KR20040089691A - 청소 목적으로 의도된 원반 형상 청소 요소로서의 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 청소기에 의한 청소 목적으로 의도된 원반형 청소 요소로서의 장치에 관한 것이다. 그 청소 요소는 능동적인 청소면(2a)에 복수의 오목부(3)가 분포되도록 설계된다. 그 오목부 내에는, 공업용 다이아몬드를 포함하고 석재 및 콘크리트 바닥을 연마하는 데 통상적으로 사용되는 연마 요소(4)가 배치된다. 연마 요소는 상기 원반(2)가 가압될 때, 상기 연마 요소(4)가 청소될 표면과 가볍게 접촉되도록 배치된다. 본 발명은 또한 통상적으로 청소기로 수행되는 습식 청소와 관련된 청소 요소의 용도에 관한 것이다. 상기 장치는 선택적으로 청소 요소를 이용하여 건식 연마를 우선 행하고, 이어서 통상적인 청소 요소를 사용하여 습식 청소를 행하는 방식으로 사용되어도 좋다.

Description

청소 목적으로 의도된 원반 형상 청소 요소로서의 장치{DEVICE IN A CIRCULAR, DISK-SHAPED ELEMENT INTENDED FOR CLEANING PURPOSES}

예컨대, 백화점의 바닥을 청소하는 전문적인 바닥 청소에 있어서는, 오물을 기계적으로 제거하기 위한 시도로서, 종종 화학 물질을 부가해 가면서, 청소기를 사용하고 있다. 바닥들이 점점 더 마모됨에 따라, 즉 긁히고 균열됨에 따라, 특히 화학적인 마모에 노출되는 유제품 및 정육 코너에서는 청소 결과가 점점 나빠지는데, 이를 해소하려는 시도로서 심지어 더 많은 양의 보다 강력하게 작용하는 화학 물질을 사용해 왔다. 이러한 방법으로 오염된 구역의 청소를 끝낸다고 말할 수도 있다.

비록, 바닥을 연마하여 오물이 누적되는 흠집과 균열을 제거함으로써, 이러한 오염 구역을 제거할 수 있다고 하는 것이 진실이라고 하더라도, 그러한 연마에는 특별한 기계가 필요하고, 그것을 행하는 데에는 비교적 긴 시간이 소요되며, 또한 비용도 비교적 비싸다.

미국 특허 제5,054,245 A호, 미국 특허 제5,605,493 A호 및 미국 특허 제6,234,886 B1호가 종래 기술의 예로서 인용된다. 이들 간행된 특허는 청구항 1의전제부에 규정된 형태의 장치에 관한 것으로, 더 구체적으로 말하자면, 보다 양호한 청소 결과를 얻기 위하여, 청소기의 보통의 청소 요소들이, 예컨대 석재 바닥 연마용 다이아몬드와 같은 연마재를 포함하는 연마 요소들과 조합되어 있는 청소기에 관한 것이다.

본 발명은 청구항 1의 전제부에 따른 장치에 관한 것이다.

도 1a는 나일론 정련 표면(nylon scouring surface)을 구비한 본 발명에 따른 청소 요소를 예로서 보여주고 있는 사시도이다.

도 1b는 도 1a의 청소 요소의 관통 단면도이다.

도 2는 브러시 표면을 구비하고, 연마 요소가 도 1a의 것과는 다른 패턴으로 배치되어 있는 또 다른 한 가지 실시예를 보여주는 사시도이다.

도 3은 스프링으로 장착된 열가소성 홀더 내의 연마 요소 관통 단면도이다.

본 발명의 목적은 청소가 보다 효율적으로 이루어질 수 있게 하고, 두 연마 작업 사이의 시간 간격이 상당히 연장될 수 있게 하는 전술한 형태의 장치를 제공하는 데 있다. 이는, 본 발명이 청구항 1의 특징부에 기재된 특징 구조들을 가짐으로써 달성된다.

종속항인 청구항 2 및 청구항 3은 본 발명의 유리한 실시예를 특정하고 있다.

본 발명은 또한 청구항 4에 기재된 바와 같은, 본 발명에 따른 청소 요소의 용도에 관한 것이다.

이하, 본 발명을 첨부 도면을 참고로 더 자세히 설명하겠다.

