KR20040018560A - 착색된 1-나프톨설폰산계 모노아조 안료 - Google Patents

착색된 1-나프톨설폰산계 모노아조 안료 Download PDF

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Abstract

본 발명은 하기 화학식 1의 신규한 모노아조 화합물에 관한 것이다.
화학식 1
상기 식에서,
R1은 H, Cl 또는 CH3이고,
R2는 H 또는 Cl이고,
M2+는 Mg2+, Mn2+또는 Sr2+이고,
Y1은 COO-또는 SO3 -이고,
Y2는 SO3 -이고, Y3, Y4및 Y5는 H이거나,
Y3은 SO3 -이고, Y2, Y4및 Y5는 H이거나,
Y4는 SO3 -이고, Y2, Y3및 Y5는 H이거나, 또는
Y5는 SO3 -이고, Y2, Y3및 Y4는 H이다.
화학식 1의 화합물은 높은 강도와 광견뢰도를 특징으로 한다.

Description

착색된 1-나프톨설폰산계 모노아조 안료{PIGMENTED 1-NAPHTHOLSULPHONIC ACID-BASED MONOAZO PIGMENTS}
일련의 나프톨설폰산으로부터의 레이크화(laked) 모노아조 안료는 주로 예컨대 피그먼트 옐로우(Pigment Yellow) 104, 피그먼트 오렌지(Pigment Orange) 19, 피그먼트 레드(Pigment Red) 60, 66 및 67로서 알려져 있다. 이들은 잉크(예: 인쇄용 잉크) 및 가소성 물질의 착색을 위해 제안되어 왔다. 그러나, 이들 안료는 불량한 견뢰도 특성, 즉 불량한 광견뢰도 및 불충분한 색상 강도를 갖는 것으로 알려져 있다.
개선된 견뢰도 특성을 갖는 전술된 유형의 착색제는 예컨대 국제특허 공개공보 제 WO 98/13425 호 또는 영국특허 제 GB 1313147 호에 기술되어 있다. 그러나, 여기에 기술된 안료들은 높은 광견뢰도 및 높은 색상 강도를 갖지 않는다.
본 발명의 목적은 높은 광견뢰도 및 높은 색상 강도를 갖는 레이크화 황색,오렌지색, 갈색 및 적색 아조 안료를 제공하는 것이다.
본 출원인은 상기 목적이 본 발명의 치환 패턴을 갖는 레이크화 모노아조 안료에 의해 달성된다는 것을 밝혀냈다.
본 발명은 나프톨설폰산을 기초로 하는 신규한 아조 안료 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
따라서, 본 발명은 하기 화학식 1의 화합물을 제공한다.
상기 식에서,
R1은 H, Cl 또는 CH3이고,
R2는 H 또는 Cl이고,
M2+는 Mg2+, Mn2+또는 Sr2+이고,
Y1은 COO-또는 SO3 -이고,
Y2는 SO3 -이고, Y3, Y4및 Y5는 H이거나,
Y3은 SO3 -이고, Y2, Y4및 Y5는 H이거나,
Y4는 SO3 -이고, Y2, Y3및 Y5는 H이거나, 또는
Y5는 SO3 -이고, Y2, Y3및 Y4는 H이다.
본 발명의 목적에 바람직한 화합물은 다음과 같다.
R1이 Cl이고, R2가 H이고, M2+가 Sr2+이고, Y1이 COO-이고, Y2, Y3및 Y5가 H이고, Y4가 SO3 -인 화합물 1a.
R1이 Cl이고, R2가 H이고, M2+가 Mn2+이고, Y1이 COO-이고, Y2, Y3및 Y4가 H이고, Y5가 SO3 -인 화합물 1b.
R1이 H이고, R2가 H이고, M2+가 Sr2+이고, Y1이 COO-이고, Y3, Y4및 Y5가 H이고, Y2가 SO3 -인 화합물 1c.
R1이 CH3이고, R2가 Cl이고, M2+가 Mg2+이고, Y1이 SO3 -이고, Y2, Y4및 Y5가 H이고, Y3이 SO3 -인 화합물 1d.
본 발명의 안료는 하기 화학식 2의 아민을 디아조화한 후, 하기 화학식 3의나프톨설폰산과 커플링시키고, 마그네슘, 망간 또는 스트론튬 염으로 레이크화함으로써 제조할 수 있다.
