KR20030056808A - 자동 척 클리닝 장치 - Google Patents

자동 척 클리닝 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20030056808A
KR20030056808A KR1020010087109A KR20010087109A KR20030056808A KR 20030056808 A KR20030056808 A KR 20030056808A KR 1020010087109 A KR1020010087109 A KR 1020010087109A KR 20010087109 A KR20010087109 A KR 20010087109A KR 20030056808 A KR20030056808 A KR 20030056808A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chuck
chuck cleaning
cleaning assembly
automatic
wafer
Prior art date
Application number
KR1020010087109A
Other languages
English (en)
Inventor
이종훈
김철수
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020010087109A priority Critical patent/KR20030056808A/ko
Publication of KR20030056808A publication Critical patent/KR20030056808A/ko

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B15/00—Preventing escape of dirt or fumes from the area where they are produced; Collecting or removing dirt or fumes from that area
    • B08B15/002—Preventing escape of dirt or fumes from the area where they are produced; Collecting or removing dirt or fumes from that area using a central suction system, e.g. for collecting exhaust gases in workshops
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
    • B08B5/04—Cleaning by suction, with or without auxiliary action
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2886—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks

Abstract

본 발명의 자동 척 클리닝 장치는 척 상에서 상하로 이동가능하고, 상기 척 상에 존재하는 파티클을 흡입할 수 있는 진공 클리너와 상기 파티클을 물리적으로 제거할 수 있는 회전식 브러쉬를 갖는 척 클리닝 어셈블리를 포함한다. 상기 척 클리닝 어셈블리는 프로빙 장치의 헤드 플레이트에 연결되어 형성될 수 있다. 이상과 같은 자동 척 클리닝 장치는 수동적으로 척 상에 존재하는 파티클을 제거하지 않고 진공 클리너와 회전식 브러쉬를 갖는 척 클리닝 어셈블리를 이용하여 자동적으로 제거할 수 있다.

