KR20040012726A

KR20040012726A - 실리코알루미노포스페이트 분자체

Info

Publication number: KR20040012726A
Application number: KR10-2003-7011415A
Authority: KR
Inventors: 마르셀 제이 지 얀센; 안 베르베르크뫼스; 마치텔드 엠 메르텐스; 빌프리드 제이 모르티어; 안토니 얀 본스
Original assignee: 엑손모빌 케미칼 패턴츠 인코포레이티드
Priority date: 2001-03-01
Filing date: 2002-02-04
Publication date: 2004-02-11
Also published as: EP1886973A2; JP4299002B2; DE60223344D1; AR032707A1; TW583140B; NO20033845D0; WO2002070407A1; MY138795A; EP1365992A1; JP2008230966A; KR100868844B1; US20020165089A1; DE60223344T2; MXPA03007807A; JP2004524252A; EA200300870A1; AU2002247078B2; JP5162342B2; NO20033845L; CN1525940A

Abstract

본 발명은 AEI 골격 유형을 갖는 분자체 및 CHA 골격 유형을 갖는 분자체의 하나 이상의 연정 상을 포함하는 실리코알루미노포스페이트 분자체에 관한 것으로, 상기 연정 상은 상기 실리코알루미노포스페이트 분자체의 소성된 시료의 분말 X-선 회절 패턴을 이용하는 DIFFaX 분석에 의해 결정할 때 약 5/95 내지 40/60의 AEI/CHA 비를 갖는다. 또한, 본 발명은 상기 분자체의 제조방법 및 촉매를 사용하여 메탄올을 올레핀으로 전환시키는데 있어서의 그의 용도에 관한 것이다.

Description

실리코알루미노포스페이트 분자체{SILICOALUMINOPHOSPHATE MOLECULAR SIEVE}

실리코알루미노포스페이트(SAPO) 분자체는 [SiO₂], [AlO₂] 및 [PO₂] 모서리 공유(sharing) 4면체 단위의 3차원 미세다공성 결정 골격 구조를 함유한다. [PO₂] 4면체 단위는 인산, 트리에틸 포스페이트 같은 유기 포스페이트, 및 알루미노포스페이트를 포함하는 다양한 조성물에 의해 제공된다. [AlO₂] 4면체 단위는 이소프로폭시화알루미늄 같은 알콕시화알루미늄, 인산알루미늄, 수산화알루미늄, 알루민산나트륨 및 슈도베이마이트를 포함하는 다수의 조성물에 의해 제공된다. [SiO₂] 4면체 단위는 실리카 졸 및 테트라에틸오르토실리케이트 같은 알콕시화규소 및 훈증실리카를 포함하는 다양한 조성물에 의해 제공된다.

알루미노포스페이트(ALPO) 분자체는 AlPO₄골격을 가질 수 있는 결정질 미세다공성 산화물이다. ALPO는 골격 내에 추가적인 원소를 가질 수 있고, 전형적으로 약 3 내지 약 10Å의 균일한 공극 치수를 갖는다.

경질 올레핀, 구체적으로 에틸렌 및 프로필렌은, 메탄올 또는 디메틸 에테르 같은 산소처리 유기 화합물을 함유하는 공급원료를 SAPO 및/또는 ALPO-함유 촉매와 접촉시킴으로써 제조될 수 있다. 예를 들어 미국 특허 제 4,499,327 호 참조.

SAPO-34 및 SAPO-18은 메탄올로부터 경질 올레핀을 제조하기에 적합한 촉매로서 보고되어 있다. SAPO-34는 제올라이트 무기 카바자이트(CHA)의 구조 유형을 갖는 분자체 부류에 속한다. SAPO-34의 제조방법 및 특성은 미국 특허 제 4,440,871 호; 첸(J. Chen) 등의 문헌["Studies in Surface Science and Catalysis", Vol. 84, pp. 1731-1738]; 미국 특허 제 5,279,810 호; 첸 등의 문헌["Journal of Physical Chemistry", Vol. 98, pp. 10216-10224 (1994)]; 첸 등의 문헌["Catalysis Letters", Vol. 28, pp. 241-248 (1994)]; 프라카쉬(A.M. Prakash) 등의 문헌["Journal of the Chemical Society, Faraday Transactions", Vol. 90(15), pp. 2291-2296 (1994)]; 주(Yan Xu) 등의 문헌["Journal of the Chemical Society, Faraday Transactions", Vol. 86(2), pp. 425-429 (1990)]을 비롯한 몇 가지 문헌에 보고되어 있으며, 상기 문헌들은 모두 본원에 참고로 인용되어 있다.

SAPO-18은 AEI 구조 유형을 갖는 분자체의 부류에 속한다. AEI 구조 유형을 갖는 다른 분자체는 ALPO-18 및 RUW-18이다. AEI 구조 유형을 갖는 분자체의 제조방법 및 특성은 미국 특허 제 4,440,871 호; 첸 등의 문헌["Studies in Surface Science and Catalysis", Vol. 84, pp. 1731-1738]; 미국 특허 제 5,279,810 호; 첸 등의 문헌["Journal of Physical Chemistry", Vol. 98, pp. 10216-10224 (1994)]; 첸 등의 문헌["Catalysis Letters", Vol. 28, pp. 241-248 (1994); pp. 2291-2296 (1994)]; 주 등의 문헌["Journal of the Chemical Society, Faraday Transactions", Vol. 86(2), pp. 425-429 (1990)]; 미국 특허 제 5,609,843 호를 비롯한 몇 가지 문헌에 보고되어 있으며, 상기 문헌들은 모두 본원에 참고로 인용되어 있다.

국제 출원 공개 제 WO 98/15496 호로서 공개된 국제 출원 PCT/NO97/00272 호는 AEI 및 CHA 구조의 실리코알루미노포스페이트를 포함하는 혼합된 상인 분자체(RUW-19로 일컬어짐)에 관한 것이다. RUW-19는 하기 2θ 값에서 피이크를 포함하는 X-선 회절도를 생성시키는 것으로 기재되어 있다: 9.3-9.5, 10.4-10.6, 12.7-12.9, 13.8-14.0, 15.9-16.1, 16.7-16.9, 18.9-19.0, 20.5-10.7, 21.0-21.3, 23.7-24.0, 25.7-26.0, 30.9-31.1. 상기 공보의 도 1에는 RUW-19(실시예 1 내지 3), SAPO-18(실시예 4), SAPO-34(실시예 5) 및 SAPO-18과 SAPO-34의 물리적 혼합물(실시예 6)에 있어서의 15-33(2θ) 영역에서의 XRD-추적치가 도시되어 있다. 이 공보는 RUW-19가 SAPO-18과 SAPO-34의 물리적 혼합물과 상이함을 제시한다. RUW-19는 SAPO-18 또는 AEI의 약 17.0(2θ)에 중심을 둔 반사치 쌍이 RUW-19의 약16.9(2θ)에 중심을 둔 넓은 피이크로 대체된 것을 제외하고는 AEI 구조 유형의 분자체의 피이크 특징을 갖는다. 또한, RUW-19는 17.8(2θ) 및 24.8(2θ)에 중심을 둔 SAPO-34 또는 CHA에 관련된 반사치를 갖지 않는다. 국제 출원 공개 제 WO 98/15496 호에 따르면, RUW-19는 메탄올을 올레핀으로 전환시키는데 적합하다. 상기 명세서 전반에 걸쳐, XRD 반사 값은 2θ로 일컬어지는데, 이는 "도 2θ"라는 표현과 동의어이다.

메탄올을 올레핀으로 전환시키는데 있어서, SAPO-34는 에틸렌과 프로필렌에 대해 비교적 높은 생성물 선택성을 나타내고, 파라핀과 4개 이상의 탄소를 갖는 올레핀(C₄ ⁺올레핀)에 대해 낮은 생성물 선택성을 나타낸다. 따라서, SAPO-34를 함유하는 촉매는 메탄올을 올레핀으로 전환시키는데 특히 적합하다. 그의 우수한 성능에도 불구하고, 통상 코크스로 불리는 탄소질 침착물이 SAPO-34의 촉매 케이지에 신속하게 형성된다. 결국, 지나치게 많은 코크스가 존재하여 케이지를 폐색시키고 촉매를 탈활성화시킨다. 또한, 파라핀에 대한 낮은 생성물 선택성에도 불구하고, SAPO-34는 여전히 부생물을 생성시킨다. 목적하는 에틸렌과 프로필렌으로부터 부생물을 분리시키는 것은 메탄올의 올레핀으로의 전환 공정에 추가적으로 비용을 부가하게 된다. 따라서, 우수한 생성물 선택성을 갖고 부생물을 적게 생성시키는 신규 분자체를 개발할 필요가 있다.

발명의 개요

본 발명은 AEI 골격 유형을 갖는 분자체 및 CHA 골격 유형을 갖는 분자체의 하나 이상의 연정 상을 포함하는 실리코알루미노포스페이트 분자체에 관한 것으로, 상기 연정 상은 상기 실리코알루미노포스페이트 분자체의 소성된 시료의 분말 X-선 회절 패턴을 사용하는 DIFFaX 분석에 의해 결정할 때 약 5/95 내지 40/60의 AEI/CHA 비를 갖는다.