상기 식에서,
R1은 H, Cl 또는 CH3이고,
R2는 H 또는 Cl이고,
Y1은 COO-또는 SO3 -이고,
Y2는 SO3 -이고, Y3, Y4및 Y5는 H이거나,
Y3은 SO3 -이고, Y2, Y4및 Y5는 H이거나,
Y4는 SO3 -이고, Y2, Y3및 Y5는 H이거나, 또는
Y5는 SO3 -이고, Y2, Y3및 Y4는 H이다.
유용한 아민은 바람직하게는 안트라닐산, 4-클로로안트라닐산, 4-메틸안트라닐산, 2-아미노-5-클로로-4-메틸벤젠설폰산 및 2-아미노-4-메틸벤젠설폰산이다.
디아조화 반응은 단쇄 알칸의 알킬 아질산염 또는 알칼리 금속 아질산염을 강한 광산과 함께 적당하게 수행하는 것이 적합하다. 아질산나트륨 및 염산이 특히 적합하다. 상기 반응은 -5 내지 +30℃, 바람직하게는 0 내지 10℃의 온도 범위에서 실시될 수 있다. 필수적이지는 않지만, 디아조화는 비이온성, 음이온성 또는 양이온성 표면-활성 물질의 존재하에서 실시될 수 있다. 또한, 선택적으로는 천연 또는 합성 수지 또는 수지 유도체와 같은 다른 보조제를 사용할 수 있다.
화학식 3의 나프톨설폰산은 유리 산 또는 예를 들어 알칼리 금속 또는 암모늄 염과 같은 염으로서 사용될 수 있다. 직접법 또는 역전법(inverse method)으로서 커플링이 가능하지만, 바람직하게는 직접적으로, 즉 디아조늄 염을 초기에 충전된 커플링 성분에 첨가함으로써 수행된다. 커플링 반응은 -5℃ 내지 80℃, 바람직하게는 5℃ 내지 25℃의 온도 및 pH 4 내지 pH 14, 구체적으로 pH 9 내지 pH 12의 pH에서 수행될 수 있다. 디아조화 반응과 같이, 커플링은 표면-활성 물질, 수지와 수지 유도체, 또는 통상적인 첨가제의 존재하에서 수행될 수 있다. 일반적으로, 커플링 성분은 디아조늄 화합물에 비해 약간 과량으로 사용되고, 바람직하게는 1당량의 디아조 성분이 1.02 내지 1.10 당량의 커플링 성분과 반응한다. 커플링 성분인 1-나프톨-3-설폰산, 1-나프톨-5-설폰산 및 1-나프톨-8-설폰산과의 커플링이 파라-커플링 생성물을 부산물로 소량 생산할 뿐만 아니라 오르쏘-커플링 생성물을 주요 성분으로 생산할 수 있다. 부산물 성분의 분율은 0% 내지 20%의 범위일 수 있다.
커플링 도중 또는 커플링 이후 및 레이크화 이전 또는 레이크화 이후에 알칼리-가용성 보조제 또는 이들의 혼합물을 첨가함으로써 안료 분산성을 개선한다. 유리하게는, 수지성 보조제 또는 이들의 혼합물이 이들의 알칼리 수용액의 형태로 사용된다. 유용한 수지성 보조제로는 천연 및 합성 수지를 들 수 있다. 로진, 불균등화 반응 또는 수소화 로진 및 로진 유도체가 유리하다. 시판중인 로진 종류로서 천연 수지 산, 예를 들어 아비에트산, 디하이드로아비에트산, 테트라하이드로아비에트산, 라에보피말산, 덱스트로피말산 및 이소덱스트로피말산이 바람직하다. 시판중인 수지인 로진 N(이는 수지 산을 함유함), 아비에트산, 탈수소화아베트산, 네오아비에트산, 파울스트르산, 이소피말산, 피말산 및 산다라코피말산 또는 로진 N에 상당하는 시판중인 제품이 바람직하다. 열거된 수지 및 이들의 유도체 뿐만 아니라, 높은 산가를 갖는 합성 탄화수소 수지 또는 알키드 수지를 사용하는 것도 가능하다. 바람직하게는 전술한 수지를 반응 혼합물에 첨가하고, 그다음 커플링 반응시킨다.
