KR20040037087A - 각을 이루고 있는 광을 거부하는 필터 - Google Patents

Abstract

컴포넌트(303, 304)를 배향하도록 설계된 광 위치 정렬 센서(200)에서 바람직하지 못한 섬광(6, 302)을 줄이기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 시준된 광은 컴포넌트(303, 304) 상으로 공급된다. 필터(306)는 컴포넌트(303, 304)의 후방에 위치하며, 컴포넌트(303, 304)에 의해 발생된 섬광(6, 302)을 차단하기 위해 사용된다. 필터(306)는 컴포넌트(303, 304)의 평면에 있는 축을 중심으로 회전시킴으로써 조율될 수 있다

Description

각을 이루고 있는 광을 거부하는 필터{ANGLE REJECTION FILTER}

광학을 기초로 한 센서에 이용되는 일렉트로닉 쉐도잉(electronic shadowing) 기법은 오늘날 인쇄 회로 기판에 일렉트로닉 컴포넌트들을 실장 (mounting)하기 위한 픽 앤드 플레이스 머신에 널리 적용되어 왔다. 보편적으로 사용되는 위치 설정 센서들 중 하나로는 미네소타주 골든 밸리에 소재하는 사이버옵틱스 코포레이션(CyberOptics Corporation)에 의해 제작되어 레이저얼라인 (LaserAlign^?) 컴포넌트 정렬 센서로 시판되고 있는 센서가 있다. 이 센서는 광 스트립(strip)으로 집중된 광원을 사용하며, 이 광원은 통상 일렉트로닉 컴포넌트 쪽으로 입사되어 검출기로 비추어지는 음영을 형성하게 된다. 일렉트로닉 컴포넌트가 회전할 때(픽 앤드 플레이스 머신에 의해 x, y, z 방향으로 제어되는 노즐을이용하여), 검출기 상으로 비춰진 음영의 폭은 변한다.

배향 프로세스(orientation process)는 일반적으로 픽 앤드 플레이스 머신이 배치를 위해 타깃 인쇄 회로에 컴포넌트를 수송하는 중에 실행된다. 배향 프로세스가 컴포넌트의 수송과 동시에 수행될 때, 이 배향 프로세스를 "온-헤드(on-head)" 혹은 "온 더 플라이(on-the-fly)" 측정으로 언급하기도 한다. 역으로, "오프-헤드(off-head)" 측정은 센서가 픽 앤드 플레이스 헤드에 고정되지 않고 오히려 헤드에 대해 움직이지 않을 때 행해진다.

현재의 기술들은 섬광(glint)에 의해 야기된 에러에 영향을 받기 쉽다. 이는 컴포넌트의 일부에 비치는 조명이 검출기로 반사되는 곳에서 발생한다. 이러한 조건은 잘못된 데이터와 부적절한 검출을 초래할 수 있다. 종래 기술로 해결하지 못한 문제점들 중 하나는 큰 각도 및 작은 각도 양자를 이루고 있는 바람직하지 못한 섬광(즉, 반사)이 컴포넌트의 어느 하나를 정확하게 배향시키는 것을 간섭하지 않도록 하는 적어도 2개의 컴포넌트를 정렬하기 위한 위치 정렬 센서에 있다.

본 발명은 일반적으로 일렉트로닉 컴포넌트(electronic components)를 정렬하기 위한 광학 위치 정렬 센서(optical position alignment sensor)에 관한 것으로, 이 센서는 일렉트로닉 컴포넌트의 플레이스먼트(placement) 산업에 사용된다. 일렉트로닉 컴포넌트의 플레이스먼트 산업에 사용되는 형태의 머신들은 종종 픽 앤드 플레이스 머신(pick and place machine)이라고 부른다.

도 1은 광원, 2개의 컴포넌트 및 검출기를 도시한 도면으로, 섬광이 하나의 컴포넌트로부터 거울식으로 반사되고 있는 것을 보여준다.

도 2는 본 발명의 센서를 포함하는 픽 앤드 플레이스 머신을 보여준다.

도 3은 광원, 시준 렌즈(collimating optic), 2개의 컴포넌트, 필터 및 검출기를 포함하는 본 발명의 일실시예를 보여준다.

도 4는 픽 앤드 플레이스 머신에 장착되기 적합한 센서 하우징의 본 발명의 다른 실시예를 보여준다.

