KR20030066179A - 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터 및 그 제조방법 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터 및 그 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터 및 그 제조방법을 제공한다. 상기 광학필터는 글래스 기판; 상기 글래스 기판의 전면에 형성된 반사방지막; 상기 글래스 기판의 후면에 형성된 접착용 중간막; 상기 접착용 중간막 상부에 형성된 전자파 차폐층; 상기 전자파 차폐층 상부에 형성된 근적외선 차단 및 선택적 흡광층을 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터 및 그 제조방법{Optical filter for plasma display panel and manufacturing method thereof}
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하기로는 글래스 기판 후면에 열전사방법에 따라 형성된 근적외선 차단 및 광선택 흡광층을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터 및 그 제조방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel: PDP)은 다른 화상표시장치에 비하여 대형화가 용이하고, 박형의 발광형 표시장치로서 향후 고품질 디지털 텔레비전으로서 가장 적합한 특성를 갖추고 있는 것으로 평가하고 있다.
그러나, PDP는 전자파 및 근적외선의 방출량이 많고 형광체의 표면반사가 높을 뿐만 아니라 봉입가스인 헬륨에서 방출되는 오렌지광으로 인하여 색순도가 음극선관에 미치지 못한다는 단점이 있다. 따라서 PDP에서 발생되는 전자파 및 근적외선에 의한 인체의 유해함과 정밀기기의 오작동을 방지할 뿐만 아니라, 표면 반사를 줄이고 색순도를 향상시키기 위하여 전자파 차폐, 근적외선 차단, 표면 반사 방지 및 색순도 개선 기능을 갖는 PDP용 광학필터를 채용하고 있다.
PDP는 전자파 차폐성능에 따라 업무용과 민생용으로 구분할 수 있고, PDP용 광학필터는 그 용도에 따라 그 구성이 상이하다.
즉, 업무용 PDP의 광학필터는 기재의 이면에 은과 같은 금속과 고굴절율의 산화물을 교대로 적층하여 전자파 및 근적외선 차단층을 형성한다. 이어서 상기 결과물의 양면에 반사방지막을 형성함으로써 완성한다.
한편, 민생용 PDP의 광학필터는 도전성 메쉬를 2매의 투명 기판사이에 삽입하고 그 표면에 반사방지 필름을 접합시키고, 그 결과물의 이면에 근적외선 차단 필름을 접합한 다음, 그 상부에 반사방지 필름을 적층하여 형성하거나 (일본 특개평 11-74683), 1매의 투명 기판의 표면에 도전성 메쉬와 반사방지 필름을 순서대로 접합하고 그 이면에 근적외선 차단 필름을 적층시키는 방법이 제안되었다(일본 특개평 13-134198).
그런데, 상술한 방법들중, 2매의 투명기판을 이용하는 광학필터는 그 자체의 두께 및 중량으로 인하여 박형화 및 경량화가 어렵다는 문제점이 있다. 그리고 1매의 투명기판의 표면에 근적외선 차단 필름을 접합시키는 방법은 기재를 1매만 사용하므로 경량화는 가능하지만 근적외선 차단 필름을 별도로 접합해야 하므로 접합 공정 자체가 복잡하고 수율 저하의 원인이 되며 특히 근적외선 차단 필름의 기재로 사용되는 열가소성 수지로 인하여 광학필터의 두께가 증가하고 최종 필터의 투과율이 저하된다는 단점이 있다.
이에 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상기 문제점을 해결하여 제조공정이 단순화되고 경량화가 가능하며 광투과율 및 휘도 특성이 개선된 PDP용 광학필터 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
도 1은 본 발명의 근적외선 차단 및 선택적 흡광층을 형성하기 위한 열전사필름의 적층 구조를 나타낸 단면도이고,
도 2는 도 1의 열전사필름을 이용하여 제조된 본 발명의 광학필터의 적층구조를 나타낸 단면도이다.