제조된 커플링 생성물은 마그네슘, 망간 또는 스트론튬 염 또는 이들의 수용액을 첨가함으로써 레이크화된다. 전술한 금속 염중 1종의 수용액을 사용하는 것이 바람직하다. 적당한 금속 염의 예로는 염화 마그네슘, 질산 마그네슘, 염화 스트론튬, 질산 스트론튬, 황산 망간(II)과 염화 망간(II), 염화 마그네슘의 금속 염수용액을 들 수 있고, 염화 스트론튬 또는 황산 망간(II)이 특히 적당하다. 25 내지 80℃, 바람직하게는 50 내지 60℃의 온도에서 레이크화하는 것이 바람직하다.
레이크화 이후에는, 본 발명의 화합물은 80 내지 200℃의 온도, 상압 또는 상압 이상의 압력, 및 바람직하게는 1 내지 6 시간 동안, 구체적으로는 전술한 수지성 보조제의 존재하에서 수성, 수성-유기성 또는 유기성 매질에서 열 처리에 적용하는 것이 바람직하다. 그다음, 수득된 안료 현탁액을 일반적인 방식으로 여과하고, 압착 덩어리를 물로 세척하여 염을 제거하고, 건조시키고, 분쇄하였다.
화학식 1의 화합물은 천연 또는 합성 원료, 예를 들어 가소성 물질, 수지, 바니시, 페인트 또는 전기진단 사진용 토너와 현상액, 및 인쇄용 잉크를 비롯한 잉크의 거대분자 유기 물질을 착색하는데 유용하다.
본 발명의 화합물로 착색가능한 거대분자 유기 물질로는 예를 들어 셀룰로즈 에테르 및 에스테르, 예를 들어 에틸셀룰로즈, 니트로셀룰로즈, 셀룰로즈 아세테이트, 또는 셀룰로즈 부티레이트, 천연 수지 또는 합성 수지, 예를 들어 부가 중합 수지 또는 축합 수지, 예를 들어 아미노 수지, 구체적으로 우레아- 및 펠아민-포름알데하이드 수지, 알키드 수지, 아크릴계 수지, 페놀계 수지, 폴리카보네이트, 폴리올레핀, 예를 들어 폴리스티렌, 폴리비닐 클로라이드, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아크릴계 에스테르, 폴리아미드, 폴리우레탄 또는 폴리에스테르, 고무, 카제인, 실리콘 및 실리콘 수지 단독 또는 이들의 혼합물을 들 수 있다.
전술한 거대분자 유기 화합물이 가소적으로 변형가능한 덩어리, 용융물, 또는 현상액, 바니시, 페인트 또는 인쇄용 잉크의 형태로서 존재하는지 여부는, 이와 관련해서는 중요하지 않다. 의도된 용도에 따라 본 발명의 화합물을 블렌드의 형태로 또는 제제 또는 분산액의 형태로 사용하는 것이 바람직할 것이다. 착색된 거대분자 유기 물질에 기초하여, 본 발명의 화합물은 0.05중량% 내지 30중량%, 바람직하게는 0.1중량% 내지 15중량%의 양으로 사용된다.
본 발명의 화합물은 또한 전기진단 사진용 토너와 현상액, 예를 들어, 1성분 또는 2성분 분말 토너(1성분 또는 2성분 현상액으로 공지됨), 자성 토너, 액체 토너, 부가 중합 토너 및 특수 토너내 착색제로서 유용하다.
전형적인 결합제로는 개별적으로 또는 혼합물의 형태의 부가 중합, 다중첨가 및 다중축합 수지, 예를 들어 스티렌, 스티렌 아크릴레이트, 스티렌 부타디엔, 아크릴레이트, 폴리에스테르, 페놀-에폭시 수지, 폴리설폰, 폴리우레탄을 들 수 있고, 또한 전하 제어제, 왁스 또는 유동 보조제를 각각 함유할 수 있거나 이러한 첨가제에 의해 후속적으로 개질될 수 있는 것으로 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌을 들 수 있다.
추가로, 본 발명의 성분은 분말 및 분말 코팅제, 구체적으로 예를 들어 금속, 목재, 가소성물질, 유리, 세라믹, 콘크리트, 직물, 종이 또는 고무로 구성된 물체의 표면 코팅을 위해 사용된 것으로 전기마찰적 또는 동전기적 분사성 분말 코팅내 착색제로서 유용하다.
