KR20030013453A - 음극 활성화 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 산을 수단으로 음극이 세정되고, 적어도 한 가지 전기 촉매 코팅 용액으로 세정된 음극을 코팅하고, 적어도 실질적으로 건조될 때까지 코팅된 음극을 건조하고 이후에 음극을 음극 상에 형성된 침전된 전기 촉매 염이나 산을 재-용해하여 음극 표면에 용해된 전기 촉매 금속 이온을 형성하여서 전기 촉매 금속이온이 음극에 금속으로 침전될 수 있게 하는 용매와 접촉시키는 단계를 포함한 적어도 하나의 음극 기판을 포함한 음극 활성화 방법에 관계한다. 본 발명은 상기 방법으로 수득되는 음극과 염소 및 알칼리금속 수산화물을 생산하는 전해용기에서 활성화된 음극의 용도에 관계한다.
Description
전극은 작동할 때 보통 전해질에 존재하는 반응물의 산화 환원 반응에 의해 화학적 생성물이 발생되는 전해용기에서 전해질에 담겨 있다. 환원반응은 환원 생성물이 획득되는 음극에서 일어난다. 산화반응은 산화 생성물이 획득되는 양극에서 일어난다.
시간이 지나면서 전극은 전해용기가 작동하고 있는 동안에 일어나는 다양한 활성 제거 공정으로 인하여 고갈되고 활성 제거된다. 대부분의 전기분해 공정에서 전기 에너지는 전기분해 반응에서 가장 비싼 원료이다.
염소 및 알칼리금속 수산화물 제조에서 음극은 시간이 지나면서 점차 활성을 잃는다는 것이 발견되었다. 음극은 전해질에 존재하는 물질의 침착 및 침전을 받으며 음극 활성을 제거하는 그 밖의 저하 공정을 겪는다. 활성도의 감소는 증가된 과전압 때문에 높은 전력 소모를 가져온다.
따라서 전체 전기분해 싸이클에서 활성이 있는 음극을 제공하는 것이 전기분해 공정에서 주 관심사이다.
이러한 문제를 해결하는 초기 시도는 활성을 잃은 음극을 재-활성화를 위해 제작자에게 보내는 것이다. 그러나 음극의 운송은 매우 비싸며 수행할 시간 소모적인 일이 있다. 활성 음극을 제공하는 또 다른 방법은 소모된 음극을 새로운 것으로 교체하는 것이다.
US 5 164 062는 Ni과 같은 음극 기판을 팔라듐 및 기타 전기 촉매 금속으로 코팅하는 단계를 포함한 음극 제조방법을 발표한다. 코팅 용액의 pH는 아세트산, 옥살산 및 포름산과 같은 유기산이나 무기산에 의해 조절되어서 Ph를 2.8미만으로 유지한다. 그러나 이 방법에 의해 활성이 항상 만족스럽게 증가되지는 못한다. 게다가 음극의 부식을 방지하기 위해서 산성 전기 촉매 코팅 용액이 헹굼에 의해 음극에서 제거되므로 활성 코팅용액의 일부가 위의 방법에서 낭비된다. 남아있는 전기 촉매 물질을 함유한 헹굼 용액은 전기 촉매 물질이 전기 촉매 용액에서 코팅 물질로서 재사용될 수 있으려면 음극 상에 역시 존재하는 니켈 또는 다른 오염 이온과 같은 기판 이온으로부터 오염 제거되어야 한다. 이러한 오염 제거 절차는 전기 촉매 물질이 성공적으로 세정되려면 여러 세정 단계를 필요로 한다.
본 발명은 제조공장에서 활성화에 적합한 음극 활성화 방법에 관계한다. 본 발명은 또한 염소 및 알칼리금속 수산화물을 생산하는 전해용기에서 활성화된 음극의 용도에 관계한다.
본 발명은 염소 및 알칼리금속 수산화물을 생산하기 위한 활성화에 적합한 음극 활성화 방법에 관계한다. 활성 있는 또는 활성화는 제조될 새로운 전극의 활성화와 이미 전해용기에서 사용되었고 초기 활성의 적어도 일부를 손실한 전극의 활성화를 포괄한다.