본 발명의 실리코알루미노포스페이트 분자체는 특징적인 X-선 회절 피이크를 나타낸다. 본 발명의 실시태양에서, 본 발명의 분자체는 0.01 내지 0.25의 실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)를 갖는다.

본 발명의 분자체는, a) 유기 구조 유도제(템플릿(template))의 존재하에 규소의 반응성 공급원, 인의 반응성 공급원 및 수화된 산화알루미늄을 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계; b) 단계 a)에서 제조된 혼합물을 결정화 온도 이하에서 연속적으로 혼합 및 가열하는 단계; c) 교반하면서 혼합물을 결정화 온도에서 2 내지 150시간동안 유지하는 단계; d) 실리코알루미노포스페이트 분자체의 결정을 회수하는 단계를 포함하는 방법(여기에서, 단계 a)에서 제조된 혼합물은 하기 범위내의 몰 조성을 갖고, 템플릿은 테트라에틸암모늄 화합물임)에 의해 편리하게 제조될 수 있다:

0.6:1 내지 1.2:1의 P₂O₅:Al₂O₃,

0.005:1 내지 0.35:1의 SiO₂:Al₂O₃,

10:1 내지 40:1의 H₂O:Al₂O₃.

본 발명의 실시태양에서, 유기 구조 유도제는 테트라에틸암모늄 하이드록사이드이다.

본 발명의 실리코알루미노포스페이트 분자체는 메탄올을 포함하는 공급원료 같은 산소화물 공급원료로부터 올레핀 생성물을 제조하는 공정에서 우수한 촉매 성능을 나타낸다.

본 발명은 신규의 실리코알루미노포스페이트 분자체, 이들의 제조방법, 및 이들 실리코알루미노포스페이트 분자체를 산소화물 공급원료와 접촉시킴으로써 올레핀 생성물을 제조하는 방법에 있어서의 이들의 용도에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명은 AEI 분자체 및 CHA 분자체의 하나 이상의 연정 상(intergrown phase)을 포함하는 실리코알루미노포스페이트 분자체에 관한 것이다.

도 1a 및 도 1b는 다양한 AEI/CHA 비를 갖는 연정 상의 DIFFaX 시뮬레이션 회절 패턴을 도시한다.

도 2는 본 발명에 따른 실리코알루미노포스페이트 및 국제 출원 공개 제 WO 98/15496 호의 MTO-RUW-356의 XRD 회절 패턴 및 다양한 AEI/CHA 비를 갖는 연정 상의 DIFFaX 시뮬레이션 회절 패턴을 도시한다.

도 3은 다양한 AEI/CHA 비를 갖는 연정 상의 15 내지 19 2θ 범위에서의 DIFFaX 시뮬레이션 회절 패턴을 도시한다.

도 4a는 2keV의 전압에서 20,000배의 배율을 사용하는 JEOL JSM-6340F 필드 에미션(Field Emission) 주사 전자 현미경에서 수득한, 본 발명에 따른 결정질 실리코알루미노포스페이트 분자체의 SEM 사진이다.

도 4b는 본 발명에 따른 결정질 실리코알루미노포스페이트 분자체의 TEM 사진이다.

도 5는 본 발명에 따른 실리코알루미노포스페이트 분자체의 XRD 회절 패턴,및 비교하기 위해 국제 출원 공개 제 WO 98/15496 호의 MTO-RUW-356 및 MTO-RUW-335T의 XRD 회절 패턴을 도시한다.

본 발명은 AEI 골격 유형을 갖는 분자체 및 CHA 골격 유형을 갖는 분자체의 하나 이상의 연정 상을 포함하는 실리코알루미노포스페이트 분자체에 관한 것으로, 상기 연정 상은 상기 실리코알루미노포스페이트 분자체의 소성된 시료의 분말 X-선 회절 패턴을 이용하는 DIFFaX 분석에 의해 결정할 때 약 5/95 내지 40/60의 AEI/CHA 비를 갖는다.

연정 분자체 상은 분자체 골격의 비정상적인(disordered) 평면상 연정이다. 연정 분자체 상에 대해 상세하게 설명하기 위하여 국제 제올라이트 협회의 구조 위원회(Structure Commission of the International Zeolite Association)에서 발간한 2000년판 문헌["Catalog of Disordered Zeolite Structures"] 및 국제 제올라이트 협회의 구조 위원회를 대표하여 발간된 2001년판 문헌["Collection of Simulated XRD Powder Patterns for Zeolites", 트레이시(M.M.J. Tracey) 및 히긴스(J.B. Higgins)]을 인용한다.

규칙적인 결정질 고체는 3차원에서 주기적으로 정돈되어 있다. 구조적으로 비정상적인 구조는 3차원 미만, 즉 2차원, 1차원 또는 0차원에서 주기적으로 정돈되어 있다. 이러한 현상은 구조적으로 일정한 주기적인 건축 단위의 적층 이상으로 일컬어진다. 주기적인 건축 단위로부터 만들어진 결정 구조는 3차원 모두에서주기적으로 정돈되는 경우 말단-구성요소 구조로 불린다. 비정상적인 구조는, 주기적인 건축 단위의 적층 순서가 통계적인 적층 순서로 주기적으로 정돈되는 것으로부터 벗어나는 것이다.

본 발명의 분자체는 말단-구성요소 구조체 AEI 및 CHA의 비정상적인 평면상 연정이다. AEI 골격 유형을 갖는 분자체 및 CHA 골격 유형을 갖는 분자체의 구조를 기재하고 있는 시멘(A. Simmen) 등의 문헌[Zeolites (1991), Vol. 11, pp. 654-661]을 인용한다. AEI 및 CHA의 경우, 주기적인 건축 단위는 이중 6원 고리 층이다. "a" 및 "b"의 두 유형의 층이 있는데, 이들은 "b"가 "a"의 거울상(평면 주위로 180° 회전 또는 평면에 수직으로 거울 이동)인 것을 제외하고는 동일하다. 다른 층 위에 동일한 유형의 층이 적층되는 경우(즉, aaa 또는 bbb), 골격 유형 CHA가 생성된다. 층 "a"와 "b"가 교대되는 경우(즉, abab), 골격 유형 AEI가 생성된다. 본 발명의 분자체는 층 "a"와 "b"의 적층체로 제조되며, 이 적층체는 CHA 골격 유형의 영역과 AEI 골격 유형의 영역을 함유한다. CHA에서 AEI 골격 유형으로 변화하는 것이 각각 적층 이상 또는 평면 장애이다.

바람직하게는, 본 발명의 분자체는 상기 실리코알루미노포스페이트 분자체의 소성된 시료의 분말 X-선 회절 패턴을 이용하는 DIFFaX 분석에 의해 결정할 때 약 7/93 내지 38/62, 더욱 바람직하게는 약 8/92 내지 35/65, 더더욱 바람직하게는 약 9/91 내지 33/67, 가장 바람직하게는 약 10/90 내지 30/70의 AEI/CHA 비를 갖는다.

평면 장애를 갖는 결정의 경우, XRD 회절 패턴을 설명하는 데에는 적층 이상의 효과를 시뮬레이션할 수 있는 능력이 필요하다. DIFFaX는 평면 장애를 함유하는 결정으로부터의 강도를 계산하기 위한 수학 모델에 기초한 컴퓨터 프로그램이다(트레이시 등의 문헌[Proceedings of the Royal Chemical Society, London, A (1991), Vol. 433, pp. 499-520] 참조). DIFFaX는 제올라이트의 연정 상의 XRD 분말 패턴을 시뮬레이션하기 위해 국제 제올라이트 협회에서 선택하고 국제 제올라이트 협회로부터 구입할 수 있는 시뮬레이션 프로그램이다(트레이시 및 히긴스의 문헌["Collection of Simulated XRD Powder Patterns for Zeolites", 4판] 참조, 국제 제올라이트 협회의 구조 위원회를 대표하여 발간함). 이는 또한 릴러루드(K.P. Lillerud) 등의 문헌["Studies in Surface Science and Catalysis", 1994, Vol. 84, pp. 543-550]에 보고된 바와 같이 AEI, CHA, tmm 및 KFI의 연정 상을 이론적으로 연구하는 데에도 사용된다. DIFFaX는 본 발명의 연정 분자체와 같이 평면 장애를 갖는 결정질 물질의 특성을 결정하는 공지의 확립된 방법이다.

