JP2001042544A

JP2001042544A - 高精細露光方法および装置

Info

Publication number: JP2001042544A
Application number: JP11216335A
Authority: JP
Inventors: Tokuo Takahashi; 徳男高橋
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1999-07-30
Filing date: 1999-07-30
Publication date: 2001-02-16

Abstract

(57)【要約】【課題】リードフレーム原版のようなレジストパターン
の原稿を必要とせず、パターン改訂に要する負荷が小さ
く、しかも高精細なレジストパターンを形成することが
できる高精細露光方法および装置を提供する。【解決手段】所定のパターンを有する画像データを生成
する画像生成過程と、前記画像データを液晶パネルに表
示して表示画像を得る表示過程と、前記表示画像の投影
画像を感光材料に結像し露光する露光過程と、前記投影
画像を画素寸法よりも小さい所定の単位距離だけ移動す
る移動過程と、前記画像生成過程と前記表示過程と前記
露光過程と前記移動過程とを繰り返すことにより、前記
単位距離を最小寸法とするパターンの露光を行うように
した高精細露光方法。および、その方法を適用した装
置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フォトメカニカル
法（フォトエッチング法、等）によりパターン化された
物品を製造するとき用いるレジストパターンを作製する
技術分野に属する。特に、リードフレームの金属材料に
高精細なレジストパターンを作製するための高精細露光
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一例としてリードフレームは、半導体素
子を取り付ける部分であるダイパット、その周辺に配設
され半導体素子との結線を行う部分である所定数のイン
ナーリード、そのインナーリードから延長し外部接続を
行う部分であるアウターリード、等から構成される。こ
のような構成を有するリードフレームは、通常、コバー
ル（Kovar ）、４２合金（４２％Ｎｉ含有Ｆｅ合金）、
銅系合金、等の導電性に優れ強度が大きい金属材料の薄
板を、たとえばフォトエッチング法により加工して製造
する。

【０００３】フォトエッチング法においては、エッチン
グに対するレジストパターンを金属材料の薄板に形成す
ることが、以下の〜の過程により行われる。すなわ
ち、感光液を金属材料の薄板に塗布し感光性を有するレジ
スト層を形成し、紫外線露光、等によりリードフレー
ム原版の密着焼付けを行い、現像液を用いて、光硬化
型レジストでは未露光部分を、光分解型レジストでは露
光部分を溶解除去する。このようにレジストパターンを
形成した金属材料の薄板に対し、チャンバー内でノズル
からエッチング液を吹きかけエッチングを行うことによ
り、金属板を前述の形状にエッチング加工したリードフ
レームが得られる。製品としてのリードフレームは、さ
らに、全面銅（Ｃｕ）めっき（鉄材の場合）、部分銀
（Ａｇ）めっき、酸化、水酸化等の防止膜処理（変色防
止処理）、等が行われる。

【０００４】

【本発明が解決しようとする課題】このように所定のレ
ジストパターンを形成するためには、露光装置でリード
フレーム原版の密着焼付け（密着露光）を行う。リード
フレーム原版は、通常、平面性と寸法精度に優れる乾板
（臭化銀ゼラチン乳剤をガラス板に塗布して作った感光
板）が用いられが、乾板は重量があり割れやすい上に高
価である。このリードフレーム原版はリードフレームの
品目ごとに製造する必要がある。また、小さなパターン
改訂がある場合でもリードフレーム原版を更新する必要
がある。また、次回の生産に備えてリードフレーム原版
の保管場所を確保し管理する必要がある。このため、製
造費用に占めるリードフレーム原版の割合は高くなる。
特に、多品種少量生産においては顕著であり、全体とし
ての製造費用を高くする原因となっている。

【０００５】たとえば、プリント基板を製造する技術分
野においては、このような問題を解決する露光装置が特
開平１１−９５４４３号に開示されている。その露光装
置は、マスクフィルム（レジストパターンの原稿）を用
いず、レジストパターンの画像表示を行った液晶パネル
を通して露光を行うようにしたものである。しかし、こ
の露光装置の構成では、高精細なパターンの露光を行う
ことは不可能であり、近年の高精細なリードフレームの
製造においては使用することができない。

