로 교대되면서 기판의 공급 및 배출이 이루어지는 평판 디스플레이 처리 장치를 제공하여 기판 처리 장치의 설치 면적을 최소화할 수 있어 생산비용을 감소시킬 수 있는 효과가 있다. 또한 본 발명은 기판의 방향을 전환할 수 있는 기판 방향 전환부가 서로 교차되면서 기판의 이송 방향을 전환할 수 있어 기판 방향 전환부의 배치 면적을 최소화시킬 수 있어 평판 디스플레이 처리 장치의 크기를 더욱 줄일 수 있는 효과가 있다.

Description

평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치 및 이를 이용한 평판 디스플레이 처리 장치{Transfer and apparatus for processing of plat display panel}
본 발명은 평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치 및 이를 이용한 평판 디스플레이 처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 평판 디스플레이 패널의 제조 과정에서 세정, 에칭, 스트립, 현상 등의 작업에 이용될 수 있는 평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치 및 이를 이용한 평판 디스플레이 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로 평판 디스플레이 패널(이하, "기판" 이라고도 함)의 처리 장치는, 기판을 복수의 베스(처리조)에 공급하기 위한 로더(loader) 및 베스에서 처리된 기판을 배출하는 언로더(unloader)가 각각 동일한 형태로 하나의 기판 처리 장치에 배치된다. 그리고 다수의 베스가 연속적으로 배치되거나 또는 기판의 방향을 바꿔주기 위하여 부가적인 베스가 필요한 경우들이 있다. 이러한 일반적인 기판 처리 장치는 클리닝 룸에 배치되는 면적 또는 공간을 많이 차지하여 생산비용의 증가로 이어지는 문제점이 있다.
따라서 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 본 발명의 목적은 평판 디스플레이 패널의 처리 장치의 설치 면적을 최소화시켜 생산비용을 감소시킬 수 있는 평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치 및 이를 이용한 평판 디스플레이 처리 장치를 제공하는데 있다.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 베이스; 상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 자유단부로 이루어지며, 기판 이송을 위한 구동부가 구비되며, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되는 기판 공급부; 상기 베이스에 배치되며, 상기 기판 공급부를 통하여 이송되는 기판을 처리하는 하나 이상의 프로세싱 베스; 상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 자유단부로 이루어지며, 상기 프로세싱 베스를 통하여 배출되는 기판을 전달받으며, 기판 이송을 위한 구동부가 구비되고, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되는 기판 인출부, 그리고 상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 자유단부로 이루어지며, 상기 자유단부가 상기 기판 인출부의 자유단부에 대향되는 자세로 배치되고, 상기 기판 인출부로 전달된 기판을 전달받으며, 기판 이송을 위한 구동부가 구비되고, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합 부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되거나 또는 상기 기판 인출부와 동일 평면을 이루도록 이동되는 기판 전달부를 포함하는 기판 방향 전환부; 상기 기판 방향 전환부에 전달된 기판을 공급받아 처리하며, 상기 프로세싱 베스와 나란하게 배치되는 하나 이상의 또 다른 프로세싱 베스; 상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 또 다른 자유단부로 이루어지며, 상기 자유단부가 상기 기판 공급부의 자유단부에 대향하는 자세로 배치되며, 상기 프로세싱 베스를 통하여 전달되는 기판을 이송하기 위한 또 다른 구동부가 제공되며, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되는 기판 배출부를 포함하는 평판 디스플레이 처리 장치를 제공한다.
또한, 본 발명은 베이스; 상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 자유단부로 이루어지며, 이송된 기판을 전달받으며, 기판 이송을 위한 구동부가 구비되고, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되는 기판 인출부; 상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 자유단부로 이루어지며, 상기 자유단부가 상기 기판 인출부의 자유단부에 대향되는 자세로 배치되고, 상기 기판 인출부로 전달된 기판을 전달받으며, 기판 이송을 위한 구동부가 구비되고, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합 부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되거나 또는 상기 기판 인출부와 동일 평면을 이루도록 이동되는 기판 전달부를 포함하는 평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치를 제공한다.
