KR20040081350A - 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 패턴을기판의 양면에 형성하는 패턴 묘화 장치 및 패턴 묘화방법, 그리고 이 패턴 묘화 장치에 사용하기 위한 테스트장치 - Google Patents

기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 패턴을기판의 양면에 형성하는 패턴 묘화 장치 및 패턴 묘화방법, 그리고 이 패턴 묘화 장치에 사용하기 위한 테스트장치 Download PDF

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Abstract

기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 패턴을 기판의 양면에 형성하기 위한 패턴 묘화 장치로서, 마스크리스 노광 수단 또는 잉크젯 패터닝 수단 등의 직접 묘화 수단을 사용하여 소정의 데이터에 따라 기판의 양면에 직접 패턴을 묘화함으로써, 기판의 양면에 패턴을 형성한다.

Description

기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 패턴을 기판의 양면에 형성하는 패턴 묘화 장치 및 패턴 묘화 방법, 그리고 이 패턴 묘화 장치에 사용하기 위한 테스트 장치{PATTERN DRAWING APPARATUS AND PATTERN DRAWING METHOD FOR FORMING PATTERNS, THAT HAVE MIRROR IMAGE RELATIONSHIP TO EACH OTHER WITH RESPECT TO A SUBSTRATE, ON BOTH SIDES OF THE SUBSTRATE, AND TEST APPARATUS FOR USE IN THE PATTERN DRAWING APPARATUS}
본 발명은 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 패턴을 기판의 양면에 형성하는 패턴 묘화 장치 및 패턴 묘화 방법, 그리고 이 패턴 묘화 장치에 사용하기 위한 테스트 장치에 관한 것이다.
기판의 양면 위에 상기 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 패턴을 형성할 때, 기판의 각 면 위에 형성되는 패턴은 형상과 위치가 정확하게 일치되어야 한다. 다시 말해, 기판이 한쪽 면으로부터 광학적으로 관통되어서 관측되는 경우, 각 면 위에 형성되는 패턴은 중첩되게 보여야 한다.
도 8은 서로의 미러 이미지인 패턴이 형성된 기판의 양면 중 한쪽 면을 나타내는 도면이다. 도 9는 서로의 미러 이미지인 패턴이 형성된 기판의 양면 중 다른 한쪽 면을 나타내는 도면이다.
기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 패턴의 대표예는 리드 프레임 부재의 리드 패턴을 포함한다. 리드 프레임은 듀얼 인라인 패키지(dual inline package)(DIP) 등의 IC 패키지에서 외부 장치에 IC 칩을 전기적으로 접속하기 위해 사용된다.
일본국 특개평5-190531호 공보에 기재된 것처럼, 리드 프레임은 약 0.2mm의 두께를 갖는 니켈 도금 코바(Kovar) 또는 구리 판을 에칭이나 펀칭함으로써 형성된다.
또한, 일본국 특개평2-158160호 공보 및 일본국 특개2001-42544호 공보에 기재된 것처럼, 에칭에 의해 리드 패턴을 형성하는 경우, 원하는 리드 패턴에 따른 레지스트 패턴을 리드 프레임 부재 위에 형성하고, 리드는 에칭을 실시함으로써 형성된다.
도 10은 기판의 양면 위에 서로 미러 이미지인 패턴을 정확하게 형성하기 위해 필요한 정렬 마크를 나타내는 도면이다. 일반적으로, 에칭을 이용한 리드 프레임 제조 공정에서, 도 10에 도시된 것과 같은 정렬 마크(60)는 노광되는 기판의 양면 사이의 패턴 위치를 정확하게 정렬하기 위한 가이드(guide) 마크로서 기판의 양면 위의 소정 위치에 미리 형성된다. 이 도면에서, 정렬 마크는 기판의 크기에 비해 크게 과장된 것이지만, 실제로는 핀홀(pinhole) 만큼 작은 것이다.
가이드 마크로서 정렬 마크를 사용하여, 포토 레지스트(photoresist)가 기판의 한쪽 면(이하에서 "A면"이라고 한다) 위에 도포되고, A면 위에 노광 패턴을 형성하기 위해 포토 마스크를 설치한 후, A면은 노광된다.
마찬가지로, 가이드 마크로서 정렬 마크를 사용하여, 포토 레지스트가 기판의 다른 한쪽 면(이하에서 "B면"이라고 한다) 위에 도포되고, B면 위에 노광 패턴을 형성하기 위해 포토 마스크를 설치한 후, B면은 노광된다.
여기서, B면 위에 설치된 포토 마스크는 A면 위에 설치된 포토 마스크와 미러 이미지 관계에 있으며, 노광 패턴의 위치가 기판의 양면 위에서 서로 일치되도록, 가이드 마크로서 A면 및 B면 위에 형성된 정렬 마크를 사용하여, B면 위에 설치된 포토 마스크의 위치가 조정된다. 본 명세서에서, 이 조정 과정을 "포토 마스크 정렬 공정"이라고 한다.
노광이 기판의 양쪽 A면 및 B면에서 종료된 경우, 기판은 레지스트 패턴을 형성하기 위해 현상되며, 레지스트 패턴으로부터 노출된 부분은 에칭되어서, 원하는 패턴을 갖는 리드 프레임을 얻게 된다.
종래의 에칭을 사용한 리드 프레임 제조 방법에 있어서, 기판의 각 면에 하나씩, 다른 패턴의 2개의 포토 마스크가 요구되기 때문에, 비용이 비교적 높다. 특히, 시험 제작 횟수가 증가할 수록, 비용은 증가한다.
또한, 종래 기술은 상술한 것처럼 포토 마스크 정렬을 요구한다. 포토 마스크 패턴의 형상에 대해서는, 데이터의 미러 이미지 변환만을 요구하기 때문에 비교적 용이하게 실현할 수 있다. 하지만, 포토 마스크 패턴의 위치 정렬에 대해서는, 가이드 마크로서 정렬 마크를 사용하여 기판의 양면이 광학적으로 처리되어야 하기 때문에, 제조 공정은 복잡하게 되며, 시간도 소모하게 된다.
또한, 상술한 포토 마스크 정렬과 노광이 기판의 양면에 실행되어야 하므로, 즉, 포토 마스크 정렬 및 노광이 각각 2회 실행되어야 하므로, 이 방법이 사용되는 한 제조 공정을 단축시키는 것은 곤란하다.
통상, 각 포토 마스크는 사용을 위해 기판과 밀착되게 배치되지만, 동일 포토 마스크의 사용 가능 횟수는 한계가 있다. 이것은, 포토 마스크가 수명을 다한 경우, 새로운 포토 마스크가 제조되어야 한다는 것을 의미한다. 이것은 제조 비용을 증가시켜서 비효율적으로 된다.
상기 문제점들을 감안하여, 본 발명은 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 패턴을 기판의 양면에 형성하는 경우 비용을 절감하면서 제조 공정을 단축시킬 수 있는 패턴 묘화 장치 및 패턴 묘화 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 패턴 묘화 장치에서 사용하기 위한 테스트 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 패턴 묘화 장치에 설치된 마스크리스(maskless) 노광 수단에서의 노광 헤드의 기본 원리를 나타내는 도면,
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 패턴 묘화 장치에서 사용되는 노광 헤드의 개념도,
도 3은 정렬 오차(alignment error)의 일례를 나타내는 개략도,
도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 오프라인 조정 모드의 동작을 나타내는 플로차트,
도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 온라인 제조 모드의 동작을 나타내는 플로차트,
도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 오프라인 조정 모드의 동작을 나타내는 플로차트,
도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 온라인 제조 모드의 동작을 나타내는 플로차트,
도 8은 서로의 미러 이미지(mirror image)인 패턴이 형성된 기판의 양면 중 한쪽 면을 나타내는 도면,
도 9는 서로의 미러 이미지인 패턴이 형성된 기판의 양면 중 다른 한쪽 면을 나타내는 도면, 및
도 10은 기판의 양면 위에 서로 미러 이미지인 패턴을 정확하게 형성하기 위해 필요한 정렬 마크를 나타내는 도면이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
1 패턴 묘화 장치
2 마스크리스 노광 수단
3A A면용 노광 헤드
3B B면용 노광 헤드
4A A면용 데이터 처리 시스템
4B B면용 데이터 처리 시스템
51 기판
100 레이아웃(layout) 설계 데이터
Δx X축 방향의 변위
Δy Y축 방향의 변위
Δθ 회전 방향의 변위
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따르면, 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 패턴을 기판의 양면에 형성하기 위한 패턴 묘화 장치로서, 소정의 데이터에 따라 기판의 양면에 직접 패턴을 묘화함으로써, 기판의 양면에 패턴을 형성한다.
직접 묘화 수단은 각 면이 대면하여 배치된 묘화 헤드를 구비하고, 이 묘화 헤드 사이에 기판을 배치함으로써 기판의 양면에 패턴을 직접 묘화한다.
또한, 본 발명에 따르면, 상술한 바와 같이 양면에 패턴을 형성한 테스트 기판을 사용하여 패턴의 미러 이미지 관계로부터 변위를 검출하고, 묘화 데이터에 따라 실제로 직접 패턴을 묘화할 때 기판의 양면에 형성된 패턴 사이에서 미러 이미지 관계를 유지하도록 검출된 변위에 기초하여 묘화 데이터를 보정한다.