<도면의 주요 부호에 대한 간단한 설명>
11, 25... 근적외선 차폐 및 선택적 흡광층
12... 이형층13... 투명기판
21... 반사방지막 22... 글래스 기판
23... 접착용 중간막24... 전자파 차폐층
상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명에서는.
글래스 기판;
상기 글래스 기판의 전면에 형성된 반사방지막;
상기 글래스 기판의 후면에 형성된 접착용 중간막;
상기 접착용 중간막 상부에 형성된 전자파 차폐층;
상기 전자파 차폐층 상부에 형성된 근적외선 차단 및 선택적 흡광층을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터를 제공한다.
상기 접착용 중간막은 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, 폴리비닐부티랄 또는 그 혼합물로 이루어지며, 상기 전자파 차폐층은 금속 섬유 또는 금속 피복 유기 섬유로 이루어진 도전성 메쉬이거나, 금속 섬유 또는 금속 피복 유기 섬유으로 이루어진 동박을 패턴화시켜 얻은 도전성 메쉬이다.
상기 반사방지성 광투과필름에서의 근적외선 차단 및 선택적 흡광층은 근적외선 차단 물질과 광선택 흡광 물질을 포함하며, 근적외선 차단 물질은 니켈 착체계와 디암모늄계의 혼합색소, 구리 이온과 아연 이온을 함유하는 화합물 색소, 시아닌 색소 및 안트라퀴논 색소로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이고, 선택적 흡광 물질이 옥타페닐테트라아자포피린, 테트라아자포피린 고리에 금속(M) 원자가 중심 그룹으로 존재하고, 암모니아, 물, 할로겐으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 리간드가 상기 금속 원자와 배위결합을 이룬 유도체 색소로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이다.
본 발명의 다른 기술적 과제는 (a) 투명기판상에 이형층과, 근적외선 차단 및 선택적 흡광층을 순차적으로 적층하여 근적외선 차단 및 선택적 흡광층을 형성하기 위한 열전사 필름을 형성하는 단계;
(b) 글래스 기판의 후면에 접착용 중간막과 전자파 차폐층과 상기 (a)단계에따라 형성된 열전사 필름에 있어서 근적외선 차폐 및 광선택 흡광층이 접촉되도록 열전사필름을 배치한 다음, 이를 가열가압하여 열전사시킴으로써 전자파 차폐층 상부에 근적외선 차단 및 선택적 흡광층을 형성하는 단계;
(c) 상기 글래스 기판의 전면에 접착용 반사방지막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 상술한 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터의 제조방법에 의하여 이루어진다.
상기 (b) 단계의 가열가압시 온도는 80 내지 200℃ 범위이고, 압력은 1 내지 10kgf/㎠인 것이 바람직하다.
PDP용 광학필터는 리모콘의 오작동을 방지하기 위하여 근적외선 차단 성능이 중요한 요구 특성으로 되어 있다. 특히 최근에는 PDP의 휘도를 향상시킴에 따라 근적외선의 발생량도 많아지고 있기 때문에 더 한층 고도의 근적외선 차단 성능이 필요하다.
PDP용 전면필터의 투명기판으로서 아크릴 수지판을 사용하는 경우, 기판 재료의 아크릴 수지중에 구리 계열 재료를 배합시키는 것으로 근적외선 차단 성능을 부여할 수는 있지만, 아크릴 수지는 열에 약하고 열변형의 위험성이 있기 때문에 PDP용 전면 광학필터의 투명기판으로서 바람직하지 못하다. 이 때문에 본 발명에서는 투명기판으로는 내열성이 우수한 글래스 기판을 사용하여 양호한 근적외선 차단 성능을 갖는 PDP용 광학필터를 제조한다.
이하, 본 발명을 보다 상세하게 설명하기로 한다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터에서는, 근적외선 차폐 및 선택적 흡광층을 형성하기 위한 열전사필름을 별도로 제조하고, 이 열전사필름을 이용한 열전사방식에 의하여 글래스 기판 후면에 형성된 전자파 차폐층 상부에 근적외선 차단 및 선택적 흡광층을 형성시킨 것이다.