또한, 본 발명은 베이스;
상기 베이스에 힌지 결합되어 일정한 각도로 회전할 수 있는 프레임, 상기 프레임에 결합되는 구동원, 상기 구동원의 동력을 전달받아 회전하며, 상기 프레임에 결합되며, 일정한 간격으로 배치되는 다수의 회전축, 상기 회전축에 결합되어 상기 회전축과 함께 회전하는 다수의 롤러, 상기 프레임이 회전축 방향으로 연장된 연장부, 상기 베이스 및 상기 연장부에 결합되고, 상기 다수의 회전축이 경사각으로 가지도록 이동시키는 액츄에이터를 포함하는 기판 인출부;
그리고 상기 베이스에 힌지 결합되어 일정한 각도로 회전할 수 있는 또 다른 프레임, 상기 또 다른 프레임에 결합되는 구동원, 상기 구동원의 동력을 전달받아 회전하며, 상기 프레임에 결합되며, 상기 회전축의 자유단과 대향하는 자세로 배치되며, 상기 회전축이 이루는 간격 사이에 배치될 수 있는 다수의 또 다른 회전축, 상기 회전축에 결합되어 상기 회전축과 함께 회전하는 다수의 또 다른 롤러, 상기 프레임이 회전축 방향으로 연장된 또 다른 연장부, 상기 베이스 및 상기 연장부에 결합되고, 상기 다수의 회전축이 경사각을 가지도록 이동시키는 또 다른 액츄에이터를 포함하는 기판 전달부;
를 더 포함하는 평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치를 제공한다.
이러한 본 발명은 구동원에 의하여 기판 공급부가 수평으로 배치되면, 상기 기판 공급부에 기판이 로봇 등에 의하여 놓여지고, 상기 기판 공급부가 구동원에 의하여 일정한 경사지도록 제어된다. 그리고 상기 기판 공급부에 제공된 구동부에 의하여 기판은 프로세싱 베스로 인입되고, 세정 등의 기판 처리가 이루어진다. 상기 프로세싱 베스에서 처리되어 배출되는 기판은 기판 방향 전환부의 기판 인출부로 전달된다. 이때 상기 기판 인출부는 구동원에 의하여 경사진 상태에서 기판을 전달받는다. 그리고 상기 기판 방향 전환부의 기판 전달부가 수평 상태를 유지하고, 이어서 상기 기판이 안착된 기판 인출부 역시 수평상태를 유지한다. 즉, 상기 기판 인출부와 상기 기판 전달부는 수평상태에서 서로 간섭을 일으키지 않으며 서로 중첩된다. 이때 상기 기판 인출부는 수평 상태를 그대로 유지한 채 기판 전달부가 구동원에 의하여 일정한 각도로 상승된다. 그러면 기판을 일정한 각도로 기울어진 상태로 기판 전달부에 제공된 구동부에 의하여 진행 방향이 바뀐 상태로 또 다른 프로세싱 베스로 인입한다. 그리고 프로세싱 베스에 기판이 처리되고, 처리된 기판은 경사진 상태로 배치되어 있는 기판 배출부로 전달된다. 그리고 상기 기판 배출부는 경사진 상태로 상기 프로세싱 베스에서 나오는 기판을 전달받아 구동원에 의하여 수평으로 유지되면 별도의 로봇 등에 의하여 기판의 이송이 이루어진다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명에 따른 실시 예를 설명하기 위한 전체적인 사시도이고, 도 2는 도 1의 주요부분을 확대하여 도시한 도면으로, 기판 처리 장치(평판 디스플레이 처리 장치)를 도시하고 있다. 상기 기판 처리 장치는 프레임 등이 결합되어 이루어질 수 있으며, 틀을 이루는 베이스(1), 상기 베이스(1)에 결합되는 기판 공급부(3) 및 기판 배출부(5), 상기 기판 공급부(3)를 통하여 전달받은 기판을 처리하기 위한 하나 이상의 프로세싱 베스(7, 9, 여러 개로 이루어질 수 있으나 편의상 2개만을 도시하여 설명함), 상기 프로세싱 베스(7, 9)에서 처리된 기판의 이송 방향을 바꾸는 기판 방향 전환부(11), 그리고 상기 기판 방향 전환부(11)에서 진행 방향이 바뀐 기판을 처리하여 기판 배출부(5)로 배출하는 또 다른 프로세싱 베스(13, 15, 여러 개로 이루어질 수 있으나 편의상 2개만을 도시하여 설명)를 도시하고 있다.