본 발명의 제 1 양태에 따르면, 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 노광 패턴을 상기 기판의 양면에 형성하기 위한 패턴 묘화 장치로서, 소정의 데이터에 따라 기판의 양면을 마스크리스 노광함으로써 노광 패턴을 상기 기판의 양면에 형성하는 마스크리스 노광 수단을 구비하는 패턴 묘화 장치가 제공된다. 상기 마스크리스 노광 수단은 각 면이 대면하여 배치된 노광 헤드를 구비하고, 상기 노광 헤드의 대응하는 각 면이 서로 대면하도록 기판을 배치하여, 상기 기판의 양면을 마스크리스 노광한다.
바람직하게, 본 발명의 제 1 양태에 따른 패턴 묘화 장치는, 상기 마스크리스 노광 수단에 의해 노광 패턴이 양면에 형성된 테스트 기판을 사용하여 노광 패턴의 미러 이미지 관계로부터의 변위(displacement)를 검출하는 검출 수단, 및 노광 데이터에 따라 마스크리스 노광 수단에 의해 마스크리스 노광하여 기판의 양면에 노광 패턴을 형성할 때에, 이 노광 패턴 사이에서 미러 이미지 관계가 유지되도록 상기 검출 수단에 의해 검출된 변위에 기초하여 상기 노광 데이터를 보정하는 보정 수단을 더 구비한다.
특히, 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 노광 패턴을 기판의 양면에 형성하기 위한 패턴 묘화 장치에서 사용하기 위한 테스트 장치는 이하의 구성요소를 포함한다.
즉, 상기 테스트 장치는, 대면하여 설치된 노광 헤드를 갖고, 상기 노광 헤드 사이에 노광 대상으로 되는 기판을 샌드위치함으로써 상기 기판의 양면을 마스크리스 노광하는 마스크리스 노광 수단; 광을 차단 또는 투과하는 테스트 기판으로서, 그 기판의 양면에 상기 마스크리스 노광 수단을 사용한 마스크리스 노광에 의해 테스트용 노광 패턴을 형성하는 테스트 기판; 상기 테스트용 노광 패턴이 노광에 의해 형성된 테스트 기판의 양면을 현상하는 현상 수단; 상기 현상 수단에 의해 상기 노광 패턴을 형성한 후에, 상기 테스트 기판을 그 한쪽 면으로부터 촬상하는촬상 수단; 상기 노광 수단에 의한 노광 시에는 광을 차단하고, 상기 촬상 수단에 의한 촬상 시에는 광을 투과하도록 상기 테스트 기판을 제어하는 제어 수단; 및 상기 촬상 수단에 의해 촬상된 화상에 기초하여 상기 테스트 기판 상의 상기 테스트용 노광 패턴의 미러 이미지 관계로부터의 변위를 검출하는 검출 수단을 구비한다.
본 발명의 제 2 양태에 따르면, 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 배선 패턴을 상기 기판의 양면에 형성하기 위한 패턴 묘화 장치로서, 소정의 데이터에 따라 기판의 양면에 잉크젯팅하여 상기 패턴을 묘화함으로써 배선 패턴을 형성하는 잉크젯 패터닝 수단을 구비하는 패턴 묘화 장치가 제공된다. 상기 잉크젯 패터닝 수단은 각 면이 대면하여 배치된 잉크젯 헤드를 구비하고, 상기 잉크젯 헤드의 대응하는 각 면이 서로 대면하도록 기판을 배치하여, 상기 기판의 양면에 배선 패턴을 묘화한다.
본 발명의 제 2 양태에 따른 패턴 묘화 장치는, 상기 잉크젯 패터닝 수단에 의해 배선 패턴이 양면에 형성된 테스트 기판을 사용하여 배선 패턴의 미러 이미지 관계로부터의 변위를 검출하는 검출 수단, 및 배선 데이터에 따라 잉크젯 패터닝 수단에 의한 잉크젯팅에 의해 기판의 양면에 배선 패턴을 형성할 때에, 이 배선 패턴 사이에서 미러 이미지 관계가 유지되도록 상기 검출 수단에 의해 검출된 변위에 기초하여 상기 배선 데이터를 보정하는 보정 수단을 더 구비하는 것이 바람직하다.
특히, 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 배선 패턴을 기판의 양면에 형성하기 위한 패턴 묘화 장치에서 사용하기 위한 테스트 장치는 이하의 구성요소를 포함한다.
즉, 상기 테스트 장치는, 각 면이 대면하여 배치된 잉크젯 헤드를 구비하며, 상기 잉크젯 헤드 사이에 기판을 샌드위치함으로써 상기 기판의 양면에 배선 패턴을 묘화하는 잉크젯 패터닝 수단; 광을 투과하는 패널을 구비한 테스트 기판으로서, 그 기판의 양면에 상기 잉크젯 패터닝 수단을 사용한 패턴 묘화에 의해 테스트 배선 패턴을 형성하는 테스트 기판; 상기 테스트 배선 패턴이 형성된 후에 테스트 기판을 그 한쪽 면으로부터 촬상하는 촬상 수단; 상기 촬상 수단에 의해 촬상된 화상에 기초하여 상기 테스트 기판 상의 상기 테스트 배선 패턴의 미러 이미지 관계로부터의 변위를 검출하는 검출 수단을 구비한다.
본 발명에 따르면, 서로 미러 이미지 관계에 있는 패턴을 기판에 형성하는 제조 시에는, 마스크리스 노광 또는 잉크젯 기술을 사용하여 기판의 양면에 패턴을 형성하기 때문에, 처리 속도를 높일 수 있는 동시에, 비용을 줄일 수 있다.
또한, 마스크리스 노광 헤드 또는 잉크젯 헤드의 변위로 인해 생길 수 있는 기판의 양면에 형성된 패턴의 위치 변위가 측정되는 경우와, 그리고 이에 따라 패턴 형성에 사용되는 데이터가 보정되는 경우에, 전자 부품의 위치가 다소의 변위가 있더라도 용이하게 보정될 수 있고, 제조 비용을 저감할 수 있고, 제조 공정을 단축할 수 있다.
또한, 종래예와 같이 포토마스크의 사용 회수를 고려할 필요가 없기 때문에, 제조 비용을 저감할 수 있고, 자원을 절약할 수 있다.
또한, 노광 헤드 또는 잉크젯 헤드의 장착 위치가 시간이 경과함에 따라서 변위가 있게 되는 경우, 예를 들면 이러한 변위를 패턴 형성을 위한 데이터를 보정함으로써 유연하게 대응할 수 있다.
(실시예)
기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 패턴의 예로서 리드 프레임 부재의 리드 패턴을 취함으로써 본 발명의 바람직한 실시예를 이하에서 설명한다. 본 명세서에서는 이해를 용이하게 하기 위해 기판의 윗면 그리고 아랫면을 각각 A면 및 B면이라 한다.
본 발명의 제 1 실시예에서, 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 패턴을 기판의 양면 위에 형성하는 패턴 묘화 장치는 소정의 데이터에 따라 기판의 양면 위에 패턴을 직접 묘화하기 위한 수단으로서 마스크리스 노광 수단을 구비한다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 패턴 묘화 장치에 설치된 마스크리스 노광 수단에서의 노광 헤드의 기본 원리를 나타내는 도면이다.
기판에 대하여 서로 미러 이미지인 리드 프레임 부재의 리드 패턴을 기판의 양면 위에 형성하기 위해 사용되는, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 패턴 묘화 장치(1)는 소정의 데이터에 따라 기판의 양면 위에 포토 레지스트층을 마스크리스 노광함으로써 기판의 양면 위에 노광 패턴을 형성하는 마스크리스 노광 수단(2)을 포함한다. DMD(Digital Micromirror Device)를 사용하는 직접 노광 장치 또는 전자빔 노광 장치 등이 마스크리스 노광 수단으로서 사용될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 마스크리스 노광 수단(2)은 그 헤드 부분이 서로 대향하도록 배치된 A면용(用) 노광 헤드(3A) 및 B면용(用) 노광 헤드(3B)를 포함한다. 노광될 기판(51)은 A면이 A면용 노광 헤드(3A)에 대향하도록, 그리고 B면은 B면용 노광 헤드(3B)에 대향하도록 배치되며, 기판(51)의 양면은 마스크리스 노광된다.
본 실시예에 따른 마스크리스 노광 수단(2)에 있어서, 마스크리스 노광에 의한 기판의 양면 위에 형성되는 패턴이 서로 미러 이미지 관계를 가지도록, A면용 노광 헤드(3A) 및 B면용 노광 헤드(3B)의 위치는 한 쪽이 다른 쪽에 가능한 한 정확하게 대향하도록 미리 조정된다. 종래 기술에서와 같이 가이드 마크와 같은 정렬 마크를 사용하여 실행되는 광학 처리가 불필요하기 때문에 제조 공정을 단순화시키게 된다.
바람직하게는, 본 실시예에 따른 마스크리스 노광은 기판(51)의 양면 위에 동시에 행해진다; 개별적인 포토 마스크 이미지가 기판의 각 면 위에 형성되고 각 면이 개별적으로 노광되는 종래 기술과 비교하여, 이것은 제조에 필요한 시간을 크게 감소시킨다. 본 실시예의 변형예로서, 양면 위를 마스크리스 노광을 동시에 실행하지 않고 그 사이에 시간차를 둠으로써 기판의 각 면 위에 마스크리스 노광을 실행할 수도 있다.