본 발명의 광학필터를 첨부된 도면을 참조하여 그 적층구조를 보다 상세하게설명하면 다음과 같다.
본 발명의 근적외선 차폐 및 선택적 흡광층을 형성하기 위한 열전사필름(10)은 도 1과 같은 구조를 갖는다.
도 1을 참조하면, 열전사필름(10)은 투명 기판(13)의 상부에 이형층(12)과 전사층인 근적외선 차단 및 선택적 흡광층(11)이 적층된 구조를 갖는다. 여기에서 투명기판(13)은 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 트리아세테이트셀룰로오스(TAC), 폴리에테르설폰(PES)으로 이루어진 열가소성 수지로 이루어지며, 이 투명기판의 광투과율은 80% 이상, 보다 바람직하게는 90% 이상인 것이 바람직하다. 그리고 이 투명기판의 두께는 25 내지 150㎛인 것이 반사방지성 광투과 필름의 투명도 측면에서 바람직하다.
상기 이형층(12)은 열전사필름(10)의 열전사시 전사층인 근적외선 차폐 및 선택적 흡광층(11)이 글래스 기판(22) 후면에 형성된 전자파 차폐층(24) 상부에 효율적으로 전사되도록 도와주는 역할을 한다. 이러한 이형층(12)은 실리콘계 이형제, 불소계 이형제 등의 물질을 이용하여 형성된다. 이러한 이형층(12)의 두께는 0.1 내지 0.3㎛이다. 만약 이형층(12)의 두께가 0.1㎛ 미만이면, 도막의 박리 특성이 불균일하고 0.3㎛를 초과하면 제조시 경화 에너지가 과도하여 생산성 측면에서) 바람직하지 못하다.
상기 이형층(12) 상부에는 전사층인 근적외선 차단 및 선택적 흡광층(11)을 형성하며, 이는 근적외선 차단 물질과 선택적 흡광 물질을 함유하고 있다. 이 때 선택적 흡광 물질의 함량은 전체 고형분 100 중량부를 기준으로 하여 0.01 내지0.5 중량부를 사용한다. 만약 선택적 흡광 물질의 함량이 0.01 중량부 미만이면 선택적 흡광 기능이 저하되어 색순도 향상 효과를 기대할 수 없고 0.5 중량부를 초과하면 필터의 칼라 밸런스(color balance)가 왜곡되고 투과율이 저하하여 바람직하지 못하다.
본 발명의 근적외선 차단 및 선택적 흡광층(11)을 구성하는 근적외선 차단 물질은 투명성을 손상시키는 일이 없고 양호한 근적외선 차단 성능(예를 들어, 850-1250nm 근적외선 파장 영역에 있어 근적외선을 흡수하는 성능)을 갖는 물질로서, 국내 공개특허공보 2001-39727에 개시된 화학식 4 내지 6의 화합물을 사용할 수 있는데, 구체적인 예를 들어 니켈 착체계와 디암모늄계의 혼합색소(예: 상품명 IRG022(일본화약사))나 구리, 아연 이온을 함유하는 화합물 색소 또는 유기물 색소를 사용한다.
상기 선택적 흡광 물질에 대해서는 국내 공개특허공보 20001-26838 및 2001-39727이 참조로서 통합된다. 여기에 개시된 선택적 흡광 물질은 옥타페닐테트라아자포피린, 또는 테트라아자포피린 고리에 금속(M) 원자가 중심 그룹으로 존재하고, 암모니아, 물, 할로겐으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 리간드가 상기 금속 원자와 배위결합을 이룬 유도체들로서, 상기 금속은 아연(Zn), 팔라듐(Pd), 마그네슘(Mg), 망간(Mn), 코발트(Co), 구리(Cu), 루테늄(Ru), 로듐(Rh), 철(Fe), 니켈(Ni), 바나듐(V), 주석(Sn), 티타늄(Ti)으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이다.