상기 기판 공급부(3)는, 도 2에 도시하고 있는 바와 같이, 베이스(1)에 힌지 결합(도 2에서 H1으로 표시)되어 일정한 경사로 회전될 수 있는 구조로 배치된다.
상기 기판 공급부(3)는 일정한 간격을 가지는 프레임(21, 23)들이 구비되고, 상기 프레임(21, 23)들에 소정의 간격으로 회전축(25)들이 결합된다. 상기 회전축(25)들은 기판(도시생략)의 이송 방향과 대략 직각으로 배치되고, 모터(27)등의 구동원에 의하여 회전될 수 있는 구조를 가진다. 그리고 상기 기판 공급부(3)는 상기 회전축(25)들에 다수의 롤러(29) 등이 결합되어 기판을 이동시킬 수 있는 구조를 가진다. 상기 기판 공급부(3)가 상기 모터(27)에 의하여 구동되는 상기 롤러(29)로 이루어지는 구동부를 가지는 것은, 통상적인 구조가 사용될 수 있다. 즉, 상기 회전축(25)들은 모터(27) 등의 구동원에 의하여 회전될 수 있는 구조를 가지는데, 이것은 체인(C) 또는 기어 등에 의하여 구동원의 구동력이 회전축(25)에 전달될 수 있는 통상의 구조를 가지는 것이다. 상기 기판 공급부(3)는 일측(프레임 21 부분)이 베이스(1)에 힌지 결합(H1)되고, 일측은 자유단을 가지는 구조로 배치된다.
그리고 상기 기판 공급부(3)는 에어 실린더(31) 또는 모터 등의 또 다른 구동원에 의하여 힌지 결합된 부분을 중심으로 자유단이 회전될 수 있는 구조를 가진다. 상기 에어 실린더(31) 또는 모터 등은 상기 베이스(1)에 결합될 수 있다.
상기 기판을 처리하기 위한 프로세싱 베스(7, 9)는 열을 이루며 1개 이상 배치될 수 있다. 상기 프로세싱 베스(7, 9)의 내부에는 기판을 처리하기 위한 액 분사 노즐(N, 세정장치의 경우) 등이 배치될 수 있으며, 기판이 경사진 상태로 처리되도록 경사진 형태의 이송부(33, 35, 도 1에서 보이는 부분만 번호를 부여 함)들을 가질 수 있다. 상기 이송부(33, 35)들은 경사진 상태로 기판이 처리되면서 기판이 이송되는 통상의 구조를 가질 수 있으므로 상세한 설명은 생략한다.
상기 프로세싱 베스(7, 9)를 통과하여 나오는 기판의 이송 방향을 바꾸어 또 다른 프로세싱 베스(13, 15)에 유입시키기 위한 기판 방향 전환부(11)는, 도 5에 도시하고 있는 바와 같이, 베이스(1)에 힌지 결합되어 평면을 유지할 때는 서로 중첩이 가능하고, 경사질 때에는 서로 일정한 각을 이루며 자유단이 대향하는 자세를 가지는 기판 인출부(41) 및 기판 전달부(43)를 포함한다.
상기 기판 인출부(41)는 베이스(1)에 힌지 결합될 수 있는 프레임(51)이 구비되고, 상기 프레임(51)에 일정한 간격으로 회전축(53)이 결합된다. 상기 회전축(53)들은 프레임(51)과 결합된 부분의 반대측 부분이 자유단으로 이루어진다. 상기 회전축(53)들은 기판의 이송 방향과 대략 직각으로 배치되고, 또 다른 모터(55) 등의 구동원에 의하여 회전될 수 있는 구조를 가진다. 그리고 상기 기판 인출부(41)는 상기 회전축(53)들에 다수의 롤러(57) 등이 결합되어 기판을 이동시킬 수 있는 구조를 가진다. 상기 기판 인출부(41)가 상기 모터(55)에 의하여 구동되는 상기 롤러(57)로 이루어지는 구동부를 구비하는 것은, 통상적인 구조가 사용될 수 있다. 즉, 상기 회전축(53)들은 모터(55) 등의 구동원에 의하여 회전될 수 있는 구조를 가지는데, 이것은 체인 또는 기어 등에 의하여 구동원의 구동력이 회전축(53)에 전달될 수 있는 통상의 구조를 가지는 것이다.
