KR20040072222A - 레티클 체인저의 리프터 장치 및 레티클을 리프터에안착하는 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 노광 설비에 사용되는 레티클 체인저의 리프터 장치에 관한 것으로, 상기 장치는 레티클을 지지하는 패드를 가지는 플레이트, 상기 플레이트 상에 놓여진 상기 레티클의 위치를 정렬하는 정렬 핀들, 정렬된 상기 레티클의 위치가 틀어지는 것을 방지하기 위한 진공패드를 가지는 고정부, 그리고 상기 플레이트를 이동하는 이동부를 구비한다.

본 발명에 의하면, 레티클이 플레이트의 중앙에 놓이도록 정렬된 상태에서 지지 패드에 흡착 고정되므로, 리프터 장치가 승강/하강할 때 레티클이 유동되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

Description

레티클 체인저의 리프터 장치 및 레티클을 리프터에 안착하는 방법{LIFTER DEVICE OF A RETICLE CHANGER AND METHOD SAFELY LOCATING A RETICLE ON THE LIFTER}

본 발명은 반도체 소자를 제조하기 위한 장치 및 방법에 관한 것으로, 더 상세하게는 노광 장비용 레티클 체인저의 리프터 장치 및 레티클을 리프터에 안착하는 방법에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 소자는 증착 공정(deposition process), 사진 공정(photolithograpy process), 식각 공정(etching process), 그리고 이온 주입 공정(ion implantation process) 등의 일련의 공정들을 수행하여 이루어진다. 이들 중 사진 공정은 웨이퍼 상에 특정 막을 형성하고, 특정 막에 포토 레지스트와 같은 감광막을 도포한 후, 노광 설비와 포토마스크를 사용하여 원하는 반도체 집적회로의 패턴을 웨이퍼 상에 형성시키는 공정이다.

이와 같은 노광 장비는 조명계의 하측에 소정거리를 두고 레티클을 장착하기 위한 레티클 스테이지, 이 레티클 스테이지의 일측에 설치되어 레티클을 레티클 스테이지로 운반하는 레티클 체인저, 레티클 스테이지의 위치되며 웨이퍼를 안착하는 웨이퍼 스테이지, 그리고 레티클 스테이지와 웨이퍼 스테이지 사이에 설치되어 레티클의 패턴을 웨이퍼 상으로 전사하는 축소렌즈를 가진다.

이들 중 레티클 체인저는 레티클을 일시적으로 저장하는 레티클 라이브러리와 공정을 진행하기 위한 레티클을 레티클 스테이지로 이동하는 리프터 장치를 가진다. 일반적으로 리프터 장치 내의 플레이트에 레티클이 놓여지면 정렬 핀들이 안쪽으로 이동되면서 레티클을 센터링한다. 이후 리프터 장치가 승강 및 하강하는 데, 이 때 레티클의 위치가 센터링된 위치에서 벗어나는 일이 종종 발생한다. 이러한 상태로 레티클이 레티클 스테이지에 안착되면, 레티클의 양측에 위치된 얼라인 마크가 이를 디텍트하기 위한 부분의 디텍트 동작범위 밖에 위치되어 레티클 스테이지에서 레티클의 얼라인이 이루어지지 않는 문제가 발생된다.

본 발명은 레티클을 안정적으로 지지할 수 있는 레티클 체인저의 리프터 장치 및 레티클을 리프터 장치에 안착할 수 있는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

도 1은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 리프터 장치의 평면도;

도 2는 도 1의 리프터 장치의 정면도; 그리고

도 3은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 레티클을 리프터에 안착하는 방법을 순차적으로 보여주는 플로우 차트이다.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

100 : 플레이트 120 : 지지 패드

200 : 정렬 핀 300 : 고정부

320 : 진공 패드 340 : 진공 라인

360 : 진공 측정기

상술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명인 레티클 체인저의 리프터 장치는 레티클을 지지하는 패드를 가지는 플레이트, 상기 플레이트 상에 놓여진 상기 레티클의 위치를 정렬하는 정렬 핀들, 정렬된 상기 레티클의 위치가 틀어지는 것을 방지하기 위한 고정부, 그리고 상기 플레이트를 이동하는 이동부를 구비한다.

또한, 상기 고정부는 상기 플레이트 상에 위치되어 상기 레티클의 바닥면과 접촉되며 진공 홀이 형성된 지지 패드, 상기 진공 홀과 연결된 진공라인, 그리고 상기 진공라인 상에 설치되며 상기 진공라인의 진공도를 측정하는 측정기를 포함한다.

또한, 본 발명에 의하면 레티클을 레티클 체인저의 리프터 장치에 안착하는 방법은 레티클을 플레이트에 배치된 지지 패드 상으로 이동하는 단계, 정렬 핀이 기설정된 위치로 이동되면서 상기 플레이트에 놓여진 상기 레티클을 정렬하는 단계, 그리고 진공라인과 연결된 상기 플레이트 상에 배치된 상기 지지 패드에 의해 상기 레티클이 흡착되는 단계를 포함한다.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 1 및 도 3을 참조하면서 보다 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.

도 1과 도 2는 각각 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 리프터 장치의 평면도와 정면도이다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 리프터 장치(lifter device)(10)는 플레이트(plate)(100), 지지 패드들(supporting pads)(120), 정렬 핀들(align pins)(200), 그리고 고정부(fixing part)(300)를 가진다.

