KR20030053843A - 에지필터를 이용한 핀홀 검출기 - Google Patents

Abstract

본 발명은 종래 에지마스크를 포함한 핀홀 검출기를 사용함으로써 검출되지 아니하였던 강판의 가장자리 부분의 핀홀을 검출하기 위하여, 홀 또는 핀홀의 존재여부에 대해 검사하고자 하는 강판에 빛을 조사하기 위한 광원과, 상기 강판을 중심으로 상기 광원과 반대방향에 위치하고, 광원에서 조사되어 강판의 홀 또는 핀홀을 통과한 빛을 검출하기위한 검출센서와, 상기 검출센서에서 측정한 데이터를 처리하여 홀 또는 핀홀의 위치를 계산하는 프로세서, 및 상기 강판 에지부에 위치하고, 상기 광원을 비추었을때 검출센서가 포화상태가 되는 지점으로 부터 강판 내부를 향하는 방향으로 광투과율을 크게함으로써 상기 검출센서에서 측정되는 광량에 따른 신호의 세기를 감쇄시켜 에지부에 존재하는 한계레벨 이상의 홀 또는 핀홀을 검출하기 위한 에지필터를 포함하여 구성된 핀홀 검출기를 제공한다.

Description

에지필터를 이용한 핀홀 검출기{Pin-hole detector with edge filter}

본 발명은 냉간 압연을 하는 공장의 제품에 존재하는 작은구멍(홀과 핀홀)을 검출하는 장치에 관한 것이다.

강판에 존재하는 구멍은 일반적으로 홀(hole)과 핀홀(pin-hole)로 나눌 수 있다. 홀은 약 500㎛이상이고 그 이하는 핀홀이라 지칭한다. 그리고 제품품질관리 방안에 따라 분류 사이즈는 다를 수 있다.

일반적으로 냉연공장에서 얇은 소재(1)를 압연할 때 조직에 개재물이 탈락되거나 소재와 공정상의 문제점으로 강판에 미소한 홀(5)이 발생한다. 이러한 홀은 제품화 되기 전에 품질 검사에서 검출이 되어야 하지만, 종래의 에지 마스크를 사용하는 방법으로는 강판의 가장자리 즉 에지(edge)부분에 발생하는 핀홀을 검출하지 못하는 문제점이 존재한다.

도 1은 일반적인 핀홀 검출기의 구성도이다. 광원(2)을 강판(1)에 조사하여 빔(7)을 투사하면, 핀홀을 투과한 빔(8)이 강판의 반대편에 위치한 검출센서(3)에 감응하여 핀홀이 검출된다(도 2의 피크부 p1으로 도시됨). 검출된 신호는 검출기의 프로세서(6)에 전달된다.

핀홀검출기의 광원으로는 레이저, LED 램프, 적외선, 자외선 램프, 할로겐 램프 등의 광원(2)이 사용되고, 검출센서(3)는 PMT(photo multiplier tube), 광센서(PHOTO-SENSOR), CCD 카메라 등이 사용된다. 그러나 검출센서 중 PMT나 광센서는 빛에 대한 감도가 상당히 높아 강판의 에지부를 제외한 중간부의 미소한 핀홀 검출에는 탁월하나, 에지부에 대한 핀홀 검출에는 문제점이 존재한다.

도 2는 에지마스크가 없는 상태에서 검출센서에 측정된 신호의 세기를 강판의 폭방향으로 도시한 그래프이다. x축은 검출센서의 길이 방향으로서 강판 폭방향을 나타내고, y축은 광량에 따른 신호의 세기를 나타낸다.

만약 핀홀(5)이 존재하면 빛이 상기 핀홀(5)을 투과하여 도 2의 p1로 표시된 바와 같은 신호값을 나타낸다. 광원이 강판에 조사될 때, 에지의 일부 영역(d1)은 빛의 회절과 산란현상으로 센서가 포화상태(saturation)가 된다.

또한 도 2와 같이 강판 안쪽으로 일정지점(d2)까지 광원이 서서히 감소된다. 따라서 도 2의 에지부 포화상태 영역(d1)에 핀홀이 존재하면 상기 핀홀을 검출하지 못하는 문제점이 있으며, 빛이 강판의 안쪽으로 서서히 감소한 영역(d2)에서도, 일정한 한계 레벨(threshold level)이상의 핀홀을 검출하는 검출센서에 오류가 발생한다.

이를 개선하기 위하여, 현재 검출기에는 에지마스크(4)를 이용하여 에지부에서 광원이 검출센서에 도달하지 못하도록 완전하게 차단하는 방법이 사용된다.