도 5는 도 4에 도시된 실시예의 사시도이다.

도 6은 광원, 2개의 컴포넌트, 포지티브 렌즈, 구멍, 시준 렌즈 및 검출기를포함하고, 검출기의 평면이 컴포넌트로부터 음영 이미지 전방에 있는 본 발명의 또 다른 실시예를 보여준다.

컴포넌트를 정렬시키는 위치 정렬 센서에서 섬광을 제어하는 방법이 제공된다. 이 방법은 컴포넌트를 향해 배향된 광 스트립을 제공하는 단계를 포함한다. 이 컴포넌트는 컴포넌트의 아웃라인(outline)의 음영을 투사(投射)하기 위해 광을 차단한다. 상기 광의 일부는 섬광을 제공하기 위해 컴포넌트로부터 거울식으로 반사된다. 그 다음 상기 광은 필터를 통과한다. 이 필터는 섬광을 거부한다. 필터의 거부는 상기 컴포넌트의 평면에 있는 축을 중심으로 필터를 회전시킴으로써 조율된다. 검출기는 음영을 검출하기 위해 필터 후방에 위치 설정된다. 이러한 필터는 유전체 코팅으로 구성될 수 있다.

본 발명의 다른 양태는 컴포넌트를 정렬하도록 구성된 위치 정렬 센서에 관한 것이다. 이 센서는 하나 이상의 컴포넌트를 수용하도록 구성된 하우징을 포함한다. 광원은 상기 컴포넌트 상에 광을 비추기 위해 광원 평면에 배치된다. 더욱이, 상기 컴포넌트가 음영 이미지(shadow image)를 형성하기 위해 광을 차단하도록 상기 광은 각 컴포넌트의 중심 축에 실질적으로 수직하게 배향된다. 섬광은 컴포넌트로부터 거울식으로 반사된다. 필터는 상기 광을 수용하고 그 광의 통과를 허용하는 반면 섬광을 거부한다. 상기 필터는 상기 컴포넌트의 평면에 있는 축을 중심으로 필터를 회전시킴으로써 조율된다. 검출기는 필터 후방에 위치 설정된다.

본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 2가지 형태의 바람직하지 못한 섬광(작은 각도 및 큰 각도를 이루고 있는 섬광)은 적어도 2개의 컴포넌트를 배향시키도록 설계된 광학 위치 정렬 센서 및 방법에 의해 효율적으로 여과된다. 상기 방법은 컴포넌트 상에 복수 개의 광선을 비추는 단계를 포함하고, 이 광선은 일반적으로 각 컴포넌트의 중심 축에 수직하게 배향되며, 각 컴포넌트는 컴포넌트의 아웃 라인의 음영을 투사하도록 상기 광선을 차단한다. 상기 광선의 일부는 큰 각도를 이루고 있는 섬광을 제공하기 위해 컴포넌트들 중 하나로부터 거울식으로 반사되며, 이것이 본 발명에 의한 첫 번째 형태의 섬광 저감에 해당된다. 상기 방법은 그 다음, 하나의 초점에 2개의 음영을 집중하기 위해 포지티브 파워(positive power)를 지닌 렌즈를 통해 광선을 통과시키는 단계를 포함하며, 상기 렌즈는 음영의 이미지를 초점 후방에 위치한 컴포넌트 평면에 집중시킨다. 구멍은 상기 초점에 실질적으로 위치하며, 상기 구멍의 개구는 큰 각도를 이루고 있는 섬광을 제외한 광선이 그곳을 통과하도록 위치되어 있다. 포지티브 렌즈(positive optic)와 구멍의 조합은 큰 각도를 이루고 있는 섬광이 검출기에 도달하지 못하게 해준다. 검출기는 컴포넌트 평면의 전방에 위치하고, 검출기의 평면은 렌즈의 평면에 평행하게 위치하기 때문에 집중되지 않은 음영의 이미지가 검출기 상에 비친다. 상이한 세기(intensity)를 나타내는 영역과 이러한 영역의 형상을 구별하기 위한 추가의 소프트웨어는 섬광을 음영과 분간하기 위해 요구된다. 본 발명에 따라 컴포넌트의 전방에 검출기를 배치함으로써 작은 각도를 이루고 있는 섬광의 영향력은 감소한다.