상기 근적외선 차단 및 선택적 흡광층(11)을 형성하는 방법에 대하여 살펴보면, 상술한 근적외선 차단 물질과 선택적 흡광 물질을 플라스틱 수지 및 유기용매와 혼합하고, 이를 반사방지막(11)이 형성된 투명 기판(12)의 후면에 도포함으로써 반사방지막과, 근적외선 차단 및 선택적 흡광층을 일체화시킨다. 여기에서 도포방법은 통상적인 도포방식이 적용될 수 있으며, 예를 들어 롤 코팅, 다이 코팅, 스핀 코팅이 사용된다.
상기 근적외선 차단 및 선택적 흡광층(11)의 두께는 1 내지 20㎛인 것이 바람직하며, 특히 2 내지 10㎛인 것이 근적외선 차단 성능면에서 보다 바람직하다.
상기 플라스틱 수지로는 폴리(메틸 메타크릴레이트), 폴리비닐알콜, 폴리카보네이트, 에틸렌비닐아세테이트, 폴리(비닐부티랄), 폴리에틸렌테레프탈레이트 등을 사용하며, 이의 함량은 유기용매 100 중량부를 기준으로 하여 5 내지 40 중량부를 사용한다. 만약 플라스틱 수지의 함량이 5 중량부 미만인 경우에는 요구 물성 구현을 위한 두께 확보가 곤란하고, 40 중량부를 초과하는 경우에는 코팅 특성이 저하되므로 바람직하지 못하다.
상기 유기용매로는 톨루엔, 자일렌, 프로필알콜, 이소프로필알콜, 메틸셀루솔브, 에틸셀루솔브, 디메틸포름아미드, 메틸에틸케톤 등을 사용한다.
본 발명의 근적외선 차단 및 선택적 흡광층(11)에는 각 파장 영역의 투과율을 조절하거나 백색도를 구현하기 위하여 통상의 아조 염료, 시아닌 염료, 디페닐메탄 염료, 트리페닐메탄 염료, 프탈로시아닌 염료, 크산텐계 염료, 디페닐렌계 염료, 인디고, 포피린 등의 염료 또는 색소의 퇴색성을 방지하여 내광성을 향상시키기 위한 라디칼 반응 억제제와 같은 첨가제를 첨가할 수도 있다. 이러한 첨가제의함량은 근적외선 차단 및 선택적 흡광층(13)을 구성하는 고형분 100 중량부를 기준으로 하여 0.05 내지 3 중량부이다. 만약 첨가제의 함량이 0.05 중량부 미만이면 부가에 따른 효과가 미미하고, 3 중량부를 초과하면 근적외선 차단 및 선택적 흡광층(13)의 물성이 저하되어 바람직하지 못하다.
상술한 열전사필름(10)을 이용하여 본 발명의 광학필터(20)을 제조하는 방법을 살펴보면 다음과 같다.
먼저, 글래스 기판(22)의 전면에 반사방지막(21)을 형성한다. 이 때 반사방지막(21)은 투명기판(13)의 굴절율보다 작은 저굴절율 단층막 또는 고굴절율 투명막과 저굴절율 투명막을 교대로 적층한 다층막이 사용된다. 여기에서 저굴절율 투명막은 SiO2, MgF2, Al2O3등과 같이 굴절율이 1.6 이하의 실리콘계 유기재료, 불소계 유기재료 등의 저굴절율 재료를 이용하며, 고굴절율 투명막은 ITO(Indium Tin Oxide), ZnO, Al을 도핑한 ZnO, TiO2, ZrO 등의 굴절율 1.6 이상의 고굴절율 재료를 이용하며, 이러한 고굴절율 재료를 아크릴수지, 폴리에스테르 등과 같은 바인더에 분산시킨 것을 사용한다. 이러한 반사방지막은, 상기 저굴절율 재료 또는 고굴절율 재료를 진공성막하는 방법 또는 상기 재료들이 포함된 용액을 습식방법으로 롤 코팅, 다이코팅하여 제조된다. 여기에서 반사방지막(21)의 광학적 두께(nd)는 고굴절율막과 저굴절율막이 각각 λ/4-λ/4(여기서 λ는 파장)가 되도록 형성한다. 여기에서 반사방지막의 광학적 두께가 상기 조건에 맞지 않을 경우 표면 반사율이 높아지거나 최저 반사 파장대역이 중심파장대역(550nm)에서 이동하므로 바람직하지못하다.