Description

자동 척 클리닝 장치{Auto chuck cleaning apparatus}
본 발명은 자동 척 클리닝 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 웨이퍼 내의 개개 다이(die)의 전기적 양불량을 테스트하는 프로빙 장치(prober)의 자동 척 클리닝 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 제조 공정에서 반도체 웨이퍼 상태의 칩(chip)의 기능이 양호한지 불량한지 여부를 전기적인 규격에 따라 선별하는 EDS(electrical die sorting)라고 불리는 검사공정을 행하게 된다. 이러한 반도체 웨이퍼 소팅(wafer sorting) 작업을 할 경우 프로빙 장치의 헤드 플레이트(head plate)에 프로브 카드(probe card)를 접속하고 척 상에 웨이퍼를 로딩한 상태에서 상기 웨이퍼 상의개개의 다이(die)를 각각 프로빙(probing)하는 검사를 해오고 있다.
그런데, 상기 웨이퍼 상태의 칩을 만드는 제조공정에서 상기 웨이퍼의 바닥에는 파티클(particle)이 많이 붙어있게 된다. 이렇게 웨이퍼 바닥에 붙어있는 파티클로 인하여 웨이퍼가 로딩되는 척이 오염되게 된다. 따라서, 상기 프로빙 장치의 척을 정기적인 예방정비기간에 클리닝하여야 한다.
그러나, 종래의 프로빙 장치는 예방정비기간에만 사람이 수동적으로 척을 클리닝하기 때문에 예방정비기간 사이에는 척이 오염된 상태에서 프로빙 검사를 수행한다. 이렇게 오염된 상태에서 프로빙 검사를 수행하면 척과 웨이퍼간의 콘택이 불량하여 프로빙 검사의 신뢰성 내지 검사 유효성이 크게 떨어지게 된다.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 척과 웨이퍼간의 콘택 불량을 해결하고 자동적으로 클리닝을 수행할 수 있는 자동 척 클리닝 장치를 제공하는 데 있다.
도 1은 본 발명에 의한 척 클리닝 어셈블리가 프로빙 장치에 적용된 것을 설명하기 위한 개략도이다.
도 2는 본 발명에 의한 자동 척 클리닝 장치를 설명하기 위하여 도시한 개략도이다.
도 3은 도 2의 척 클리닝 어셈블리의 하부 평면도이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 자동 척 클리닝 장치는 웨이퍼가 로딩되는 척과, 상기 척 상에서 상하로 이동가능하고, 상기 척 상에 존재하는 파티클을 흡입할 수 있는 진공 클리너와 상기 파티클을 물리적으로 제거할 수 있는 회전식 브러쉬를 갖는 척 클리닝 어셈블리를 포함하여 이루어진다.
상기 척 클리닝 어셈블리는 프로빙 장치의 헤드 플레이트에 연결되어 형성될 수 있다. 상기 척 클리닝 어셈블리는 하면이 넓은 콘 모양으로 구성될 수 있다. 상기 진공 클리너는 상기 하면이 넓은 콘의 바닥의 중앙부 및 가장자리부에는 형성된 복수개의 진공홀들과 상기 진공홀들에 연결된 진공 라인으로 구성될 수 있다. 상기 회전식 브러쉬는 상기 하면이 넓은 콘 바닥의 중앙부와 가장자리부 사이에 돌출되어 설치될 수 있다.
이상과 같은 자동 척 클리닝 장치는 수동적으로 척 상에 존재하는 파티클을 제거하지 않고 진공 클리너와 회전식 브러쉬를 갖는 척 클리닝 어셈블리를 이용하여 자동적으로 제거할 수 있다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명한다. 그러나, 다음에 예시하는 본 발명의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 상술하는 실시예들에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예들은 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되어지는 것이다.
도 1은 본 발명에 의한 척 클리닝 어셈블리가 프로빙 장치에 적용된 것을 설명하기 위한 개략도이다.
구체적으로, 도 1에서는 본 발명에 의한 척 클리닝 어셈블리가 프로빙 장치에 적용된 것을 도시한다. 특히, 도 1은 본 발명의 척 클리닝 어셈블리가 프로빙 장치에 연결되는 부분을 설명하기 위하여 도시한다. 물론, 본 발명에 의한 척 클리닝 어셈블리는 프로빙 장치뿐만 아니라 일반적인 척을 사용하는 모든 장치에 적용가능하다. 도 1에서 참조번호 11은 프로빙 장치의 헤드 플레이트(head plate)를 나타낸다. 상기 헤드 플레이트(11)에는 척 클리닝 어셈 블리(13)가 연결되며, 물론프로브 카드(미도시)도 연결된다. 상기 척 클리닝 어셈블리(13)의 하부에는 웨이퍼(미도시)가 로딩되는 척(15)이 설치된다.
도 2는 본 발명에 의한 자동 척 클리닝 장치를 설명하기 위하여 도시한 개략도이고, 도 3은 도 2의 척 클리닝 어셈블리의 하부 평면도이다.
구체적으로, 본 발명에 의한 자동 척 클리닝 장치는 웨이퍼(미도시)가 로딩되는 척(15)와, 상기 척(15) 상에 상하로 이동가능한 척 클리닝 어셈블리(17)로 이루어진다. 상기 척 클리닝 어셈블리(17)는 상기 척(15) 상에 위치하고 하면이 넓은 콘 모양으로 구성된다. 상기 척 클리닝 어셈블리(17)는 하면이 넓은 콘의 바닥의 중앙부 및 가장자리부에 형성된 복수개의 진공홀(19)과 상기 진공홀(19)에 연결되어 상기 척(15) 상에 존재하는 파티클을 흡입할 수 있는 진공 라인(21)를 갖는 진공 클리너를 구비한다. 상기 진공 라인(21)에는 상기 척(15) 상에 존재하는 파티클을 필터링할 수 있는 필터(23)가 설치된다. 물론, 상기 진공 라인(19)에는 진공 펌프(미도시)가 연결된다.
그리고, 상기 척 클리닝 어셈블리(17)는 상기 하면이 넓은 콘 바닥의 중앙부와 가장자리부 사이에는 돌출되어 회전함으로써 상기 척(15) 상에 존재하는 파티클을 물리저으로 제거할 수 있는 상기 회전식 브러쉬(25)가 설치되어 있다. 상기 회전식 브러쉬(25)는 척 상에 고온에 의해 눌러붙은 파티클까지 제거할 수 있으며 척의 표면에 스크래치를 발생시키지 않는다. 물론, 상기 회전식 브러쉬(25)에는 상기 회전식 브러쉬(25)를 회전시킬 수 있는 회전부재(27), 상기 회전부재(27)에 동력을 전달하는 기어(29), 상기 기어(29)를 회전시키는 모터(31)가 연결되어 있다.
그리고, 앞서 설명한 바와 같이 상기 척 클리닝 어셈블리(17)가 프로빙 장치의 적용될 경우 상기 프로빙 장치의 헤드 플레이트( 도 1의 11)에 연결될 수 있다. 여기서, 도 1을 참조하여 본 발명의 자동 척 클리닝 장치의 클리닝 방법을 설명한다.
먼저, 척(15)에 웨이퍼가 로딩되기 전에 척 클리닝 어셈블리는 초기 위치에서 척의 표면으로 이동 및 하강하여 상기 척의 표면에 접촉한다. 다시 말해, 헤드 플레이트(도 1의 11)에 연결된 척 클리닝 어셈블리가 척의 표면으로 이동 및 하강하여 척의 표면에 접촉한다.
이어서, 척 클리닝 어셈블리가 척의 표면에 접촉되면 회전식 브러쉬가 자동적으로 회전하여 척의 표면에 부착된 파티클을 제거함과 아울러 척 클리닝 어셈블리의 하부의 콘 바닥에 형성되어 있는 진공홀 및 이에 연결된 진공 라인을 통해 펌핑함으로써 척 표면에 부착된 파티클을 제거한다. 이때, 상기 척의 표면은 상하 및 좌우로 이동하면서 척의 표면 전체가 골고루 클리닝된다.
다음에, 상기 클리닝을 완료한 척 클리닝 어셈블리는 원래의 초기 위치로 돌아가게 된다.
상술한 바와 같이 본 발명의 자동 척 클리닝 장치는 척 상에 존재하는 파티클을 흡입할 수 있는 진공 클리너와 상기 파티클을 물리적으로 제거할 수 있는 회전식 브러쉬를 갖는 척 클리닝 어셈블리를 포함한다. 따라서, 본 발명은 수동적으로 척 상에 존재하는 파티클을 제거하지 않고 진공 클리너와 회전식 브러쉬를 갖는척 클링 어셈블리를 이용하여 자동적으로 제거할 수 있다.
특히, 본 발명의 자동 척 클리닝 장치를 프로빙 장치의 헤드 플레이트에 적용하면 척이 오염되지 않은 상태에서 프로빙 검사를 수행하기 때문에 척과 웨이퍼간의 콘택불량을 해결할 수 있어 프로빙 검사의 신뢰성 내지 검사 유효성을 크게 향상시킬 수 있다.