마스크리스 노광 수단(2)에 공급되는 데이터는 노광 패턴 레이아웃(layout)을 규정하는 레이아웃 설계 데이터(100)이며, 표준적인 Gerber 포맷으로 데이터베이스에 축적된다. 레이아웃 설계 데이터(100)는 A면용 데이터 처리 시스템(4A) 및 B면용 데이터 처리 시스템(4B)에 공급된다.
A면용 데이터 처리 시스템(4A) 및 B면용 데이터 처리 시스템(4B)은 레이아웃설계 데이터(100)를 A면용 노광 헤드(3A) 및 B면용 노광 헤드(3B)에 대해 입력하기 위한 입력 데이터로 각각 변환한다. 보다 구체적으로, A면용 노광 헤드(3A)에 의한 노광 패턴 및 B면용 노광 헤드(3B)에 의한 노광 패턴이 마스크리스 노광에 의해 형성되었을 때 서로 미러 이미지 관계를 갖게 되도록, 각 데이터 처리 시스템은 A면 데이터나 B면 데이터 중 어느 하나를 다른 쪽에 대하여 그 미러 이미지로 변환함으로써 그 관련 노광 헤드을 위한 입력 데이터를 생성한다.
이와 같이 생성된 입력 데이터에 따라서, A면용 노광 헤드(3A) 및 B면용 노광 헤드(3B)는 기판(51)의 A면 및 B면 위에 마스크리스 노광을 실행한다.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 패턴 묘화 장치에서 사용되는 노광 헤드의 개념도이다.
도 1에 있어서, 패턴 묘화 장치(1)에 설치된 마스크리스 노광 수단(2)은 서로 대향해서 배치된 한 쌍의 노광 헤드(3A, 3B)를 구비하도록 도시되어 있다. 그러나, 마스크리스 노광의 효율을 향상시키기 위해서는, 기판(51)의 A면 및 B면의 마스크리스 노광을 위해 도 2에 도시된 것처럼 병렬로 배치된 복수 쌍의 대향 노광 헤드를 제공하는 것이 바람직하다. 이 경우, 노광 대상, 즉 기판 위에 노광되어야 할 영역이 각 노광 헤드 쌍에 할당되어, 병렬로 마스크리스 노광을 실행한다. 이것은 노광 공정을 더욱 고속화시킨다. 마스크리스 노광의 병렬 공정을 달성하기 위해서, 레이아웃 설계 데이터(100)가 각 노광 헤드에 선택적으로 할당될 수 있도록, 그 데이터를 공간적으로 분할함으로써 도 1에 도시한 데이터베이스에 레이아웃 설계 데이터(100)를 저장하는 것이 바람직하다.
상술한 것처럼, 본 발명의 제 1 실시예에 따르면, 그 위에 서로의 미러 이미지인 패턴이 형성되는 기판의 제조에서, 기판의 양면이 서로 대향되게 배치된 노광 헤드를 갖는 마스크리스 노광 수단에 의해 마스크리스 노광되기 때문에, 비용을 절감시키면서 처리 속도를 증가시킬 수 있다.
상술한 것처럼, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 패턴 묘화 장치에 있어서, 마스크리스 노광에 의해 기판의 양면 위에 형성되는 패턴이 서로 미러 이미지 관계를 갖는 것을 확실히 하기 위해서, A면용 노광 헤드(3A) 및 B면용 노광 헤드(3B)가 서로 대향되도록, 혹은 보다 구체적으로 A면용 노광 헤드(3A) 및 B면용 노광 헤드(3B)의 헤드 부분이 정확하게 서로 대향되도록, 마스크리스 노광 수단이 탑재된다. 하지만, 실제로 기계적으로 얻을 수 있는 정확도로 인해 오차가 발생하게 된다.
또한, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 패턴 묘화 장치가 장시간 사용됨에 따라, 오차는 장시간 변화로 인해 발생하며, 다시 말해, 본래 서로 정확하게 대향되도록 탑재되었던 A면용 노광 헤드(3A) 및 B면용 노광 헤드(3B)의 위치 사이에 진동이나 부품의 열화로 인하여 기계적 변위가 발생한다. 만약 A면용 노광 헤드(3A) 및 B면용 노광 헤드(3B)의 위치 사이에 발생된 기계적 변위를 보정하지 않고 마스크리스 노광을 실행하면, 기판의 양면 위에 형성되는 패턴 사이의 미러 이미지 관계가 무너지게 될 것이다. 본 명세서에서는, 패턴 사이의 미러 이미지 관계가 무너지는 것을 초래하는 A면용 노광 헤드(3A) 및 B면용 노광 헤드(3B) 사이에 기계적으로 발생되는 어떠한 위치 변위도 "정렬 오차(alignment error)"로 포괄적으로 부른다.
도 3은 그러한 정렬 오차의 일례를 나타내는 개략도이다.
좌표축은 도시된 것처럼 설정되고, 기판의 A면 위의 노광 패턴은 실선으로 도시되고, A면에 대향하는 면인 B면 위의 노광 패턴은 점선으로 도시된다.
A면 및 B면 위에 형성되는 패턴은 그 A면으로부터 기판을 관통하여 봄으로써 동시에 관측되는 경우, 기판의 양면 위에 형성되는 패턴은 이상적으로 정확하게 중첩되게 보여야 한다. 하지만, A면용 노광 헤드(3A) 및 B면용 노광 헤드(3B)의 위치 사이에 기계적 변위가 있으면, 노광 패턴 사이에 정렬 오차가 발생한다. 도 3에 도시된 것처럼, 이 정렬 오차는 X축 방향의 변위 Δx, Y축 방향의 변위 Δy, 회전 방향의 변위 Δθ로 이루어진다.
따라서, 본 실시예에 있어서, 양면 위에 형성되는 패턴이 미러 이미지 관계로 서로 정확하게 중첩되도록, 상술한 것과 같은 정렬 오차를 제거하는 보정 공정을 더 제공하는 것이 바람직하다. 본 명세서에서, 실제 기판의 제조 라인에서의 공정을 "온라인 제조 모드"라고 부르며, 이것에 대하여 정렬 오차 검출 공정은 "오프라인 조정 모드"라고 부른다.
오프라인 조정 모드에 있어서, 노광 헤드의 현재 설정으로 마스크리스 노광을 실행하는 경우, 테스트 기판 위에 테스트용 노광 패턴을 형성하고 얼마나 많은 변위(즉, "정렬 오차")가 미러 이미지 관계에 발생되었는지를 검사함으로써, 테스트를 실행하며, 따라서 테스트의 결과로서 얻은 정렬 데이터를 사용하여, 실제 제조 공정에서 사용될 노광 데이터에 보정을 행한다.
한편, 온라인 제조 모드에 있어서, 실제 제조 공정에서 사용될 노광 데이터는 상술한 정렬 데이터를 사용함으로써 마스크리스 노광에 앞서 보정된다. 그 후, 기판은 상기 보정된 노광 데이터를 사용함으로써 마스크리스 노광된다.
본 발명의 제 1 실시예에 따른 오프라인 조정 모드 및 온라인 제조 모드에서의 패턴 묘화 장치의 동작에 대한 상세한 설명은 아래에 주어진다.
먼저, 오프라인 조정 모드를 설명한다.
도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 오프라인 조정 모드의 동작을 나타내는 플로차트이다.
오프라인 조정 모드에 있어서, 먼저, 도 4에 도시된 것처럼 테스트용 노광 패턴 데이터(10)가 표준적인 Gerber 포맷으로 준비된다. 상술한 것처럼, 테스트용 노광 패턴은, 노광 헤드의 현재 설정으로 마스크리스 노광이 실행되는 경우 얼마나 많은 변위 즉 미러 이미지 관계에서 얼마나 많은 정렬 오차가 발생했는지를 검사하기 위해, 테스트 기판 위에 형성된다. 어떤 패턴이든 테스트용 노광 패턴으로서 사용될 수 있다. 예를 들어, 도 3에 도시된 것처럼, 직사각형을 구비하는 도형이나 "F"자(字)를 구비하는 도형이 사용될 수 있다. 또한, 온라인 제조 모드에서 사용되는 실제 노광 패턴이 그대로 사용될 수 있다. 그러한 테스트용 노광 패턴을 형성하기 위해 마스크리스 노광 수단에 공급되는 설계 데이터가 테스트용 노광 패턴 데이터(10)이다.
상기 테스트용 노광 패턴 데이터(10)는 기판의 A면 위에 노광 패턴을 형성하기 위해 각종 처리를 실행하는 A면용 데이터 처리 시스템(30)에 대해서, 그리고 또한 기판의 B면 위에 노광 패턴을 형성하기 위해 각종 처리를 실행하는 B면용 데이터 처리 시스템(20)에 대해서 각각 입력된다.
A면용 데이터 처리 시스템(30)에서의 단계(31)에서, Gerber 포맷의 테스트용 노광 패턴 데이터(10)는 A면에 대한 벡터 데이터의 포맷으로 변환된다. 벡터 데이터는 도형으로부터 윤곽 정보를 추출함으로서 생성되는 데이터이며, 그 내용은 기하학적 정보이다. 그 데이터를 벡터 데이터 포맷으로 변환함으로써, 처리될 데이터 양을 감소시킬 수 있으며, 따라서 프로세서의 처리 속도를 향상시킬 수 있다.