도 1에는 본 발명이 해결해야 하는 섬광의 문제점이 도시되어 있다. 비록 본 발명의 실시예들은 2개 이상의 컴포넌트에 관하여 설명될 것이지만, 이러한 설명은 섬광이 발생하는 통상적인 상황을 보다 명확하게 설명하기 위해 제공된 것이다. 그러나, 본 발명의 실시예는 심지어 단일의 컴포넌트의 정렬에 있어서 섬광의 감소에 확실하게 적용될 수 있다는 것으로 해당 분야의 종사자들에 의해 인식될 것이다. 도 1에는 광원(4)이 도시되어 있으며, 여기서 광선은 컴포넌트(1, 2)로 입사한다. 각 컴포넌트는 픽 앤드 플레이스 머신(도시 생략)의 노즐(도시 생략)에 의해 센서 내에서 정위치에 유지된다. 상기 도면에 있어서, 광선의 하나는 컴포넌트(2)의 엣지로부터 거울식으로 반사되어 바람직하지 못한 섬광(6)이 발생된다. 각 컴포넌트(1, 2)는 CCD 검출기(12)의 평면 상으로 음영 이미지(8, 10)를 투사할 것이다. 검출기(12)는 검출기(12) 상으로 투사된 음영의 엣지를 격리시키고, 픽 앤드 플레이스 머신용 모터 제어 회로로 신호를 전송하는 일렉트로닉스(도시 생략) 세트에 출력한다. 상기 섬광은 컴포넌트(1)로부터 투사된 음영을 수용하는 검출기의 부분 상으로 비추게 되고, 따라서 검출기(12)에 의해 검출되고 컴포넌트(1)로 귀착되는 광에 잘못하여 더해진다. 상기 섬광이 검출기(12) 상으로 투사된 음영의 아웃라인을 향해 배치될 경우, 센서 내의 일렉트로닉스는 음영의 아웃라인을 부적절하게 평가할 수 있으며, 그 결과 컴포넌트(1)의 상대 위치의 부정확한 평가를 초래한다.

일반적으로 도 2에 도면 번호 201로 표시한 멀티 노즐(multi-nozzle) 픽 앤드 플레이스 머신은 인쇄 회로 기판(202)을 작업 영역으로 수송하는 컨베이어 시스템(도시 생략)을 구비한다. 픽 앤드 플레이스 머신(201)은 진공 헤드(206)를 독립적으로 x 및 y 방향으로 이동시키기 위해 204에 위치한 x 및 y 모터 드라이브 조립체를 포함한다. 헤드(206)에는 3개의 컴포넌트를 해제 가능하게 유지하기 위해 복수 개의 진공 노즐(208, 210, 212)들이 부착되어 있다. 헤드(206)는 3개의 컴포넌트 각각을 트레이(도시 생략)에서 픽업하며, 헤드가 컴포넌트를 PC 보드(202)로 수송하는 중에 본 발명에 따른 멀티 노즐 정렬 센서(200)는 컴포넌트의 x, y 및 θ방위를 감지한다.

헤드(206)가 컴포넌트들을 보드(202)로 수송하는 중에 센서(200)가 컴포넌트들의 x, y 및 θ방위를 감지하기 때문에, 상기 픽 앤드 플레이스 머신(201)은 온-헤드(on-head) 픽 앤드 플레이스 머신이다. 오프-헤드(off-head) 픽 앤드 플레이스 머신, 터릿형 픽 앤드 플레이스 머신 혹은 헤드를 x 또는 y 방향으로 이동시키기 위한 상이한 받침대 시스템(gantry system)을 구비하는 픽 앤드 플레이스 머신 등의 다른 형태의 픽 앤드 플레이스 머신들도 본 발명의 방법과 장치와 함께 사용하도록 채택될 수 있다.