사용되는 분말 코팅 수지는 전형적으로 통상적인 경화제와 함께 에폭시 수지, 카복시- 및 하이드록시-함유 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 및 아크릴계 수지를 들 수 있다. 수지의 혼합물 또한 사용된다. 예를 들어 에폭시 수지는 전형적으로 카복실- 및 하이드록실-함유 폴리에스테르 수지와 혼합하여 종종 사용된다. 전형적으로 경화제 성분(수지 시스템에 좌우됨)은 예를 들어 산 무수물, 이미다졸, 디시안디아미드와 그의 유도체, 블록킹 이소시아네이트, 비스아실우레탄, 페놀계과 멜아민 수지, 트리글리시딜 이소시아누레이트, 옥사졸린 및 디카복실산을 들 수 있다.
본 발명의 화합물은 또한 수성 및 비수성 시스템상에서 앙크-제트 잉크내 및 고온-용융 공정에 따라 작동하는 잉크내에서의 착색제로서 유용하다.
본 발명의 화합물은 추가로 부가하거나 감하는 색상 발생을 위한 칼라 필터용 착색제로서 유용하다.
본 발명에 따라 제조된 안료의 코팅 특성을 평가하기 위해서, 여러개의 공지된 바니시중에서 중질유, 비건조 알키드 수지에 기초한 것으로 방향족 성분을 함유하는 알키드-멜아민(AM) 수지 바니시중에서 선택하였다.
본 발명의 안료는 우수한 견뢰성면에서 뛰어나며, 보다 구체적으로 이들은 우수한 광견뢰도 및 우수한 색상 강도를 갖는다. 또한 이들은 환경적으로 안전하지 않은 임의의 중금속도 함유하지 않는다. 전술한 특성은 특히 인쇄 분야(특히, 수계 인쇄용 잉크, 잉크-제트 잉크의 제조)에서 특히 착색제로서의 용도 및 바니시 및 가소성 물질, 칼라 필터, 토너 및 시드(seed)의 착색을 위한 용도에 있어서 본 발명의 안료을 적격화한다.
하기의 실시예 및 비교예의 부는 중량 기준이다.
실시예 1
a) 로진 N 용액의 제조
4000부의 물에 88부의 수산화나트륨 수용액(40% w/w)을 첨가하고, 90℃까지 가열하였다. 800부의 고형 로진 N(인도 뭄바이 소재의 두자드왈라 앤드 캄파니(Dujadwala and Company)에서 시판함)를 약 1시간 동안 약간 첨가하였다. 그다음, 용액이 될 때까지 약 30분 동안 가열하여 비등하도록 하고, 로진 N 용액의 총량이 8000부가 될 때까지 물로 채웠다.
b) 디아조화 반응
350부의 물에 51.5부의 4-클로로안트라닐산을 현탁시키고, 48.4부의 수산화나트륨 수용액(40% w/w)을 첨가하고, 아민이 용해될 때까지 교반하였다. 생성된 용액을 10℃까지 냉각하고, 51.8부의 아질산 나트륨 수용액(40% w/w)을 첨가하였다.
300부의 물 및 108.8부의 염화수소산(30 w/w)으로 제 2 용기를 채우고, 얼음을 첨가하여 5℃까지 냉각하였다. 교반하면서 0 내지 5℃의 온도에서 10분 내지 15분 동안 4-클로로안트라닐산의 알칼리 용액을 산/얼음 초기 충전물에 적가하였다. 아질산 나트륨 용액을 첨가하고 1시간 동안 5 내지 10℃의 온도에서 교반하였다. 그다음, 설팜산을 첨가함으로써 과량의 아질산 이온을 파괴하였다.
c) 커플링
200부의 물 및 500부의 얼음의 혼합물을 초기 충전물로서 제공하였다. 교반하면서 이 초기 충전물에 70.6부의 1-하이드록시나프탈렌-5-설폰산(L-산)을 첨가하고, 그다음 수산화나트륨 수용액(40% w/w)으로 pH를 12 내지 13이 되도록 하였다. 생성된 용액에, 5 내지 10℃의 온도에서 15 내지 20분 동안 단계 a)로부터의 4-클로로안트라닐산의 디아조늄 염을 적가하고, 그다음 1시간 동안 교반하였다. 후속적인 교반 시간 동안 반응 혼합물의 온도를 약 10℃에서 약 20℃까지 승온하였다. 임의의 디아조늄 화합물도 감지되지 않으며, 단지 미량의 커플링 성분만이 검출될 때, 단계 a)에 따라 제조된 로진 N 용액 150부를 교반하면서 첨가하고, 추가로 10 내지 15분 동안 교반하였다. 그다음, 염화수소산(10% w/w)을 사용하여 pH를 pH 5 내지 6까지 조절하였다.