다음으로, 단계(33)에 있어서, 단계(31)에서 생성되는 벡터 데이터는 A면용 노광 헤드에 대한 입력을 위해 입력 데이터(34)로 변환된다.
그 후, 단계(35)에 있어서, 테스트 기판의 A면은 상기 입력 데이터(34)에 따라 A면용 노광 헤드에 의해 마스크리스 노광된다.
한편, B면용 데이터 처리 시스템(20)의 단계(21)에 있어서, Gerber 포맷의 테스트용 노광 패턴 데이터(10)는 B면에 대한 벡터 데이터의 포맷으로 변환된다.
다음으로, 단계(22)에 있어서, B면에 대한 벡터 데이터는 미러 이미지 변환에 의해 생성되며, 이 데이터는 A면에 대한 벡터 데이터와 미러 이미지 관계를 갖는다. 예를 들어, 좌표가 도 3에 도시된 것처럼 설정되는 경우, 좌표 평면 위의 A면에 대한 벡터 데이터는 B면에 대한 벡터 데이터를 얻기 위해서 Y축에 대하여 대칭적으로 반전하며, 이것은 A면에 대한 벡터 데이터의 미러 이미지이다.
다음으로, 단계(23)에 있어서, 단계(22)에서 생성되는 벡터 데이터는 B면용 노광 헤드에 대한 입력을 위해 입력 데이터(24)로 변환된다.
그 후, 단계(25)에 있어서, 테스트 기판의 B면은 입력 데이터(24)에 따라 B면용 노광 헤드에 의해 마스크리스 노광된다.
본 실시예에 있어서, 단계(25, 35)에서의 마스크리스 노광은 동시에 실행되는 것이 바람직하다. 즉, 상술한 것처럼, 마스크리스 노광 수단의 A면용 노광 헤드와 B면용 노광 헤드는 서로 대향되게 탑재되며, A면은 A면용 노광 헤드에 대향되게 그리고 B면은 B면용 노광 헤드에 대향되게 테스트 기판이 배치된다. 그 후, 테스트 기판을 노광 헤드에 대하여 상대적으로 이동하면서, 마스크리스 노광은 테스트 기판의 양면 위에 동시에 실행된다. 이것은 개별적인 포토 마스크가 테스트 기판의 각 면 위에 형성되며, 각 면이 개별적으로 노광되는 경우와 비교하여 시간을 크게 절감하게 만든다. 본 발명의 변형예로서, 그들 사이에 시간차를 둠으로써 마스크리스 노광을 기판의 각 면 위에 실행할 수 있다.
다음으로, 단계(40)에 있어서, 마스크리스 노광된 테스트 기판은 현상된다.
그 후, 단계(50)에 있어서, 이와 같이 현상된 테스트 기판의 양면은 정렬 오차를 위해 광학적으로 검사된다. 상기 정렬 오차는 X축 방향의 변위 Δx, Y축 방향의 변위 Δy, 회전 방향의 변위 Δθ로 이루어져 있다. 상기 정렬 오차는 데이터베이스에 정렬 데이터(60)로서 저장된다.
단계(50)에서 실행되는 광학 검사는 아래에서 더 상세하게 설명한다.
기판의 각 면 위에 형성되는 패턴의 형상 및 위치의 이미지는 그 한쪽 면으로부터 기판을 투시함으로써 동시에 촬상되어, 그 촬상된 데이터기 처리되는 경우, 기판의 양면 위에 형성되는 패턴 사이에 미러 이미지 관계에 얼마나 많은 붕괴가발생되었는지, 즉 그 사이에 얼마나 많은 정렬 오차가 발생되었는지 검출하는 것이 가능하다.
본 실시예에서, 기판의 각 면 위에 형성되는 패턴의 형상 및 위치의 이미지는 각 면 위에 개별적으로 촬상되지 않고, 아래의 이유로 인해 기판의 한쪽 면으로부터 동시에 촬상된다. 만약 기판의 각 면 위의 이미지가 개별적으로 촬상되는 경우, 촬상 수단은 각 면 위에 설치되어야 할 것이다. 상기 노광 헤드와 마찬가지로, 촬상 수단은 서로에 대향되도록 정확하게 설치되어야 할 것이고, 그렇게 설치되는 경우에도, 설치 이후 촬상 수단 사이의 변위가 시간이 지난 후 발생할 수 있기 때문이다.
일반적으로, 에칭을 사용한 리드 프레임 제조 공정에 있어서, 우수한 도전성 및 양호한 강도를 갖는 금속 재료의 박판이 노광될 기판으로서 사용된다.
한편, 본 실시예에서, 오프라인 조정 모드에서 사용되는 테스트 기판은, 정렬 오차의 검출을 용이하게 하기 위해서, 적어도 어느 정도의 시간 동안 빛이 투과할 수 있게 하는 재료를 사용하여 구현된다.
테스트 기판이 적어도 어느 정도의 시간 동안 빛이 투과할 수 있게 구성되는 이유는 아래와 같다. 상술한 단계(25, 35)에서의 노광 공정에서, 광원은 각 면에 설치된다. 이 경우, 만약 한쪽 면을 노광하기 위해서 한쪽 면 위의 광원으로부터 방출되는 빛이 기판을 관통하게 되어 다른 쪽으로 누출되게 되는 경우, 노광 패턴은 노광에 의해 적절하게 형성될 수 없다. 따라서, 기판이 노광 공정을 하는 동안 빛을 차단하도록 구성된 경우에, 적절한 노광이 이루어질 수 있으며, 그리고 광학검사를 하는 동안은 빛이 기판을 관통하도록 허용된 경우에, 기판의 양면 위의 패턴이 기판의 한쪽 면으로부터 동시에 관측될 수 있다.
이와 같은 관점에서, 본 실시예에서, 테스트 기판은 노광 광원으로부터 방사되는 빛이 노광 공정을 하는 동안 차단되고, 그리고 검사광에 대한 투과율을 광학 검사 공정을 하는 동안 높아지는 구조를 사용하여 구현될 수 있다. 바람직하게는, 테스트 기판은 노광 공정을 하는 동안에는 노광 광원으로부터 방사되는 빛을 완전히 차단하고 광학 검사 공정을 하는 동안에는 검사광을 완전히 투과하는 구조를 갖는다.
보다 구체적으로는, 만약 테스트 기판이 예를 들어 액정 패널을 이용하여 구현되는 경우, 패널이 현상 공정 동안에는 흑 상태(black state)로, 광학 검사 공정 동안에는 투명 상태(transparent state)가 되도록, 테스트 기판은 인가 전압을 단순히 제어함으로써 쉽게 제어될 수 있다. 이 경우, 액정 패널의 보호 및 재이용을 고려하여, 테스트 기판은 액정 패널의 양면을 투명 패널로 덮음으로써 구현될 수 있다.
또한, 테스트 기판은 노광 광원의 빛을 차단하는 제거 가능한 흑색 필름을 그 사이에 끼워 넣음으로써 투명 패널을 사용하여 구현될 수 있다. 이 경우, 흑색 필름이 노광 공정 동안에는 투명 패널 사이에 끼워진 채 유지되지만 광학 검사 동안에는 흑색 필름을 제거함으로써 투명 패널이 검사광에 대해 투명하게 되도록 하여서, 테스트 기판은 제어될 수 있다.
상술한 것처럼, A면용 데이터 처리 시스템(30)에서 실행되는 처리와 B면용데이터 처리 시스템(20)에서 실행되는 처리는 후자가 데이터의 미러 이미지 변환 기능을 추가로 설치하고 있는 것을 제외하고는 실질적으로 동일하다.
본 실시에에 있어서, 마스크리스 노광에 의해 형성되는 경우, A면용 노광 헤드(3A)에 의한 노광 패턴과 B면용 노광 헤드(3B)에 의한 노광 패턴이 서로 미러 이미지 관계를 갖도록 A면용 데이터를 기준으로 미러 이미지로 변환함으로써 B면용 데이터가 생성될 수 있었지만, 역으로 B면용 데이터를 기준으로 미러 이미지 변환함으로써 A면용 데이터가 생성될 수 있다.
상술한 것처럼, 본 발명에 따른 오프라인 조정 모드에 있어서, 패턴 묘화 장치를 장시간 사용함으로 인한, A면용 노광 헤드(3A) 및 B면용 노광 헤드(3B)의 위치 사이에 기계적 변위가 발생하는 경우, 패턴의 미러 이미지 관계에서 생기는 결과적인 붕괴는 정렬 오차 데이터로서 추출될 수 있다. 만약 온라인 제조 모드에서의 마스크리스 노광이 정렬 오차 데이터를 사용하여 보정된 노광 데이터에 기초하여 실행되는 경우, 기판은 패턴의 미러 이미지 관계를 올바르게 유지하면서 용이하게 제조될 수 있다. 또한, 만약 본 실시예의 패턴 묘화 장치가 가동된 이후 상술한 오프라인 조정 모드가 필요에 따라 실행되는 경우, 정렬 오차 데이터는 최신의 것으로 유지될 수 있다.
다음으로, 온라인 제조 모드를 설명한다.
