KR20040009951A - 페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법에 관한 것으로서, 하기 화학식 3의 펜에틸아민 화합물 또는 그의 염을 염기성 조건하에서 하기 화학식 4의 페녹시아세트산 유도체와 아실화반응시키는 페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법을 제공한다.
<화학식 1>
<화학식 3>
<화학식 4>
상기 화학식 4에서 L은 이탈그룹으로서 클로로, 에틸옥시카보닐옥시 또는 메틸옥시카보닐옥시기를 나타낸다.

Description

페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법{A preparing process of phenoxyacetamide derivative}
본 발명은 페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 하기 화학식 1로 표현되는 5-[2-(2-에톡시페녹시)아세트아미노]프로필-2-메톡시벤젠설폰아미드(이하 간단히 '페녹시아세트아미드 유도체'라고도 한다)를 간단한 공정을 통해 높은 수율로 얻을 수 있도록 한 페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법에 관한 것이다.
상기 화학식 1의 페녹시아미드 유도체 화합물은 하기 화학식 2의 펜에틸아민 화합물의 유도체 화합물이며, 화학식 1의 화합물을 환원반응시킨 후 산부가하면 화학식 2의 화합물이 얻어진다. 화학식 2의 화합물은 일명 탐술로신으로 α-아드레날린성 차단 작용을 나타내며, 양성 전립선 비대, 항고혈압제 및 울혈성 심부전의 치료제로 유용하게 사용되는 화합물이다.
상기 화학식 1의 페녹시아세트아미드 유도체 화합물을 제조하기 위한 방법으로 일본 특허 제 2295967호 및 일본 특허 제 2306958호에서는 하기 반응식 1에 나타낸 바와 같이 할로아세트아미드 화합물을 알콕시페놀 유도체 화합물과 반응시켜 제조하는 방법을 개시하고 있다.
상기 반응식 1에서 R1은 저급 알킬기이며, R2는 수소원자 또는 할로겐이고, X는 Br, CH3SO3-이다.
그러나, 상기한 방법은 알콕시페놀 유도체 화합물이 할로아세트아미드 화합물의 설폰아미드기와도 반응할 수 있어 목적 생성물과는 전혀 다른 부산물이 생길 수 있으므로(Jerry March., Advanced organic chemistry., 3rd edition., P 378), 그 수율이 더욱 낮아지는 문제점이 있다.
그에 따라 화학식 1의 화합물을 제조하는 과정에서 부반응을 억제하여 공정의 수율을 극대화할 수 있는 페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법 개발이 절실히 요구되었다.
본 발명자들은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 예의 노력한 결과, 반응공정 중 부반응을 수반하지 않으면서 간단한 반응공정으로 상기 화학식 1의 화합물을 고수율로 얻을 수 있는 방법을 개발하였다.
이에 본 발명의 주목적은 상기 화학식 1의 페녹시아세트아미드 유도체 화합물을 제조함에 있어 간단한 반응공정으로 부반응을 수반하지 않으면서 높은 수율로 얻을 수 있는 페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법을 제공하는데 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은
하기 화학식 3의 펜에틸아민 화합물 또는 그의 염을 염기성 조건하에서 하기 화학식 4의 페녹시아세트산 유도체와 아실화반응시켜 화학식 1의 페녹시아세트아미드 유도체 화합물을 제조하는 것을 특징으로 하는 페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법을 제공한다.
<화학식 1>
상기 화학식 4에서 L은 이탈그룹으로서 클로로, 에틸옥시카보닐옥시 또는 메틸옥시카보닐옥시기를 나타낸다.
이하, 본 발명의 페녹시아세트아미드 유도체 제조방법에 대하여 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
본 발명은 화학식 3의 펜에틸아민 화합물 또는 그의 염을 염기성 조건하에서 화학식 4의 페녹시아세트산 유도체 화합물과 아실화반응시켜 화학식 1의 페녹시아세트아미드 유도체를 제조하는 방법에 관한 것이다.
즉, 혼합용매에 상기 화학식 3의 펜에틸아민 화합물을 투입하여 용해시킨 다음 염류를 투입하여 염기성 조건으로 만들고, 상기 염기성 조건의 용액에 화학식 4의 페녹시아세트산 유도체 화합물 서서히 첨가하여 반응시키면 용이하게 높은 수율로 화학식 1의 페녹시아세트아미드 유도체를 얻을 수 있게 된다.
이때, 혼합용매는 물과 유기용매를 혼합하여 사용하는 것이 좋으며, 바람직한 혼합비는 1:1 부피비 이며, 유기용매로는 아세톤을 사용하는 것이 좋다.
상기 아실화반응은 염기성 조건하에서 수행되는데, 사용가능한 염류로는 트리에틸아민 또는 피리딘에서 선택되는 유기염류나, 탄산칼륨, 탄산수소칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산나트륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨 또는 수산화리튬에서 선택되는 무기염류를 사용할 수 있다. 이와 같이 염기성 조건하에서 반응시 반응온도는 0 내지 5℃가 바람직하다.
상기 온도범위 내에서 반응시키되, 반응시간은 30분 이상이면 충분하고, 이후 아세톤을 감압증류하여 제거한 다음 메틸렌 클로라이드로 수회추출하고, 추출물을 1N-염산수용액, 포화염화나트륨 수용액으로 충분히 세척한 후 건조 농축하고, 상기 농축물을 이소프로필알코올로 재결정하면 화학식 1의 페녹시아세트아미드 유도체를 얻을 수 있다.
상술한 바와 같이 본 발명은 화학식 3의 펜에틸아민 화합물과 화학식 4의 페녹시아세트산 유도체 화합물 염기성 조건하에서 반응시키면 부반응이 억제되어 부산물의 발생을 억제할 수 있을 뿐만 아니라 용이하게 화학식 1의 화합물을 높은 수율로 얻을 수 있게 된다.
이하, 바람직한 실시예를 통하여 본 발명에 의한 제조방법을 상세히 설명하기로 하나, 이는 본 발명의 이해를 돕기 위하여 제시된 것일 뿐, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
<제조예 1> 2-에톡시페녹시아세트산 에틸 에스테르의 제조
2-에톡시페놀 55.3g, 탄산칼륨 61g, 에틸 클로로아세테이트 54g 및 아세톤 200ml를 혼합하고 이를 20시간 동안 환류시킨 다음, 냉각하여 농축한 후, 상기 결과물에 에테르 200ml를 가하고 이를 물로 세척한 다음 건조하여 농축한 후 감압 증류하여 2-에톡시페녹시아세트산 에틸 에스테르 73.9g을 수득하였다.
수득된 화합물의 bp와 NMR 데이터는 다음과 같다.
bp : 110-114℃/3mmHg
1H-NMR(CDCl3) δ: 1.30 (3H, t), 1.45 (3H, t), 4.10 (2H, q), 4.25 (2H, q), 4.70 (2H, s)
<제조예 2> 2-에톡시페녹시아세트산의 제조
상기 제조예 1에서 수득한 2-에톡시페녹시아세트산 에틸 에스테르 44.85g, 물 100ml 및 메탄올 50ml의 혼합 용액에 수산화 리튬 9.23g을 가하고, 이를 상온에서 30분간 교반한 후, 염산 수용액으로 중화하고 여과하여, 2-에톡시페녹시아세트산 37.9g을 수득하였다.
수득된 화합물의 NMR 데이터는 다음과 같다.
1H-NMR(CDCl3) δ: 1.50 (3H, t), 4.15 (2H, q), 4.70 (2H, s)
<제조예 3> 화학식 4의 2-에톡시페녹시아세틸 클로라이드의 제조
상기 제조예 2에서 수득한 2-에톡시시페녹시아세트산 39.2g 및 메틸렌 클로라이드 160ml의 혼합 용액에 티오닐 클로라이드 16ml를 서서히 가하고 3시간 동안 환류 교반하고, 이를 농축하여 화학식 4의 2-에톡시페녹시아세틸 클로라이드를 얻었다.
수득된 화합물의 bp와 NMR 데이터는 다음과 같다.
1H-NMR(CDCl3) δ: 1.45 (3H, t), 4.10 (2H, q), 5.00 (2H, s)
<실시예 1>
화학식 4로 표현되는 (R)-5-(2-아미노프로필)-2-메톡시벤젠설폰아미드의 염산염 24.1g, 물 120ml, 탄산칼륨 24.9g과 아세톤 120ml을 넣고 0 내지 5℃로 냉각한 후, 상기 제조예 3에서 제조한 2-에톡시페녹시아세틸 클로라이드를 서서히 적가하였다. 30분간 교반한 후 아세톤을 증류 제거하고 나서, 메틸렌 클로라이드 500ml로 추출하고 계속하여 1N-염산수용액, 포화염화나트륨 수용액으로 세척한 후 건조 농축하고 이소프로필알코올로 재결정하여 화학식 1의 (R)-5-[2-(2-에톡시페녹시)아세트아미노]프로필-2-메톡시벤젠설폰아미드 31.5g(수율:66.5%)을 얻었다.
수득된 화합물의 mp와 NMR 데이터는 다음과 같다.
mp : 147-151℃
1H-NMR(CDCl3) δ: 1.20(3H, d), 1.45(3H, t), 2.70~2.90(2H, dd), 4.00(3H, s) 4.10(2H, q), 4.30(1H, m), 4.50(2H, S) 5.05(2H, S)
상기 실시예 1에서 보는 바와 같이 본 발명에 의해 화학식 1의 페녹시아세트아미드 유도체 화합물을 제조할 경우 간단한 반응공정을 통해 높은 수율로 페녹시아세트아미드 유도체를 제조할 수 있게 된다.
상기에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 방법에 의해 화학식 1의 페녹시아세트아미드 유도체를 제조할 경우 반응공정 중 부반응을 수반하지 않아 부산물의 발생을 최소화 할 수 있을 뿐만 아니라 고수율로 화학식 1의 화합물을 수득할 수 있어 매우 경제적인 효과가 있다.