놀랍게도 기판에 전기 촉매 코팅의 일부가 남아있을 수 있는 적어도 음극 기판을 포함한 음극의 활성화가 제조 현장에서 수행될 수 있음이 발견되었다. 이 방법은 적어도 다음 단계를 포함한다:
-산을 수단으로 음극 세정
-적어도 한 가지 전기 촉매 코팅 용액으로 세정된 음극을 코팅
-적어도 실질적으로 건조될 때까지 코팅된 음극을 건조하고 이후에 음극을 음극 상에 형성된 침전된 전기 촉매 염이나 산을 재-용해하여 음극 표면에 용해된 전기 촉매 금속 이온을 형성하여서 전기 촉매 금속이온이 음극에 금속으로 침전될 수 있게 하는 용매와 접촉시키는 단계.
용매는 전기 촉매 코팅용액에서 기원된 음극 상의 침전된 전기 촉매 염이나 산을 재-용해할 수 있어야 한다. 용매는 전기 촉매 용액의 잔존 물질을 함유한 헹굼 용액에서 나온 소량의 용해된 전기 촉매 금속을 포함할 수 있다. 용매와 음극의 접촉은 분무하거나 적당량의 용매를 음극에 도입하여 수행될 수 있다.
"실질적으로 건조"는 용액이 음극으로부터 멀리 유동하지 않도록 표면에 소량의 용액만을 함유한 코팅된 음극을 의미한다. 이러한 용액의 양은 0-10, 특히 0-5ml/m2이다.
음극은 니켈, 코발트, 구리, 철, 강철, 특히 스테인레스강, 또는 합금이나 이의 혼합물로 된 기판을 포함한다. 음극은 기판에 침착된 잔류 전기 촉매 코팅이나 전기분해 공정에서 나온 오염물을 포함한다.
유용한 음극은 활성화 이전에 용기로부터 해체된다.
한 측면에서 음극이 팬에 용접된다. 사용된 음극 팬 구조, 즉 음극과 팬은 활성화 이전에 용기로부터 해체되어 제거된다. 단순화를 위해 별도 언급이 없으면 음극은 음극 팬 구조를 의미하기도 한다.
음극은 적어도 한 가지 산을 포함한 세정 용액으로 세정된다. 세정 용액의 pH는 HCl, H2SO4, HNO3와 같은 무기산이나 옥살산과 같은 유기산이나 이의 혼합물에 의해 조절되어서 pH를 -1-6, 특히 -1-3으로 유지한다. 산이 음극 기판과 반응하고 기판 상에 침전된 물질 및 전기 촉매 코팅과 반응한다. 세정 시간은 중요하지 않지만 수 분 내지 30분 혹은 그 이상이다. 세정 동안 온도는 중요하지 않지만 실온, 특히 0-100℃, 더더욱 0-35℃이다.
한 측면에서 음극의 부식을 방지하고 남아있는 전기 촉매 코팅 상의 활성 제거 침전물의 제거를 촉진하는 환원제가 세정 용액에 포함된다. 환원제는 또한 음극의 활성화된 영역을 안정시킨다. 환원제는 0.5-50중량%, 특히 0.5-10중량%의 농도로 세정 용액에 존재할 수 있다. 환원제는 이소프로필알코올이나 n-펜탄올과 같은 알코올, HCl, H3PO2, H3PO3, N2H4, NH2OH, NH3, Na2S, NaBH4, NaH2PO2, (CH3)2NHBH3, 또는 이의 혼합물에서 선택된다. 선호되는 환원제는 HCl, H3PO2, H3PO3, N2H4, NH2OH, NH3에서 선택되며 HCl이 가장 선호된다.
세정 후에 음극이 적절히 헹궈지고 건조된다. 이후 음극은 전기 촉매 금속과 착화합물 형성제를 포함한 적어도 하나의 전기 촉매 코팅 용액과 접촉된다.