도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 온라인 제조 모드의 동작을 나타내는 플로차트이다.
온라인 제조 모드에 있어서, 우선, 도 5에 도시된 것처럼, 레이아웃 설계 데이터(100)가 표준적인 Gerber 포맷으로 준비된다. 상기 레이아웃 설계 데이터(100)는 기판 위에 원하는 노광 패턴을 형성하기 위해 마스크리스 노광 수단에 설계 데이터로서 입력되는 노광 데이터이다.
상기 레이아웃 설계 데이터(100)는 기판의 A면 위에 노광 패턴을 형성하기 위해 각종 처리를 실행하는 A면용 데이터 처리 시스템(30)에 대해서, 그리고 또한 기판의 B면 위에 노광 패턴을 형성하기 위해 각종 처리를 실행하는 B면용 데이터 처리 시스템(20)에 대해서 각각 입력된다.
A면용 데이터 처리 시스템(30)에서의 단계(301)에 있어서, Gerber 포맷의 레이아웃 설계 데이터(100)는 A면용 벡터 데이터의 포맷으로 변환된다.
다음으로, 단계(303)에 있어서, 단계(301)에서 작성되는 벡터 데이터는 A면용 노광 헤드에 대한 입력을 위해 입력 데이터(304)로 변환된다.
그 후, 단계(305)에 있어서, 기판의 A면은 상기 입력 데이터(304)에 따라 A면용 노광 헤드에 의해 마스크리스 노광된다.
한편, B면용 데이터 처리 시스템(20)에서의 단계(201)에 있어서, Gerber 포맷의 레이아웃 설계 데이터(100)는 B면용 벡터 데이터의 포맷으로 변환된다.
다음으로, 단계(202)에 있어서, 데이터가 A면용 벡터 데이터에 미러 이미지 관계를 갖도록, 미러 이미지 변환에 의해 B면용 벡터 데이터가 생성된다. 예를 들어, 좌표축이 도 3에 도시된 것처럼 설정되는 경우, 좌표 평면 위의 A면용 벡터 데이터는 B면용 벡터 데이터를 얻기 위해 Y축에 대하여 대칭적으로 반전되며, 이것은 A면용 벡터 데이터의 미러 이미지이다.
다음으로, 단계(206)에 있어서, 단계(202)에서 생성되는 벡터 데이터는 도 3 및 도 4를 참조하여 설명한 오프라인 조정 모드에서 얻은 정렬 오차 데이터(60)를 사용하여 보정된다. 보정의 구체적인 방법에서, 벡터 변환 후의 정렬 오차 데이터(60)의 각 구성요소, 즉 X축 방향의 변위 Δx, Y축 방향의 변위 Δy, 회전 방향의 변위 Δθ를, 단계(202)에서 생성되는 벡터 데이터로부터 감산한다.
단계(203)에 있어서, 단계(206)에서 보정된 벡터 데이터는 B면용 노광 헤드에 대한 입력을 위해 입력 데이터(204)로 변환된다.
그 후, 단계(205)에 있어서, 기판의 B면은 입력 데이터(204)에 따라 B면용 노광 헤드에 의해 마스크리스 노광된다. 여기서, 단계(205, 305)에서의 마스크리스 노광은 동시에 실행되는 것이 바람직하다. 이것은 개별적인 포토 마스크가 기판의 각 면 위에 형성되어, 각 면이 개별적으로 노광되는 경우와 비교하여 시간을 크게 절감하게 만든다. 특히 대량 생산으로 효과가 크다. 본 실시예의 변형예로서, 그들 사이에 시간차를 둠으로써 마스크리스 노광을 기판의 각 면 위에 실행할 수 있다.
여기서, 서로 정확하게 대향하여 배치됐어야 할 A면용 노광 헤드 및 B면용 노광 헤드 사이에 변위가 있는 경우, A면용 노광 헤드 및 B면용 노광 헤드에 대한 입력 데이터(304, 204)는 오프라인 조정 모드에서 얻은 정렬 오차 데이터를 사용함으로써 이미 보정되었기 때문에, 기판의 각 면 위의 노광 패턴은 정렬 오차 없는 상태에서, 즉 기판의 각 면 사이에 미러 이미지 관계를 유지하는 적정한 상태에서, 마스크리스 노광에 의해 형성된다.
다음으로, 단계(400)에 있어서, 상기 마스크리스 노광된 테스트 기판이 현상된다.
단계(500)에 있어서, 상기 현상된 기판은 에칭된다.
상술한 것처럼, 본 발명의 제 1 실시예에 따르면, 그 위에 서로의 미러 이미지인 패턴이 형성된 기판의 제조에 있어서, 상기 패턴은 서로 대향하여 배치된 노광 헤드를 갖는 마스크리스 노광 수단에 의해 기판의 양면 위에 형성되기 때문에, 개별적인 포토 마스크가 기판의 각 면 위에 형성되고 각 면이 개별적으로 노광되는 종래 기술과 비교하여, 제조에 필요한 시간을 크게 감소시킬 수 있다.
또한, 노광 패턴은 포토 마스크를 사용하지 않고 형성되기 때문에, 제조 비용을 절감할 수 있으며, 자원을 절약할 수 있다.
마스크리스 노광에 의해 기판의 양면 위에 형성되는 패턴은 서로에 대해 미러 이미지 관계를 갖는 것을 확실히 하기 위해서, 하나를 다른 것에 가능한 한 정확하게 대향하도록, 노광 헤드의 위치를 미리 조정한다. 이것은 광학 처리가 종래 기술에서처럼 가이드 마크와 같은 정렬 마크를 사용하여 실행될 필요가 없게 되어, 따라서 제조 공정이 간략화될 수 있다.
여기서, 서로 정확하게 대향하여 배치됐어야 할 노광 헤드 사이에 변위가 있는 경우, 오프라인 조정 모드에서 얻은 정렬 오차 데이터를 사용함으로써 각 노광 헤드에 대한 입력 데이터를 미리 보정할 수 있기 때문에, 기판의 각 면 위의 노광 패턴은 정렬 오차 없는 상태에서, 즉 기판의 각 면 사이에 미러 이미지 관계를 유지하는 적정한 상태에서, 마스크리스 노광에 의해 형성될 수 있다. 이와 같이, 다소 변위된 경우에도, 노광 헤드의 위치는 용이하게 조정될 수 있으며, 제조 비용을 절감할 수 있고, 제조 공정을 단축시킬 수 있다. 예를 들어, 마스크리스 노광 수단의 노광 헤드의 탑재 위치는 장시간에 걸쳐 변위된 경우, 그러한 변위는 패턴 형성용 데이터를 보정함으로써 유연하게 대응할 수 있다.
다음으로, 본 발명의 제 2 실시예를 설명한다.
본 발명의 제 2 실시예에 있어서, 기판의 양면 위에 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 패턴 형성용 패턴 묘화 장치는, 소정의 데이터에 따라 기판의 양면 위에 패턴을 직접 묘화하는 수단으로서 잉크젯 패터닝 수단을 구비한다.
잉크젯 기술은 작은 구멍이 개방된 노즐을 통해 액체 방울을 토출하는 기술이다. 일반적으로, 잉크젯 기술은 프린터에 사용되지만, 본 실시예에서와 같이 잉크젯 패터닝에 잉크젯 기술을 응용하는 경우, 노즐로부터 토출되는 액체 방울은 에칭 레지스트로서 도포되는 액체 수지 등으로 형성되어야 한다. 잉크젯 기술은 2가지 종류로 분류될 수 있다; 하나는 전압이 인가되는 경우 변형되는 압전 소자를 활용하여, 잉크 챔버 내에 액체 압력을 급증시켜서 노즐을 통해 액체 방울을 압출하는 압전 타입이며, 다른 하나는 헤드에 탑재된 히터에 의해 액체 내에 기포를 형성하여서 액체 방울을 압출하는 서멀(thermal) 타입이다. 어떤 종류이든 본 실시예에서 사용될 수 있다.
본 실시예는 제 1 실시예에서 마스크리스 노광 수단이 잉크젯 패터닝 수단으로 대체되는 것을 제외하고는, 상술한 본 발명의 제 1 실시예와 실질적으로 동일하다.
잉크젯 패터닝 수단의 잉크젯 헤드는 도 1을 참조하여 설명한 마스크리스 노광 수단의 노광 헤드와 마찬가지로 탑재된다. 다시 말해, 본 실시예에 있어서, 기판에 대하여 서로의 미러 이미지인 에칭 레지스트 패턴을 기판의 양족 면 위에 형성하기 위한 패턴 묘화 장치는, 소정의 데이터에 따라 기판의 양면 위에 잉크젯팅함으로써 기판의 양면 위에 에칭 레지스트 패턴을 형성하는 잉크젯 패터닝 수단을 포함한다.
상기 잉크젯 패터닝 수단은 그 헤드 부분이 서로 대향하여 설치된 A면 잉크젯 헤드와 B면 잉크젯 헤드를 포함한다. 패턴이 묘화될 기판은 A면이 A면 잉크젯 헤드에 대향되며 B면은 B면 잉크젯 헤드에 대향하여 배치되고, 상기 패턴은 잉크젯팅함으로써 기판의 양면위에 직접 묘화된다.