그리고 상기 기판 인출부(41)는 에어 실린더(59) 또는 모터 등의 또 다른 구동원(액츄에이터)에 의하여 상기 베이스(1)에 힌지 결합된 부분을 중심으로 자유단이 회전될 수 있는 구조를 가진다. 상기 에어 실린더(59) 또는 모터 등은 상기 베이스(1)에 결합될 수 있다.
상기 기판 전달부(43)는 상기 기판 인출부(41)와 동일한 형상으로 배치되는데 다만, 서로 대향되는 자세로 경사를 이룰 수 있으며, 서로 간섭이 일어나지 않도록 수평으로 교차될 수 있는 구조를 가지는 것이다. 즉, 상기 기판 전달부(43)는 베이스(1)에 힌지 결합될 수 있는 프레임(71)이 구비되고, 상기 프레임(71)에 일정한 간격으로 회전축(73)이 결합된다. 상기 회전축(73)들은 프레임(71)과 결합된 부분의 반대측 부분이 자유단으로 이루어진다. 상기 회전축(73)들은 기판의 이송 방향과 대략 직각으로 배치되고, 또 다른 모터(75) 등의 구동원에 의하여 회전될 수 있는 구조를 가진다. 그리고 상기 기판 전달부(43)는 상기 회전축(73)들에 다수의 롤러(77) 등이 결합되어 기판을 이동시킬 수 있는 구조를 가진다. 상기 기판 전달부(43)가 상기 모터(75)에 의하여 구동되는 상기 롤러(77)로 이루어지는 구동부를 구비하는 것은, 상술한 기판 인출부(41)에서의 설명과 마찬가지로 통상적인 구조가 사용될 수 있다. 즉, 상기 회전축(73)들은 모터(75) 등의 구동원에 의하여 회전될 수 있는 구조를 가지는데, 이것은 체인 또는 기어 등에 의하여 구동원의 구동력이 회전축(73)에 전달될 수 있는 통상의 구조를 가지는 것이다.
그리고 상기 기판 전달부(43)는 에어 실린더(도시생략, 기판 인출부의 구조와 동일) 또는 모터 등의 또 다른 구동원(액츄에이터)에 의하여 상기 베이스(1)에 힌지 결합된 부분을 중심으로 자유단이 회전될 수 있는 구조를 가진다. 상기 에어 실린더 또는 모터 등은 상기 베이스(1)에 결합될 수 있다.
다시 말하면, 상기 기판 인출부(41) 및 기판 전달부(43)는 상기 베이스(1)의 수평을 기준으로 대략 60°정도의 각도로 회전될 수 있도록 대향 자세로 배치될 수 있음은 물론 서로 간섭을 일으키지 않으면서 수평 자세로 배치될 수 있는 것이다. 상기 기판 인출부(41) 및 상기 기판 전달부(43)가 평면을 이루는 경우에는 상기 회전축들이 서로 사이사이에 배치되어 교차되면서 평면을 이룰 수 있는 구조를 가지는 것이다(도 5에 도시하고 있음). 이러한 기판 인출부(41) 및 기판 전달부(43)의 자세는 에어 실린더(59, 도면에서 보이지 않는 기판 전달부의 에어 실린더는 부호 생략)의 작동에 의하여 변화될 수 있다. 이러한 구조는 기판 인출부(41)와 기판 전달부(43)의 힌지 부분이 이루는 거리를 최소화할 수 있는 상태에서 기판의 이송 방향을 전환할 수 있어 기판 처리 장치의 전체 크기를 줄일 수 있도록 하는 것이다.
상기 기판 전달부(43)에서 이송되는 기판을 또 다른 처리 과정을 통하여 처리하기 위한 또 다른 프로세싱 베스(13, 15)는 하나 이상이 모여 열을 이룰 수 있으며, 상술한 프로세싱 베스(7, 9)와 동일한 구조 및 형상을 가질 수 있다. 즉, 상기 프로세싱 베스(7, 9) 및 또 다른 프로세싱 베스(13, 15)는 기판이 경사진 상태로 이동되면서 기판의 처리가 이루어질 수 있도록 2열의 독립된 형태로 이루어질 수 있다. 상기 프로세싱 베스(13, 15)는 기판이 경사진 형태로 처리됨과 아울러 이송될 수 있는 통상을 구조를 가지는 것이므로 상술한 프로세싱 베스(7, 9)의 설명으로 대치한다.