한 측면에서 예컨대 2개 이상의 코팅용액과 같은 여러 전기 촉매 코팅 용액이 음극과 접촉될 수 있다. 코팅 용액들은 특히 앞서 적용된 코팅용액이 음극 표면에서 건조될 때 차례로 음극과 접촉된다.
전기 촉매 코팅 용액은 도장, 롤링, 또는 현장 코팅에 적합한 다른 가능한 수단에 의해 적용된다. 전기 촉매 코팅 용액은 Ru, Rh Os, Ir, Pd, Pt, Au, Ag, 또는 이의 합금이나 혼합물과 같은 백금족에서 선택된 하나 또는 여러 개의 귀금속을 염 또는 산 형태로 포함한다. 귀금속은 전기 촉매 코팅 용액에 25-200, 특히 50-150g/리터 농도로 존재할 수 있다. 전기 촉매 금속은 헥사클로로 백금 산, 백금 금속 알콕시 착화합물, 염화물 등의 백금 금속의 염 또는 산으로부터 유도된다. 음극 코팅 시간은 중요하지 않으며 1시간 이상이다. 코팅 용액의 온도는 실온이지만 0-100℃일 수 있다. 코팅 절차는 동일한 온도 범위, 즉 0-100, 특히 0-35℃에서 수행된다. 착화합물 형성제는 전기 촉매 코팅 용액에 100-500, 특히 350-450g/리터의 농도로 첨가될 수 있다. 보충적으로 첨가되는 착화합물 형성제는 코팅 용액이 기판과 접촉될 때 산화 환원반응을 촉진한다. 음극의 기판 금속은 대응하는 이온 형태로 자발적으로 산화되지만 코팅 용액의 전기 촉매 금속은 이온 형태에서 금속 형태로 환원되어 기판 상에 전기 촉매 코팅을 형성한다. 착화합물 형성제는 일어나는 산화/환원 반응을 지원하여 침전 반응과 기판에 대한 전기 촉매 금속의 접착을 향상시킨다. 적합한 착화합물 형성제는 하이포아인산, 황산, 질산, 글리콜과 같은 알코올, 글리세린, 아세트산염, 프로피온산염, 숙신산염, 히드록시아세트산염, 알파-히드록시프로피온산염, 말산염, 아미노아세트산염, 에틸렌디아민, 베타-아미노프로피온산염, 말론산염, 피로인산염, 시트르산염, 암모늄염, EDTA, 또는 이의 혼합물을 포함한다.
이후 코팅된 음극은 적어도 실질적으로 건조, 0-10, 특히 0-5ml/m2까지 건조된다. 특히 코팅된 음극은 용매와 접촉하기 이전에 완전 건조된다. 건조된 음극은 이후 환원제를 포함한 용매와 접촉된다. 놀랍게도 음극과 용매의 접촉은 이 방식으로 음극이 처리되지 않을 경우 보다 10-30mV 이하로 과전압을 낮춘다. 용매는 HCl, H3PO2, H3PO3, H2O2, N2H2, NH2OH, NH3, Na2S, Na2SO3, K2SO3,이소프로필알코올이나 n-펜탄올과 같은 알코올. 또는 이의 혼합물과 조합으로 물을 포함할 수 있다. 더 낮은 과전압은 활성화된 음극 상에 전기 촉매 금속의 더 높은 침착 수준 때문이다. 용매에서 가능한 환원제의 농도는 10-70, 특히 40-50중량%이다. 음극과 용매의 접촉 온도는 8-60, 특히 15-35℃이다. 전기 촉매 금속이 음극 상에 금속으로 침전될 수 있는 반응 시간은 1-60분이나 전극이 완전 건조될 때까지 이다. 잔류물이 염이나 산 형태로 음극 상에 존재하는 경우에 전기 촉매 금속의 침전 절차를 반복하도록 용매가 이후에 다시 음극 상에 침착될 수 있다.음극 m2당 10-100ml, 특히 50-100ml 용매가 음극과 접촉된다.
음극 상의 용매가 실질적으로 건조된 이후에 부식을 방지하기 위해서 활성화된 음극은 물과 같은 헹굼 용액, 특히 NaOH와 같은 염기성 용액으로 헹궈진다. 염기성 헹굼 용액은 0.0001-50중량%, 특히 0.001-20중량%의 NaOH 농도를 갖는다.
활성화된 음극은 그 활성이 경제적으로 낮은 수준으로 떨어질 때까지 전해용기에서 기능을 한다. 이렇게 중대한 활성 제거 정도는 당해분야 숙련자에 의해 소모된 전류 및 활성화 비용을 추정하여 최적화될 수 있다. 재-활성화가 개시되어야 할 때 사용된 음극이 셀에서 해체 및 제거된다. 재-활성화는 전해용기에 배열된 막의 대체와 함께 수행될 수 있다.
본 발명은 또한 상기 방법에 의해 제조된 음극에 관계한다.
본 발명은 또한 염소 및 알칼리금속 수산화물을 생산하는 전해용기에서 활성화된 음극의 용도에 관계한다.
실시예1
농축 염화수소산(37중량%)로 세정 용액이 제조되고 최종 농도가 20중량%염화수소산이 되게 한다. 활성화될 음극이 도장에 의해 세정 용액과 접촉된다. 음극 m2당 50ml 세정용액이 적용된다. 실온(25℃)에서 10분간 용액이 반응된다. 이후 음극을 탈-이온수로 철저히 헹군다. 한편 20중량%염화수소산 용액에 로듐염을 용해시켜 RhCl3코팅용액이 제조되고 로듐 최종 농도는 코팅 용액 리터당 50g Rh 금속이 된다. 또한 20중량%염화수소산 용액에 로듐염을 용해시켜 RuCl3코팅용액이 제조되고 최종 농도는 코팅 용액 리터당 50g Ru 금속이 된다. 헹궈진 음극을 실온에서 건조하고 Rh 코팅용액은 도장에 의해 음극 m2당 50ml의 양으로 적용된다. 1시간 동안 음극을 건조한다. Ru 코팅용액은 Rh코팅된 음극에 음극 m2당 50ml의 양으로 적용된다.음극이 건조되고 음극에 50중량% H3PO2수용액이 도장된다. 이후 음극을 건조하고 물로 헹군다. 수득된 음극은 만족스러운 활성화를 보였다.
실시예2
2개의 활성을 잃은 니켈 기초 음극 샘플(P1,P2)이 5분간 20중량%염화수소산 용액으로 도장에 의해 세정된다. 이후 음극 샘플을 물로 헹구고 건조한다. 두 샘플은 150g/리터/m2의 로듐 농도를 갖는 40ml RhCl3코팅용액으로 코팅된다. 코팅된 샘플을 1시간 건조한다. 미반응 로듐은 건조단계 동안에 침전하고 음극 기판 상에 염화로듐 염을 형성한다. P1샘플은 pH10의 온화한 가성소다 용액으로 헹구면 미반응 침전된 로듐 금속염(RhCl3)과 염화니켈이 음극 샘플로부터 헹구어 진다. P1상에 남아있는 로듐의 양은 초기에 침전된 로듐 함량에 비해 적은 비율이다. 이것은 금속이 세척된 이후 헹굼 용액이 가지는 로듐 색깔로 판단된다. RhCl3코팅용액이 샘플에서 건조된 이후에 P2 음극 샘플에 20중량%염화수소산 용액이 분무되어 침전된 RhCl3가 재-용해된다. P2샘플의 경우에도 후속 금속 로듐의 침전에 일어날 수 있다. P2 음극이 건조된 이후에 다시 한번 P2음극에 염화수소산 첨가가 반복된다. 제2 염화수소산 첨가 15분 후, 즉 음극이 실질적으로 건조된 이후에 P1샘플과 동일한 방식으로 음극을 가성소다 용액으로 헹군다. 로듐이 헹구어 지므로 헹굼 용액의 변색은 없다. 따라서 코팅 및 건조된 샘플에 용매의 첨가 결과 P1샘플에 비해서 P2샘플에 훨씬 많은 양의 로듐이 접착한다. 활성화된 음극을 사용하여 수행된 전기분해는사용된 전해용기가 4.7kA/m2의 전류밀도로 작동될 때 P1의 경우보다 P2의 경우에 셀 전압이 230mV 더 낮음을 보여준다.
Claims (11)
- -산을 수단으로 음극이 세정되고,-적어도 한 가지 전기 촉매 코팅 용액으로 세정된 음극을 코팅하고,-적어도 실질적으로 건조될 때까지 코팅된 음극을 건조하고 이후에 음극을 음극 상에 형성된 침전된 전기 촉매 염이나 산을 재-용해하여 음극 표면에 용해된 전기 촉매 금속 이온을 형성하여서 전기 촉매 금속이온이 음극에 금속으로 침전될 수 있게 하는 용매와 접촉시킴을 특징으로 하는 적어도 하나의 음극 기판을 포함한 음극 활성화 방법
- 제 1항에 있어서, 음극 기판이 니켈, 코발트, 구리, 철, 강철, 또는 합금이나 이의 혼합물에서 선택됨을 특징으로 하는 방법
- 앞선 청구항 중 한 항에 있어서, 음극 기판이 니켈임을 특징으로 하는 방법
- 앞선 청구항 중 한 항에 있어서, 전기 촉매 코팅 용액이 착화합물 형성제를 포함함을 특징으로 하는 방법
- 앞선 청구항 중 한 항에 있어서, 착화합물 형성제가 하이포아인산, 황산, 질산, 알코올, 글리세린, 아세트산염, 프로피온산염, 숙신산염, 히드록시아세트산염,알파-히드록시프로피온산염, 말산염, 아미노아세트산염, 에틸렌디아민, 베타-아미노프로피온산염, 말론산염, 피로인산염, 시트르산염, 암모늄염, EDTA, 또는 이의 혼합물에서 선택됨을 특징으로 하는 방법
- 앞선 청구항 중 한 항에 있어서, 용매가 물을 포함함을 특징으로 하는 방법
- 앞선 청구항 중 한 항에 있어서, 전기 촉매 코팅 용액이 Ru, Rh Os, Ir, Pd, Pt, Au, Ag, 또는 이의 합금이나 혼합물의 염이나 산을 포함함을 특징으로 하는 방법
- 앞선 청구항 중 한 항에 있어서, 사용된 음극에 대해 활성화가 수행됨을 특징으로 하는 방법
- 앞선 청구항 중 한 항에 있어서, 활성화된 음극이 염기성 용액으로 헹궈지는 것을 특징으로 하는 방법
- 앞선 청구항 중 한 항 따른 방법으로 수득되는 음극
- 염소 및 알칼리금속 수산화물을 생산하는 전해용기에서 사용되는 앞선 청구항 중 한 항에 따른 활성화된 음극
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US21649100P | 2000-07-06 | 2000-07-06 | |
US60/216,491 | 2000-07-06 | ||
EP00850124 | 2000-07-06 | ||
EP00850124.9 | 2000-07-06 | ||
PCT/SE2001/001447 WO2002002847A1 (en) | 2000-07-06 | 2001-06-25 | Activation of a cathode |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20030013453A true KR20030013453A (ko) | 2003-02-14 |
KR100546928B1 KR100546928B1 (ko) | 2006-01-26 |
Family
ID=27741095
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020027017509A KR100546928B1 (ko) | 2000-07-06 | 2001-06-25 | 음극 활성화 방법 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1297200B1 (ko) |
JP (1) | JP3867913B2 (ko) |
KR (1) | KR100546928B1 (ko) |
CN (1) | CN1242099C (ko) |
AT (1) | ATE350513T1 (ko) |
AU (2) | AU6650201A (ko) |
BR (1) | BR0112203B1 (ko) |
CA (1) | CA2415020C (ko) |
DE (1) | DE60125763T2 (ko) |
WO (1) | WO2002002847A1 (ko) |
ZA (1) | ZA200300111B (ko) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4771467B2 (ja) * | 2005-11-17 | 2011-09-14 | 東亞合成株式会社 | 高純度水酸化アルカリ金属の製造方法 |
EP1939182A1 (de) * | 2006-12-22 | 2008-07-02 | Speedel Experimenta AG | Verfahren zur Herstellung von (R oder S)-2-Alkyl-3-heterocyclyl-1-propanolen |
TR201105083T1 (tr) | 2008-11-25 | 2011-08-22 | Tokuyama Corporation | Elektroliz için bir aktif katot üretmeye yönelik proses. |
PT3417093T (pt) * | 2016-03-31 | 2020-06-30 | Siemens Ag | Técnica para ativação de ânodos in-situ por um cátodo numa célula eletrolítica de água alcalina |