잉크젯 패터닝 수단에 있어서, 잉크젯 패터닝에 의해 기판의 양면 위에 형성되는 패턴이 서로에 대해 미러 이미지 관계를 갖는 것을 확실히 하기 위해 가능한 한 정확하게 하나가 다른 것에 대향되도록, A면 잉크젯 헤드 및 B면 잉크젯 헤드는 그 위치를 미리 조정함으로써 탑재된다.
본 실시예에서, 제 1 실시예와 유사하게, 패터닝 효율을 향상시키기 위해서, 도 2에 도시된 것처럼 기판의 A면 및 B면 위에 잉크젯 패터닝을 위한 병렬로 배치된 복수 쌍의 대향 잉크젯 헤드를 설치하는 것이 바람직하다. 이 경우에 있어서, 묘화 대상, 즉 기판 위에 묘화될 영역은 병렬로 잉크젯 패터닝을 실행하는 각 잉크젯 헤드 쌍에 할당된다. 상기 병렬 처리를 달성하기 위해서, 데이터가 각 잉크젯 헤드에 선택적으로 할당되도록, 데이터를 공간적으로 분할함으로써 데이터베이스에레이아웃 설계 데이터를 저장하는 것이 바람직하다.
본 실시예에 있어서 또한 정렬 오차를 발생시키는 잉크젯 헤드의 위치 사이의 기계적인 변위가 발생할 수 있다. 따라서, 제 1 실시예에서와 같이, 양면 위에 형성되는 패턴이 미러 이미지 관계에서 서로 정확하게 중첩되도록, 그러한 정렬 오차를 제거하는 보정 공정을 더 구비하는 것이 바람직하다.
여기서, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 오프라인 조정 모드에서 그리고 온라인 제조 모드에서의 패턴 묘화 장치의 동작에 대하여 설명한다. 본 실시예에 따른 패턴 묘화 장치의 동작의 기본 원리는 이미 상술한 제 1 실시예의 원리와 실질적으로 동일하다. 따라서, 구체적인 동작 흐름과 제 1 실시예와의 차이점에 대해서만 아래 설명에서 다룬다.
먼저, 오프라인 조정 모드를 설명한다.
도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 오프라인 조정 모드의 동작을 나타내는 플로차트이다.
오프라인 조정 모드에 있어서, 우선, 테스트 에칭 레지스트 패턴 데이터(110)가 도 6에 도시된 것처럼 표준적인 Gerber 포맷으로 준비된다.
테스트 에칭 레지스트 패턴 데이터(110)는 기판의 A면에 에칭 레지스트 패턴을 형성하기 위한 각종 처리를 실행하는 A면용 데이터 처리 시스템(130)과 기판의 B면에 에칭 레지스트 패턴을 형성하기 위한 각종 처리를 실행하는 B면용 데이터 처리 시스템(120)에 각각 입력된다.
A면용 데이터 처리 시스템(130)의 스텝 131에서는, Gerber 포맷의 테스트 에칭 레지스트 패턴 데이터(110)를 A면용의 벡터 데이터의 포맷으로 변환한다.
다음에, 스텝 133에서, 스텝 131에서 작성한 벡터 데이터를 A면 잉크젯 헤드로 입력하기 위한 입력 데이터(134)로 변환한다.
그리고, 스텝 135에서, 테스트 기판의 A면을 입력 데이터(134)에 따라 A면 잉크젯 헤드를 사용하여 패터닝한다.
한편, B면용 데이터 처리 시스템(120)의 스텝 121에서는, Gerber 포맷의 테스트 에칭 레지스트 패턴 데이터(110)를 B면용의 벡터 데이터 포맷으로 변환한다.
다음에, 스텝 S122에서, B면용의 벡터 데이터를 A면용의 벡터 데이터와 미러 이미지 관계를 갖도록 미러 이미지 변환하여 작성한다.
다음에, 스텝 S123에서, 스텝 S122에서 작성한 백터 데이터를 B면 잉크젯 헤드로 입력하기 위한 입력 데이터(124)로 변환한다.
그리고, 스텝 S125에서, 테스트 기판의 B면을 입력 데이터(124)에 따라 B면 잉크젯 헤드를 사용하여 패터닝한다.
여기서, 스텝 S125 및 스텝 S135에서의 잉크젯 패터닝은 동시에 실행되는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 잉크젯 패터닝 수단의 A면 잉크젯 헤드 및 B면 잉크젯 헤드는 각 면이 대면하여 장착되어 있고, 테스트 기판의 A면이 A면 잉크젯 헤드에, 테스트 기판의 B면이 B면 잉크젯 헤드에 대면하도록 배치된다. 그리고, 테스트 기판이 잉크젯 헤드에 대하여 이동하여, 테스트 기판의 양면에 동시에 잉크젯 패터닝이 행해진다. 본 실시예의 변형예로서, 잉크젯 패터닝을 기판의 각 면 상에 이들 사이의 시간적인 차이를 두고 실행해도 좋다.
다음에, 스텝 150에서, 잉크젯 패터닝 후의 테스트 기판의 양면을 광학적으로 검사하여 정렬 오차를 검출한다.
본 실시예에서는, 오프라인 조정 모드에서의 정렬 오차의 광학적인 검출을 용이하게 하기 위해, 광의 투과율이 높은 부재, 바람직하게는 검사광에 대하여 투명하거나 또는 반투명한 부재를 사용하여 테스트 기판을 실현한다.
이미 설명한 제 1 실시예에서는, 마스크리스 노광 공정 시에 테스트 기판을 광이 투과하지 않도록 제어가 행해지는데, 그 이유는 광이 테스트 기판을 통과하도록 허용되는 경우, 기판의 각 면에 노광 패턴이 적정하게 형성될 수 없기 때문이다. 한편, 본 발명의 제 2 실시예에서는, 노광, 현상 및 에칭의 각 처리가 필요하지 않고, 기판에 잉크젯 기술을 사용하여 설계 데이터에 따라 에칭 레지스트 패턴을 직접 묘화할 수 있기 때문에, 제 1 실시예와 같이 테스트 기판의 광 투과율을 제어할 필요가 없다. 따라서, 본 발명의 제 2 실시예에서, 테스트 기판은 광을 투과하는 구조만을 가질 필요가 있다. 예를 들면, 유리 등의 투명 패널을 사용하여 실현하면 좋다.
다음에, 온라인 제조 모드에 대해서 설명한다.
도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 온라인 제조 모드의 동작을 예시하는 플로차트이다.
온라인 제조 모드에서는, 도 7에 나타낸 바와 같이, 우선 레이아웃 설계 데이터(1100)를 표준적인 Gerber 포맷에서 준비한다.
레이아웃 설계 데이터(1100)는 기판의 A면에 레지스트 패턴을 형성하기 위한각종 처리를 실행하는 A면용 데이터 처리 시스템(130)과, 기판의 B면에 레지스트 패턴을 형성하기 위한 각종 처리를 실행하는 B면용 데이터 처리 시스템(120)에 각각 입력된다.
A면용 데이터 처리 시스템(130)의 스텝 1301에서는, Gerber 포맷의 레이아웃 설계 데이터(1100)를 A면용 벡터 데이터의 포맷으로 변환한다.
다음에, 스텝 1303에서, 스텝 1301에서 작성한 벡터 데이터를 A면 잉크젯 헤드에 입력하기 위한 입력 데이터(1304)로 변환한다.
그리고, 스텝 1305에서, 기판의 A면을 입력 데이터(1304)에 따라 A면 잉크젯 헤드를 사용하여 패터닝한다.
한편, B면 데이터 처리 시스템(120)의 스텝 1201에서는, Gerber 포맷의 레이아웃 설계 데이터(1100)를 B면용의 벡터 데이터 포맷으로 변환한다.
다음에, 스텝 S1202에서, B면용의 벡터 데이터를 A면용의 벡터 데이터와 미러 이미지 관계를 갖도록 미러 이미지 변환하여 작성한다. 다음에, 스텝 S1206에서, 오프라인 조정 모드에서 얻어진 정렬 오차 데이터(160)를 이용하여 스텝 S1202에서 작성한 백터 데이터를 보정한다.
그리고, 스텝 S1203에서는 스텝 1206에서 보정한 벡터 데이터를 B면 잉크젯 헤드에 입력하기 위한 입력 데이터(1204)로 변환한다.
그리고, 스텝 1205에서, 기판의 B면을 입력 데이터(1204)에 따라 B면 잉크젯 헤드를 사용하여 패터닝한다.
여기서, 스텝 S1205 및 스텝 S1305에서의 잉크젯 패터닝은 상술한 오프라인조정 모드의 경우와 마찬가지로 동시에 실행되는 것이 바람직하다. 본 실시예의 변형예로서 잉크젯 패터닝을 기판의 각 면 상에 이들 사이의 시간적인 차이를 두고 실행해도 좋다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 제 2 실시예에 의하면, 서로간에 미러 이미지 관계에 있는 패턴이 형성되는 기판의 제조 시에, 각 면이 대면하여 배치된 잉크젯 헤드를 갖는 잉크젯 패터닝 수단을 사용하여 기판의 양면에 패턴을 형성하기 때문에, 상기한 제 1 실시예의 경우와 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.
특히, 제 2 실시예에서는, 포토마스크를 필요로 하지 않을 뿐만 아니라, 노광 처리, 형상 처리 및 에칭 처리도 필요로 하지 않기 때문에, 제조에 요하는 시간 및 비용을 더 저감할 수 있다.