이어서, 상기 글래스 기판(22)의 후면에 접착용 중간막(23)과 전자파 차폐층(24)을 순차적으로 형성한다.
상기 접착용 중간막(23)은 전자파 차폐층(23)와 글래스 기판(21)을 접착시키는 역할을 하는 층으로서, 이는 에틸렌-비닐아세테이트(EVA) 공중합체, 폴리비닐부티랄 등과 같은 접착수지와, 자외선, 흡수제, 적외선 흡수제, 노화 방지제, 도료 가공 조제, 필터 자체의 색조를 조정하기 위한 염료, 안료 등의 착색제, 카본블랙, 소수성 실리카, 탄산칼슘 등과 같은 충전제 등과 같은 첨가제를 선택적으로 사용하여 형성된다. 그리고 이 접착용 중간막(22)의 두께는 50 내지 500㎛인 것이 바람직하다.
상기 접착용 중간막(23) 상부에 형성된 전자파 차폐층(24)는 전자파를 차폐하는 역할을 하며, 이의 구체적인 예로서 금속섬유 및/또는 금속 피복 유기 섬유로 이루어진 도전성 메쉬이거나 또는 금속섬유 및/또는 금속 피복 유기 섬유로 이루어진 동박을 패턴화시켜 얻어진 도전성 메쉬를 들 수 있고, 이러한 도전성 메쉬를 사용하면, 파손시의 비산 방지 효과를 얻을 수 있어 안전성이 높다.
상기 금속 섬유 및 금속 피복 유기 섬유의 금속으로는, 동, 스테인레스, 알루미늄, 니켈, 티탄, 텅스텐, 주석, 철, 은, 크롬, 탄소 또는 이러한 합금을 사용하며, 그중에서도 동, 니켈, 스테인레스, 알루미늄 등이 바람직하다. 그리고 상기 금속 피복 유기 섬유의 유기 재료로는 폴리에스테르, 나일론, 염화비닐리덴, 아라미드, 비닐론, 셀룰로오스 등이 사용된다.
상기 전자파 차폐층(23) 즉, 도전성 메쉬의 두께는 10 내지 100㎛인 것이 바람직하며, 이의 개구율은 50 내지 95%, 라인폭은 5 내지 50㎛, 라인 피치는 100 내지 500㎛인 것이 바람직하다.
상기 전자파 차폐층(24) 상부에 상기 과정에 따라 형성된 열전사필름(10)의 근적외선 차폐 및 광선택 흡광층(11)이 접촉되도록 이를 배치한다. 이어서, 상기 결과물을 가열가압하여 열전사필름(10)의 근적외선 차단 및 선택적 흡광층(11)을 전자파 차폐층(24) 상부에 열전사시켜 전자파 차폐층(24)의 상부에 근적외선 차단 및 선택적 흡광층(25)를 형성함으로써 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터(20)를 완성한다.
상기 가열가압시, 온도는 80 내지 200℃이고, 압력은 1 내지 10kgf/㎠인 것이 바람직하다. 만약 온도가 80℃ 미만이면, 접착용 중간막이 불투명하게 되고, 200℃를 초과하면 열전사 필름이 수축되어 전사 후 표면이 불량하게 되어 바람직하지 못하다. 그리고 압력이 1kgf/㎠ 미만이면, 열전사 기능이 저하되고, 10kgf/㎠ 를 초과하면 글래스가 파손될 위험이 있어 바람직하지 못하다.