【０００６】本発明は上記の課題を解決するためになさ
れたものである。その目的は、リードフレーム原版のよ
うなレジストパターンの原稿を必要とせず、パターン改
訂に要する負荷が小さく、しかも高精細なレジストパタ
ーンを形成することができる高精細露光方法を提供する
ことにある。

【０００７】上記の課題は下記の本発明によって達成す
ることができる。すなわち、本発明の請求項１に係る高
精細露光方法は、所定のパターンを有する画像データを
生成する画像生成過程と、前記画像データを液晶パネル
に表示して表示画像を得る表示過程と、前記表示画像の
投影画像を感光材料に結像し露光する露光過程と、前記
投影画像を画素寸法よりも小さい所定の単位距離だけ移
動する移動過程と、前記画像生成過程と前記表示過程と
前記露光過程と前記移動過程とを繰り返すことにより、
前記単位距離を最小寸法とするパターンの露光を行うよ
うにしたものである。

【０００８】本発明によれば、画像生成過程において所
定のパターンを有する画像データが生成され、表示過程
において画像データが液晶パネルに表示され表示画像が
得られ、露光過程において表示画像の投影画像が感光材
料に結像され露光され、移動過程において投影画像が画
素寸法よりも小さい所定の単位距離だけ移動され、さら
に、画像生成過程と表示過程と露光過程と移動過程とが
繰り返され、その単位距離を最小寸法とするパターンの
露光が行われる。すなわち、液晶パネルに表示され表示
画像の投影画像により露光が行われるからリードフレ
ーム原版のようなレジストパターンの原稿を必要としな
い。また、パターン改訂は画像データの改訂であるから
改訂に要する負荷が小さい。また、投影画像を画素寸法
よりも小さい所定の単位距離だけ移動することによりそ
の単位距離を最小寸法とする高精細なパターンの露光が
行われる。したがって、リードフレーム原版のようなレ
ジストパターンの原稿を必要とせず、パターン改訂に要
する負荷が小さく、しかも高精細なレジストパターンを
形成することができる高精細露光方法が提供される。

【０００９】また本発明の請求項２に係る高精細露光方
法は、請求項１に係る高精細露光方法において、前記投
影画像は、前記液晶パネルの表示画像よりも小さい縮小
投影画像であるようにしたものである。本発明によれ
ば、液晶パネルの表示画像の縮小投影画像によって露光
が行われるから、さらに高精細なレジストパターンを形
成することができる。また本発明の請求項３に係る高精
細露光方法は、請求項１または２に係る高精細露光方法
において、前記単位距離は、ｎを正の整数として前記画
素寸法の１／ｎであるようにしたものである。本発明に
よれば、ｎ倍の単位距離を移動することのより丁度１画
素分の移動が行われる。すなわち、１／ｎの高精細なエ
ッジの揃ったレジストパターンを形成することができ
る。また本発明の請求項４に係る高精細露光方法は、請
求項１〜３のいずれかに係る高精細露光方法において、
前記感光材料はリス型（lith type ；硬調の）感光材料
であって、前記露光過程における露光量は、所定の繰り
返し露光を行った場合に描画する露光量から一回露光で
描画する露光量まで可変とするようにしたものである。
本発明によれば、感光材料の感光特性に応じて露光量を
変化させ、所定の繰り返し露光を行って描画したり一回
露光で描画したりすることができる。また本発明の請求
項５に係る高精細露光方法は、請求項４に係る高精細露
光方法において、前記画像生成過程において生成される
パターンは、多値の濃淡を有する画素によって構成され
る濃淡パターンであり、前記露光量はその濃淡によって
各画素単位で設定するようにしたものである。本発明に
よれば、濃淡パターンにより画素単位で露光量を設定す
ることができる。また本発明の請求項６に係る高精細露
光方法は、請求項１〜４のいずれかに係る高精細露光方
法において、前記パターンはリードフレームのパターン
であり、前記感光材料はリードフレームの金属材料に形
成したエッチングレジスト層であるようにしたものであ
る。本発明によれば、リードフレームの金属材料にレジ
ストパターンを形成するための露光においてリードフレ
ーム原版を必要とせず、直接的な露光を行うことができ
る。

【００１０】また本発明の請求項７に係る高精細露光装
置は、所定のパターンを有する画像データを生成する画
像生成手段と、前記画像データを液晶パネルに表示して
表示画像を得る表示手段と、前記表示画像の投影画像を
感光材料に結像し露光する露光手段と、前記投影画像を
画素寸法よりも小さい所定の単位距離だけ移動する移動
手段と、前記単位距離を最小寸法とするパターンの露光
を行うため前記画像生成手段と、画像生成手段と前記表
示手段と前記露光手段と前記移動手段における動作の繰
り返しを制御する制御手段と、を有するようにしたもの
である。

【００１１】本発明によれば、画像生成手段により所定
のパターンを有する画像データが生成され、表示手段に
より画像データが液晶パネルに表示され表示画像が得ら
れ、露光手段により表示画像の投影画像が感光材料に結
像され露光され、移動手段により投影画像が画素寸法よ
りも小さい所定の単位距離だけ移動され、制御手段によ
り、単位距離を最小寸法とするパターンの露光を行うた
め画像生成手段と表示手段と露光手段と移動手段におけ
る動作の繰り返しが制御される。すなわち、液晶パネル
に表示され表示画像の投影画像により露光が行われるか
らリードフレーム原版のようなレジストパターンの原
稿を必要としない。また、パターン改訂は画像データの
改訂であるから改訂に要する負荷が小さい。また、投影
画像を画素寸法よりも小さい所定の単位距離だけ移動す
ることによりその単位距離を最小寸法とする高精細なパ
ターンの露光が行われる。したがって、リードフレーム
原版のようなレジストパターンの原稿を必要とせず、パ
ターン改訂に要する負荷が小さく、しかも高精細なレジ
ストパターンを形成することができる高精細露光装置が
提供される。

【００１２】

【発明の実施の形態】次に、本発明について実施の形態
により説明する。まず、本発明の高精細露光装置の構成
について説明する。本発明の高精細露光装置の構成の一
例を示す説明図を図１に示す。図１において、１は液晶
パネル、２は露光用光源（光線だけを図示）、３は縮小
結像レンズ、４はリードフレーム素材、５はデータ処理
装置（液晶表示用のパーソナルコンピュータ）である。
液晶パネル１には透過型でマトリックス型の液晶パネル
が用いられる。また、カラーである必要はないからカラ
ーフィルターを形成しない（工程を省略するか色材を使
用しない）液晶パネル１が用いられる。表示性能におい
てはＡＭ（activ matrix）方式がよく。たとえば、ＡＭ
駆動体としてはａ−Ｓｉ（amorphous silicon ）やｐｏ
ｌｙ−Ｓｉ（poly-cristalline silicon）のＴＦＴ（th
in filmtransistor）、表示体にＴＮ（twisted nematic
）モード液晶を用いる構成の液晶パネル１を本発明に
おいて使用することができる。

【００１３】露光用照明２は液晶パネル１の背面（縮小
結像レンズ３の反対側の面）の全体を均一に照明する。
図１に露光用照明２の光線を矢印で示すように、光線は
液晶パネル１の法線とほぼ平行な光線とする。光線をこ
の方向とすることにより、透過光線のコントラスト比が
大きくなり画質が向上するとともに、光線が効率的に縮
小結像レンズ３に到達する。一般的な、蛍光ランプのエ
ッジライトを用い導光板によって液晶パネル１の背面の
全体を照明するように構成したバックライトは、適用可
能ではあるが拡散光源であるため最良ではない。メタル
ハライド、キセノン、ハロゲン等の強力な光源と反射
鏡、レンズ等を組み合わせ、液晶パネル１の背面の全体
に、液晶パネル１の法線とほぼ平行となる前述の光線を
照明するように構成するとより好適である。

【００１４】また、露光用照明２には露光量を制御する
ための機構（図示せず）を備えている。すなわち、露光
量は、所定の繰り返し露光を行った場合に感光材料に描
画する露光量から一回露光で感光材料に描画する露光量
まで可変とする。露光量を制御する機構は、たとえば、
シャッター、ストロボ、減光機構（絞り、減光フィル
タ）、等と、それらを制御する露光制御機構によって構
成される。また、このような露光制御機構とともに液晶
パネルによって露光量を可変とすることができる。液晶
パネル１によって表示するパターンを、多値の濃淡を有
する画素によって構成される濃淡パターンとする。その
濃淡パターンの濃淡によってこの露光量を各画素単位で
設定するようにすることができる。それらの機構を用
い、リードフレーム素材４の感光特性（感度）、繰り返
し露光の回数、液晶パネル１の表示画像と所望のレジス
トパターンとの関係、等を考慮して、適正な露光量が決
定され露光が行われる。

【００１５】縮小結像レンズ３は液晶パネル１に表示さ
れた画像の縮小画像をリードフレーム素材４の表面に結
像する。倍率として、たとえば、１／１〜１／１０のよ
うな倍率が得られる光学系が縮小結像レンズ３によって
構成される。

【００１６】リードフレーム素材４は、感光材料（前述
のフォトエッチング法におけるフォトレジスト）を塗布
した金属板材（銅系合金、等）である。この感光材料と
しては、リス型（lith type ；硬調の）感光材料が好適
である。すなわち、露光量の積算値が所定値以上である
場合に描画し（急峻に高濃度となり）、所定値以下では
描画しない（急峻に低濃度となる）ような特性を有する
感光材料が好適である。このリードフレーム素材４は、
定盤のような平坦な表面を有する露光ステージ（図示せ
ず）に載せられている。露光ステージは真空吸引機構、
等を有し、リードフレーム素材４は、その機構によって
そのステージに密着し、露光面の平坦性が得られるよう
になっている。

【００１７】図１には図示していないが、リードフレー
ム素材４に投影された画像を移動する移動機構が存在す
る。この移動は相対的なものであるから投影画像を移動
する代わりにリードフレーム素材４を移動するようにし
ても同様である。たとえば、、リードフレーム素材４を
移動する場合には、移動機構は、露光ステージを移動す
る移動機構とすればよい。また、投影画像を移動する場
合には、移動機構は、液晶パネル１、露光用照明２、縮
小結像レンズ３、等の画像投影を行う構成部分の全体を
移動する移動機構とすればよい。ただし、この移動機構
は、投影画像を画素寸法よりも小さい所定の単位距離だ
け移動する移動機構である。したがって、露光ステージ
を移動する移動機構においては、縮小結像画像の倍率
（縮小率）によって移動機構による移動量の調節が必要
である。一方、画像投影を行う構成部分の全体を移動す
る移動機構においてはその調節は不要である。

【００１８】データ処理装置５は、パーソナルコンピュ
ータ、ワークステーション、等の本体と周辺機器によっ
て構成することができる。図１には、データ処理装置５
によって液晶表示を行うことが示されている。データ処
理装置５は、リードフレームのパターン設計工程からパ
ターンデータを入力する。たとえば、データ処理装置５
はパターン設計工程の設計システムとＬＡＮ（local ar
ea network）によって接続されており、ＬＡＮを介して
パターンデータの転送を受ける。データ処理装置５はそ
のパターンデータに基づいて液晶パネル１に表示する画
像のデータを生成する。

【００１９】データ処理装置５が生成する表示画像デー
タは、設計されたパターンデータと一般的には同一とは
ならない。一部分においてはパターンデータと同一であ
っても、全体として完全に一致することは特殊な場合で
ある。特に、液晶パネル１の表示画素の寸法と比較し、
複雑な形状、微細な形状を有するパターンデータの部分
は表示画像データとは異なったものとなる。すくなくと
もパターンデータにおける複雑な形状、微細な形状の部
分は、複数回の露光によって、必要とする精度でその形
状の描画をリードフレーム素材４に対して行うようにす
る（詳細は後述する）。したがって、そのことができる
ように、データ処理装置５において表示画像データが生
成される。

【００２０】データ処理装置５は、液晶表示を行うため
にだけ使用するのではなく、前述した露光量を制御する
ための機構、リードフレーム素材４に投影された画像を
移動する移動機構、等におけるデータ処理装置としても
使用することができる。また、データ処理装置５におい
て、高精細露光装置の設定、操作の入力、動作の表示を
行わせることもできる。データ処理装置５に限らず、高
精細露光装置の全体において、このような構成は様々な
形態として具体化することができる。その内のどの構成
とするかは、主として周知技術の範囲における設計事項
に属する。

【００２１】したがって、ここでは構成における具体的
な様々な形態についての説明は行わないが、高精細露光
装置の構成の一例を示し整理して本発明の特徴的構成に
ついて説明しておく。高精細露光装置の構成の一例をブ
ロック図として図２に示す。図２において、２１は画像
生成手段、２２は表示手段、２３は露光手段、２４は移
動手段、２５は制御手段である。画像生成手段２１は所
定のパターンを有する画像データを生成する。リードフ
レームを一例とすれば、前述のようにリードフレームの
設計データを入力して、液晶パネルに表示する画像を生
成する。そして、表示手段２２は画像データを液晶パネ
ルに表示して表示画像を得る。

【００２２】露光手段２３は表示画像の投影画像を感光
材料に結像し露光する。このときの投影画像は、液晶パ
ネルの表示画像よりも小さい縮小投影画像とする。これ
により、高精細な結像画像を得る。また、そのときの露
光量は、所定の繰り返し露光を行った場合に感光材料に
描画する（感光する）露光量から一回露光で感光材料に
描画する（感光する）露光量まで可変とする。露光量は
光源から放射される光量、時間によって可変とするだけ
でなく、表示手段２２よって可変とすることができる。
画像生成手段２１によって生成されるパターンを、多値
の濃淡を有する画素によって構成される濃淡パターンと
する。表示手段２２に表示されたその濃淡パターンの濃
淡によってこの露光量を各画素単位で設定するようにす
ることができる。

【００２３】露光手段２３によって上述の露光を行う場
合において、露光対象の感光材料としてはリス型（lith
type ；硬調の）感光材料が好適である（後述する）。
リードフレームの場合の感光材料はリードフレームの金
属材料に形成したエッチングレジスト層である。

【００２４】移動手段２４は投影画像を画素寸法よりも
小さい所定の単位距離だけ移動する。このときの単位距
離は、ｎを正の整数として画素寸法の１／ｎであるよう
にする。これにより、単位距離についてｎ回の移動を行
うと、パターンのエッジが揃うこととなる。したがって
１／ｎの高精細なエッジの揃ったレジストパターンを形
成することができる。図２において、移動手段２４から
延びる破線の矩形枠は、移動手段２４によって移動され
る部位を示している。この一例では、移動手段２４は表
示手段２２と露光手段２３を移動する。制御手段２５は
画像生成手段２１と表示手段２２と露光手段２３と移動
手段２４における動作の繰り返しを制御する。画像生成
手段２１と制御手段２５は１つのデータ処理装置によっ
て構成することができる。

【００２５】以上、図１、図２に基づいて説明した本発
明の高精細露光装置の構成において、次に、その動作を
説明する。本発明の高精細露光装置における露光過程を
フロー図として図３に示す。まず、図３のステップＳ１
において、画像生成手段２１は、リードフレームの設計
データを入力して、液晶パネルに表示する画像データを
生成する。次に、ステップＳ２において、表示手段２２
はその画像データに対応する表示画像を液晶パネルに表
示する。