제 1 및 제 2 실시예에서는, 리드 프레임 부재의 리드 패턴의 작성을 예로 들어 설명했지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계에 있는 패턴을 그 기판 양면에 작성하는 경우이면 적용 가능하다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 서로간에 미러 이미지 관계에 있는 패턴을 기판에 제조 시에, 마스크리스 노광 또는 잉크젯 패터닝 등 패턴을 기판에 직접 묘화하는 수법을 사용하여, 기판의 양면에 패턴을 형성하기 때문에, 기판의 각 면에 포토마스크를 형성하여 각 면별로 노광을 행하는 종래예에 비해서, 제조에 요하는 시간 및 비용을 크게 단축할 수 있다. 또한, 종래예와 같이 정렬 마크를 가이드 마크로서 사용하여 광학적 처리를 행할 필요가 없기 때문에, 제조 공정이 간략화될 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 마스크리스 노광 헤드 또는 잉크젯 헤드의 변위에 의해 생길 수 있는 기판 양면에 형성되는 패턴의 위치 변위를 측정하고, 패턴 형성에 사용되는 데이터를 보정하기 때문에, 패턴의 미러 이미지 관계를 정확하게 유지하면서 기판을 용이하게 생성할 수 있다. 마스크리스 노광 헤드 또는 잉크젯 헤드에 다소의 위치 변위가 있거나, 또는 이들이 시간이 경과함에 따라서 변위가 있게 되는 경우, 패턴 형성에 사용되는 데이터를 미리 보정하여 정렬 오차를 제거할 수 있다. 그 결과, 제조 공정을 단축할 수 있을 뿐만 아니라, 기기의 조정이나 메인티넌스의 부담도 경감할 수 있다.
또한, 종래예와 같이 포토마스크의 사용 회수를 고려할 필요가 없기 때문에, 제조 비용을 저감할 수 있고, 자원을 절약할 수 있다.
특히, 본 발명의 제 2 실시예에서는, 포토리소그라피 공정을 사용하지 않고 잉크젯 패터닝 수단을 사용하여 패턴을 형성할 수 있기 때문에, 제조에 요하는 시간 및 비용을 크게 단축할 수 있다.

Claims (38)

  1. 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 노광 패턴을 상기 기판의 양면에 형성하기 위한 패턴 묘화(drawing) 장치로서,
    소정의 데이터에 따라 기판의 양면을 마스크리스(maskless) 노광함으로써 노광 패턴을 상기 기판의 양면에 형성하는 마스크리스 노광 수단을 구비하는 패턴 묘화 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 마스크리스 노광 수단은 서로 대향하여 배치된 노광 헤드를 구비하고,
    상기 노광 헤드의 대응하는 각 면이 서로 대면하도록 기판을 배치하여, 상기 기판의 양면을 마스크리스 노광하는 패턴 묘화 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 마스크리스 노광 수단에 의해 노광 패턴이 양면에 형성된 테스트 기판을 사용하여 노광 패턴의 미러 이미지 관계로부터의 변위(displacement)를 검출하는 검출 수단, 및
    노광 데이터에 따라 마스크리스 노광 수단에 의해 마스크리스 노광하여 기판의 양면에 노광 패턴을 형성할 때에, 이 노광 패턴 사이에서 미러 이미지 관계가 유지되도록 상기 검출 수단에 의해 검출된 변위에 기초하여 상기 노광 데이터를 보정하는 보정 수단을 더 구비하는 패턴 묘화 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 검출 수단은 마스크리스 노광 후에 상기 테스트 기판의 양면을 현상하는 현상 수단을 구비하고,
    상기 검출 수단은 상기 현상 수단에 의해 테스트 기판의 양면에 형성된 노광 패턴을 판독하여 미러 이미지 관계로부터의 변위를 검출하는 패턴 묘화 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 검출 수단은,
    상기 테스트 기판을 그 한쪽 면으로부터 촬상하는 촬상 수단, 및
    상기 노광 수단에 의한 노광 시에는 광을 차단하고, 상기 촬상 수단에 의한 촬상 시에는 광을 투과하도록 상기 테스트 기판을 제어하는 제어 수단을 구비하는 패턴 묘화 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 테스트 기판은 상기 노광 수단에 의한 노광 시에는 노광 광원으로부터 투사된 광이 상기 액정 패널을 통해서 투과되지 못하도록 하고, 상기 촬상 수단에 의한 촬상 시에는 검사광의 투과율이 높도록 하는 구조를 갖는 액정 패널을 구비하는 패턴 묘화 장치.
  7. 제 4 항에 있어서,
    상기 검출 수단은 상기 테스트 기판을 그 한쪽 면으로부터 촬상하는 촬상 수단을 구비하고,
    상기 테스트 기판은 상기 노광 수단에 의한 노광 시에는 광을 차단하고, 상기 촬상 수단에 의한 촬상 시에는 광을 투과시키는 패턴 묘화 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 테스트 기판은 상기 노광 수단에 의한 노광 시에는 노광 광원으로부터 투사된 광이 상기 액정 패널을 통해서 투과되지 못하도록 하고, 상기 촬상 수단에 의한 촬상 시에는 검사광의 투과율이 높도록 하는 구조를 갖는 액정 패널을 구비하는 패턴 묘화 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 노광 패턴은 리드 프레임 부재의 리드 패턴인 패턴 묘화 장치.
  10. 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 레지스트 패턴을 상기 기판의 양면에 형성하기 위한 패턴 묘화 장치로서,
    소정의 데이터에 따라 기판의 양면에 잉크젯팅 하여 상기 패턴을 묘화함으로써 레지스트 패턴을 형성하는 잉크젯 패터닝 수단을 구비하는 패턴 묘화 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 잉크젯 패터닝 수단은 각 면이 대면하여 배치된 잉크젯 헤드를 구비하고,
    상기 잉크젯 헤드의 대응하는 각 면이 서로 대면하도록 기판을 배치하여, 상기 기판의 양면에 레지스트 패턴을 묘화하는 패턴 묘화 장치.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 잉크젯 패터닝 수단에 의해 레지스트 패턴이 양면에 형성된 테스트 기판을 사용하여 레지스트 패턴의 미러 이미지 관계로부터의 변위를 검출하는 검출 수단, 및
    레지스트 패턴 데이터에 따라 잉크젯 패터닝 수단에 의한 잉크젯팅에 의해 기판의 양면에 레지스트 패턴을 형성할 때에, 이 레지스트 패턴 사이에서 미러 이미지 관계가 유지되도록 상기 검출 수단에 의해 검출된 변위에 기초하여 상기 레지스트 패턴 데이터를 보정하는 보정 수단을 더 구비하는 패턴 묘화 장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 검출 수단은 상기 테스트 기판을 그 한쪽 면으로부터 촬상하는 촬상 수단을 구비하고,
    상기 테스트 기판은 광을 투과하는 패널을 포함하는 패턴 묘화 장치.
  14. 제 10 항에 있어서,
    상기 레지스트 패턴은 리드 프레임 부재의 리드 패턴인 패턴 묘화 장치.
  15. 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 노광 패턴을 상기 기판의 양면에 형성하기 위한 패턴 묘화 방법으로서,
    마스크리스 노광 수단의 사용에 의해 소정의 데이터에 따라 기판의 양면을 마스크리스 노광함으로써 노광 패턴을 상기 기판의 양면에 형성하는 마스크리스 노광 단계를 포함하는 패턴 묘화 방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 마스크리스 노광 수단은 서로 대향하여 배치된 노광 헤드를 구비하고,
    상기 노광 헤드의 대응하는 각 면이 서로 대면하도록 기판을 배치하여, 상기 기판의 양면을 마스크리스 노광하는 패턴 묘화 방법.
  17. 제 15 항에 있어서,
    상기 노광 패턴은 리드 프레임 부재의 리드 프레임인 패턴 묘화 방법.
  18. 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 노광 패턴을 상기 기판의 양면에 형성하기 위한 패턴 묘화 방법으로서,
    테스트 기판의 양면을 마스크리스 노광 수단을 사용하여 마스크리스 노광함으로써 테스트용 노광 패턴을 그 테스트 기판의 양면에 형성하는 테스트 노광 단계;
    상기 마스크리스 노광 수단에 의해 상기 테스트용 노광 패턴이 양면에 형성된 상기 테스트 기판을 사용하여, 상기 테스트용 노광 패턴의 미러 이미지 관계로부터의 변위를 검출하는 검출 단계;
    노광 데이터에 따라 마스크리스 노광 수단에 의해 마스크리스 노광하여 기판의 양면에 노광 패턴을 형성할 때에, 이 노광 패턴 사이에서 미러 이미지 관계가 유지되도록 상기 검출 단계에서 검출된 변위에 기초하여 상기 노광 데이터를 보정하는 보정 단계; 및
    상기 마스크리스 노광 수단을 사용하여 상기 보정 단계에서 얻어진 보정된 노광 데이터에 기초해서 마스크리스 노광을 행함으로써 노광 패턴을 기판의 양면에 형성하는 제조 노광 단계
    를 포함하는 패턴 묘화 방법.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 마스크리스 노광 수단은 서로 대향하여 배치된 노광 헤드를 구비하고,
    상기 노광 헤드의 대응하는 각 면이 서로 대면하도록 기판을 배치하여, 상기 기판의 양면을 마스크리스 노광하는 패턴 묘화 방법.