이하, 본 발명을 하기 실시예를 들어 설명하기로 하되, 본 발명이 하기 실시예로만 한정되는 것은 아니다.
합성예 1
반응기에 메틸에틸케톤(MEK) 1000ml를 부가하고 이를 가온하면서 여기에 폴리(메틸메타크릴레이트) 300g을 부가하여 완전히 용해하였다.
이어서, 반응기에 옥타페닐테트라아자포피린 100mg과 IRG022(일본 화약사)150mg을 부가하여 용해시켰다.
그 후, 상기 반응 혼합물에 아크리딘 오렌지(Acridine Orange)(알드리치 케미칼사) 120mg을 이소프로필알콜 50ml에 용해한 용액을 천천히 가하여 근적외선 차단 및 선택적 흡광 코팅제를 제조하였다.
실시예 1.
두께가 약 125㎛인 고투명 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 상부에 실리콘계 이형제를 약 0.1㎛ 두께로 도포 및 건조하여 이형층을 형성하였다. 이어서, 상기 이형층 상부에 상기 합성예 1에 따라 제조된 근적외선 차단 및 선택적 흡광 코팅제를 마이크로 그라비아 방식에 따라 롤 코팅한 다음, 이를 건조하여 두께가 약 10㎛인 근적외선 차단 및 선택적 흡광층을 형성하여 근적외선 차단 및 선택적 흡광층 형성용 열전사필름을 완성하였다.
글래스 기판(크기 600×1000㎟, 두께 3㎜)의 후면에 EVA층과 도전성 메쉬(라인폭: 10㎛, 라인 피치: 300㎛, 개구율: 약 93%)를 적층시켰다. 이어서, 이 메쉬상부에 상기 근적외선 차폐 및 광선택 흡광층 형성용 열전사 필름을 적층한 다음, 이를 진공 프레스기에 장입하고 진공도를 약 10 Torr로 유지되도록 30분동안 배기하였다. 그 후, 120℃, 30분간 약 10kgf/㎠의 압력을 가압, 접착시켰다.
그 후, 30분 경과후 진공을 파기하고 약 30분동안 냉각시킨 후, 취출하여 글래스 기판의 최상부에 위치하는 열전사필름의 PET층을 제거하였다. 그리고 나서, 라미네이터기(속도: 약 1.0m/min)를 이용하여 글래스 기판의 전면에 반사방지막을 형성하여 PDP용 광학필터를 완성하였다.
비교예 1
폴리에틸렌테레트탈레이트(PET) 필름(두께: 125㎛)의 전면에 합성예 1에 따라 제조된 근적외선 차단 및 선택적 흡광제를 도포 및 건조하여 근적외선 및 선택 적 흡광층을 형성하였다.
이어서, 상기 필름의 후면에 점착층과 이형필름을 적층하여 제1필름을 형성하였다.
그 후, 실시예 1과 동일한 방법에 따라 3mm 글래스의 후면에 EVA층과 도전성 메쉬와 반사방지막이 형성된 필름을 순차적으로 적층하고 글래스 기판의 전면에는 제1필름을 적층하였다.
그리고 나서, 상기 제조한 글래스 기판의 전면에 반사방지막이 형성된 필름을 1.0m/min의 속도로 점착하여 PDP용 광학필터를 완성하였다.
상기 실시예 1 및 비교예 1에 따라 제조된 광학필터를 PDP에 장착한 후, 색도계(일본 미놀타, 상품명: CS1000)를 사용하여 광학필터를 PDP에 장착하기 전후의 백색광의 휘도 및 투과율을 측정하였다.
상기 측정 결과는 하기 표 1과 같다.
구분 휘도(cd/㎡) 백색광 투과율(%)
필터장착전 휘도 104 100
실시예 1 67.6 65
비교예 1 57.2 55
상기 표 1로부터 알 수 있듯이, 실시예 1에 따라 제조된 광학필터의 휘도는 비교예 1의 경우에 비하여 향상되었으며, 투과율도 개선되었다.