도 3에는 시준 렌즈(301)와 필터(306)의 조합에 의해 섬광(302)을 차단하는 본 발명에 따른 센서(300)의 실시예를 보여준다. 본 발명의 센서(300)는 임의의 적절한 형태, 예컨대 도 3에 도시된 형태의 픽 앤드 플레이스 머신 상에 고정되어있다. 본 발명의 상기 실시예는 광원(308)과 컴포넌트(303, 304) 사이에 배치된 시준 렌즈(301)를 포함한다. 필터(306)는 컴포넌트(303, 304)와 검출기(310) 사이에 배치되어 있다. 광원(308)은 시준 렌즈(301) 상에 광을 비춘다. 그 다음, 시준된 광은 컴포넌트(303, 304)에 비춰진다. 바람직하지 못한 섬광(302)은 거울식으로 컴포넌트(304)로부터 반사되고, 그 다음 필터(306)에 의해 차단된다. 상기 필터(306)는, 시준된 광은 통과시키는 반면 시준된 광에 각을 이루고 있는 광은 실질적으로 거부하도록 해주는 필터이다. 필터(306)는 파장 선택성 특성을 부여하기 위해 적층된 유전체 물질로 구성되는 것이 바람직하다.

상기 필터(306)는 화살표(307)로 표시된 방향으로 축 A-A를 따라 회전할 수 있다. 따라서, 필터(306)의 회전은 컴포넌트(303, 304)의 평면에 있는 소정의 축을 중심으로 이루어진다고 볼 수 있다. 필터(306)의 회전은 거부되는 각을 이루고 있는 섬광의 미세한 조율을 본질적으로 허용한다.

엣지 검출 일렉트로닉스(320)는 컴포넌트(303, 304)에 의해 투사된 음영(312, 314)을 검출한다. 비록 필터(306)는 실질적으로 컴포넌트 평면에 평행한 것으로 도시되어 있지만, 상기 필터(306)는 시준된 광에 각을 이루고 있는 광을 거부하기 위해 임의의 각도로 배향될 수 있다. 변형예로서, 복합 필터(multiple filter)를 사용해도 좋다. 추가적으로, 시준 렌즈(304) 대신 광을 시준하기 위한 다른 수단을 사용할 수 있다. 도 3에는 또한 모터 드라이브 회로 소자(324)를 제어하는 위치 및 방위 회로 소자(322)를 포함하는 픽 앤드 플레이스 머신의 다양한 기능이 도시되어 있다. 구성 요소(320, 322, 324)들은 개별적으로 혹은 단일의 회로로서 구현될 수 있고, 아날로그 대 디지털 컴포넌트 혹은 이들의 조합을 이용하여 구현될 수 있다.

도 3에 도시된 변형예에는 컴포넌트(303, 304)와 필터(307) 사이에 렌즈(301)가 삽입되어 있다. 이러한 방법에 있어서, 광원(308)에서 나온 광은 컴포넌트(303, 304)의 음영 이미지가 형성된 후 시준된다.

도 4는 본 발명의 양태를 구현하는 일실시예에 따른 센서(400)의 측단면도이고, 도 5는 그 센서의 사시도이다.

도 4에 있어서, 센서(400)는 그 단부에 컴포넌트(404)를 구비한 멀티 노즐(402)을 수용할 수 있도록 구성되어 있다. 레이저 다이오드(406) 공급원은 광(408)을 발산하고, 이 광은 상기 센서(400)의 하우징(412) 내측에 위치한 편평한 거울(410)로부터 반사된다. 상기 거울(410)은 광을 제2 거울(414)로 향하도록 만들고, 이 제2 거울(414)은 상기 광을 도시한 바와 같이 재배향시키고 또한 광 리본(스트립)(416)을 만들도록 z 차원으로 광을 좁힌다. 그 다음, 상기 광 스트립(416)은 원통형의 시준 렌즈(418)를 통과하기 때문에 모든 광선들은 실질적으로 x-y 평면에 평행하게 된다. 광 리본(416)은 윈도우(420)를 통과하고 공동으로 들어가서 컴포넌트(404)의 엣지에 충돌한다. 그 때, 컴포넌트(404)에 의해 차단되지 않은 광은 하우징(412) 내의 다른 윈도우(422)를 통과한다. 그 다음, 광은 필터(423)에 비춰진다. 전술한 실시예와 마찬가지로, 상기 필터(423)는 시준된 광에 각을 이루고 있는 광은 거부하는 반면 시준된 광은 통과시켜 직선형 검출기(424)에 이르도록 해준다. 상기 필터(423)는 화살표(307)로 표시된 바와 같이 축 A-A를 중심으로 회전시킴으로써 조율될 수 있다. 본 발명은 경제적인 이유로 선형 검출기(424)를 이용하여 구현될 수 있지만, 또한 본 발명은 적절한 면형(area array) 검출기를 이용하여 구현되어도 좋다.