d) 레이크화
반응 혼합물을 55℃까지 가열한다. 이 온도에서 300부의 물내 95.1부의 염화 스트론튬의 용액을 약 10분 동안 적가하고, 레이크화가 완료될 때까지 교반하였다(약 1/2시간).
e) 조질 안료의 후처리
생성된 조질 안료의 현탁액을 염산(30% w/w)에 의해 pH 4.0까지 조절하고, 그다음 1시간 동안 95℃까지 가열하고, 추가 시간 동안 95℃에서 교반하였다. 그 후, 약 30℃까지 냉각시킨 후, 안료를 여거하고, 그다음 필터 덩어리를 염이 없어질 때까지 물로 세척하였다. 필터 덩어리를 건조하고, 분쇄하여, 138부의 적색 안료(화합물 1a)를 수득하였다.
안료는 AM 바니시에 도입되는 경우 오버코팅에 대한 견뢰성이 우수하고 색상이 우수하고 광견뢰도가 높은 코팅을 제공한다. 오버코팅 견뢰도는 DIN 54002의 5 포인트 "검사용 염료"에 대한 그레이 스케일에 기초했을 때 5이다.
실시예 2
하기 사항을 제외하고는 실시예 1을 반복하였다:
사용된 커플링 성분이 70.6부의 1-하이드록시나프탈렌-8-설폰산이다. 300부의 물내 90.6부의 황산망간(II)의 용액을 사용하여 레이크화하였다.
수득된 안료는 1800부의 이소부탄올 및 800부의 물의 혼합물에서 슬러리화하였다. 수득된 현탁액은 1시간 동안 89℃까지 가열하고 추가로 2시간 동안 89℃로 유지하였다. 그다음, 약 30℃까지 냉각시키고, 안료를 여거하였다. 필터 덩어리를 건조시키고, 분쇄하여 115부의 갈색 안료(화합물 1b)를 수득하였다.
실시예 3
하기 사항을 제외하고는 실시예 1를 반복하였다:
디아조화 반응: 41.1부의 안트라닐산 및 360부의 물을 초기 충전물로서 도입하고 121.0부의 염화수소산(30% w/w)을 교반하면서 혼합하였다. 얼음을 첨가하여 2 내지 5℃까지 냉각하고, 10분 내지 15분 동안 62.2부의 아질산 나트륨 수용액(40% w/w)을 적가하였다. 그다음, 1시간 동안 5℃ 동안 교반하였다. 그다음, 설팜산을 첨가하여 과량의 아질산 이온을 파괴하였다. 사용된 커플링 성분은 77.5부의 1-하이드록시나프탈렌-3-설폰산의 나트륨 염(암스트롱 윈 산(Armstrong Wynne acid)의 나트륨 염)이다. 수득된 안료를 1250부의 N-메틸피롤리돈에서 슬러리화하였다. 수득된 현탁액은 1시간 동안 155℃까지 가열하고 추가로 1시간 동안155℃로 유지하였다. 그다음, 현탁액을 약 30℃까지 냉각하고, 안료를 여거하였다. 감압하에서 밤새 필터 덩어리 80℃에서 건조시키고, 분쇄하여 136부의 주황색 안료(화합물 1c)를 수득하였다.
실시예 4
하기 사항을 제외하고는 실시예 1을 반복하였다:
사용된 디아조 성분은 66.4부의 2-아미노-5-클로로-4-메틸벤젠설폰산(CLT 산)이다.
사용된 커플링 성분은 70.6부의 1-하이드록시나프탈렌-4-설폰산(네빌 윈터 산(Nevile Winther acid))이다.
300부의 물내 57.1부의 염화 마그네슘의 용액을 사용하여 레이크화하였다.
이는 144부의 주황색 안료(화합물 1d)을 제공한다.
대조예 1 내지 3
국제특허 공개공보 제 98/13426 호의 실시예 2를 따라 2-아미노-5-클로로-4-메틸벤젠설폰산(CLT 산)을 2-하이드록시-나프탈렌-6-설폰산의 칼륨 염(샤페 산(Scahffer's acid)의 칼륨 염)에 커플링하고 스트론튬으로 레이크화하였다.
대조예 2
국제특허 공개공보 제 98/13425 호의 실시예 4를 따라, 2-아미노-5-클로로-4-에틸벤젠설폰산(호모 CLT 산)을 2-하이드록시-나프탈렌-6-설폰산의 칼륨 염(샤페 산의 칼륨 염)에 커플링하고 스트론튬으로 레이크화하였다.