플레이트(100)는 정사각판의 형상을 가지며, 플레이트(100)의 상부면의 네 측 모서리에는 지지 패드(120)가 설치된다. 지지 패드(120)는 세라믹 재질로 이루어지며 플레이트(100)로 이동된 레티클(400)의 바닥면과 접촉을 이루며 레티클(400)을 지지한다. 도 1에서 점선은 플레이트(100) 상에 놓여진 레티클(400)을 나타낸다.

플레이트(100)의 측면에는 정렬 핀들(200)이 삽입된다. 플레이트(100)의 세 측면에는 각각 하나의 정렬 핀(200)이 위치되고, 나머지 한 측면에는 두 개의 정렬 핀들(200)이 위치된다. 정렬 핀(200)은 플레이트(100)에 수직한 로드(rod) 형상의 수직부(220)와 수직부(220)로부터 직각으로 연장되며 로드 형상을 가지는 수평부(240)를 가진다. 플레이트(100)의 측면에는 정렬 핀(200)의 수평부(240)가 삽입되는 공간을 가진다. 정렬 핀(200)은 플레이트(100) 내로 직선이동이 가능한 구조를 가지며, 정렬 핀(200)은 플레이트(100)의 각 측면 중앙에서 벗어나도록 위치된다. 이는 정렬 핀(200)이 이동중에 후술할 플레이트(100)의 측면 중앙에 위치된 지지 패드(120)의 진공 라인(340)을 간섭하지 않도록 하기 위한 것이다.

플레이트(100)의 지지 패드(120) 상에 레티클(400)이 놓여지면 정렬 핀(200)들은 플레이트(100)의 안쪽으로 이동되면서 레티클(400)이 플레이트(100)의 가운데에 놓이도록 레티클(400)을 이동시킨다.

플레이트(100)의 지지 패드(120) 상에서 위치가 정렬된 레티클(400)은 플레이트(100)의 승강 또는 하강에 따라 그 위치가 틀어질 수 있다. 이를 방지하기 위해 리프터 장치(10)는 고정부(300)를 가진다.

도 2를 참조하면, 고정부(300)는 진공 패드들(vacuum pads)(320), 진공 라인(vacuum line)(340), 그리고 진공 측정기(vacuum measuring instrument)(360)를 가진다. 진공 패드(320)는 지지 패드(120)들의 중앙에 각각 위치되며, 진공 패드(320)의 중앙에는 진공 홀이 형성된다.

진공 홀은 외부의 진공 펌프(도시되지 않음)와 연결된 진공 라인(340)과 연결된다. 따라서 플레이트(100) 상에서 레티클(400)이 정렬되면 진공 펌프의 작동에 의해 레티클(400)은 진공 패드(320) 상에 흡착 고정되므로, 플레이트(100)가 승강/하강될 때 그 위치가 틀어지지 않게 된다. 또한, 진공 라인(340) 상에는 진공 측정기(360)가 설치되어 진공이 정상적으로 이루어지는지 여부를 계측한다.

도 3은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따라 레티클(400)을 리프터 장치(10)에 안착하는 방법을 순차적으로 보여주는 플로우 차트이다. 처음에 레티클(400)이 이송 수단(도시되지 않음)에 의해 플레이트(100)의 지지 패드(120) 위에 놓여진다(스텝 S11). 정렬 핀들(200)이 플레이트(100)의 내부를 향하는 방향으로 이동되면서 레티클(400)이 플레이트(100)의 중앙에 위치되도록 레티클(400)을 이동한다(스텝 S12). 진공펌프가 동작되어 레티클(400)을 진공 패드(320)에 흡착(스텝 S13)된다. 이후에 리프터 장치가 이동된다.

본 발명에 의하면, 레티클이 플레이트의 중앙에 놓이도록 정렬된 상태에서 지지 패드에 흡착 고정되므로, 리프터 장치가 승강/하강할 때 레티클이 유동되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

Claims (4)

1. 포토 리소그래피 공정에서 레티클을 레티클 스테이지에 안착시키는 레티클 체인저의 리프터 장치에 있어서,

   레티클을 지지하는 패드를 가지는 플레이트와;

   상기 플레이트 상에 놓여진 상기 레티클의 위치를 정렬하는 정렬 핀들과;

   정렬된 상기 레티클의 위치가 틀어지는 것을 방지하기 위한 고정부와; 그리고

   상기 플레이트를 이동하는 이동부를 구비하는 것을 특징으로 하는 레티클 체인저의 리프터 장치.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 고정부는 상기 플레이트 상에 위치되며 레티클의 바닥면과 접촉되는, 그리고 진공 홀이 형성된 패드와 상기 진공 홀과 연결된 진공라인을 구비하는 것을 특징으로 하는 레티클 체인저의 리프터 장치.
3. 제 2항에 있어서,

   상기 고정부는 상기 진공라인 상에 설치되며 상기 진공라인의 진공도를 측정하는 측정기를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 레티클 체인저의 리프터 장치.
4. 레티클을 레티클 체인저의 리프터 장치에 안착하는 방법에 있어서,

   레티클을 플레이트에 배치된 지지 패드 상으로 이동하는 단계와;

   정렬 핀이 기설정된 위치로 이동되면서 상기 플레이트에 놓여진 상기 레티클을 정렬하는 단계와; 그리고

   진공라인과 연결되도록 상기 플레이트 상에 배치된 상기 지지 패드에 의해 상기 레티클이 흡착되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레티클 안착 방법.