도 6은 배치 대상의 컴포넌트의 위치 및 방위를 측정하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 장치의 평면도이다. 상기 장치(500)는 도 5를 참조하여 설명한 실시예와 유사한 각종 컴포넌트들을 포함하며, 유사한 컴포넌트의 도면 부호는 유사하게 표시하였다. 본 발명의 모출원을 예시한 도 5와 상기 도 6 사이의 현저한 차이점 중 하나는 검출기(308)가 컴포넌트 평면의 이미지 전방에 배치되어 있다는 것이다. 비록 섬광이 음영 내부에 이를지라도, 블록(220) 내의 소프트웨어와 일렉트로닉스는 컴포넌트(1, 2)의 음영 내부에 형성된 광과 상기 섬광(210) 사이의 차이점을 식별하며, 이러한 식별은 이들 각각의 세기와 상이한 세기를 나타내는 영역의 형상을 기초로 하여 행해진다. 전술한 구조는 본 발명의 모출원을 예시한 도 5에 도시된 실시예의 경우보다 더욱 컴팩트한 센서를 제공하지만, 광휘부와 음영부를 식별하기 위해 추가의 코드를 필요로 한다.

본 명세서에서 여러 실시예를 참조하여 예시된 본 발명은 하나의 하우징 내에 배치되어 있는 것으로 도시되어 있다. 실제로, 본 발명의 방법을 실시하기 위한 2개 혹은 그 이상의 하우징, 예컨대 광원을 위한 별도의 하우징 등을 구비하는 것이 유리할 수도 있다.

컴포넌트들을 정열하기 위해 본 명세서에서 설명한 모든 센서들은 단일의 공급원을 갖는 것으로 도시되어 있다. 그러나, 본 발명의 방법 및 장치는 위치 정렬센서의 단일 공급원을 갖는 실시예에 한정되는 것은 아니지만 복수 개의 유효한 광원을 갖는 공급원도 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예컨대, 도 6에 도시된 점원(point source)은 광 및 렌즈의 비점원(non-point source) 등가물과 함께 구현되어도 좋다. 더욱이, 본 발명은 컴포넌트의 상대 운동이나 센서 공동 내에서의 그들의 배치에 무관하게 구현될 수도 있다. 다시 말해서, 누구나 본 발명을 실시할 수 있으며, 또 노즐의 임의의 상대 배치에 따라 소망하는 만큼의 많은 노즐을 교체할 수 있다. 더욱이, 본 발명은 렌즈를 구비하는 것으로 개시되어 있지만 오목 거울 등과 같은 다른 광학 컴포넌트의 등가물을 이용함으로써 실시될 수도 있다. 예컨대, 본 발명의 몇몇 실시예에서 설명된 포지티브 렌즈는 실질적으로 동일한 기능을 수행하는 다른 렌즈들의 조합에 의해 실시되어도 좋다. 비록 본 발명은 음영의 폭을 결정하는 관점에서 설명되었지만, 본 발명은 적어도 2개의 컴포넌트의 음영 엣지 위치를 결정하고 섬광에 의해 영향을 받게 되는 어떠한 응용에도 사용할 수 있다. 더욱이, 본 명세서에 사용한 용어 "광(light)"은 비가시광선(non-visible radiation)을 포함한다. 본 발명은 양호한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않고 구조 및 세부 사항에 대한 임의의 변형을 행할 수 있다는 것으로 해당 분야의 종사자들에 의해 이해되어야 한다.

Claims (28)

1. 위치 정렬 센서에서 섬광을 제어하기 위한 방법으로서:

   컴포넌트를 향해 배향된 광의 시준된 스트립을 제공하는 단계와;

   상기 컴포넌트 상으로 광을 투영하는 단계로서, 상기 컴포넌트는 그 컴포넌트의 아웃라인의 음영을 투사하기 위해 광을 차단하고, 상기 광의 일부가 섬광을 제공하기 위해 상기 컴포넌트로부터 거울식으로 반사되도록 하는 투영 단계와;

   상기 섬광을 추가로 거부하는 필터를 통해 광을 통과시키는 단계와;