상기 기판 배출부(5)는, 도 2에 도시하고 있는 바와 같이, 상기 프로세싱 베스(15)에서 처리되어 나오는 기판을 처리하기 위한 다른 장치 등으로 배출하기 위한 것으로, 일정한 간격을 가지는 프레임(91, 93)들이 구비되고, 상기 프레임(91, 93)들에 소정의 간격으로 회전축(95)들이 결합된다. 상기 회전축(95)들은 기판의 이송방향과 대략 직각으로 배치되고, 또 다른 모터(97) 등의 구동원에 의하여 회전될 수 있는 구조를 가진다. 그리고 상기 기판 배출부(5)는 상기 회전축(95)들에 다수의 롤러(99) 등이 결합되어 기판을 이동시킬 수 있는 구조를 가진다. 상기 기판 배출부(5)가 상기 모터(97)에 의하여 구동되는 상기 롤러(99)로 이루어지는 구동부를 구비하는 것은, 통상적인 구조가 사용될 수 있다. 즉, 상기 회전축(95)들은 모터(97) 등의 구동원에 의하여 회전될 수 있는 구조를 가지는데, 이것은 체인 또는 기어 등에 의하여 구동원의 구동력이 회전축(95)에 전달될 수 있는 통상의 구조를 가지는 것이다. 상기 기판 배출부(5)는 상기 기판 공급부(3)의 자유단에 대향하는 자세로 일측(프레임 91부분)이 베이스(1)에 힌지 결합(H2, 도 2에 도시)되고, 일측은 자유단을 가지는 구조로 배치된다.
그리고 상기 기판 배출부(5)는 에어 실린더(101) 또는 모터 등의 또 다른 구동원에 의하여 힌지 결합된 부분을 중심으로 자유단이 회전할 수 있는 구조를 가진다. 상기 에어 실린더(101) 또는 모터 등은 상기 베이스(1)에 결합될 수 있다.
즉, 상기 기판 공급부(3) 및 기판 배출부(5)는 상기 베이스(3)에 대략 60°정도의 각도로 회전될 수 있도록 대향되는 자세로 배치되며, 에어 실린더(31, 101)가 상기 기판 공급부(3) 및 상기 기판 배출부(5)의 자세를 변환시킬 수 있는 것이다. 이러한 구조는 기판 공급부(3) 및 기판 배출부(5)의 힌지 결합 부분 사이의 거리(H1에서 H2의 거리)를 최대로 짧게 구성하여 기판 처리 장치의 전체 크기를 줄일 수 있도록 하는 것이다.
이와 같이 이루어지는 본 발명의 기판 처리 과정을 상세하게 살펴보면 다음과 같다.