도 3은 에지마스크가 사용되었을 때, 핀홀을 통과한 빛에 의해 감응된 검출신호를 나타낸 그래프이다. 에지마스크(4)가 사용되면, 에지마스크에 가리우는 에지부의 영역(d2)은 미 검출 부분이 된다.

한편, 강판의 폭이 변함에 따라 에지마스크의 위치를 이동시키기 위한 구동 및 제어 장치가 있는데, 이것에 의해서 에지마스크가 이동하므로, 핀홀 검출기가 에지 부분에 있는 핀홀을 검출하지 못하는 구간은 상당하다.

따라서, 본 발명의 목적은 에지필터를 사용하여, 종래발명에서 에지마스크를 사용함으로써 검출하지 못하였던 강판 에지부분의 홀 또는 핀홀을 검출하는 장치를 제공하는 것이다.

도1은 일반적인 핀홀검출기 개략도이고,

도2는 에지 마스크가 없는 핀홀 검출기의 신호 그래프이고,

도3은 에지 마스크가 있는 핀홀 검출기의 신호 그래프이고,

도 4는 본 발명에서 제안한 핀홀 검출기의 개략도이고,

도 5는 광원의 산란과 회절영역에 존재하는 핀홀에 대한 신호 특성그래프이고,

도 6는 본 발명장치의 에지 필터를 사용했을 시의 신호특성그래프이고.

도 7은 에지필터의 광투과율특성 그래프도이다.

※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ※

1 : 강판 2 : 광원

3 : 검출센서 4 : 에지마스크

5 : 홀 또는 핀홀 6 : 프로세서

19 : 에지필터 20 : 라인스캔 ccd 카메라

위와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따르면, 홀 또는 핀홀의 존재여부에 대해 검사하고자 하는 강판에 빛을 조사하기 위한 광원과, 강판을 중심으로 광원과 반대방향에 위치하고 광원에서 조사되어 강판의 홀 또는 핀홀을 통과한 빛을 검출하기위한 검출센서와, 검출센서에서 측정한 데이터를 처리하여 홀 또는 핀홀의 위치를 계산하는 프로세서, 및 강판 에지부에 위치하고, 상기 광원을 비추었을때 검출센서가 포화상태가 되는 지점으로 부터 강판 내부를 향하는 방향으로 광투과율을 크게하여, 검출센서에서 측정되는 광량에 따른 신호의 세기를 감쇄시켜 에지부에 존재하는 한계레벨 이상의 홀 또는 핀홀을 검출하기 위한 에지필터를 포함하여 구성된 핀홀 검출기가 제공된다.

강판에 존재하는 핀홀을 검출하기 위하여 광원과 검출센서를 선정하게 되는데, 본 발명에서는 광원으로는 할로겐 램프를, 검출기로는 라인 스캔 ccd 카메라(line scan ccd camera)를 사용한다. 그리고 광원으로는 레이저나 LED 램프를 사용해도 무방하나, 검출기 센서로서 PMT나 광센서(Photo sensor)는 감도가 너무 민감하므로 적합하지 않다.

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명은 강판에 빛을 조사하기 위한 광원(24), 광원의 전단에는 빛의 세기를 높여 주기 위하여 집광렌즈(21), 핀홀을 통과한 빛을 검출하기 위한 라인스캔 CCD 카메라(20), 검출센서에서 측정한 데이터를 처리하는 프로세서(23), 상기 광원을 비추었을때 검출센서가 포화상태가 되는 지점으로 부터 강판 내부를 향하는 방향으로 광투과율을 크게하여, 상기 검출센서에서 측정되는 광량에 따른 신호의 세기를 감쇄시켜 에지부에 존재하는 홀 또는 핀홀을 검출하기 위한 에지필터(19), 및 상기 에지필터를 이동시키기 위한 구동장치(22)로 구성된다.

에지부의 산란과 회절현상은 광원의 파장, 광원의 세기 등의 영향을 받는데,동일한 광원에 대해서는 광원의 세기와 밀접한 관계가 있다.

에지필터(19)의 사용목적은 기존의 핀홀 검출기에서의 에지 마스크에 의한 미검출 영역을 없애기 위함이다. 에지필터(19)는 광원의 세기를 줄여주는 역할을 한다. 에지필터(19)의 광 투과율은 에지부에서 측정하고자 하는 최소 핀홀 크기와 이동되는 강판의 속도에 따라 결정된다. 에지필터(19)를 사용하여 강판의 중간부와 에지부에서 강판에 조사하는 광원세기를 다르게 하므로 검출되는 핀홀 크기가 중앙부와 에지부에서 서로 다르게 된다. 즉 강판의 중앙부에서 핀홀 검출 최소 크기가 10㎛이고, 에지부 검출 요구정도가 100㎛로 구분하는 영역으로 나눈다.