Claims (3)

  1. 하기 화학식 3의 펜에틸아민 화합물 또는 그의 염을 염기성 조건하에서 하기 화학식 4의 페녹시아세트산 유도체와 아실화반응시켜 화학식 1의 페녹시아세트아미드 유도체 화합물을 제조하는 것을 특징으로 하는 페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법.
    <화학식 1>
    <화학식 3>
    <화학식 4>
    상기 화학식 4에서 L은 이탈그룹으로서 클로로, 에틸옥시카보닐옥시 또는 메틸옥시카보닐옥시기를 나타낸다.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 아실화반응이 물과 아세톤의 혼합용매에 화학식 3의 펜에틸아민 화합물을 투입하여 용해시킨 다음 염류를 투입하여 염기성 조건으로 만들고, 상기 염기성 용액에 화학식 4의 페녹시아세트산 유도체 화합물 서서히 첨가하여 반응시키는 것임을 특징으로 하는 페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법.
  3. 청구항 2에 있어서, 상기 염류로 트리에틸아민 또는 피리딘에서 선택되는 유기염류나, 탄산칼륨, 탄산수소칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산나트륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨 또는 수산화리튬에서 선택되는 무기염류를 사용하는 것을 특징으로 하는 페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100596373B1 (ko) * 2003-12-09 2006-07-04 씨제이 주식회사 광학적으로 순수한 펜에틸 아민 유도체의 제조방법

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