에어 실린더(31)의 작동에 의하여 기판 공급부(3)가 수평 상태로 유지되도록 하고, 또 다른 에어 실린더(101)의 작동에 의하여 기판 배출부(5)가 대략 60°정도의 각도를 유지한 상태로 배치되도록 한다. 상기 에어 실린더(31)는 도시하지 않은 별도의 제어유닛에 의하여 제어될 수 있다. 이때 로봇(도시생략) 등에 의하여 기판이 상기 기판 공급부(3)의 수평면(상면)에 안착되고, 제어유닛은 에어 실린더(31)를 제어하여 기판 공급부(3)가 대략 60°정도 경사지도록 힌지점(H1, 도 2에 도시하고 있음)을 중심으로 회전되도록 한다. 그리고 모터(27)가 제어유닛에 의하여 구동되어 회전축(25)을 회전시키면 롤러(29)들이 회전되면서 기판(G1, 도 3에 도시하고 있음)이 경사진 상태(도 3에 도시하고 있음)로 프로세싱 베스(7, 9) 내로 순차적으로 인입되어 기판의 처리가 이루어진다. 상기 프로세싱 베스(9)에서 처리된 기판은 기판 방향 전환부(11)의 기판 인출부(41)로 전달된다. 상기 프로세싱 베스(9)에서 전달받는 기판은 기판 인출부(41)가 경사진 상태로 전달받는다. 즉, 에어 실린더(59)의 구동에 의하여 기판 인출부(41)가 경사진 상태로 있고, 이 상태에서 기판을 전달받게 된다. 그리고 상기 기판 전달부(43)를 회전시키는 에어 실린더에 의하여 기판 전달부(43)가 수평 상태로 유지된다. 그리고 기판 인출부(41)를 회전시키는 에어 실린더(59)에 의하여 기판이 안착된 상기 기판 인출부(41)가 수평 상태로 유지된다(5에 도시한 상태). 다시 설명하면, 상기 기판 인출부(41) 및 기판 전달부(43)는 베이스에 힌지 결합되는 힌지 결합부를 중심으로 회전하여 서로 중첩되면서 수평상태를 유지하는 것이다. 상기 기판 인출부(41)에 전달된 기판은, 기판 전달부(43)를 일정한 각도로 회전시키는 에어 실린더의 구동에 의하여 일정한 경사각으로 회전된다(대략 60°정도). 그러면 기판은 경사진 상태로 상기 기판 전달부(43)에 안착되고, 롤러 등의 구동부에 의하여 기판을 처리하기 위한 또 다른 프로세싱 베스(13)로 인입된다. 상기 기판(도 3에서 G2의 상태)은 상기 프로세싱 베스(13, 15)를 순차적으로 지나면서 기판 처리가 이루어지고, 경사진 상태로 기판 배출부(5)로 전달된다. 상기 기판 배출부(5)는 에어 실린더(101)의 구동에 의하여 경사진 상태로 기판을 전달받아 힌지 결합부(H2, 도 2에 도시하고 있음)를 중심으로 회전하여 수평 상태를 유지하게 된다. 그러면 로봇 등에 의하여 기판은 옮겨져 다음 공정을 위한 장치로 이송되는 것이다. 즉, 본 발명의 기판 처리 흐름은, 도 4에 도시하고 있는 바와 같이, 기판 공급부(3), 프로세싱 베스(7, 9), 기판 인출부(41), 기판 전달부(43), 또 다른 프로세싱 베스(13, 15), 그리고 기판 배출부(5)를 순차적으로 지나는 과정을 거치게 되는 것이다(점선 화살표 방향).
이러한 본 발명은 기판 공급부(3) 및 기판 배출부(5)가 동일한 지점에 위치하여 하나의 로봇 등으로 처리가 가능하여 설비 비용을 줄일 수 있음은 물론 경사진 상태로 연속적인 기판 처리 흐름을 가지게 되어 생산성을 향상시킬 수 있으며, 평판 디스플레이 처리 장치가 차지하는 면적을 최소화시킬 수 있는 이점을 가진다.
이와 같이 본 발명은 기판이 경사진 형태로 처리됨과 아울러 기판 공급부 및 기판 배출부가 서로 교대되면서 기판의 공급 및 배출이 이루어지는 평판 디스플레이 처리 장치를 제공하고, 하나의 로봇에 의하여 기판의 공급 및 배출이 이루어지도록 하여 기판 처리 장치의 설치 면적을 최소화할 수 있어 생산 설비 비용을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.
또한 본 발명은 기판의 방향을 전환할 수 있는 기판 방향 전환부가 서로 교차되면서 기판의 이송 방향을 전환할 수 있어 기판 방향 전환부의 배치 면적을 최소화시킬 수 있어 평판 디스플레이 처리 장치의 크기를 더욱 줄일 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 평판 디스플레이 처리 장치의 전체적인 구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 도 1의 주요부를 확대하여 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명에 따른 베스의 형상을 도식화한 도면이다.
도 4는 본 발명에 따른 평판 디스플레이 처리 장치의 기판 이송/처리 순서를 설명하기 위하여 도식화한 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 기판 방향 전환부를 상세하게 도시한 평면도이다.