   상기 필터의 각 거부(angular rejection)를 조율하기 위해 상기 컴포넌트의 평면에 있는 축을 중심으로 필터를 회전시키는 단계와;

   상기 음영을 검출하기 위해 검출기를 필터 후방에 위치 설정하는 단계를 포함하는 것인 방법.
2. 제1항에 있어서, 검출기를 위치 설정하는 상기 단계는 상기 광의 방향에 실질적으로 수직이 되도록 검출기를 위치 설정하는 단계를 포함하는 것인 방법.
3. 제1항에 있어서, 음영 아웃라인을 나타내는 첨점(cusp)을 알아낼 때까지 상기 컴포넌트들을 그들의 중심 축 둘레로 회전시키는 단계를 포함하는 것인 방법.
4. 제1항에 있어서, 상기 광에 의해 조명된 추가의 컴포넌트를 정렬하는 단계를포함하는 것인 방법.
5. 제1항에 있어서, 광을 비추는 단계는 컴포넌트 근처에 실질적으로 평행한 광선을 제공하는 단계를 포함하는 것인 방법.
6. 제1항에 있어서, 검출기를 위치 설정하는 상기 단계는 상기 광의 방향에 실질적으로 수직이 되도록 필터를 위치 설정하는 단계를 포함하는 것인 방법.
7. 위치 정렬 센서에서 섬광을 줄이기 위한 방법으로서:

   공급원으로부터 하나 이상의 컴포넌트로 광선을 비추는 단계로서, 상기 광의 적어도 일부는 섬광을 제공하기 위해 상기 컴포넌트로부터 거울식으로 반사되며, 상기 컴포넌트는 상기 광의 일부를 차단하여 적어도 하나의 컴포넌트의 각각의 음영 이미지를 형성하게 되도록 광선을 비추는 단계와;

   상기 컴포넌트의 평면에 있는 축에서 필터를 회전시킴으로써 필터를 조절하는 단계와,

   상기 섬광을 추가로 거부하는 필터를 통해 상기 광선을 통과시키는 단계를 포함하는 것인 방법.
8. 제7항에 있어서, 음영 이미지가 형성되기 이전에 광선을 시준하는 단계를 더 포함하는 것인 방법.
9. 제7항에 있어서, 음영 이미지가 형성된 후에 광선을 시준하는 단계를 더 포함하는 것인 방법.
10. 제7항에 있어서, 상기 광선을 검출하기 위해 검출기를 위치 설정하는 단계를 포함하는 것인 방법.
11. 제7항에 있어서, 음영 아웃라인을 나타내는 첨점을 알아낼 때까지 상기 컴포넌트를 그의 중심 축 둘레로 회전시키는 단계를 포함하는 것인 방법.
12. 제7항에 있어서, 상기 필터는 상기 광선에 실질적으로 수직인 평면에 배치되는 것인 방법.
13. 제7항에 있어서, 상기 필터는 상기 광선에 실질적으로 수직인 평면에 대해 각을 이루고 있는 것인 방법.
14. 하나 이상의 컴포넌트를 수용하도록 구성된 하우징과;

    상기 하나 이상의 컴포넌트 상에 광을 비추기 위해 배치된 광원으로서, 상기 광은 각 컴포넌트의 중심 축에 실질적으로 수직하게 배향되어, 상기 컴포넌트가 음영 이미지를 형성하기 위해 광을 차단하며, 섬광이 컴포넌트로부터 거울식으로 반사하도록 되어 있는 광원과;

    상기 광을 수용하고 그 광의 통과를 허용하는 반면 섬광을 거부하는 조율 가능한 필터와;

    상기 필터 후방에 위치 설정된 검출기를 포함하는 것인 위치 정렬 센서.
15. 제14항에 있어서, 광을 시준하는 렌즈를 더 포함하며, 상기 렌즈는 상기 하나 이상의 컴포넌트 전방에 위치하는 것인 위치 정렬 센서.
16. 제14항에 있어서, 광을 시준하는 렌즈를 더 포함하며, 상기 렌즈는 상기 하나 이상의 컴포넌트 후방에 위치하는 것인 위치 정렬 센서.
17. 제14항에 있어서, 상기 조율 가능한 필터는 상기 컴포넌트의 평면에 있는 축을 중심으로 회전하는 것인 위치 정렬 센서.
18. 제14항에 있어서, 상기 광원은 컴포넌트 근처에 실질적으로 평행한 광선을 제공하는 것인 위치 정렬 센서.
19. 두 개 이상의 컴포넌트를 정렬하도록 구성된 위치 정렬 센서로서:

    상기 두 개 이상의 컴포넌트 상에 조명 광선을 비추기 위한 조명 공급원으로서, 상기 광선은 상기 각 컴포넌트의 중심 축에 실질적으로 수직하게 배향되어 상기 각 컴포넌트가 음영 이미지를 형성하기 위해 광선을 차단하고, 섬광이 상기 컴포넌트들 중 하나로부터 거울식으로 반사하도록 되어 있는 조명 공급원과;

    상기 음영 이미지와 섬광을 수용하도록 구성된 포지티브 파워를 지닌 렌즈로서, 초점으로 수렴하는 수렴 경로에 상기 음영 이미지와 섬광을 재배향시키는 상기 렌즈와;

    상기 섬광이 어떠한 음영 이미지와 중첩되지 않도록 검출기의 상이한 부분에서 상기 수렴하는 음영 이미지와 섬광을 수용하기 위해 상기 초점으로부터 소정의 거리만큼 떨어지도록 위치 설정된 검출기를 포함하는 것인 위치 정렬 센서.
20. 제19항에 있어서, 상기 검출기는 상기 초점의 전방에 위치하는 것인 위치 정렬 센서.
21. 제19항에 있어서, 상기 검출기는 상기 초점의 후방에 위치하는 것인 위치 정렬 센서.
22. 제19항에 있어서, 상기 조명의 공급원은 실질적으로 점원인 것인 위치 정렬 센서.
23. 두 개 이상의 컴포넌트들을 정렬하기 위한 방법으로서:

    음영 이미지를 형성하고, 섬광이 상기 컴포넌트들 중 하나에 거울식으로 반사되도록 상기 두 개 이상의 컴포넌트 상에 광을 비추는 단계와;

    초점 상으로 수렴하는 수렴 경로에 상기 음영 이미지와 섬광을 재배향시키기 위해 상기 광과 섬광을 포지티브 렌즈를 통과시키는 단계와;

    상기 초점으로부터 소정의 거리만큼 떨어지도록 위치 설정된 검출기 상에서 상기 수렴하는 음영 이미지를 검출하는 단계를 포함하는 것인 방법.
24. 제23항에 있어서, 상기 검출기는 상기 초점의 전방에 위치하는 것인 방법.
25. 제23항에 있어서, 상기 검출기는 상기 초점의 후방에 위치하는 것인 방법.
26. 두 개 이상의 컴포넌트를 정렬하는 위치 정렬 센서에서 섬광을 줄이는 방법으로서:

    공급원으로부터 두 개 이상의 컴포넌트에 광을 비추는 단계로서, 상기 공급원은 공급원 평면에 배치되고 상기 컴포넌트는 컴포넌트 평면에 배치되며, 상기 광의 적어도 일부는 큰 각도를 이루고 있는 섬광을 제공하기 위해 상기 컴포넌트들 중 하나로부터 거울식으로 반사되고, 상기 컴포넌트는 상기 광의 일부는 차단하여 상기 두 개 이상의 각 컴포넌트의 음영 이미지를 형성하도록, 상기 광을 비추는 단계와;

    공동의 초점에 집중된 각 컴포넌트의 집중된 음영 이미지를 제공하기 위해 포지티브 파워를 지닌 동시에 큰 각도를 이루고 있는 섬광을 추가적으로 통과시키는 렌즈를 통해 음영 이미지를 통과시키는 단계와;

    상기 초점에 위치하는 구멍의 큰 각도를 이루고 있는 섬광을 차단하는 크기를 갖는 개구를 통해 광선을 통과시키는 단계와;

    컴포넌트 이미지 평면에서 소정의 거리만큼 떨어지도록 위치 설정된 검출기 상에서 음영 이미지를 검출하는 단계를 포함하는 것인 방법.
27. 제26항에 있어서, 상기 검출기는 상기 컴포넌트 이미지 평면의 전방에 위치하는 것인 방법.
28. 제26항에 있어서, 상기 검출기는 상기 컴포넌트 이미지 평면의 후방에 위치하는 것인 방법.