청소 결과를 향상시키도록 의도되어 있고, 이에 따라 약간 볼록한 강성(剛性) 저부 원반(1)를 구비하는 본 발명에 따른 원반 형상 청소 요소는 통상적인 형태의 청소기에 장착된다. 저부 원반(1)에는, 경험적으로 양호한 청소 결과를 제공하는 소재로 제조된 원반(2)이 장착된다. 그러한 소재의 예로는 이른바 나일론 정련재(nylon scouring material)가 있다. 원반(2)에는 그것의 능동적인 청소면(2a)에 분포되는 복수의 오목부(3)가 있다. 상기 오목부 내에는, 청소 작업시에 청소 대상 표면과 단지 가볍게만 접촉하도록 연마 요소(4)가 배치된다. 여러 가지 패턴으로 배치되고, 도 1에 도시된 실시예에서는 삼각형의 모서리에 배치된 이들 연마 요소(4)는 석재 또는 콘크리트 바닥을 연마하는 데 사용되는 일반적인 형태의 것으로 공업용 다이아몬드를 포함하고 있다. 연마 요소(4)가 청소 대상 표면과 단지 가볍게만 접촉해야 하는 조건은, 사용시 원반(2)이 가압될 때 이들 연마 요소(4)의 능동적인 청소면(4a)이 원반(2)의 능동적인 청소면(2a)의 바로 아래에 놓임으로써 충족된다.

도 3에 도시되어 있는 바와 같이, 각 연마 요소(4)는 열가소성 플라스틱 홀더(4b)로 감싸여 있고, 이 홀더는 다시 청소 요소의 저부 원반(1)상에 스프링으로 장착되어 있다. 그 스프링은 실리콘 스프링 원반(5)으로 이루어져 벨크로(Velcro) 요소(6)에 의하여 저부 원반(1)에 고정되는 것이 바람직하다.

그 청소 요소는, 본 발명의 다른 한 가지 특징으로 명백하고 또한 도 2에 도시되어 있는 바와 같이, 브러시 표면을 갖도록 설계되는데, 즉 원반(2)은 브러시형 재료이다. 당연히, 원반(2)을 나일론 정련재와 브러시형 재료를 조합적으로 구비하도록 설계할 수 있다는 것을 이해할 것이다. 도 2에 도시된 실시예에서, 연마 요소는 방사상 열을 이루어 배치되고, 각 연마 요소에 오목부가 마련되어 있다.

상기 장치는 선택적으로는, 우선 본 발명에 따른 청소 요소를 사용하여 건식 폴리싱(dry polishing)을 행하고, 이어서 나일론 정련 원반(nylone scoring disk)과 같은 통상적인 청소 요소를 사용하여 습식 청소를 행하는 방식으로 이용해도 좋다.

Claims (4)

1. 청소기에 의한 청소 목적으로 의도된 원반형 청소 요소로서의 장치로서, 능동적인 청소면(2a)에 복수의 오목부(3)가 분포되도록 설계되고, 그 오목부 내에는 공업용 다이아몬드를 포함하고 석재 및 콘크리트 바닥을 연마하는 데 통상적으로 사용되는 연마 요소(4)가 배치되어 상기 원반(2)의 가압시 청소 대상 표면과 가볍게 접촉되는 것인 장치에 있어서,

   각 연마 요소(4)는 열가소성 홀더(4b) 내에 감싸여 있고, 그 열가소성 홀더(4b)는 다시 상기 청소 요소에 스프링으로 장착되어 있는 것을 특징으로 하는 청소 목적으로 의도된 원반 형상 청소 요소로서의 장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 청소 요소는 소위 나일론 정련 원반(2)을 포함하는 것을 특징으로 하는 청소 목적으로 의도된 원반 형상 청소 요소로서의 장치.
3. 제1항에 있어서, 상기 청소 요소는 브러시 표면을 갖도록 설계되는 것을 특징으로 하는 청소 목적으로 의도된 원반 형상 청소 요소로서의 장치.
4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 하나의 항에 따른 청소 요소를 이용하여 우선 건식 폴리싱(dry polishing)을 행하고, 이어서, 통상적인 청소 요소를 이용하여 습식 청소를 행하는 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 하나의항에 따른 청소 요소의 용도.