【００２６】次に、ステップＳ３において、制御手段２
５は、縮小投影画像を移動する必要の有無を判定する。
露光ステージにセット（載置し密着固定）したリードフ
レーム素材４（図１参照）と縮小投影画像の位置が所定
の正しい位置であれば移動は行わない。すなわち、ステ
ップＳ４をとばしてステップＳ５に進む。所定の正しい
位置から外れていれば移動を行い正しい位置に直す。す
なわち、ステップＳ４に進む。ステップＳ４において、
移動手段２４は制御手段２５からの移動指令に基づい
て、表示手段２２と露光手段２３を移動し、リードフレ
ーム素材４と縮小投影画像の位置を所定の正しい位置に
直す。次に、ステップＳ５において、露光手段２３は制
御手段２５からの露光指令に基づいて所定の露光条件で
投影露光を行う。

【００２７】次に、ステップＳ６において、制御手段２
５は高精細露光過程を終了するか継続するかの判定を行
う。制御手段２５は、リードフレームの設計データに対
応して生成される全ての画像データにおける全ての露光
（ステップＳ５）が終了しているか否かを判定し、終了
している場合にはこのジョッブの高精細露光過程を終了
とする。そうでない場合にはステップＳ７に進む。ステ
ップＳ７において、制御手段２５は画像を更新する必要
の有無を判定する。画像を更新する必要がある場合に
は、画像生成手段２１により新規の画像を生成するため
ステップＳ１に戻り以降の過程を繰り返す。そうでない
場合には、画像は更新せずに露光を繰り返す場合である
から、ステップＳ４に戻り以降の過程を繰り返す。

【００２８】以上が高精細露光過程のステップである
が、ここで繰り返し露光を行う意味について説明をす
る。すなわち、上記において、ステップＳ１に戻り、ま
たはステップＳ４に戻り以降の過程を繰り返すことによ
り行われる露光において、高精細なパターンの露光がリ
ードフレーム素材４の感光材に対して行われることを説
明する。高精細露光過程において高精細なパターンの露
光を行う過程の説明図を図４に示す。図４（Ａ）は、液
晶パネルの１画素に対応する縮小投影画像のパターンを
示している。この一例では、液晶パネルの画素の形状は
長方形であるため、その縮小投影画像も長方形となって
いる。

【００２９】図４（Ｂ）は、繰り返し露光を行うときの
縮小投影画像の移動を説明する図である。図４（Ｂ）に
示すように、１回目の露光の位置に対し、２回目の露光
は右方向に半画素分の距離だけずらした位置において行
われる。また、３回目の露光は、１回目の露光の位置に
対し、下方向に半画素分の距離だけずらした位置におい
て行われる。また、４回目の露光は、１回目の露光の位
置に対し、右方向と下方向に各々半画素分の距離だけず
らした位置において行われる。

【００３０】図４（Ｃ）は、露光が行われた各領域にお
ける露光量を露光回数で示した図である。図４（Ｃ）に
示すように、全露光領域を示す大きな長方形は、小露光
領域を示す９つの小さな長方形によって区分することが
できる。露光回数は、大きな長方形の２つの辺を含む角
の小さな長方形の小露光領域において１回である。ま
た、露光回数は、大きな長方形の１つの辺を含む小さな
長方形の小露光領域において２回である。また、露光回
数は、大きな長方形の辺を含まない中央の小さな長方形
の小露光領域において４回である。