Claims (5)

  1. 웨이퍼가 로딩되는 척; 및
    상기 척 상에서 상하로 이동 가능하고, 상기 척 상에 존재하는 파티클을 흡입할 수 있는 진공 클리너와 상기 파티클을 물리적으로 제거할 수 있는 회전식 브러쉬를 갖는 척 클리닝 어셈블리를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 자동 척 클리닝 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 척 클리닝 어셈블리는 프로빙 장치의 헤드 플레이트에 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 자동 척 클리닝 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 척 클리닝 어셈블리는 하면이 넓은 콘 모양으로 구성되는 것을 특징으로 하는 자동 척 클리닝 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 진공 클리너는 상기 하면이 넓은 콘의 바닥의 중앙부및 가장자리부에 형성된 복수개의 진공홀들과 상기 진공홀들에 연결된 진공 라인으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 자동 척 클리닝 장치.
  5. 제3항에 있어서, 상기 회전식 브러쉬는 상기 하면이 넓은 콘 바닥의 중앙부와 가장자리부 사이에 돌출되어 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 자동 척 클리닝 장치.
KR1020010087109A 2001-12-28 2001-12-28 자동 척 클리닝 장치 KR20030056808A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010087109A KR20030056808A (ko) 2001-12-28 2001-12-28 자동 척 클리닝 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010087109A KR20030056808A (ko) 2001-12-28 2001-12-28 자동 척 클리닝 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20030056808A true KR20030056808A (ko) 2003-07-04