Claims (8)

  1. 베이스;
    상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 자유단부로 이루어지며, 기판 이송을 위한 구동부가 구비되며, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되는 기판 공급부;
    상기 베이스에 배치되며, 상기 기판 공급부를 통하여 이송되는 기판을 처리하는 하나 이상의 프로세싱 베스;
    상기 프로세싱 베스를 통하여 경사진 자세로 기판을 전달받아 이 경사진 자세의 기판을 경사각 0°에 접근하는 자세로 변환시키는 기판 인출부, 그리고 상기 기판 인출부에서 자세가 변환되는 기판을 접수하여 상기 경사각과 역경사각으로 기판의 자세를 변환하여 이동시키는 기판 전달부를 포함하는 기판 방향 전환부;
    상기 기판 방향 전환부에 전달된 기판을 공급받아 처리하며, 상기 프로세싱 베스와 나란하게 배치되는 하나 이상의 또 다른 프로세싱 베스;
    상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 또 다른 자유단부로 이루어지며, 상기 자유단부가 상기 기판 공급부의 자유단부에 대향하는 자세로 배치되며, 상기 프로세싱 베스를 통하여 전달되는 기판을 이송하기 위한 또 다른 구동부가 제공되며, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되는 기판 배출부;
    를 포함하는 평판 디스플레이 처리 장치.
  2. 베이스;
    상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 자유단부로 이루어지며, 기판 이송을 위한 구동부가 구비되며, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되는 기판 공급부;
    상기 베이스에 배치되며, 상기 기판 공급부를 통하여 이송되는 기판을 처리하는 하나 이상의 프로세싱 베스;
    상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 자유단부로 이루어지며, 상기 프로세싱 베스를 통하여 배출되는 기판을 전달받으며, 기판 이송을 위한 구동부가 구비되고, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되는 기판 인출부, 그리고 상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 자유단부로 이루어지며, 상기 자유단부가 상기 기판 인출부의 자유단부에 대향되는 자세로 배치되고, 상기 기판 인출부로 전달된 기판을 전달받으며, 기판 이송을 위한 구동부가 구비되고, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합 부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되거나 또는 상기 기판 인출부와 동일 평면을 이루도록 이동되는 기판 전달부를 포함하는 기판 방향 전환부;
    상기 기판 방향 전환부에 전달된 기판을 공급받아 처리하며, 상기 프로세싱 베스와 나란하게 배치되는 하나 이상의 또 다른 프로세싱 베스;
    상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 또 다른 자유단부로 이루어지며, 상기 자유단부가 상기 기판 공급부의 자유단부에 대향하는 자세로 배치되며, 상기 프로세싱 베스를 통하여 전달되는 기판을 이송하기 위한 또 다른 구동부가 제공되며, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되는 기판 배출부;
    를 포함하는 평판 디스플레이 처리 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 기판 공급부, 상기 기판 배출부, 상기 기판 방향 전환부에 제공되는 구동부는 기판 이송을 위한 다수의 롤러가 배치되며, 상기 롤러는 또 다른 구동원에 의하여 회전하는 회전 평판 디스플레이 처리 장치.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 구동원은 에어 실린더 또는 모터로 이루어지는 평판 디스플레이 처리 장치.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 프로세싱 베스는 내부에 경사진 형태의 기판 이송부를 구비한 평판 디스플레이 처리 장치.
  6. 베이스;
    상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 자유단부로 이루어지며, 이송된 기판을 전달받으며, 기판 이송을 위한 구동부가 구비되고, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되는 기판 인출부;
    상기 베이스에 일측이 힌지 결합되고, 또 다른 일측이 자유단부로 이루어지며, 상기 자유단부가 상기 기판 인출부의 자유단부에 대향되는 자세로 배치되고, 상기 기판 인출부로 전달된 기판을 전달받으며, 기판 이송을 위한 구동부가 구비되고, 또 다른 구동원에 의하여 상기 힌지 결합 부분을 중심으로 회전하여 경사지게 이동되거나 또는 상기 기판 인출부와 동일 평면을 이루도록 이동되는 기판 전달부;
    를 포함하는 평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치.