또한, 광학필터의 전체적인 무게에 있어서도 근적외선 차단 필름과 반사방지필름을 별도로 제조하여 글래스 기판위에 순서대로 점착하여 제조한 비교예 1의 경우와 비교하여 실시예 1의 광학필터가 필터의 무게가 약 5% 감소하였고, 광학필터의 총두께도 감소하였다. 이와 같이 실시예 1의 경우는 비교예 1의 경우와 비교하여 구조를 단순화화시킴으로써 제조수율이 향상되면서 제조단가는 줄어들었다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터는, 반사방지 기능과 근적외선 차단 기능을 가질 뿐만 아니라 색순도 기능을 향상시킬 수 있는 층을 별도의 기재없이 투명기판에 부착하므로 종래의 경우와 같이 다층의 필름을 접합하여 일체화시키는 경우와 비교하여 투과광의 손실이 적어 광학필터의 투과율 및 휘도가 향상되고 광학필터의 경량화 및 박형화가 가능하다. 그리고 본 발명의 광학필터는
본 발명에 대해 상기 실시예를 참고하여 설명하였으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명에 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.

Claims (9)

  1. 글래스 기판;
    상기 글래스 기판의 전면에 형성된 반사방지막;
    상기 글래스 기판의 후면에 형성된 접착용 중간막;
    상기 접착용 중간막 상부에 형성된 전자파 차폐층;
    상기 전자파 차폐층 상부에 형성된 근적외선 차단 및 선택적 흡광층을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터.
  2. 제1항에 있어서, 상기 전자파 차폐층이 금속 섬유 또는 금속 피복 유기 섬유로 이루어진 도전성 메쉬이거나, 금속 섬유 또는 금속 피복 유기 섬유으로 이루어진 동박을 패턴화시켜 얻은 도전성 메쉬인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터.
  3. 제1항에 있어서, 상기 접착용 중간막이 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, 폴리비닐부티랄 또는 그 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터.
  4. 제1항에 있어서, 상기 반사방지성 광투과필름에서의 근적외선 차단 및 선택 적 흡광층이 근적외선 차단 물질과 광선택 흡광 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터.
  5. 제4항에 있어서, 상기 근적외선 차단 물질이 니켈 착체계와 디암모늄계의 혼합색소, 구리 이온과 아연 이온을 함유하는 화합물 색소, 시아닌 색소 및 안트라퀴논 색소로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터.
  6. 제4항에 있어서, 상기 선택적 흡광 물질이 옥타페닐테트라아자포피린, 테트라아자포피린 고리에 금속(M) 원자가 중심 그룹으로 존재하고, 암모니아, 물, 할로겐으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나의 리간드가 상기 금속 원자와 배위결합을 이룬 유도체 색소로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터.
  7. (a) 투명기판상에 이형층과, 근적외선 차단 및 선택적 흡광층을 순차적으로 적층하여 근적외선 차단 및 선택적 흡광층을 형성하기 위한 열전사 필름을 형성하는 단계;
    (b) 글래스 기판의 전면에 반사방지막을 형성하는 단계;
    (c) 상기 글래스 기판의 후면에 접착용 중간막과 전자파 차폐층을 순차적으로 형성하는 단계;
    (d) 상기 (c) 단계에 따라 형성된 전자파 차폐층 상부에, 상기 (a) 단계에 따라 형성된 열전사필름의 근적외선 차폐 및 광선택 흡광층이 접촉되도록 열전사필름을 배치한 다음, 이를 가열가압하여 열전사시킴으로써 전자파 차폐층 상부에 근적외선 차단 및 선택적 흡광층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 제1항 내지 제6항중 어느 한 항의 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터의 제조방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 (d) 단계의 가열가압시 온도가 80 내지 200℃ 범위인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터의 제조방법.
  9. 제7항에 있어서, 상기 (d) 단계의 가열가압시 압력이 1 내지 10kgf/㎠인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터의 제조방법.
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