Family

ID=32214967

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020010087109A KR20030056808A (ko) 2001-12-28 2001-12-28 자동 척 클리닝 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20030056808A (ko)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7361234B2 (en) * 2003-08-06 2008-04-22 Micron Technology, Inc. Photolithographic stepper and/or scanner machines including cleaning devices and methods of cleaning photolithographic stepper and/or scanner machines
KR100857525B1 (ko) * 2007-08-31 2008-09-08 중앙대학교 산학협력단 미세 오염물 흡입장치
US7456928B2 (en) 2005-08-29 2008-11-25 Micron Technology, Inc. Systems and methods for controlling ambient pressure during processing of microfeature workpieces, including during immersion lithography
US7583358B2 (en) 2005-07-25 2009-09-01 Micron Technology, Inc. Systems and methods for retrieving residual liquid during immersion lens photolithography
US8472004B2 (en) 2006-01-18 2013-06-25 Micron Technology, Inc. Immersion photolithography scanner
CN108172537A (zh) * 2017-12-19 2018-06-15 南京联信自动化科技有限公司 一种薄膜吸附装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7361234B2 (en) * 2003-08-06 2008-04-22 Micron Technology, Inc. Photolithographic stepper and/or scanner machines including cleaning devices and methods of cleaning photolithographic stepper and/or scanner machines
US7370659B2 (en) * 2003-08-06 2008-05-13 Micron Technology, Inc. Photolithographic stepper and/or scanner machines including cleaning devices and methods of cleaning photolithographic stepper and/or scanner machines
US7583358B2 (en) 2005-07-25 2009-09-01 Micron Technology, Inc. Systems and methods for retrieving residual liquid during immersion lens photolithography
US7456928B2 (en) 2005-08-29 2008-11-25 Micron Technology, Inc. Systems and methods for controlling ambient pressure during processing of microfeature workpieces, including during immersion lithography
US8472004B2 (en) 2006-01-18 2013-06-25 Micron Technology, Inc. Immersion photolithography scanner
KR100857525B1 (ko) * 2007-08-31 2008-09-08 중앙대학교 산학협력단 미세 오염물 흡입장치
CN108172537A (zh) * 2017-12-19 2018-06-15 南京联信自动化科技有限公司 一种薄膜吸附装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101331353B1 (ko) 프로브 카드를 세척하기 위한 방법 및 장치
JPH04364746A (ja) プローブ装置
KR102297838B1 (ko) 칩 전자 부품의 전기 특성의 연속적인 검사 방법
WO2005106511A1 (en) Cleaning system, device and method
US20060065290A1 (en) Working surface cleaning system and method
KR20030056808A (ko) 자동 척 클리닝 장치
JP6531344B2 (ja) プローブ装置
KR20050071117A (ko) 프로브 카드 니들의 세정시스템
KR20040004892A (ko) 프로빙 시스템의 테스트 프로브 세정장치 및 세정방법
KR20170058070A (ko) 검사 장치용 기판 세정 모듈 및 이를 구비하는 프로브 스테이션
KR200152552Y1 (ko) 프로브 카드 세정장치
KR20200065660A (ko) 프로브 카드의 탐침 세정 방법
JPH075229A (ja) 半導体製造装置
KR20080054763A (ko) 반도체 테스트 설비의 이물질 제거 장치 및 그 방법
KR100835467B1 (ko) 프로브 카드의 공기 세정 장치
KR100384550B1 (ko) 웨이퍼 프로버의 프로버 카드 교환 장치
CN116046798B (zh) 自动清针方法、自动清针系统及晶圆接受测试方法
JPH09197001A (ja) Ｉｃ試験用ソケットのハンダくず除去装置
KR101015551B1 (ko) 프로버용 웨이퍼 로딩장치 및 이를 이용한 프로버용 웨이퍼로딩방법
JP2000174080A (ja) プローバの触針のクリーニング機構
KR0127232Y1 (ko) 반도체 웨이퍼의 균열검사장치
KR20170053775A (ko) 프로브 스테이션
JPS63292640A (ja) ウエハプロ−バ
KR20050120139A (ko) 반도체 소자 검사용 소켓 클린너
KR100850174B1 (ko) 반도체 소자 검사용 프로브장치 및 검사방법

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination