KR20040073719A - 웨이퍼 이송 장치 - Google Patents

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KR20040073719A
KR20040073719A KR1020030009396A KR20030009396A KR20040073719A KR 20040073719 A KR20040073719 A KR 20040073719A KR 1020030009396 A KR1020030009396 A KR 1020030009396A KR 20030009396 A KR20030009396 A KR 20030009396A KR 20040073719 A KR20040073719 A KR 20040073719A
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서대건
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Abstract

본 발명에 따른 웨이퍼(wafer) 이송 장치는, 단일 웨이퍼가 거치되는 웨이퍼 거치 기구 및 상술한 웨이퍼 거치 기구가 부착된 지지 기구를 포함하고, 지지 기구 상에는, 웨이퍼 거치 기구에 거치된 웨이퍼의 배면을 모니터링(monitoring)하는 모니터링 유닛(monitoring unit)이 형성된다. 또한, 상술한 웨이퍼 이송 장치에 형성된 모니터링 유닛은 모니터링된 웨이퍼 배면에 대한 상(象)을 영상 신호로 변조하는 신호 변조 유닛과 접속되고, 신호 변조 유닛은 시각 인식 가능한 영상을 생성하여 디스플레이(display)하는 디스플레이 유닛과 접속된다. 상술한 바와 같은 구성에 의해, 웨이퍼 배면의 손상 여부를 확인하기 위해 수작업을 하여야 하는 과정을 생략하여도 웨이퍼의 배면 손상 상태를 감지하는 것이 가능하여, 배면 확인을 위한 수작업에 따른 작업 시간 연장 및 효율 저하를 방지하는 것이 가능하다.

Description

웨이퍼 이송 장치{Wafer transferring apparatus}
본 발명은 웨이퍼(wafer) 이송 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 거치된 웨이퍼의 배면 상태를 모니터링(monitoring)하는 것이 가능한 웨이퍼 이송 장치에 관한 것이다.
종래의 웨이퍼 이송 장치는 예를 들어, 웨이퍼용 카세트(cassette) 등에 거치된 웨이퍼의 낱장을 이송하기 위해 지지 기구에 부착된 웨이퍼 거치 기구, 즉, 2개의 핑거(finger)가 웨이퍼용 카세트에 거치된 웨이퍼의 배면으로 이동한 후 웨이퍼에 대한 진공 흡착 등을 실행하여 고정시켜 이송하는 방식을 사용하여 왔다. 이러한 방식의 웨이퍼 이송 장치는 회로 패턴(pattern)이 형성되어 있는 전면이 훼손되지 않도록 웨이퍼의 배면에서 작동이 실행되는 형식이다.
종래의 웨이퍼 이송 장치에 대해서는 도 1 및 도 2에 도시되어 있다.
도 1은 종래의 웨이퍼 이송 장치의 작동을 설명하는 설명도이고, 도 2는 웨이퍼가 거치된 종래의 웨이퍼 이송 장치의 측면도이다. 도 1 및 도 2에 도시되어 있는 바와 같이, 종래의 웨이퍼 이송 장치(도 1에서는 우측)는 지지 기구(13), 웨이퍼 거치 기구인 2개의 핑거(14)들로 구성되고, 이 2개의 핑거(14)들에 웨이퍼(11)가 거치된다. 웨이퍼(11)가 핑거(14)들에 거치되는 것을 도시하기 위해도면상에는 웨이퍼 이송 장치가 좌우로 움직이는 것만을 화살표로 표시하였으나, 보다 자유로운 움직임이 가능하고, 상황 및 설계에 따라 핑거(14)들이 움직이는 것도 가능하다. 웨이퍼(11)가 거치되어 있는 웨이퍼용 카세트(12)로 웨이퍼 이송 장치가 이동한 후, 핑거(14)들이 임의의 낱장의 웨이퍼(11) 하면으로 들어가서 웨이퍼와 진공 흡착 접촉되어 거치하게 되면, 이 상태에서 웨이퍼 이송 장치는 다시 웨이퍼용 카세트(12)로의 이동 방향과 반대 방향으로 일정 거리 이동하여, 웨이퍼 요구 설비 등으로 거치된 웨이퍼(11)를 이송시킨다.
상술한 바와 같이, 웨이퍼 이송 장치의 이러한 구성과 동작 과정에서는 웨이퍼 전면이 상방으로 향하고 있어 웨이퍼 전면의 손상 등의 상태를 용이하게 확인하는 것은 가능하지만, 웨이퍼 배면의 손상을 육안 등으로 확인하는 것은 구조상 불가능하다. 그러나, 웨이퍼가 웨이퍼 이송 장치에 거치된 상태에서 그 배면의 상태를 확인하는 것이 불가능하더라도, 웨이퍼 배면의 상태 또한 웨이퍼를 가공하거나 절단하여 정상적인 반도체 디바이스(device)를 형성하는데 밀접하게 관련되어 있으므로 이를 확인하여야 할 필요성은 있으므로, 이러한 확인 작업은 그동안 주로 수작업을 이용하여 왔다. 이러한 이유로 인해, 즉, 자동화된 공정 과정 도중에 수작업을 거쳐야 하는 이유로 인해, 반도체 제조 공정에서의 작업 속도 및 효율 등의 저하가 발생된다.
따라서, 본 발명의 목적은 작업 속도 및 작업 효율을 저하시키는 수작업을 거치지 않고도 웨이퍼 배면의 손상 상태 등을 확인하는 것이 가능한 웨이퍼 이송장치를 제공하는 것이다.
도 1은 종래의 웨이퍼 이송 장치가 웨이퍼를 거치하는 모습을 나타내는 도,
도 2는 웨이퍼가 거치된 종래의 웨이퍼 이송 장치의 측면도,
도 3은 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치가 웨이퍼를 거치하는 모습을 나타내는 도,
도 4는 웨이퍼가 거치된 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치의 측면도,
도 5는 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치가 신호 변조 유닛과 접속되고, 신호 변조 유닛은 디스플레이(display) 유닛과 접속되는 상태를 개략적으로 도시한 도, 그리고
도 6은 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치를 이용하여 웨이퍼 배면 상태를 확인하는 과정의 유닛 흐름을 도시한 흐름도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
11, 21: 웨이퍼
12, 22: 웨이퍼용 카세트
12, 23: 지지 기구
14, 24: 웨이퍼 거치 기구
25: 모니터링 유닛
26: 신호 변조 유닛
27: 디스플레이 유닛
본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치는, 단일 웨이퍼가 거치되는 웨이퍼 거치 기구 및 상술한 웨이퍼 거치 기구가 부착된 지지 기구를 포함하고, 지지 기구 상에는 웨이퍼 거치 기구에 거치된 웨이퍼의 배면을 모니터링하는 모니터링 유닛(monitoring unit)이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 상술한 웨이퍼 이송 장치에 형성된 모니터링 유닛은 모니터링된 웨이퍼 배면에 대한 상(象)을 영상 신호로 변조하는 신호 변조 유닛과 접속되고, 신호 변조 유닛은 시각 인식 가능한 영상을 생성하는 디스플레이(display)하는 디스플레이 유닛과 접속된다.
상술한 바와 같은 구성에 의해, 수작업을 거치지 않고도 웨이퍼 배면의 손상 등을 확인하는 것이 가능하여 수작업시 필연적으로 발생되는 효율 저하 문제를 제거하는 것이 가능하다.