  20. 제 18 항에 있어서,
    상기 검출 단계는 테스트 노광 단계 후에 상기 테스트 기판의 양면을 현상하는 현상 단계를 포함하고,
    상기 현상 단계에서 테스트 기판의 양면에 형성된 노광 패턴을 판독하여 미러 이미지 관계로부터의 변위를 검출하는 패턴 묘화 방법.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 검출 단계는,
    상기 테스트 기판을 그 한쪽 면으로부터 촬상하는 촬상 단계, 및
    상기 테스트 노광 단계에서 노광 시에는 광을 차단하고, 상기 촬상 단계에서 촬상 시에는 광을 투과하도록 상기 테스트 기판을 제어하는 제어 단계를 포함하는 패턴 묘화 방법.
  22. 제 21 항에 있어서,
    상기 테스트 기판은 상기 노광 단계에서 노광 시에는 노광 광원으로부터 투사된 광이 상기 액정 패널을 통해서 투과되지 못하도록 하고, 상기 촬상 단계에서 촬상 시에는 검사광의 투과율이 높도록 하는 구조를 갖는 액정 패널을 구비하는 패턴 묘화 방법.
  23. 제 20 항에 있어서,
    상기 검출 단계는 상기 테스트 기판을 그 한쪽 면으로부터 촬상하는 촬상 단계를 포함하고,
    상기 테스트 기판은 상기 테스트 노광 단계에서 노광 시에는 광을 차단하고, 상기 촬상 단계에서 촬상 시에는 광을 투과하는 패턴 묘화 방법.
  24. 제 23 항에 있어서,
    상기 테스트 기판은 상기 노광 단계에서 노광 시에는 노광 광원으로부터 투사된 광이 상기 액정 패널을 통해서 투과되지 못하도록 하고, 상기 촬상 단계에서 촬상 시에는 검사광의 투과율이 높도록 하는 구조를 갖는 액정 패널을 구비하는 패턴 묘화 방법.
  25. 제 18 항에 있어서,
    상기 노광 패턴은 리드 프레임 부재의 리드 패턴인 패턴 묘화 방법.
  26. 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 레지스트 패턴을 기판의 양면에 형성하기 위한 패턴 묘화 방법으로서,
    소정의 데이터에 따라 기판의 양면에 잉크젯 패터닝 수단을 사용하여 상기 패턴을 묘화함으로써 레지스트 패턴을 기판의 양면에 형성하는 패터닝 단계를 포함하는 패턴 묘화 방법.
  27. 제 26 항에 있어서,
    상기 잉크젯 패터닝 수단은 서로 대향하여 배치된 잉크젯 헤드를 구비하고,
    상기 잉크젯 헤드의 대응하는 각 면이 서로 대면하도록 기판을 배치하여, 상기 기판의 양면에 레지스트 패턴을 묘화하는 패턴 묘화 방법.
  28. 제 26 항에 있어서,
    상기 레지스트 패턴은 리드 프레임 부재의 리드 패턴인 패턴 묘화 방법.
  29. 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 레지스트 패턴을 상기 기판의 양면에 형성하기 위한 패턴 묘화 방법으로서,
    테스트 기판의 양면을 잉크젯 패터닝 수단을 사용하여 묘화함으로써 테스트 레지스트 패턴을 그 테스트 기판의 양면에 형성하는 테스트 패터닝 단계;
    상기 잉크젯 패터닝 수단에 의해 상기 테스트 레지스트 패턴이 양면에 형성된 상기 테스트 기판을 사용하여, 상기 테스트 레지스트 패턴의 미러 이미지 관계로부터의 변위를 검출하는 검출 단계;
    레지스트 패턴 데이터에 따라 잉크젯 패터닝 수단에 의해 잉크젯팅하여 기판의 양면에 레지스트 패턴을 형성할 때에, 이 레지스트 패턴 사이에서 미러 이미지 관계가 유지되도록 상기 검출 단계에서 검출된 변위에 기초하여 상기 레지스트 패턴 데이터를 보정하는 보정 단계; 및
    상기 잉크젯 패터닝 수단을 사용하여 상기 보정 단계에서 얻어진 보정된 레지스트 패턴 데이터에 기초해서 패턴을 묘화함으로써 레지스트 패턴을 기판의 양면에 형성하는 제조 패터닝 단계
    를 포함하는 패턴 묘화 방법.
  30. 제 29 항에 있어서,
    상기 잉크젯 패터닝 수단은 서로 대향하여 배치된 잉크젯 헤드를 구비하고,
    상기 잉크젯 헤드의 대응하는 각 면이 서로 대면하도록 기판을 배치하여, 상기 기판의 양면에 레지스트 패턴을 묘화하는 패턴 묘화 방법.
  31. 제 29 항에 있어서,
    상기 검출 단계는 상기 테스트 기판을 그 한쪽 면으로부터 촬상하는 촬상 단계를 포함하고,
    상기 테스트 기판은 광을 투과하는 패널을 포함하는 패턴 묘화 방법.
  32. 제 29 항에 있어서,
    상기 레지스트 패턴은 리드 프레임 부재의 리드 패턴인 패턴 묘화 방법.
  33. 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 노광 패턴을 상기 기판의 양면에 형성하는 패턴 묘화 장치에서 사용하기 위한 테스트 장치로서,
    대면하여 설치된 노광 헤드를 갖고, 상기 노광 헤드 사이에 노광 대상으로되는 기판을 샌드위치함으로써 상기 기판의 양면을 마스크리스 노광하는 마스크리스 노광 수단;
    광을 차단 또는 투과하는 테스트 기판으로서, 그 기판의 양면에 상기 마스크리스 노광 수단을 사용한 마스크리스 노광에 의해 테스트용 노광 패턴을 형성하는 테스트 기판;
    상기 테스트용 노광 패턴이 노광에 의해 형성된 테스트 기판의 양면을 현상하는 현상 수단;
    상기 현상 수단에 의해 상기 노광 패턴을 형성한 후에, 상기 테스트 기판을 그 한쪽 면으로부터 촬상하는 촬상 수단;
    상기 노광 수단에 의한 노광 시에는 광을 차단하고, 상기 촬상 수단에 의한 촬상 시에는 광을 투과하도록 상기 테스트 기판을 제어하는 제어 수단; 및
    상기 촬상 수단에 의해 촬상된 화상에 기초하여 상기 테스트 기판 상의 상기 테스트용 노광 패턴의 미러 이미지 관계로부터의 변위를 검출하는 검출 수단
    을 구비하는 테스트 장치.
  34. 제 33 항에 있어서,
    상기 테스트 기판은 상기 노광 수단에 의한 노광 시에는 그 위에 투사된 광이 투과되지 못하도록 하고, 상기 촬상 수단에 의한 촬상 시에는 검사광의 투과율이 높도록 하는 구조를 갖는 테스트 장치.
  35. 제 33 항에 있어서,
    상기 테스트 기판은 상기 노광 수단에 의한 노광 시에는 그 위에 투사된 광이 투과되지 못하도록 하고, 상기 촬상 수단에 의한 촬상 시에는 검사광의 투과율이 높도록 하는 구조를 갖는 액정 패널을 구비하는 테스트 장치.
  36. 제 33 항에 있어서,
    노광 데이터에 따라 마스크리스 노광 수단에 의해 마스크리스 노광하여 기판의 양면에 노광 패턴을 형성할 때에, 이 노광 패턴 사이에서 미러 이미지 관계가 유지되도록 상기 검출 수단에 의해 검출된 변위에 기초하여 상기 노광 데이터를 보정하는 보정 수단을 더 구비하는 테스트 장치.
  37. 기판에 대하여 서로 미러 이미지 관계를 갖는 레지스트 패턴을 상기 기판의 양면에 형성하는 패턴 묘화 장치에서 사용하기 위한 테스트 장치로서,
    각 면이 대면하여 배치된 잉크젯 헤드를 구비하며, 상기 잉크젯 헤드 사이에 기판을 샌드위치함으로써 상기 기판의 양면에 레지스트 패턴을 묘화하는 잉크젯 패터닝 수단;
    광을 투과하는 패널을 구비한 테스트 기판으로서, 그 기판의 양면에 상기 잉크젯 패터닝 수단을 사용한 패턴 묘화에 의해 테스트 레지스트 패턴을 형성하는 테스트 기판;
    상기 테스트 레지스트 패턴이 형성된 후에 테스트 기판을 그 한쪽 면으로부터 촬상하는 촬상 수단;
    상기 촬상 수단에 의해 촬상된 화상에 기초하여 상기 테스트 기판 상의 상기 테스트 레지스트 패턴의 미러 이미지 관계로부터의 변위를 검출하는 검출 수단
    을 구비하는 테스트 장치.
  38. 제 37 항에 있어서,
    레지스트 패턴 데이터에 따라 잉크젯 패터닝 수단에 의한 패턴 묘화에 의해 기판의 양면에 레지스트 패턴을 형성할 때에, 이 레지스트 패턴 사이에서 미러 이미지 관계가 유지되도록 상기 검출 수단에 의해 검출된 변위에 기초하여 상기 레지스트 패턴 데이터를 보정하는 보정 수단을 더 구비하는 테스트 장치.
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