도 1a 및 도 1b는 다양한 AEI/CHA 비를 갖는 연정 상에서 수득된 시뮬레이션된 회절 패턴을 도시한다. 도 1a는 0/100(CHA 말단-구성요소), 10/90(AEI/CHA=0.11), 20/80(AEI/CHA=0.25), 30/70(AEI/CHA=0.41), 40/60(AEI/CHA=0.67), 50/50(AEI/CHA=1.00) 및 60/40(AEI/CHA=1.50)의 AEI/CHA 비를 갖는 연정 상의, DIFFaX에 의해 시뮬레이션된 15 내지 35(2θ) 범위에서의 회절 패턴을 도시하고 있다. 도 1b는 0/100(CHA 말단-구성요소), 10/90(AEI/CHA=0.11), 20/80(AEI/CHA=0.25), 50/50(AEI/CHA=1.0), 70/30(AEI/CHA=2.33), 80/20(AEI/CHA=4.0), 100/0(AEI 말단-구성요소)의 AEI/CHA 비를 갖는 연정 상의, DIFFaX에 의해 시뮬레이션된 5 내지 20(2θ) 범위에서의 회절 패턴을 도시하고 있다. 모든 XRD 회절 패턴은 0 내지 1로 정규화된다. 정규화된 강도 값은 회절 피이크의 강도를 20.5 내지 20.7(2θ) 범위에서의 반사 강도 값에 대해 정규화시킴으로써 결정된다. 예를 들어, 20.5 내지 20.7(2θ) 범위에서의 피이크가 50 카운트(count)의 절대 강도를 갖고 26.0(2θ)에서의 피이크가 16 카운트의 절대 강도를 갖는다면, 26.0(2θ)에서의 피이크의 정규화된 강도는 0.32이다. 강도 값을 정규화함으로써 특정 2θ 값에서의 X-선 회절 피이크 강도의 회절 패턴을 비교할 수 있다.

연정 상에서는 CHA에 비해 AEI의 비가 증가함에 따라, 특정 피이크, 예를 들어 약 2θ=25.0에서의 피이크의 강도가 감소되고, 다른 피이크, 예컨대 약 2θ=17.05에서의 피이크 및 2θ=21.2의 숄더의 강도가 증가할 수 있다. 50/50 이상의 AEI/CHA 비(AEI/CHA≥1.0)를 갖는 연정 상은 약 16.9(2θ)에 중심을 둔 넓은 피이크를 보여준다.

도 2는 본 발명에 따른 실리코알루미노포스페이트(시료 B)의 분말 XRD 회절 패턴, 및 비교하기 위해 국제 출원 공개 제 WO 98/15496 호의 실시예 1 및 도 1에 기재된 MTO-RUW-356의 XRD 회절 패턴 및 다양한 AEI/CHA 비를 갖는 연정 상의 DIFFaX 시뮬레이션된 회절 패턴을 도시한다. MTO-RUW-356의 회절 패턴을 계수화시켜 다시 정규화시켰다. DIFFaX 분석 결과, 본 발명에 따른 시료 B가 25/75의 AEI/CHA 비(0.33의 AEI/CHA 비)를 갖고, MTO-RUW-356이 70/30의 AEI/CHA 비(2.3의 AEI/CHA 비)를 갖는 것으로 밝혀졌다. MTO-RUW-356은 약 16.9(2θ)에 중심을 둔 넓은 피이크를 갖는다.

적어도 하기 표 1에 기재된 바와 같은 5 내지 25(2θ) 범위에서의 반사치를 갖는, 소성 후 및 소성 후 재수화되지 않은 시료로부터 수득된 분말 XRD 회절 패턴에 의해, 본 발명의 실리코알루미노포스페이트의 특성을 결정한다:

2θ(CuKα)
9.3-9.6
12.7-13.0
13.8-14.0
15.9-16.1
17.7-18.1
18.9-19.1
20.5-20.7
23.7-24.0

본 발명에 따른 AEI/CHA의 연정 상의 XRD 회절 패턴은 또한 9.8 내지 12.0(2θ) 범위에 피이크가 없고 약 16.9(2θ)에 중심을 둔 넓은 피이크가 없음을 특징으로 한다. 다른 특징은 17.7 내지 18.1(2θ) 범위에 피이크가 존재하는 것이다. 17.7 내지 18.1(2θ) 범위에서의 반사 피이크는 SAPO-34의 회절 패턴에서 17.9(2θ)에서의 반사 피이크에 대해 0.09 내지 0.4, 바람직하게는 0.1 내지 0.35의 상대적인 강도를 가지며, 이 때 모든 회절 패턴은 20.5 내지 20.7(2θ) 범위에서의 반사 피이크의 강도 값에 대해 정규화된다.

도 3은 15 내지 19(2θ) 범위에서 0/100(CHA 말단-구성요소), 10/90(AEI/CHA=0.11), 20/80(AEI/CHA=0.25), 30/70(AEI/CHA=0.41), 40/60(AEI/CHA=0.67), 50/50(AEI/CHA=1.00) 및 60/40(AEI/CHA=1.50)의 AEI/CHA 비의 경우에 이러한 XRD 피이크를 전개시킨 도면이다.

본 발명의 실리코알루미노포스페이트 분자체는 AEI 분자체 및 CHA 분자체의 하나 이상의 연정 상을 포함한다. 바람직하게는 CHA 분자체는 SAPO-34이고, AEI 분자체는 SAPO-18, ALPO-18 또는 SAPO-18과 ALPO-18의 혼합물로부터 선택된다. 바람직하게는, 본 발명의 실리코알루미노포스페이트는 0.01 내지 0.25, 더욱 바람직하게는 0.02 내지 0.20, 더더욱 바람직하게는 0.03 내지 0.19, 가장 바람직하게는 0.03 내지 0.08의 실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)를 갖는다. 실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)는 화학 분석에 의해 편리하게 결정된다.

한 실시태양에서는, 유기 구조 유도제(템플릿)의 존재하에서, 규소의 반응성 공급원, 알루미늄의 반응성 공급원 및 인의 반응성 공급원을 포함하는 혼합물을 자생적인 압력하에 열수 처리시킴으로써, 본 발명의 실리코알루미노포스페이트를 제조한다.

본 발명의 분자체는,

a) 유기 구조 유도제(템플릿)의 존재하에서 규소의 반응성 공급원, 인의 반응성 공급원 및 수화된 산화알루미늄을 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계;

b) 단계 a)에서 제조된 혼합물을 결정화 온도 이하에서 연속적으로 혼합 및 가열하는 단계;

c) 교반하면서 혼합물을 결정화 온도에서 2 내지 150시간동안 유지시키는 단계;

d) 실리코알루미노포스페이트 분자체의 결정을 회수하는 단계를 포함하며, 이 때

단계 a)에서 제조된 혼합물이 0.6:1 내지 1.2:1의 P₂O₅:Al₂O₃, 0.005:1 내지 0.35:1의 SiO₂:Al₂O₃, 10:1 내지 40:1의 H₂O:Al₂O₃의 몰 조성을 갖고,

템플릿이 테트라에틸암모늄 화합물인 방법에 의해 편리하게 제조될 수 있다.

바람직하게는, 단계 a)에서 제조된 혼합물은 다음 범위 내의 몰 조성을 갖는다.

0.8:1 내지 1.1:1의 P₂O₅:Al₂O₃,

0.01:1 내지 0.3:1, 가장 바람직하게는 0.015:1 내지 0.25:1의 SiO₂:Al₂O₃,

10:1 내지 40:1의 H₂O:Al₂O₃.

반응 혼합물중 실리카 대 알루미나의 몰비가 합성 후 분자체의 실리카 대 알루미나 비에 영향을 끼치는 것으로 생각된다.

본 발명의 실리코알루미노포스페이트를 제조하는데 사용되는 규소의 반응성 공급원은 실리케이트, 예를 들어 에어로실(Aerosil)(데구싸(Degussa)에서 구입) 같은 훈증 실리카, 테트라알킬 오르토실리케이트, 또는 실리카의 수성 콜로이드성 현탁액, 예를 들어 이.아이. 듀퐁 드 네모아(E.I. du Pont de Nemours)에서 루독스(Ludox)라는 상표명으로 시판중인 것일 수 있다.

본 발명에 따라 사용될 수 있는 적합한 수화된 산화알루미늄의 예는 베이마이트 및 슈도메이마이트이다. 바람직하게는, 슈도베이마이트를 사용한다.

템플릿으로 불리기도 하는 유기 구조 유도제는 테트라에틸 암모늄 하이드록사이드(TEAOH), 테트라에틸 암모늄 포스페이트, 테트라에틸 암모늄 플루오라이드, 테트라에틸 암모늄 브로마이드, 테트라에틸 암모늄 클로라이드, 테트라에틸 암모늄아세테이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 테트라에틸 암모늄 화합물이다. 가장 바람직하게는, 템플릿은 테트라에틸 암모늄 하이드록사이드이다.

본 발명의 실리코알루미노포스페이트를 제조하기 위하여, 알루미나, 실리카, 인의 반응성 공급원과 유기 구조 유도제를 혼합하여 수득한 반응 혼합물을 열수처리한다. 약 120 내지 250℃, 바람직하게는 130 내지 200℃, 가장 바람직하게는 150 내지 185℃일 수 있는 결정화 온도 이하에서 반응 혼합물을 연속적으로 가열한다. 결정화 온도 이하에서의 가열은 전형적으로 약 5 내지 약 16시간, 바람직하게는 약 6 내지 12시간, 가장 바람직하게는 약 6 내지 9시간동안 수행된다.

온도를 단계적으로 또는 연속적으로 증가시킬 수 있다. 그러나, 연속적으로 가열하는 것이 바람직하다. 가열하는 동안 반응물을 움직이지 않게 유지하거나 뒤섞거나 교반할 수 있다. 바람직하게는, 반응물을 뒤섞거나 교반하고, 가장 바람직하게는 교반한다.

이어, 온도를 결정화 온도에서 2 내지 150시간동안 유지시키는데, 결정화 시간은 주로 결정화 온도에 따라 달라진다. 결정질 생성물을 형성시키는데 효과적인 시간동안 열을 가한다. 특정 실시태양에서는, 반응물을 결정화 온도에서 20 내지 60시간동안 유지시킨다.