이하 도면을 참조하여 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치에 대해 자세히 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치가 웨이퍼를 거치하는 모습을 나타내는 도이고, 도 4는 웨이퍼가 거치된 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치의 측면도이다. 도 3에 도시된 웨이퍼 이송 장치의 작동 방식은 도 2에 도시된 웨이퍼 이송 장치와 작동 방식과 동일하다. 다른 점은 웨이퍼 이송 장치를 상면에서 봤을 때 양 웨이퍼 거치 기구인 핑거(24)들 사이에 모니터링 유닛(25)이 형성되어 있다. 도 4는 모니터링 유닛(25)의 지지 기구(23) 상의 수직적 위치를 도시한다. 모니터링 유닛은 광학 렌즈(lenz) 등을 이용하여 형성되는 것이 가능하다. 지지 기구(23) 상에는 모니터링 유닛(25)이 형성되어 있고, 이 모니터링 유닛(25)은 웨이퍼 거치 유닛(24) 상에 거치된 웨이퍼를 모니터링하는 것이 가능한 위치에 형성되어 있다. 예를 들어, 광학 렌즈를 이용한 모니터링 유닛(25)은 웨이퍼(21)의 배면이 광학 렌즈의 투사 영역 내에 있도록 하는 지지 기구(23) 상의 위치에 형성된다. 도 4에서의 2개의 점선은 모니터링 유닛(25)이 웨이퍼(21) 배면을 모니터링하는 각도의 일례이다.
도 5는 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치가 신호 변조 유닛(26)과 접속되고, 신호 변조 유닛은 디스플레이(display) 유닛(27)과 접속되는 상태를 개략적으로 도시한 도이다. 도 5에 도시되어 있는 바와 같이, 모니터링 유닛(25)은 웨이퍼 이송 장치의 웨이퍼 거치 기구(24)에 거치된 웨이퍼(21)의 배면을 모니터링하고, 이렇게 모니터링된 웨이퍼 배면에 대한 상(象)을 영상 신호로 변조하는 신호 변조 유닛(26)으로 전송하고, 신호 변조 유닛(26)은 변조된 신호를 시각 인식 가능 디스플레이 유닛(27)으로 전송한다. 이러한 구성에 의해, 디스플레이 유닛(27)에는 웨이퍼 이송 장치에 거치된 웨이퍼(21)의 배면 상태가 디스플레이되기 때문에, 디스플레이 유닛(27)만을 주시하더라도 웨이퍼 이송 장치에 거치된 웨이퍼(21)의 배면 손상 상태 등을 확인하는 것이 가능하다. 따라서, 웨이퍼의 배면 상태를 확인하기 위해 수작업을 할 필요성이 제거된다.
도 6은 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치를 이용하여 웨이퍼 배면 상태를 확인하는 과정의 유닛 흐름을 도시한 흐름도이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 웨이퍼(21)의 배면의 상태를 모니터링한 모니터링 유닛(25)은 모니터링된 배면상을 신호 변조 유닛(26)으로 전송한다. 신호 변조 유닛(26)에서는 모니터링 유닛(25)으로부터의 배면상을 변조 및 증폭하여 그 신호를 디스플레이 유닛(27)으로 전송한다. 변조 및 증폭된 신호를 받은 디스플레이 유닛(27)은 그 신호를 디스플레이함으로써, 외부에서 웨이퍼(21)에 대한 배면을 확인하는 것이 가능하다.
한편, 본 발명은 상술한 바에 의해 제한되지 않고 본 발명의 기술적 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변경 실시할 수 있음은 당 업계의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 이해할 것이다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치는, 웨이퍼 거치 기구가 부착된 지지 기구에 웨이퍼 하면을 모니터링하는 것이 가능한 모니터링 유닛이 형성되고, 모니터링 유닛으로부터의 웨이퍼 배면의 상을 시각으로 확인하는 것이 가능하다. 이에 의해, 웨이퍼 배면이 손상되었을 시 이를 용이하게 감지하는 것이 가능하게 되어, 웨이퍼 배면 손상을 확인하기 위해 손으로 작업해야 하는 수고를 덜 수 있고, 이에 따른 시간을 절약하고, 효율을 증가시키는 것도 가능하다.

Claims (2)

  1. 반도체 제조 공정 실행 장비 사이에서 웨이퍼를 낱장으로 이송시키는 웨이퍼 이송 장치로서,
    단일 웨이퍼가 거치되는 웨이퍼 거치 기구 및 상기 웨이퍼 거치 기구가 부착된 지지 기구를 포함하고,
    상기 지지 기구의 상기 웨이퍼 거치 기구에 거치된 웨이퍼의 배면을 모니터링(monitoring)하는 모니터링 유닛(monitoring unit)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 모니터링 유닛은 상기 모니터링 유닛에 의해 모니터링된 웨이퍼 배면에 대한 상(象)을 영상 신호로 변조하는 신호 변조 유닛과 접속되고, 상기 신호 변조 유닛은 시각 인식 가능한 영상을 생성하는 디스플레이(display)하는 디스플레이 유닛과 접속되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.
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