【００３１】図４（Ｄ）は、描画される領域（感光部
分）を示している。感光材料として、３回露光の露光量
で描画される感光材料を使用するものとする。そのよう
な感光材料は３回露光を閾値とする感光材料とみなすこ
とができる。その場合には、図４（Ｄ）に示すように、
４回露光した中央部分（中央の小さな長方形の小露光領
域）だけが描画（感光）する。図４（Ｄ）に示すこの中
央部分の寸法と、図４（Ａ）に示す１画素に対応する縮
小投影画像の寸法とを比較する。明らかなように、中央
部分の寸法は、１画素に対応する縮小投影画像の寸法の
１／２の縮尺（面積で１／４）となっている。このよう
に、露光を繰り返すことにより高精細なパターンを得る
ことができる。

【００３２】パターンが長方形の場合について説明した
が、より複雑なパターンにおいても、同様に露光を繰り
返すことにより高精細なパターンを得ることができる。
露光を繰り返すことにより高精細な複雑パターンを得る
ことの説明図を図５に示す。図５（Ａ）は、縮小投影画
像を４方向に半画素だけ移動し多重露光を行った場合の
共通露光部分を示す。共通露光部分は図５（Ａ）におけ
る太線で囲まれた内部の領域である。縮小投影画像に対
して共通露光部分は半画素だけ削られた細い斜めの線と
して描画することができる。

【００３３】図５（Ｂ）は、縮小投影画像を斜め下に半
画素（右方向と下方向に各々半画素）だけ移動し多重露
光を行った場合の共通露光部分を示す。共通露光部分は
図５（Ａ）における太線で囲まれた内部の領域である。
縮小投影画像に対して共通露光部分は斜めの線のジグザ
グの寸法が小さくなっている。すなわち、より滑らかな
斜めの線として描画することができる。このように、移
動と露光とを、たとえばリードフレーム素材４の感光材
に対して繰り返すことにより、リードフレームのような
複雑なパターンであっても、高精細なパターンを得るこ
とができる。

【００３４】縮小投影画像の更新を行わない一例として
図５に基づいて説明したが、縮小投影画像の更新を行う
ことにより、より複雑でより高精細なパターンを得るこ
とができる。すなわち、図３に示す高精細露光過程にお
いて、ステップＳ７からステップＳ４に戻る縮小投影画
像の更新を行わない繰り返しの過程と、ステップＳ７か
らステップＳ１に戻る縮小投影画像の更新を行う繰り返
しの過程とを組み合わせることにより、より複雑でより
高精細なパターンを、より効率的に得ることができる。

【００３５】ところで、すでに説明したように、本発明
で用いる液晶パネル１（図１参照）には、カラーフィル
ターを形成しない（工程を省略するか色材を使用しな
い）液晶パネルが用いられる。この場合の画像表示の説
明図を図６に示す。一般のカラー液晶パネルにおける画
素は、ＲＧＢ（red,green,blue）３色に対応する３画素
（セル）でカラーの１ドット（カラーの１画素）を表す
（図６（Ａ））。カラーフィルターを無くすとカラーの
１ドットに相当する白黒の３画素を得ることができる
（図６（Ｂ））。したがって、図６（Ｃ）に示すよう
に、カラー液晶パネルを駆動するときの駆動信号におい
て、たとえば、Ｙ（yellow）の信号を出力するように画
像生成手段２１において画像データを生成することによ
り、Ｒ，Ｇに相当する画素が白、すなわち透過とするこ
とができる。このように、画像生成手段２において、白
黒のパターンに相当するカラー画像データを生成するこ
とにより、一般のカラー液晶パネルと駆動装置を流用す
ることができる。

【００３６】

【発明の効果】以上のように本発明の請求項１に係る高
精細露光方法によれば、リードフレーム原版のようなレ
ジストパターンの原稿を必要とせず、パターン改訂に要
する負荷が小さく、しかも高精細なレジストパターンを
形成することができる露光装置が提供される。また本発
明の請求項２に係る高精細露光方法によれば、液晶パネ
ルの表示画像の縮小投影画像によって露光が行われるか
ら、さらに高精細なレジストパターンを形成することが
できる。また本発明の請求項３に係る高精細露光方法に
よれば、１／ｎの高精細なエッジの揃ったレジストパタ
ーンを形成することができる。また本発明の請求項４に
係る高精細露光方法によれば、感光材料の感光特性に応
じて露光量を変化させ、所定の繰り返し露光を行って描
画したり一回露光で描画したりすることができる。また
本発明の請求項５に係る高精細露光方法によれば、濃淡
パターンにより画素単位で露光量を設定することができ
る。また本発明の請求項６に係る高精細露光方法によれ
ば、リードフレームの金属材料にレジストパターンを形
成するための露光においてリードフレーム原版を必要と
せず、直接的な露光を行うことができる。

【００３７】また本発明の請求項７に係る高精細露光装
置によれば、リードフレーム原版のようなレジストパタ
ーンの原稿を必要とせず、パターン改訂に要する負荷が
小さく、しかも高精細なレジストパターンを形成するこ
とができる高精細露光装置が提供される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の高精細露光装置の構成の一例を示す説
明図である

【図２】高精細露光装置の構成の一例を示すブロック図
である

【図３】本発明の高精細露光装置における露光過程を示
すフロー図である。

【図４】高精細なパターンの露光を行う過程を示す説明
図である。

【図５】露光を繰り返すことにより高精細な複雑パター
ンを得ることの説明図である。

【図６】本発明で用いることができる液晶パネルにおけ
る画像表示の説明図である。

【符号の説明】

１液晶パネル２露光用光源（光線だけを図示）３縮小結像レンズ４リードフレーム素材５データ処理装置（液晶表示用のパーソナルコンピュ
ータ）２１画像生成手段２２表示手段２３露光手段２４移動手段２５制御手段

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】所定のパターンを有する画像データを生成
する画像生成過程と、前記画像データを液晶パネルに表示して表示画像を得る
表示過程と、前記表示画像の投影画像を感光材料に結像し露光する露
光過程と、前記投影画像を画素寸法よりも小さい所定の単位距離だ
け移動する移動過程と、前記画像生成過程と前記表示過程と前記露光過程と前記
移動過程とを繰り返すことにより、前記単位距離を最小
寸法とするパターンの露光を行うことを特徴とする高精
細露光方法。
【請求項２】請求項１記載の高精細露光方法において、
前記投影画像は、前記液晶パネルの表示画像よりも小さ
い縮小投影画像であることを特徴とする高精細露光方
法。
【請求項３】請求項１または２記載の高精細露光方法に
おいて、前記単位距離は、ｎを正の整数として前記画素
寸法の１／ｎであることを特徴とする高精細露光方法。
【請求項４】請求項１〜３記載の高精細露光方法におい
て、前記感光材料はリス型（lith type ；硬調の）感光
材料であって、前記露光過程における露光量は、所定の
繰り返し露光を行った場合に描画する露光量から一回露
光で描画する露光量まで可変とすることを特徴とする高
精細露光方法。
【請求項５】請求項４記載の高精細露光方法において、
前記画像生成過程において生成されるパターンは、多値
の濃淡を有する画素によって構成される濃淡パターンで
あり、前記露光量はその濃淡によって各画素単位で設定
することを特徴とする高精細露光方法。
【請求項６】請求項１〜４記載の高精細露光方法におい
て、前記パターンはリードフレームのパターンであり、
前記感光材料はリードフレームの金属材料に形成したエ
ッチングレジスト層であること特徴とする高精細露光方
法。
【請求項７】所定のパターンを有する画像データを生成
する画像生成手段と、前記画像データを液晶パネルに表示して表示画像を得る
表示手段と、前記表示画像の投影画像を感光材料に結像し露光する露
光手段と、前記投影画像を画素寸法よりも小さい所定の単位距離だ
け移動する移動手段と、前記単位距離を最小寸法とするパターンの露光を行うた
め前記画像生成手段と画像生成手段と前記表示手段と前
記露光手段と前記移動手段における動作の繰り返しを制
御する制御手段と、を有することを特徴とする高精細露光装置。