이전의 합성으로부터의 종정 또는 다른 분자체의 종정, 편리하게는 SAPO-34 종정에 의해 실리코알루미노포스페이트 합성을 도울 수 있다. 열수 처리는 진탕(예를 들어 교반하거나 뒤섞는 것)하거나 하지 않으면서 수행할 수 있으나, 바람직하게는 진탕하면서 수행한다. 바람직하게는, 반응 혼합물을 결정화 온도로 가열하는데 필요한 시간 및 결정화 기간동안 혼합물을 교반한다.

전형적으로는, 결정질 분자체 생성물이 슬러리로서 형성되며, 원심분리 또는 여과 같은 표준 수단에 의해 회수할 수 있다. 분리된 분자체 생성물을 세척하고 원심분리 또는 여과에 의해 회수한 다음 건조시킬 수 있다.

분자체 결정화 공정의 결과, 회수된 분자체는 그의 공극 내에 사용된 템플릿의 적어도 일부를 함유한다. 결정질 구조가 본질적으로 템플릿을 둘러싸고 있으며, 촉매 활성을 얻기 위해서는 템플릿을 제거해야 한다. 바람직한 실시태양에서는, 템플릿을 분자체로부터 제거하여, 분자체의 미세다공성 채널을 갖는 활성 촉매 부위를 공급원료와의 접촉을 위해 비워두는 방식으로 활성화시킨다. 활성화 공정은 전형적으로 소성에 의해, 또는 필수적으로 템플릿을 포함하는 분자체를 산소-함유 기체의 존재하에 200 내지 800℃에서 가열함으로써 수행한다. 몇몇 경우에는, 낮은 산소 농도를 갖는 환경에서 분자체를 가열하는 것이 바람직할 수 있다. 결정질내 공극 시스템으로부터 템플릿을 부분적으로 또는 완전히 제거하기 위해 이러한 유형의 공정을 이용할 수 있다. 다른 경우, 특히 보다 작은 템플릿의 경우에는, 통상적인 탈착 공정에 의해 분자체로부터 템플릿을 완전히 또는 부분적으로 제거할 수 있다.

본 발명의 결정질 실리코알루미노포스페이트 분자체는 전형적으로 판(plate), 소판(platelet) 또는 적층된 소판이다. 이들 판, 소판 또는 적층된 소판은 납작한 육면체로 보일 수 있는데, 이 때 육면체의 최소 치수는 Z로 정의되고 최대 치수는 Y로 정의되며, 바람직하게는 Z/Y는 1 미만이다. 바람직하게는, Z/Y는0.05 내지 0.5이다. 도 4는 본 발명에 따른 결정질 실리코알루미노포스페이트 분자체의 전자현미경 사진이다. 바람직하게는, 본 발명의 분자체의 평균적인 최소 결정 치수는 0.1μ 미만이다.

일단 분자체가 제조된 후에는, 완성된 촉매 생성물에 추가적인 경도 또는 촉매 활성을 제공하는 다른 물질과 분자체를 혼합함으로써 분자체를 촉매로 배합할 수 있다. 이러한 다른 물질과 혼합할 때, 생성되는 조성물을 통상적으로 실리코알루미노포스페이트 촉매로 일컫는데, 이 촉매는 SAPO 분자체를 포함한다. 본 발명은 또한 본 발명의 분자체를 포함하는 촉매에 관한 것이다.

분자체와 블렌딩될 수 있는 물질은 다양한 불활성 물질 또는 촉매 활성 물질, 또는 다양한 결합제 물질일 수 있다. 이들 물질은 카올린 및 다른 점토 같은 조성물, 희토류 금속의 다양한 형태, 다른 비-제올라이트 촉매 성분, 제올라이트 촉매 성분, 알루미나 또는 알루미나 졸, 티타니아, 지르코니아, 석영, 실리카 또는 실리카 졸, 및 이들의 혼합물을 포함한다. 이들 성분은 또한 재생동안 촉매에 대해 열을 차폐시키고 촉매를 조밀화시키며 촉매 강도를 증가시키는데 도움이 되는 흡열제(thermal sink)로서 작용하여 전체적인 촉매 비용을 감소시키는 데에도 효과적이다. 비-실리코알루미노포스페이트 분자체 물질과 블렌딩될 때, 최종 촉매 생성물에 함유되는 분자체의 양은 전체 촉매의 10 내지 90중량%, 바람직하게는 20 내지 70중량%이다.

본 발명에 따라 합성되는 분자체는 무수 기체 및 액체에; 크기 및 극성에 기초하여 분자를 선택적으로 분리하기 위해; 이온-교환제로서; 분해, 가수소 분해,불균일화, 알킬화, 이성질화, 산화에서의 촉매로서; 화학적 담체로서; 기체 크로마토그래피에; 또한 석유 공업에서 증류물로부터 선형 파라핀을 제거하기 위해 사용될 수 있다.

본 발명의 실리코알루미노포스페이트는 산소화물을 탄화수소로 접촉 전환시키는데 특히 적합하다. 따라서, 본 발명은 또한 산소화물 공급원료를 올레핀 생성물로 전환시키는데 효과적인 조건하에서 본 발명의 분자체를 포함하는 본 발명의 촉매를 산소화물 공급원료와 접촉시키는, 산소화물 공급원료로부터 올레핀 생성물을 제조하는 방법에 관한 것이다. 동일한 작동 조건하에서 다른 실리코알루미노포스페이트와 비교할 때, 본 발명의 실리코알루미노포스페이트는 경질 올레핀에 대해 보다 높은 선택성을 나타내고 부생물을 더 적게 생성시킨다.

본 방법에서는, 경질 올레핀, 특히 에틸렌 및 프로필렌을 생성시키는데 효과적인 조건하에서 반응기의 반응 대역에서 분자체를 포함하는 촉매를 산소화물을 함유하는 공급원료와 접촉시킨다. 전형적으로는, 산소화물이 증기 상일 때 산소화물 공급원료를 분자체 함유 촉매와 접촉시킨다. 다르게는, 액체 또는 혼합된 증기/액체 상에서 방법을 수행할 수도 있다. 액체 상 또는 혼합된 증기/액체 상에서 방법을 수행하는 경우, 촉매 및 반응 조건에 따라 상이한 공급물-대-생성물 전환율 및 선택성이 얻어질 수 있다.

이러한 산소화물 전환 공정에서는, 통상적으로 광범위한 온도에서 올레핀이 생성될 수 있다. 효과적인 작동 온도는 약 200 내지 700℃일 수 있다. 온도 범위의 하한에서는 목적하는 올레핀 생성물의 형성이 눈에 띄게 느려질 수 있다. 온도범위의 상한에서는 이 방법에 의해 최적량의 생성물이 형성되지 않을 수도 있다. 300℃ 이상 525℃ 이하의 작동 온도가 바람직하다.

바람직한 실시태양에서는, 300℃ 이상의 온도 및 0.016 미만, 바람직하게는 약 0.012 미만, 더욱 바람직하게는 약 0.01 미만의 온도 보정된 정규화된 메탄 민감도(TCNMS)에서 작동시키는 것이 매우 바람직하다. 산소화물로부터 올레핀을 제조하는 반응 조건이 올레핀을 생성시키는 약 20hr^-1이상의 WHSV 및 약 0.016 미만의 TCNMS를 포함하는 것이 특히 바람직하다.

본원에 사용되는 TCNMS는 온도가 400℃ 미만일 때 정규화된 메탄 선택성(NMS)으로서 정의된다. NMS는 에틸렌 생성물 수율로 나눈 메탄 생성물 수율로서 정의되며, 이 때 각 수율은 중량%로 측정되거나 중량%로 환산된다. 온도가 400℃ 이상일 때, TCNMS는 하기 수학식 1에 의해 정의된다:

상기 식에서, T는 반응기 내의 평균 온도(℃)이다.

압력은 또한 자생적인 압력을 포함하여 광범위하게 변할 수 있다. 바람직한 압력은 약 5kPa 내지 약 5MPa이며, 가장 바람직한 범위는 약 50kPa 내지 약 0.5MPa이다. 상기 압력은 산소 결핍된 희석제를 제외한 것이므로, 산소화 화합물 및/또는 이들과 공급원료의 혼합물의 분압을 일컫는다.

이동상 시스템 또는 다수의 수송상을 사용하는 임의의 시스템에서(고정상 시스템을 사용할 수도 있음) 방법을 수행할 수 있다. 높은 공간 속도로 반응 공정을 수행하는 것이 특히 바람직하다.

이 방법은 회분식, 반연속식 또는 연속식으로 수행될 수 있다. 단일 반응 대역에서 또는 직렬 또는 병렬 배열된 다수의 반응 대역에서 이 방법을 수행할 수 있다.