도 5는 에지 마스크가 없는 검출기의 신호특성 그래프이다.

광원에 의한 산란과 회절현상이 일으키는 에지영역(d1)에 핀홀(18)이 존재하면 도 5의 p1과 같은 피크가 나타난다. 피크의 크기는 홀 또는 핀홀의 크기에 따라 결정되는데 크기가 클 수록, 다량의 빛이 홀을 통과하므로 검출센서의 신호가 크게 나타나게 된다. 그런데 d2영역에서는 빛의 산란과 회절현상에 의해서, 홀을 통하지 않은 빛이 검출센서에 도달하고, 홀을 통과한 빛과 결합되어 실제 피크값보다 큰 값으로 나타나게 된다. 따라서 검출되지 않아야하는 크기의 홀 까지도 검출되어지는 문제가 발생한다.

도 6은 본 발명에서 제안하는 에지필터를 장착한 핀홀검출기에 나타나는 신호를 도시한 것이다. 포화상태로 인해 구분이 불가능했던 d1영역은 에지부에서 광량을 줄여 회절과 산란현상을 최소화하면 구분이 가능하게 된다. 에지필터를 사용함에 따라 기존에 에지부 핀홀에 대한 검출센서의 광원에 대한 특성(g1)이 도 6의 (g2)과 같이 되고, 에지부 핀홀(p2)에 대한 신호는 도 6의 (p3)과 같이 나타남에 따라 일정 한계레벨 이상의 핀홀을 검출하는 검출센서의 오류를 방지한다.

그리고 에지필터는 강판의 폭변화에 대응하기 위하여 이동을 가능하게 하는 구동과 제어장치(22)가 있어야 한다. 검출기의 센서 라인스캔 ccd 카메라를 사용하고 강판의 폭방향으로 배열한다. 그리고 카메라 수는 핀홀 검출기의 크기에 따라 사용수가 결정된다.

도 7은 에지필터의 광 투과율을 나타내고 그래프에서 x축은 필터의 길이이고 y축은 광투과율을 나타낸다. 그래프에 도시된바와 같이 에지필터의 최고 투과율(t1)은 100%이고, 최저 투과율(t2)은 광원에 대한 ccd 카메라의 검출 강도(Intensity)가 8비트 그레이 레벨(grey level)로 254의 값을 가지도록 하고 그 사이에서는 에지부에서의 광원특성(g1)에 따라 도 7과 같이 광투과율을 변하게 제작된다. 이렇게 제작된 에지필터를 사용하면 에지부의 포화영역및 산란 및 회절영역을 상쇄시켜, 도 5의 그래프를 도 6의 그래프와 같이 바꾸어 준다.

본 발명에 따르면, 종전 에지마스크를 사용함으로써 야기되는 강판 에지부분에서 검출되지 못했던 홀 또는 핀홀을 에지필터를 사용하여 검출이 가능하게 되어 강판 전체구간에서 핀홀의 검사가 가능하므로 제품의 품질검사를 향상시키는 효과가 있다.

위에서 양호한 실시예에 근거하여 이 발명을 설명하였지만, 이러한 실시예는 이 발명을 제한하려는 것이 아니라 예시하려는 것이다. 이 발명이 속하는 분야의 숙련자에게는 이 발명의 기술사상을 벗어남이 없이 위 실시예에 대한 다양한 변화나 변경 또는 조절이 가능함이 자명할 것이다. 그러므로, 이 발명의 보호범위는 첨부된 청구범위에 의해서만 한정될 것이며, 위와 같은 변화예나 변경예 또는 조절예를 모두 포함하는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (1)

1. 홀 또는 핀홀의 존재여부에 대해 검사하고자 하는 강판에 빛을 조사하기 위한 광원;

   상기 강판을 중심으로 상기 광원과 반대방향에 위치하고, 광원에서 조사되어 강판의 홀 또는 핀홀을 통과한 빛을 검출하기위한 검출센서;

   상기 검출센서에서 측정한 데이터를 처리하여 홀 또는 핀홀의 위치를 계산하는 프로세서; 및

   상기 강판 에지부에 위치하고, 상기 광원을 비추었을때 검출센서가 포화상태가 되는 지점으로 부터 강판 내부를 향하는 방향으로 광투과율을 크게하여, 상기 검출센서에서 측정되는 광량에 따른 신호의 세기를 감쇄시켜 에지부에 존재하는 일정 한계레벨 이상의 홀 또는 핀홀을 검출하기 위한 에지필터;

   를 포함하여 구성된 핀홀 검출기.