  7. 베이스;
    상기 베이스에 힌지 결합되어 일정한 각도로 회전할 수 있는 프레임,
    상기 프레임에 결합되는 구동원,
    상기 구동원의 동력을 전달받아 회전하며, 상기 프레임에 결합되며, 일정한 간격으로 배치되는 다수의 회전축,
    상기 회전축에 결합되어 상기 회전축과 함께 회전하는 다수의 롤러,
    상기 프레임이 회전축 방향으로 연장된 연장부,
    상기 베이스 및 상기 연장부에 결합되고, 상기 다수의 회전축이 경사각으로 가지도록 이동시키는 액츄에이터,
    를 포함하는 기판 인출부; 그리고
    상기 베이스에 힌지 결합되어 일정한 각도로 회전할 수 있는 또 다른 프레임,
    상기 또 다른 프레임에 결합되는 구동원,
    상기 구동원의 동력을 전달받아 회전하며, 상기 프레임에 결합되며, 상기 회전축의 자유단과 대향하는 자세로 배치되며, 상기 회전축이 이루는 간격 사이에 배치될 수 있는 다수의 또 다른 회전축,
    상기 회전축에 결합되어 상기 회전축과 함께 회전하는 다수의 또 다른 롤러,
    상기 프레임이 회전축 방향으로 연장된 또 다른 연장부,
    상기 베이스 및 상기 연장부에 결합되고, 상기 다수의 회전축이 경사각을 가지도록 이동시키는 또 다른 액츄에이터,
    를 포함하는 기판 전달부;
    를 더 포함하는 평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 액츄에이터는 피스톤 로드를 구비한 공압 실린더로 이루어지는 평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치.
KR1020030054182A 2003-08-05 2003-08-05 평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치 및 이를이용한 평판 디스플레이 처리 장치 KR20050015393A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030054182A KR20050015393A (ko) 2003-08-05 2003-08-05 평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치 및 이를이용한 평판 디스플레이 처리 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030054182A KR20050015393A (ko) 2003-08-05 2003-08-05 평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치 및 이를이용한 평판 디스플레이 처리 장치

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060008968A Division KR100602410B1 (ko) 2006-01-27 2006-01-27 평판 처리 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20050015393A true KR20050015393A (ko) 2005-02-21

Family

ID=37226189

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030054182A KR20050015393A (ko) 2003-08-05 2003-08-05 평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치 및 이를이용한 평판 디스플레이 처리 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20050015393A (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6234738B1 (en) Thin substrate transferring apparatus
EP2322291B1 (en) System comprising a cleaning device adapted to eject high-pressure cleaning liquid and an object to be cleaned
CN216154882U (zh) 带自动翻板功能的植板机
KR20100081153A (ko) 이송 시스템
KR20080064314A (ko) 유체 분사장치
JP2000296463A (ja) 両面研磨装置システム
KR20090006984A (ko) 이중 롤러를 이용한 디버터 컨베이어
KR100602410B1 (ko) 평판 처리 장치
KR100876616B1 (ko) 방향전환 롤러를 이용한 디버터 컨베이어
CN101339316B (zh) 基板输送装置
CN100516984C (zh) 传送系统
KR20050015393A (ko) 평판 디스플레이 기판 이송 방향 전환 장치 및 이를이용한 평판 디스플레이 처리 장치
KR20060117663A (ko) 평판 디스플레이 제조를 위한 세정 브러시 유닛
KR100560957B1 (ko) 평판 디스플레이 기판의 공급 및 배출 장치
KR100613781B1 (ko) 표면설치기에서의 흡착 노즐 변경장치
KR100739100B1 (ko) 기판이송장치
KR20080060875A (ko) 습식공정을 위한 기판 이송용 트랙
KR101088041B1 (ko) 고속 업/다운 디버터 컨베이어
KR101127818B1 (ko) 디스플레이장치용 기판 세정 장치
KR20110122007A (ko) 다축으로 스트로크가 조절되는 아암이 구성된 기판 반송장치
CN101882565B (zh) 一种在线处理设备
KR100521399B1 (ko) 평판 표시 소자 제조 장치
KR100881205B1 (ko) 시소운동타입 공정 챔버용 이송장치
CN113697435B (zh) 一种基于过孔穿叉状态的pcb板传输方法及系统
KR100934769B1 (ko) 기판 이송 시스템

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
A107 Divisional application of patent
AMND Amendment
E801 Decision on dismissal of amendment
B601 Maintenance of original decision after re-examination before a trial
J121 Written withdrawal of request for trial