올레핀을 생성시키기 위한 산소화물의 전환은 바람직하게는 대규모 연속 촉매 반응기에서 수행된다. 이러한 유형의 반응기는 본원에 참고로 인용되어 있는 쿠니(D. Kunii) 및 레벤스필(O. Levenspiel)의 문헌["Free Fall Reactor",Fluidization Engineering, Robert E. Krieger Publishing Co. NY, 1977]에 기재되어 있는 유동상 반응기 및 공동 수직판 반응기를 포함한다. 또한, 역류식 자유 낙하 반응기를 전환 공정에 사용할 수도 있다. 예를 들어 본원에 참고로 인용되어 있는 미국 특허 제 4,068,136 호 및 젠즈(F.A. Zenz) 및 오트모(D.F. Othmo)의 문헌["Riser Reactor",Fluidization and Fluid-Particle Systems, 페이지 48-59, Reinhold Publishing Corp., NY 1960] 참조.

시판 등급의 임의의 표준 반응기 시스템, 예를 들어 고정상 또는 이동상 시스템을 사용할 수 있다. 시판 등급 반응기 시스템은 1hr^-1내지 1000hr^-1의 시간당 중량 공간 속도(WHSV)에서 작동될 수 있다. 시판 등급 반응기의 경우, WHSV는 촉매의 실리코알루미노포스페이트 분자체 함량의 중량당 시간당 공급원료중의 탄화수소의 중량으로서 정의된다. 탄화수소 함량은 산소화물 함량 및 산소화물과 함께제공될 수 있는 임의의 탄화수소의 함량이다. 실리코알루미노포스페이트 분자체 함량은 촉매 내에 함유된 실리코알루미노포스페이트 분자체 부분만을 의미한다. 이는 결합제, 희석제, 불활성 성분, 희토류 성분 등과 같은 성분을 배제한다.

예컨대 반응 대역에 공급되는 모든 공급물과 희석제 성분의 총 몰수를 기준으로 하여 1 내지 95몰%의 양으로 하나 이상의 불활성 희석제가 공급원료에 존재할 수 있다. 전형적인 희석제는 헬륨, 아르곤, 질소, 일산화탄소, 이산화탄소, 수소, 물, 파라핀, 알칸(특히 메탄, 에탄 및 프로판), 알킬렌, 방향족 화합물 및 이들의 혼합물을 포함하지만 이들로 반드시 국한되는 것은 아니다. 바람직한 희석제는 물 및 질소이다. 물은 액체 또는 증기 형태로 주입될 수 있다.

산소화물의 전환 수준은 원치 않는 부생물의 수준을 감소시키도록 유지된다. 전환율은 또한 미반응 공급물의 상업용으로 바람직하지 못한 재순환 수준을 필요로 하지 않기에 충분히 높게 유지된다. 전환율이 100몰%에서 약 98몰% 이하로 이동될 때 원치 않는 부생물의 감소가 나타난다. 공급물의 약 50몰% 이하를 재순환시키는 것이 바람직하다. 따라서, 두가지 목적을 다 달성하는 전환율은 약 50몰% 내지 약 98몰%, 바람직하게는 약 85몰% 내지 약 98몰%이다. 그러나, 재순환 공정을 단순화시키기 위하여 98몰% 내지 100몰%의 전환율을 달성하는 것도 허용될 수 있다. 산소화물 전환율은 당해 분야의 숙련자에게 공지된 다수의 방법을 이용하여 유지된다. 이의 예는 반응온도, 압력, 유속(즉, WHSV), 촉매 재생 수준 및 정도, 촉매 재순환량, 특정 반응기 형상, 공급 조성물 및 전환율에 영향을 끼치는 다른 변수중 하나 이상을 조정함을 포함하지만 이들로 한정되는 것은 아니다.

재생이 이용되는 경우, 분자체 촉매는 예컨대 탄소질 물질을 제거하거나 또는 산소-함유 대기중에서 산화시킴으로써 재생되는 재생 대역에 이동상으로서 연속적으로 도입될 수 있다. 바람직한 실시태양에서는, 전환 반응동안 축적된 탄소질 침착물을 연소시킴으로써 촉매를 재생 단계에 적용시킨다.

산소화물 공급원료는 하나 이상의 산소원자를 함유하는 하나 이상의 유기 화합물, 예컨대 지방족 알콜, 에테르, 카보닐 화합물(알데히드, 케톤, 카복실산, 카보네이트, 에스테르 등)을 포함한다. 산소화물이 알콜인 경우, 이 알콜은 1 내지 10개의 탄소원자, 더욱 바람직하게는 1 내지 4개의 탄소원자를 갖는 지방족 잔기를 포함할 수 있다. 대표적인 알콜은 저급 직쇄 및 분지쇄 지방족 알콜 및 이들에 상응하는 불포화 알콜을 포함하지만 이들로 반드시 국한되는 것은 아니다. 적합한 산소화 화합물의 예는 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, C₄-C₂₀알콜, 메틸 에틸 에테르, 디메틸 에테르, 디에틸 에테르, 디-이소프로필 에테르, 포름알데히드, 디메틸 카보네이트, 디메틸 케톤, 아세트산 및 이들의 혼합물을 포함하지만 이들로 한정되지는 않는다. 바람직한 산소화 화합물은 메탄올, 디메틸 에테르 또는 이들의 혼합물이다. 가장 바람직한 산소화 화합물은 메탄올이다.

산소화물 공급원료를 본 발명의 실리코알루미노포스페이트를 포함하는 촉매와 접촉시킴으로써 산소화물 공급원료로부터 올레핀 생성물을 제조하는 방법은 우수한 촉매 성능을 가지며, 이는 75.0% 이상의 에틸렌 및 프로필렌 선택성 및/또는 0.75 이상의 에틸렌 대 프로필렌 비 및/또는 1.0% 이하의 프로판 선택성에 의해 반영된다.

산소화물 공급원료로부터 올레핀 생성물을 제조하는 방법은 오일, 석탄, 역청 사암, 혈암, 생물자원 및 천연 가스로부터 산소화물 공급원료를 제조하는 추가적인 단계를 포함한다. 산소화물 공급원료를 제조하는 방법은 당해 분야에 공지되어 있다. 이들 방법은 알콜 또는 에테르로의 발효, 합성 가스 제조, 합성 가스의 알콜 또는 에테르로의 전환을 포함한다. 합성 가스는 증기 정제, 자열 정제 및 부분 산화 같은 공지 방법에 의해 생성될 수 있다.

당해 분야의 숙련자는, 본 발명의 분자체를 사용하는 산소화물-올레핀 전환 반응에 의해 제조된 올레핀 생성물을 중합시켜 폴리올레핀, 구체적으로는 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌을 제조할 수 있음을 알 것이다. 올레핀으로부터 폴리올레핀을 제조하는 방법은 당해 분야에 널리 알려져 있다. 촉매적 방법이 바람직하다. 메탈로센, 지글러/나타 및 산 촉매 시스템이 특히 바람직하다. 예컨대, 미국 특허 제 3,258,455 호, 제 3,305,538 호, 제 3,364,190 호, 제 5,892,079 호, 제 4,659,685 호, 제 4,076,698 호, 제 3,645,992 호, 제 4,302,565 호 및 제 4,243,691 호(이에 기재된 촉매 및 방법은 각각 본원에 참고로 인용됨) 참조. 일반적으로, 이들 방법은 폴리올레핀 생성물을 제조하기에 효과적인 압력 및 온도에서 올레핀 생성물을 폴리올레핀-제조 촉매와 접촉시킴을 포함한다.

바람직한 폴리올레핀-제조 촉매는 미국 특허 제 5,324,800 호에 기재되어 있는 메탈로센 촉매이다. 바람직한 작동 온도는 50 내지 240℃이고, 약 1 내지 200바아의 범위에 속하는 저압, 중간압 또는 고압에서 반응을 수행할 수 있다. 용액중에서 수행되는 방법의 경우, 불활성 희석제를 사용할 수 있고, 바람직한 작동압은 10 내지 150바아이며, 바람직한 온도는 120 내지 230℃이다. 기상 방법의 경우, 온도가 통상 60 내지 160℃이고, 작동압이 5 내지 50바아인 것이 바람직하다.

폴리올레핀에 덧붙여, 본 발명으로부터 회수된 올레핀으로부터 다수의 다른 올레핀 유도체가 제조될 수 있다. 이들은 알데히드, 알콜, 아세트산, 선형 알파 올레핀, 비닐 아세테이트, 에틸렌 디클로라이드 및 비닐 클로라이드, 에틸벤젠, 에틸렌 옥사이드, 쿠멘, 이소프로필 알콜, 아크롤레인, 알릴 클로라이드, 프로필렌 옥사이드, 아크릴산, 에틸렌-프로필렌 고무 및 아크로니트릴, 및 에틸렌, 프로필렌 또는 부틸렌의 삼량체 및 이량체를 포함하지만 이들로 한정되지는 않는다. 이들 유도체의 제조방법은 당해 분야에 널리 공지되어 있으며, 따라서 본원에서는 논의하지 않는다.

하기 실시예는 청구된 본 발명의 전체 영역 내에서 특정 실시태양을 예시한다.

이들 실시예에서, XRD 회절 패턴은 구리 Kα선을 사용하여 SCINTAG X2 X-선 분말 회절계(신택 인코포레이티드(Scintag Inc.) USA)에 기록되었다. 하기 절차에 따라 분자체 시료를 제조한 후 소성시키고 수분을 함유하지 않도록 유지시켰다:

질소를 흘려주면서 분자체 약 2g을 2℃/분의 속도로 실온에서 200℃로 가열하였다. 온도는 30분간 200℃에서 유지시켰다. 이어, 질소하에서 시료를 2℃/분의 속도로 200℃에서 650℃로 가열하였다. 시료를 질소하에 650℃에서 5시간동안 유지시켰다. 이어, 질소를 공기로 대체하고 시료를 공기하에서 650℃에서 3시간동안 유지시켰다. 이 시료를 200℃로 냉각시키고 200℃에서 유지시켜 수화를 방지하였다. 고온의 시료를 XRD 시료 컵에 옮겨넣고, 마일라(Mylar) 호일로 덮어 수화를 방지하였다. 12 내지 24°의 2θ 범위에서 XRD 회절 패턴을 기록하였다.

DIFFaX 분석을 이용하여 분자체의 AEI/CHA 비를 결정하였다. 국제 제올라이트 협회에서 구입가능한 DIFFaX 프로그램을 사용하여 다양한 AEI/CHA 비에 대한 분말 XRD 회절 패턴을 만들었다(트레이시 등의 문헌[Proceedings of the Royal Chemical Society, London, A (1991), Vol. 433, pp. 499-520 "Collection of Simulated XRD Powder Patterns for Zeolites", 트레이시 및 히긴스, 2001, 4판, 국제 제올라이트 협회의 구조 위원회를 대표하여 발간] 참조). 표 2는 XRD 회절 패턴을 시뮬레이션하는데 사용된 DIFFaX 입력 화일을 나타낸다. 이 분석의 경우, 계산치는 층의 무작위적인 분포에 기초하였다. 이러한 계산치는 통계 목적으로만 사용되고, 물질의 진정한 특성이 반드시 무작위적이라는 의미는 아니다. 이어, 시뮬레이션 회절 패턴을 실험한 분말 XRD 회절 패턴과 비교하였다.

실시예 1

유리 비이커에서 인산(물중 85%) 33.55g, 탈이온수 32.13g 및 TEAOH 용액(물중 35%) 61.4g의 용액을 제조하였다. 이 용액에 루독스(Ludox) AS 40(40% 실리카) 3.32g, 알루미나(콘데아 푸럴 에스비(Condea Pural SB)) 19.85g을 첨가하고, 몰비로 표현할 때 0.15 SiO₂/P₂O₅/Al₂O₃/TEAOH/35 H₂O의 조성을 갖는 슬러리를 수득하였다. 균질해질 때까지 이 슬러리를 혼합하고 이를 150ml들이 스테인레스 강 오토클레이브로 옮겨넣었다. 이 오토클레이브를 오븐의 회전 축에 장착시켰다. 이 축을 60rpm으로 회전시키고 오븐을 8시간동안 175℃로 가열하였다. 오토클레이브를 이 온도에서 48시간동안 유지시켰다. 실온으로 냉각시킨 다음, 시료를 꺼내어 세척 및 건조시켰다. X-선 회절 패턴을 수득하였다. DIFFaX 분석에 따르면, AEI/CHA 비가 15/85(AEI/CHA=0.18)이었다. 실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)는 0.15였다. 이후, 이 시료를 시료 A라고 한다.

실시예 2

인산(물중 85%, 알드리치(Aldrich)로부터 구입) 67.51g을 탈이온수 67.29g으로 희석시켰다. 이 용액에 테트라에틸암모늄 하이드록사이드 용액(물중 35%, 이스턴(Eastern)으로부터 구입) 123.33g을 첨가하였다. 이어, 루독스 AS 40(40% 실리카, 듀퐁(Dupont)으로부터 구입) 2.23g을 이 용액에 첨가하였다. 마지막으로, 알루미나(콘데아 푸럴 에스비) 39.84g을 첨가하고 슬러리를 수득하였다. 이 혼합물의 조성은 하기 몰비로 표시될 수 있다:

0.05 SiO₂/P₂O₅/Al₂O₃/TEAOH/35 H₂O.

균질해질 때까지 이 슬러리를 혼합하고 150ml들이 스테인레스 강 오토클레이브에 옮겨 넣었다. 이 오토클레이브를 오븐의 회전 축에 장착시켰다. 축을 60rpm으로 회전시키고 오븐을 8시간동안 175℃로 가열하였다. 오토클레이브를 이 온도에서48시간동안 유지시켰다. 실온으로 냉각시킨 후, 시료를 꺼내어 세척 및 건조시키고, X-선 회절 패턴을 구하였다. DIFFaX 분석에 따르면 AEI/CHA 비는 25/75(AEI/CHA=0.33)였다. 실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)는 0.06이었다. 이후, 이 시료를 시료 B라고 한다.

오토클레이브를 60rpm 대신 30rpm으로 회전시킨 것을 제외하고는 동일한 절차를 이용하여 다른 시료를 제조하였다. 따라서, 더욱 격렬하게 혼합한 시료 B의 제조시보다는 보다 온화하게 혼합하거나 뒤섞었다. DIFFaX 분석에 따르면 AEI/CHA 비가 90/10(AEI/CHA=0.9)이었다. 이후, 이 시료를 비교예 1이라고 한다.

도 3 및 도 5는 시료 B의 X-선 회절 패턴을 도시한다. 비교하기 위해, 이들 도면은 또한 국제 출원 공개 제 WO 98/15496 호의 실시예 1 및 도 1에 기재된 MTO-RUW-356의 X-선 회절 패턴 및 국제 출원 공개 제 WO 98/15496호의 실시예 3 및 도 1에 기재된 MTO-RUW-335T의 X-선 회절 패턴도 도시하고 있다. MTO-RUW-356 및 MTO-RUW-335T의 회절 패턴을 계수화시켜 다시 정규화시켰다. MTO-RUW-356 및 MTO-RUW-335T의 DIFFaX 분석 결과, AEI/CHA 비는 각각 2.3 및 4.0이었다.

실시예 3

인산(물중 85%, 알드리치) 191.23g과 탈이온수 214.25g의 용액을 믹싱볼에서 혼합하였다. 이 용액에 테트라에틸암모늄 하이드록사이드 용액(물중 35%, 사켐(Sachem)) 348.71g을 뷰렛으로 첨가하였다. 혼합물이 균질해진 후, 루독스 AS 40(40% 실리카, 듀퐁) 6.04g을 첨가하였다. 이어, 알루미나(콘데아 푸럴 에스비)122.33g을 첨가하고 혼합물을 15분간 교반하였다. 이어, 테트라에틸암모늄 하이드록사이드 용액(물중 35%) 163.46g 및 탈이온수 10.13g을 첨가하였다. 몰비로 표현할 때 0.045 SiO₂/0.92 P₂O₅/Al₂O₃/1.35 TEAOH/41 H₂O의 조성을 갖는 슬러리를 수득하였다. 균질해질 때까지 이 슬러리를 혼합하고 1L들이 파(PARR) 스테인레스 강 오토클레이브에 옮겨 넣은 후, 전체 열수 처리동안 혼합물을 600rpm으로 교반하였다. 오토클레이브를 5시간동안 175℃로 가열하였다. 오토클레이브를 이 온도에서 72시간동안 유지시켰다. 실온으로 냉각시킨 후, 슬러리를 세척 및 건조시키고, X-선 회절 패턴을 수득하였다. DIFFaX 분석에 따르면, AEI/CHA 비가 30/70(AEI/CHA=0.43)이었다. 실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)는 0.09였다. 이후, 이 시료를 시료 C라고 한다.

실시예 4

인산(물중 85%) 437.92g과 탈이온수 350.56g의 용액을 믹싱볼에서 혼합하였다. 이 용액에 루독스 AS 40(40% 실리카) 28.49g을 첨가하면, 흐린 용액이 수득되었다. 이어, 테트라에틸암모늄 하이드록사이드 용액(물중 35%) 799.09g을 뷰렛으로 첨가하고, TEAOH가 모두 첨가되었을 때 투명한 용액이 수득되었다. 이 용액에 알루미나(콘데아 푸럴 에스비) 258.29g 및 탈이온수 42.45g을 조심스럽게 첨가하였다. 몰비로 표현할 때 0.1 SiO₂/P₂O₅/Al₂O₃/TEAOH/34 H₂O의 조성을 갖는 슬러리를 수득하였다. 균질해질 때까지 이 슬러리를 혼합하고, 외벽에 재킷이 결합되어 있는 2L들이 파 스테인레스 강 오토클레이브(T316SS)에 옮겨넣었다. 외부 가열욕으로부터의 가열된 오일을 이중 벽을 통해 흘려보냄으로써 반응기를 가열한다. 스테인레스 강 교반기는 표준 파 앵커 교반기와 표준 터빈 유형의 임펠러가 조합되어 이루어진다. 결정화동안 혼합물을 170rpm으로 교반하였다. 오토클레이브를 8시간동안 175℃로 가열하였다. 오토클레이브를 이 온도에서 36시간동안 유지시켰다. 실온으로 냉각시킨 후, 슬러리를 세척 및 건조시키고, X-선 회절 패턴을 수득하였다. DIFFaX 분석에 따르면, AEI/CHA 비가 30/70(AEI/CHA=0.43)이었다. 실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)는 0.14였다. 이후, 이 시료를 시료 D라고 한다.

실시예 5

인산(물중 85%) 434.19g과 탈이온수 347.58g의 용액을 믹싱볼에서 혼합하였다. 이 용액에 루독스 AS 40(40% 실리카) 28.25g을 첨가하면 흐린 용액이 수득되었다. 이어, 테트라에틸암모늄 하이드록사이드 용액(물중 35%) 792.24g을 뷰렛으로 첨가하고, TEAOH를 다 첨가하였을 때 투명한 용액이 수득되었다. 이 용액에 알루미나(콘데아 푸럴 에스비) 256.08g을 조심스럽게 첨가한 후, 탈이온수 10g중 SAPO-34 분말 0.761g의 현탁액(종정 현탁액을 10분간 초음파욕에 넣어두었음)을 첨가하였다. 또한, 탈이온수 42.07g을 혼합물에 첨가하였다. 몰비로 표현할 때 0.1 SiO₂/P₂O₅/Al₂O₃/TEAOH/34 H₂O 및 0.04중량% SAPO-34 종정의 조성을 갖는 슬러리를 수득하였다. 균질해질 때까지 이 슬러리를 혼합하고 2L들이 스테인레스 강 파 오토클레이브에 옮겨넣은 후, 결정화동안 혼합물을 170rpm으로 교반하였다. 오토클레이브를 8시간동안 175℃로 가열하였다. 오토클레이브를 이 온도에서 36시간동안유지시켰다. 오토클레이브를 실온으로 냉각시킨 후, 결정질 물질을 오토클레이브로부터 제거하여 세척한 다음 120℃에서 건조시키고, X-선 회절 패턴을 구하였다. DIFFaX 분석에 따르면, AEI/CHA 비는 30/70(AEI/CHA=0.43)이었다. 실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)는 0.12였다. 이후, 이 시료를 시료 E라고 한다.

실시예 6

인산(물중 85%) 184.36g과 탈이온수 176.29g의 용액을 믹싱볼에서 혼합하였다. 이 용액에 루독스 AS 40(40% 실리카) 13.33g을 첨가하고 흐린 용액을 수득하였다. 이어, 테트라에틸암모늄 하이드록사이드 용액(물중 35%) 373.79g을 뷰렛으로 첨가하고, TEAOH를 모두 첨가하였을 때 투명 용액이 수득되었다. 이 용액에 알루미나(콘데아 푸럴 에스비) 120.82g 및 탈이온수 31.42g을 조심스럽게 첨가하였다. 몰비로 표현할 때 0.1 SiO₂/0.9 P₂O₅/Al₂O₃/TEAOH/35 H₂O의 조성을 갖는 슬러리를 수득하였다. 균질해질 때까지 이 슬러리를 혼합하고 1L들이 스테인레스 강 파 오토클레이브에 옮겨넣은 다음, 결정화동안 혼합물을 170rpm으로 교반하였다. 오토클레이브를 8시간동안 175℃로 가열하였다. 오토클레이브를 이 온도에서 48시간동안 유지시켰다. 실온으로 냉각시킨 후, 슬러리를 세척 및 건조시켰다. X-선 회절 데이터를 수득하였다. DIFFaX 분석에 따르면, AEI/CHA 비가 20/80(AEI/CHA=0.25)이었다. 실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)는 0.16이었다. 이후, 이 시료를 시료 F라고 한다.

실시예 7

인산(물중 85%) 411.23g과 탈이온수 329.18g의 용액을 믹싱볼에서 혼합하였다. 이 용액에 루독스 AS 40(40% 실리카) 26.75g을 첨가하고, 흐린 용액을 수득하였다. 이어, 테트라에틸암모늄 하이드록사이드 용액(물중 35%) 750.35g을 뷰렛으로 첨가하고, TEAOH를 다 첨가하였을 때 투명한 용액이 수득되었다. 이 용액에 알루미나(콘데아 푸럴 에스비) 242.59g 및 탈이온수 39.86g을 조심스럽게 첨가하였다. 몰비로 표현할 때 0.1 SiO₂/P₂O₅/Al₂O₃/TEAOH/34 H₂O의 조성을 갖는 슬러리를 수득하였다. 균질해질 때까지 이 슬러리를 혼합하고 2L들이 스테인레스 강 파 오토클레이브에 옮긴 다음, 결정화동안 혼합물을 170rpm으로 교반하였다. 오토클레이브를 12시간동안 170℃로 가열하였다. 오토클레이브를 이 온도에서 24시간동안 유지시켰다. 실온으로 냉각시킨 후, 시료를 꺼내어 세척 및 건조시키고, X-선 회절 패턴을 구하였다. DIFFaX 분석에 따르면 AEI/CHA 비가 40/60(AEI/CHA=0.67)이었다. 실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)는 0.13이었다. 이후, 이 시료를 시료 G라고 한다.

실시예 8-비교예 2

본 실시예는 비교를 위해 AEI/CHA 비가 본 발명의 영역에 속하지 않는 AEI 분자체 및 CHA 분자체의 연정 상의 촉매 성능을 예시하고자 제공된다.

이소프로폭시화알루미늄 90.74g을 믹싱볼에 넣고 탈이온수 135.29g을 첨가하였다. 이 혼합물을 10분간 가만히 내버려둔 후, 혼합하여 겔을 수득하였다. 이 겔에 인산(물중 85%) 50.19g을 뷰렛으로 적가한 다음 루독스 AS 40(40% 실리카)3.26g을 첨가하였다. 이어, 테트라에틸암모늄 하이드록사이드 용액(물중 35%) 91.54g을 뷰렛으로 첨가하고, 탈이온수 5.23g을 첨가하였다. 몰비로 표현된 하기 조성을 갖는 슬러리를 수득하였다:

0.1 SiO₂/P₂O₅/Al₂O₃/TEAOH/56.9 H₂O.

균질해질 때까지 이 슬러리를 혼합하고, 300ml들이 강 오토클레이브에 옮겨넣었다. 오토클레이브를 6시간동안 150℃로 가열하였다. 오토클레이브를 이 온도에서 133시간동안 유지시켰다. 정적인 조건하에서 결정화를 수행하였다. 실온으로 냉각시킨 후, 시료를 취하여 세척 및 건조시키고 X-선 회절 패턴을 수득하였다. DIFFaX 분석에 따르면 AEI/CHA 비가 80/20(AEI/CHA=4.0)이었다. 실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)는 0.10이었다. 이후, 이 시료를 비교예 2라고 한다.

실시예 9

생성물 분석을 위한 온라인 기체 크로마토그래피 장치가 장착된 관형 고정상 반응기에서 메탄올을 올레핀으로 전환시켰다. 시험 시료의 일부를 질소 중에서 650℃에서 5시간동안 소성시킨 다음 공기중에서 650℃에서 3시간동안 가열하였다. 소성된 분자체를 반응기에 첨가하고, 450℃, 25hr^-1의 시간당 중량 공간 속도 및 25psig의 압력에서 메탄올 함유 공급원료와 접촉시켰다.

합쳐진 에틸렌 및 프로필렌 생성물 선택성 및 프로판 선택성이 표 3에 기재되어 있다. 이 표에서, 선택성은 공급원료중 메탄올의 중량에 대한 소정의 생성물 또는 생성물 군(m)의 중량 평균 생성물 선택성을 의미한다. 이는 하기 수학식 2에따라 계산된다:

상기 식에서,

(Sm)_i는 스트림 i에서의 시간동안 m의 중간 선택성이고;

(MeOH conv)_i는 스트림 i에서의 시간에서 중간 전환율이며;

(ΔMeOH/gr cat)_i는 스트림 i에서의 시간동안 촉매 1g당 공급되는 메탄올의 양이다.

모든 선택성은 코크스가 없는 상태에 기초하여 계산하였다.

표 3은 본 발명의 분자체가 경질 올레핀에 대해 높은 선택성을 나타내고 부생물을 적게 생성시킴을 보여준다. 표 3에서, 선택성은 백분율로 표시된다.

메탄올의 올레핀으로의 전환시 촉매 성능

시료	SiO₂/Al₂O₃	AEI/CHA^*	에틸렌 선택성(%)	프로필렌 선택성(%)	에틸렌+프로필렌 선택성(%)	프로판 선택성(%)	C4+ 선택성^**(%)	에틸렌 대 프로필렌 비
A(실시예 1)	0.15	0.18	34.9	40.8	75.7	1.0	21.4	0.86
B(실시예 2)	0.06	0.33	33.6	42.6	76.3	0.4	21.8	0.79
C(실시예 3)	0.09	0.43	33.9	42.3	76.2	0.6	21.8	0.80
D(실시예 4)	0.14	0.43	34.4	41.1	75.5	0.7	21.9	0.84
E(실시예 5)	0.12	0.43	35.1	40.8	75.9	0.9	21.4	0.86
F(실시예 6)	0.16	0.25	35.9	40.0	75.9	1.0	21.1	0.90
G(실시예 7)	0.13	0.67	34.2	41.4	75.6	0.6	21.1	0.83
비교예 1(실시예 2)		9.0	29.6	42.5	72.1	0.7	25.0	0.69
비교예 2(실시예 8)	0.10	4.0	30.0	43.3	73.3	0.9	24.3	0.69
^DIFFaX에 의해 결정.^*4개 이상의 탄소원자를 갖는 탄화수소에 대한 선택성.

본 발명에 대해 상세하게 기재하였으나, 당해 분야의 숙련자는 본 발명의 원리 및 영역으로부터 벗어나지 않으면서 청구된 범위에 속하는 넓은 변수 범위 내에서 본 발명을 수행할 수 있음을 알 것이다.

Claims

AEI 골격 유형을 갖는 분자체 및 CHA 골격 유형을 갖는 분자체의 하나 이상의 연정 상(intergrown phase)을 포함하는 실리코알루미노포스페이트 분자체로서, 상기 연정 상이 상기 실리코알루미노포스페이트 분자체의 소성된 시료의 분말 X-선 회절 패턴을 이용하는 DIFFaX 분석에 의해 결정될 때 약 5/95 내지 40/60의 AEI/CHA 비를 갖는 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 1 항에 있어서,

연정 상이 약 7/93 내지 38/62의 AEI/CHA 비를 갖는 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

연정 상이 약 8/92 내지 35/65의 AEI/CHA 비를 갖는 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서,

연정 상이 약 9/91 내지 33/67의 AEI/CHA 비를 갖는 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 있어서,

CHA 골격 유형을 갖는 분자체가 SAPO-34인 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서,

AEI 골격 유형을 갖는 분자체가 SAPO-18, ALPO-18 또는 SAPO-18과 ALPO-18의 혼합물인 실리코알루미노포스페이트 분자체.

제 1 항 내지 제 6 항중 어느 한 항에 있어서,

5 내지 25(2θ) 범위에서 하기 표 1에 기재된 각각의 범위에서 하나 이상의 반사 피이크를 갖는 X-선 회절 패턴을 갖는 실리코알루미노포스페이트 분자체:

표 1

제 1 항 내지 제 7 항중 어느 한 항에 있어서,

X-선 회절 패턴이 9.8 내지 12.0(2θ) 범위에서 반사 피이크를 갖지 않는 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 있어서,

X-선 회절 패턴이 약 16.9(2θ)에 중심을 둔 넓은 피이크를 갖지 않는 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 1 항 내지 제 9 항중 어느 한 항에 있어서,

17.7 내지 18.1(2θ) 범위에서의 반사 피이크가 SAPO-34의 회절 패턴의 17.9(2θ)에서의 반사 피이크에 대해 0.09 내지 0.40의 상대적인 강도를 가지며, 이 때 모든 회절 패턴이 20.5 내지 20.7(2θ) 범위에서의 반사 피이크의 강도 값에 대해 정규화된 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 10 항에 있어서,

17.7 내지 18.1(2θ) 범위에서의 반사 피이크가 SAPO-34의 회절 패턴의 17.9(2θ)에서의 반사 피이크에 대해 0.10 내지 0.35의 상대적인 강도를 갖는 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 1 항 내지 제 11 항중 어느 한 항에 있어서,

실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)가 0.01 내지 0.25인 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 1 항 내지 제 12 항중 어느 한 항에 있어서,

실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)가 0.02 내지 0.20인 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 1 항 내지 제 13 항중 어느 한 항에 있어서,

실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)가 0.03 내지 0.19인 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 1 항 내지 제 14 항중 어느 한 항에 있어서,

결정질 판(plate), 소판(platelet) 또는 적층된 소판으로 이루어진 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 15 항에 있어서,

분자체의 평균 최소 결정 치수가 0.1μ 미만인 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 1 항 내지 제 16 항중 어느 한 항에 따른 실리코알루미노포스페이트 분자체 및 결합제를 포함하는 촉매.
제 17 항에 따른 촉매를 산소화물 공급원료와 접촉시킴을 포함하는, 상기 산소화물공급원료로부터 올레핀 생성물을 제조하는 방법.
제 18 항에 있어서,

산소화물이 메탄올; 에탄올; n-프로판올; 이소프로판올; C₄-C₂₀알콜; 메틸 에틸 에테르; 디메틸 에테르; 디에틸 에테르; 디-이소프로필 에테르; 포름알데히드; 디메틸 카보네이트; 디메틸 케톤; 아세트산; 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 방법.
제 19 항에 있어서,

산소화물이 메탄올, 디메틸 에테르 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 방법.
제 18 항 내지 제 20 항중 어느 한 항에 있어서,

산소화물이 메탄올인 방법.
제 18 항 내지 제 21 항중 어느 한 항에 있어서,

에틸렌에 대한 선택성과 프로필렌에 대해 선택성이 75.0% 이상인 방법.
제 18 항 내지 제 22 항중 어느 한 항에 있어서,

에틸렌 대 프로필렌 비가 0.75 이상인 방법.
제 18 항 내지 제 23 항중 어느 한 항에 있어서,

프로판에 대한 선택성이 1.0% 이하인 방법.
제 18 항 내지 제 24 항중 어느 한 항에 있어서,

프로판에 대한 선택성이 1.0% 이하인 방법.

5 내지 25(2θ) 범위에서 하기 표 1에 기재된 각각의 범위에서 하나 이상의 반사 피이크를 갖고 9.8 내지 12.0(2θ) 범위에서 반사 피이크를 갖지 않는 X-선 회절 패턴을 나타내는 실리코알루미노포스페이트 분자체:

표 1

제 26 항에 있어서,

약 16.9(2θ)에 중심을 둔 넓은 피이크를 갖지 않는 X-선 회절 패턴을 나타내는 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 26 항 또는 제 27 항에 있어서,

17.7 내지 18.1(2θ) 범위에서의 반사 피이크가 SAPO-34의 회절 패턴의 17.9(2θ)에서의 반사 피이크에 대해 0.09 내지 0.40의 상대적인 강도를 가지며, 이 때 모든 회절 패턴이 20.5 내지 20.7(2θ) 범위에서의 반사 파이크의 강도 값에 대해 정규화된 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 26 항 내지 제 28 항중 어느 한 항에 있어서,

17.7 내지 18.1(2θ) 범위에서의 반사 피이크가 SAPO-34의 회절 패턴의 17.9(2θ)에서의 반사 피이크에 대해 0.10 내지 0.35의 상대적인 강도를 가지며, 이 때 모든 회절 패턴이 20.5 내지 20.7(2θ) 범위에서의 반사 파이크의 강도 값에 대해 정규화된 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 26 항 내지 제 29 항중 어느 한 항에 있어서,

실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)가 0.01 내지 0.25인 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 26 항 내지 제 30 항중 어느 한 항에 있어서,

실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)가 0.02 내지 0.20인 실리코알루미노포스페이트분자체.
제 26 항 내지 제 31 항중 어느 한 항에 있어서,

실리카 대 알루미나 몰비(SiO₂/Al₂O₃)가 0.03 내지 0.19인 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 26 항 내지 제 32 항중 어느 한 항에 있어서,

결정질 판, 소판 또는 적층된 소판으로 이루어진 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 26 항 내지 제 33 항중 어느 한 항에 있어서,

평균 최소 결정 치수가 0.1μ 미만인 실리코알루미노포스페이트 분자체.
제 26 항 내지 제 34 항중 어느 한 항에 따른 실리코알루미노포스페이트 분자체 및 결합제를 포함하는 촉매.
a) 유기 구조 유도제(템플릿(template))의 존재하에 규소의 반응성 공급원, 인의 반응성 공급원 및 수화된 산화알루미늄을 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계;

b) 단계 a)에서 제조한 혼합물을 결정화 온도 이하에서 연속적으로 혼합 및 가열하는 단계;

c) 교반하면서 혼합물을 결정화 온도에서 2 내지 150시간동안 유지시키는 단계; 및

d) 실리코알루미노포스페이트 분자체의 결정을 회수하는 단계를 포함하며, 이 때

단계 a)에서 제조한 혼합물이 0.6:1 내지 1.2:1의 P₂O₅:Al₂O₃, 0.005:1 내지 0.35:1의 SiO₂:Al₂O₃, 10:1 내지 40:1의 H₂O:Al₂O₃범위의 몰 조성을 갖고,

템플릿이 테트라에틸암모늄 화합물인,

제 1 항 내지 제 16 항 및 제 26 항 내지 제 34 항중 어느 한 항에 따른 분자체를 제조하는 방법.
제 36 항에 있어서,

결정화 온도가 약 120 내지 250℃, 바람직하게는 130 내지 200℃, 가장 바람직하게는 150 내지 185℃인 분자체의 제조 방법.
제 36 항 또는 제 37 항에 있어서,

단계 b)를 약 5 내지 약 16시간, 바람직하게는 약 6 내지 12시간동안 수행하는 분자체의 제조 방법.
제 36 항 내지 제 38 항중 어느 한 항에 있어서,

템플릿이 테트라에틸암모늄 화합물, 바람직하게는 테트라에틸암모늄 하이드록사이드인 분자체의 제조 방법.
제 36 항 내지 제 39 항중 어느 한 항에 있어서,

수화된 산화알루미늄이 슈도베이마이트인 분자체의 제조 방법.
제 36 항 내지 제 40 항중 어느 한 항에 있어서,

SAPO-34 종정을 규소의 반응성 공급원, 인의 반응성 공급원, 수화된 산화알루미늄 및 유기 구조 유도제(템플릿)와 혼합하는 분자체의 제조 방법.