대조예 3
영국 특허 제 1 313 147 호의 실시예 2에서 기술한 안료는 하기와 같다:
a) 2-아미노-5-메틸벤젠설폰산을 디아조화시킨 후, 1-나프톨-4-설폰산에 커플링하고, 생성된 커플링된 생성물을 칼슘으로 레이크화하였다.
b) 2-아미노-5-메틸벤젠설폰산을 디아조화한 후, 2-하이드록시나프탈렌-3-카복실산에 커플링하고, 생성된 커플링 생성물을 칼슘으로 레이크화하였다.
전술한 실시예 및 대조예에서 제조된 안료의 색상 강도 및 광견뢰도를 하기 표 1 및 표 2에 제시하였다.
상기 표에서,
M은 금속 양이온이고,
FST는 색상 강도이고,
LiE/VT는 전체 색조의 광견뢰도이고,
LiE/AH는 광견뢰도의 감소치이다.
색상 강도(FST)는 1부의 칼라 안료를 색조의 기준 농도(DIN 53235)의 1/3까지 조절하기 위해서 필요한 TiO2의 양(부)을 나타낸다(1: x TiO2).
광견뢰도는 전체 색조에서 측정하고, DIN 54003을 기준으로 할 때 8 포인트의 청색 스케일에 대해 감소하였다. "8"은 가장 높은 견뢰도를 의미하고, "1"은 가장 낮은 견뢰도를 의미한다.

Claims (7)

  1. 하기 화학식 1의 화합물:
    화학식 1
    상기 식에서,
    R1은 H, Cl 또는 CH3이고,
    R2는 H 또는 Cl이고,
    M2+는 Mg2+, Mn2+또는 Sr2+이고,
    Y1은 COO-또는 SO3 -이고,
    Y2는 SO3 -이고, Y3, Y4및 Y5는 H이거나,
    Y3은 SO3 -이고, Y2, Y4및 Y5는 H이거나,
    Y4는 SO3 -이고, Y2, Y3및 Y5는 H이거나, 또는
    Y5는 SO3 -이고, Y2, Y3및 Y4는 H이다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    R1이 Cl이고, R2이 H이고, M2+가 Sr2+이고, Y1이 COO-이고, Y2, Y3및 Y5가 H이고, Y4가 SO3 -인 화합물.
  3. 제 1 항에 있어서,
    R1이 Cl이고, R2이 H이고, M2+가 Mn2+이고, Y1이 COO-이고, Y2, Y3및 Y4가 H이고, Y5가 SO3 -인 화합물.
  4. 제 1 항에 있어서,
    R1이 H이고, R2이 H이고, M2+가 Sr2+이고, Y1이 COO-이고, Y3, Y4및 Y5가 H이고, Y2가 SO3 -인 화합물.
  5. 제 1 항에 있어서,
    R1이 CH3이고, R2이 Cl이고, M2+가 Mg2+이고, Y1이 SO3 -이고, Y2, Y4및 Y5가 H이고, Y3가 SO3 -인 화합물.
  6. 하기 화학식 2의 아민을 디아조화하는 단계,
    생성된 디아조늄 염을 하기 화학식 3의 나프톨설폰산과 커플링하는 단계, 및
    생성된 모노아조 화합물을 마그네슘, 망간 또는 스트론튬 염으로 레이크화(lake)하는 단계
    를 포함하는, 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 따른 화합물의 제조방법:
    화학식 2
    화학식 3
    상기 식에서,
    R1은 H, Cl 또는 CH3이고,
    R2는 H 또는 Cl이고,
    Y1은 COO-또는 SO3 -이고,
    Y2는 SO3 -이고, Y3, Y4및 Y5는 H이거나,
    Y3은 SO3 -이고, Y2, Y4및 Y5는 H이거나,
    Y4는 SO3 -이고, Y2, Y3및 Y5는 H이거나, 또는
    Y5는 SO3 -이고, Y2, Y3및 Y4는 H이다.
  7. 바니시, 페인트, 인쇄용 잉크, 전기진단 사진용 토너와 현상액, 분말과 분말 코팅, 인쇄용 잉크를 제외한 잉크의 거대분자 유기 물질을 착색하거나 시드(seed)를 염색하기 위한 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 따른 화합물의 용도.
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