JP6672211B2 (ja) | 2017-03-21 | 2020-03-25 | 株式会社東芝 | 二酸化炭素電解装置および二酸化炭素電解方法 |
US11753730B2 (en) | 2018-11-30 | 2023-09-12 | Sedo Engineering Sa | Leucodye (such as leucoindigo) as dispersing aid |
CN113166954B (zh) | 2018-11-30 | 2024-07-26 | 赛杜工程股份有限公司 | 电化学反应器和它的清洁或再生 |
US11629418B2 (en) | 2018-11-30 | 2023-04-18 | Sedo Engineering Sa | By-products (impurity) removal |
CN115398039A (zh) * | 2020-03-25 | 2022-11-25 | 美铝美国公司 | 涂铜的二硼化钛制品 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2074190B (en) * | 1980-04-22 | 1984-03-14 | Johnson Matthey Co Ltd | Electrode |
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US5035789A (en) * | 1990-05-29 | 1991-07-30 | The Dow Chemical Company | Electrocatalytic cathodes and methods of preparation |
-
2001
- 2001-06-25 CN CNB018123732A patent/CN1242099C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-06-25 DE DE60125763T patent/DE60125763T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-06-25 WO PCT/SE2001/001447 patent/WO2002002847A1/en active IP Right Grant
- 2001-06-25 EP EP01944058A patent/EP1297200B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-06-25 BR BRPI0112203-7A patent/BR0112203B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2001-06-25 AU AU6650201A patent/AU6650201A/xx active Pending
- 2001-06-25 AT AT01944058T patent/ATE350513T1/de not_active IP Right Cessation
- 2001-06-25 CA CA002415020A patent/CA2415020C/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-06-25 AU AU2001266502A patent/AU2001266502B2/en not_active Ceased
- 2001-06-25 KR KR1020027017509A patent/KR100546928B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-06-25 JP JP2002507088A patent/JP3867913B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-01-06 ZA ZA200300111A patent/ZA200300111B/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2415020A1 (en) | 2002-01-10 |
AU6650201A (en) | 2002-01-14 |
BR0112203B1 (pt) | 2012-05-15 |
CN1242099C (zh) | 2006-02-15 |
WO2002002847A1 (en) | 2002-01-10 |
CA2415020C (en) | 2008-06-10 |
EP1297200B1 (en) | 2007-01-03 |
JP3867913B2 (ja) | 2007-01-17 |
BR0112203A (pt) | 2003-05-13 |
ATE350513T1 (de) | 2007-01-15 |
DE60125763T2 (de) | 2007-10-18 |
DE60125763D1 (de) | 2007-02-15 |
KR100546928B1 (ko) | 2006-01-26 |
JP2004502035A (ja) | 2004-01-22 |
EP1297200A1 (en) | 2003-04-02 |
ZA200300111B (en) | 2004-01-21 |
CN1440467A (zh) | 2003-09-03 |
AU2001266502B2 (en) | 2004-05-20 |
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