KR20030004365A - 차량용 브레이크 장치의 회전 브레이크 부재 및 그 방청처리 방법 - Google Patents

Abstract

주철로 된 디스크 브레이크 로터(1) 중 외측, 내측의 각 미끄럼 이동면(2a), (3a)에 인산 이온, 아연 이온 및 초산 이온을 함유하는 인산염 피막 형성액 속에서의 전해 처리에 의해 인산 아연 피막(8)을 형성한다. 이에 의해, 미끄럼 이동면(2a), (3a)의 방청 내식 성능을 비약적으로 향상시킨다. 인산 아연 피막(8)은 막두께 1 내지 10 ㎛, 질량 4 내지 35 g/㎡, 결정립 50 ㎛ 이하로 하고, 바람직하게는 상기 막두께를 2 내지 8 ㎛로 한다.

Description

차량용 브레이크 장치의 회전 브레이크 부재 및 그 방청 처리 방법{ROTATING BRAKE MEMBER OF BRAKING DEVICE FOR VEHICLE AND METHOD FOR ANTIRUST TREATMENT THEREOF}

자동차, 그 밖의 차량이 해외로 수출될 때에는 선박으로 수송되는 일이 많고, 그 경우에 항구 부근 창고에서의 보관, 선적 후의 항해, 상대국 항구 부근의 창고에서의 보관 등을 거쳐 비로소 상대국의 사용자에게 인도되게 되므로, 그 수송 과정에 있어서, 예를 들어 디스크 브레이크의 브레이크 디스크 로터에 녹이 발생하는 경우가 있다.

이 녹의 발생은, 예를 들어 브레이크 패드로 씌워진 부분과 그렇지 않은 부분에서는 그 정도가 달라 그 상태에서 브레이크를 조작하면 제동 토오크의 변동이 생기게 된다. 이는 셔더 현상이라 불리우고, 승무원에게 불쾌한 제동 감각을 부여하게 되어 바람직하지 않다.

그래서, 상기 셔더 현상의 원인이 되는 녹의 발생 방지를 목적으로 하여 브레이크 디스크 로터의 미끄럼 이동면에 다크로타이즈드 처리를 실시하는 방법이나 방청 오일을 도포하는 방법 등 외에, 예를 들어 일본 특허 공개 평1-58372호 공보에 기재되어 있는 바와 같이 브레이크 디스크 로터의 미끄럼 이동면에 인산염 화성 피막을 형성하는 방법이 시도되고 있다.

또한, 어느 한 방법에 있어서도 단순히 녹의 발생을 방지하는 것 뿐만 아니라, 제동 요소 본래의 기능으로서 이하와 같은 기능을 충족시킬 필요가 있다.

(a) 사용자에게 인도되기까지의 동안은 미끄럼 이동면의 충분한 방청 성능이 있고, 사용자에게 인도된 후에는 제동 성능에 악영향을 부여하지 않을 것.

(b) 초기 제동으로 마찰 계수의 저하가 가능한 한 적을 것.

(c) 사용자에게 인도되기 전의 소위 연습된 운전에 있어서 제동력 회복 횟수가 가능한 한 적을 것.

(d) 로드 휠 부착 부분의 마찰 계수가 저하하여 휠 너트 등이 쉽게 풀리지 않을 것.

그러나, 브레이크 디스크 로터의 미끄럼 이동면에 다크로타이즈드 처리를 실시하는 방법에서는 처리 공정수가 많을 뿐만 아니라 방청 처리를 위한 총 에너지 비용이 높아 비용 상승이 부득이해지는 것 외에, 크롬을 함유하기 때문에 환경에 끼치는 영향에의 배려를 충분히 행할 필요가 있다. 또한, 미끄럼 이동면에 방청 오일을 도포하는 방법에서는 그 처리가 간편한 반면, 방청 효과를 장기간에 걸쳐서 유지할 수 없다는 결점이 있다.

한편, 앞서 예시한 일본 특허 공개 평1-58372호 공보 등과 같이 인산염 화성 처리에 의해, 예를 들어 인산 아연 화성 피막을 형성하는 방법에서는 그 막두께를 최저 4 ㎛ 이상은 확보하지 않으면 필요 충분한 방청 성능을 얻을 수 없고, 게다가 그 피막의 후막화를 위해 처리 시간이 길어지는 동시에 처리액 온도도 높아지고, 그 결과 설비의 대형화와 에너지 효율의 저하를 초래하게 되어 바람직하지 않다.

또한, 처리조 내에서의 슬러지 퇴적이 불가피하므로, 그 슬러지의 박리 제거를 위해 여분의 보수 공정수를 필요로 하는 것 외에, 슬러지는 산업 폐기물로서 전문 업자 및 시설을 갖고 처리해야만 해, 전체적으로 비용 상승이 부득이하다.

본 발명은 차량용 브레이크 장치의 제동 요소로서 기능하는 회전 브레이크 부재와 그 방청 처리 방법에 관한 것으로, 특히 드럼식 브레이크의 브레이크 드럼 혹은 디스크 브레이크의 브레이크 디스크 로터의 미끄럼 이동면에 방청성을 부여하기 위한 인산염 피막을 형성한 구조와 그 방청 처리 방법에 관한 것이다.

도1은 본 발명의 바람직한 제1 실시 형태로서 브레이크 디스크 로터의 방청 처리 순서를 나타낸 개략 설명도이다.

도2의 (A) 및 (B)는 회전 브레이크 부재인 브레이크 디스크 로터의 상세를 도시한 도면으로, (A)는 그 정면도, (B)는 도2의 (A)의 a-a선에 따른 단면도이다.

도3은 도2의 (B)에 있어서의 E부 확대도이다.

도4는 인산염 피막 형성 처리시의 브레이크 디스크 로터에 대한 전극 배치를 도시한 설명도이다.

도5는 방청 처리한 인산염 피막의 막두께와 제동 횟수와의 관계를 나타낸 그래프이다.

도6은 방청 처리한 인산염 피막의 마찰 계수와 제동 횟수와의 관계를 나타낸 그래프이다.

도7의 (A) 및 (B)는 본 발명의 제2 실시 형태로서 회전 브레이크 부재인 브레이크 드럼의 상세를 도시한 도면으로, (A)는 그 정면도, (B)는 도7의 (A)의 b-b선에 따른 단면도이다.

도8은 도7의 (B)에 있어서의 F부 확대도이다.

본 발명은 이상과 같은 과제에 착안하여 이루어진 것으로, 박막의 인산염 피막을 형성하는 것만으로 필요 충분한 방청 성능을 얻을 수 있고, 게다가 앞서 서술한 바와 같은 몇 가지의 제동 요소로서의 기본 기능을 충족할 수 있도록 한 차량용 브레이크 장치의 회전 브레이크 부재, 즉 브레이크 드럼 혹은 브레이크 디스크 로터와 그 방청 처리 방법을 제공하고자 하는 것이다.

청구항 1에 기재된 발명은 철계 재료로 이루어지는 디스크형 혹은 드럼형의 회전 브레이크 부재 중 적어도 브레이크 패드 혹은 브레이크 슈 등의 상대측 마찰 부재와의 미끄럼 이동면이 되어야 할 영역에, 인산 이온, 아연 이온 및 초산 이온을 함유하는 인산염 피막 형성액 속에서의 전해 처리에 의해, 막두께 1 내지 10 ㎛, 질량 4 내지 33 g/㎡, 결정립 50 ㎛ 이하의 인산염 피막을 형성한 것을 특징으로 하고 있다.

또한, 청구항 2에 기재된 발명은 상기 청구항 1에 기재된 기술을 방법적인 면으로부터 취한 것이며, 회전 브레이크 부재의 방청 처리 방법으로서 철계 재료로 이루어지는 디스크형 혹은 드럼형의 회전 브레이크 부재 중 적어도 상대측 마찰 부재와의 미끄럼 이동면이 되어야 할 영역에, 인산 이온, 아연 이온 및 초산 이온을 함유하는 인산염 피막 형성액 속에서 전해 처리를 실시하여, 막두께 1 내지 10 ㎛, 질량 4 내지 35 g/㎡, 결정립 50 ㎛ 이하의 인산염 피막을 형성하는 것을 특징으로 하고 있다.

상기 회전 브레이크 부재는, 드럼식 브레이크에 있어서의 예를 들어 주제로 된 브레이크 드럼 혹은 디스크 브레이크에 있어서의 동일 주철로 된 브레이크 디스크 로터를 말한다.

또한, 상기 인산염 피막 형성액으로서는, 예를 들어 니뽄 파카라이징(가부시끼가이샤)사 제조의「PB-EL950M」을 사용하는 것으로 하고, 이 경우, 예를 들어 인산 이온은 20 내지 70 g/리터, 아연 이온은 20 내지 50 g/리터, 초산 이온은 30 내지 80 g/리터를 각각 함유하는 것으로 한다.

이 인산염 피막 형성액을 이용하여 전해 처리를 행하면, 결정립이 매우 치밀화된 인산염 피막인 인산 아연 피막이 형성되고, 종래의 것에 비해 방청 성능이 비약적으로 향상되어 가혹한 조건하에서도 그 녹의 발생을 현저하게 지연시킬 수 있게 된다.

그리고, 상기와 같이 치밀화된 인산염 피막만으로 그 막두께로서 적어도 1 ㎛이면 필요 충분한 방청 성능을 얻을 수 있다. 단, 인산염 피막의 막두께를 후막화해도 10 ㎛ 정도에서 방청 효과의 향상이 포화해 버리므로, 인산염 피막의 막두께는 최대 8 ㎛ 정도, 바람직하게는 방청성도 아울러 고려하여 2 내지 8 ㎛의 범위 내 정도로 한다.

청구항 3에 기재된 발명은 청구항 2에 기재된 발명을 전제로 한 다음, 상기 전해 처리는 인산염 피막 형성액 속에 침지한 회전 브레이크 부재를 음극으로 하고, 회전 브레이크 부재 중 미끄럼 이동면이 되어야 할 영역에 대해 소정 거리 이격하여 대향시킨 전극을 양극으로 하여 처리하는 것을 특징으로 하고 있다.

또한, 청구항 4에 기재된 발명은 청구항 2 또는 청구항 3에 기재된 발명에 있어서의 회전 브레이크 부재가 디스크 브레이크 장치의 브레이크 디스크 로터인 것을 명확화하고 있다.

상기 전해 처리 성능은 전극 형상 이외에도 양극과 음극의 대면 거리, 전류 밀도, 처리 시간, 처리액 농도 및 온도 등의 변수에도 의존하는 것으로, 인산염 피막의 요구 막두께 등에 따라서 각 변수를 설정한다. 또한, 인산염 피막의 생성을 특정한 부위로 한정하는 경우에는 필요에 따라서 전극측 혹은 회전 브레이크 부재측에 마스킹을 실시한다. 또한, 회전 브레이크 부재의 형상 등에 의해서는 반드시 1회의 전해 처리로 소정의 막두께로 마무리할 필요는 없고, 수 회로 나누어 전해 처리를 행하도록 해도 좋다.

따라서, 청구항 1 내지 청구항 4에 기재된 발명에 따르면, 철계 재료로 이루어지는 브레이크 디스크 로터 혹은 브레이크 드럼 중 적어도 상대측 마찰 부재와의 미끄럼 이동면이 되어야 할 영역에, 인산 이온, 아연 이온 및 초산 이온을 함유하는 인산염 피막 형성액 속에서의 전해 처리에 의해 막두께 1 내지 10 ㎛, 질량 4 내지 35 g/㎡, 결정립 50 ㎛ 이하의 인산염 피막을 형성한 것이므로, 종래의 것과 비교하여 박막 처리이면서도 방청성, 내식성이 비약적으로 향상되는 효과가 있다.

또한, 청구항 2 내지 청구항 4에 기재된 발명에 따르면, 인산염 피막의 막두께를 박막화할 수 있으므로, 그 처리 시간을 단축화하여 에너지 효율을 높일 수 있는 것 외에, 슬러지의 발생도 없으므로 비용적으로도 환경적으로도 양호한 것이 된다.

도1은 본 발명에 관한 방청 처리 방법의 바람직한 실시 형태로서 벤틸 레이티드형 브레이크 디스크 로터의 처리 수단을 도시하고, 또한 도2의 (A) 및 (B), 도3은 브레이크 디스크 로터의 상세를, 도4는 도1에 있어서의 전해 처리 공정의 상세를 각각 도시하고 있다.

도2의 (A) 및 (B), 도3에 도시한 바와 같이, 예를 들어 일반적인 주철 재료(예를 들어, FC250 상당)로 이루어지는 벤틸 레이티드 타입의 브레이크 디스크 로터(1)는 차량 부착시에 외측에 위치하게 되는 외측의 미끄럼 이동판(2)과 그 내측에 소정 거리 이격하여 위치하게 되는 내측의 미끄럼 이동판(3) 및 그들 양자간에 방사형으로 배치된 복수의 구획벽(4)을 갖고 있고, 상기 양쪽의 미끄럼 이동판(2, 3)과 각 구획벽(4)으로 둘러싸인 공간이 각각에 통풍로로서 기능하도록 되어 있다. 또한, 부호 5는 외측의 미끄럼 이동판(2)과 일체로 형성된 소위 하트형 단면 형상을 이루는 통형의 보스부이다.

그리고, 상기 보스부(5) 중 가장 외측면은 로드 휠이 안착하게 되는 로드 휠 부착면(6)으로서 기능하도록 되어 있고, 이미 알려진 바와 같이 이 로드 휠 부착면(6)의 볼트 구멍(7)에는 도시하지 않은 허브 볼트가 압입 고정되므로, 허브 볼트와 이에 나사 결합하는 도시하지 않은 휠 너트를 갖고 로드 휠이 로드 휠 부착면(6)에 체결 고정되게 되는 동시에, 외측, 내측의 각 미끄럼 이동면(2a, 3a)에는 그 방청 성능 부여를 위해 소정막 두께(t)의 인산염 피막(8)으로서, 예를 들어 인산 아연 피막이 형성되어 있다.

상기 인산염 피막(8)은 후술하는 바와 같이 그 막두께(t)가 1 내지 10 ㎛, 보다 바람직하게는 2 내지 8 ㎛, 질량 4 내지 35 g/㎡, 결정립 50 ㎛ 이하인 것으로 한다.

인산염 피막(8)의 형성을 위한 전해 처리에 앞서, 도1에 도시한 바와 같이 처음에 기계 가공 후의 브레이크 디스크 로터(1)에 알칼리 탈지 처리를 실시한다. 이 알칼리 탈지 처리는 규산 소다를 주성분으로 하는 PH 12 이상의 알칼리 클리너(예를 들어, 니뽄 파카라이징 가부시끼가이샤 제조의「FC4360」, 농도 20 내지 40 g/리터) 속에 브레이크 디스크 로터(1)를 침지시켜 50 내지 70 ℃의 온도에서 0.5 분간 이상 탈지한다.

계속해서, 상온에서 0.5 분간 이상 세척을 행하고, 그 후, 콜로이드형 티탄을 주성분으로 하는 표면 조정제(예를 들어, 니뽄 파카라이징 가부시끼가이샤 제조의 「PL-EL200」, 농도 2 g/리터, 티탄 농도 50 내지 100 PPM) 속에 브레이크 디스크 로터(1)를 침지시켜 표면 조정을 행한다. 이 처리는 다음 공정인 전해 처리시에 결정립을 미세하게 하여 박막이면서 또한 치밀 조직이 안정된 인산염 피막(8)을 생성하기 위해 행해진다.

전해 처리는 인산 이온, 아연 이온 및 초산 이온을 함유한 인산염 피막 형성액 속에 브레이크 디스크 로터(1)를 침지시키고, 예를 들어 온도 50 ℃, 인가 전류50 내지 72 A, 처리 시간 0.5 내지 0.8 분의 조건으로 전해 처리를 실시하고, 적어도 브레이크 디스크 로터(1)의 미끄럼 이동면(2a, 3a)에 인산염 피막(인산 아연 피막)(8)을 생성시킨다.

상기 인산염 피막 형성액으로서는, 예를 들어 니뽄 파카라이징 가부시끼가이샤 제조의 「PB-EL950M」을 사용하는 것으로 하고, 피막 형성액 유리산(FA) 농도가 15 내지 20 PA, 피막 형성액 전체산(TA) 농도가 55 내지 65 Pt, 피막 형성 촉진제 농도가 3 내지 8 Pt가 되도록 각각 조정한다. 또한, 이 인산염 피막 형성액 속에는 상기 인산 이온이 20 내지 70 g/리터, 아연 이온이 20 내지 50 g/리터, 초산 이온이 30 내지 80 g/리터 정도 함유되어 있는 것으로 한다.

상기 전해 처리를 위한 전극 배치는 도4에 도시한 바와 같이 한다. 즉, 인산염 피막 형성액 속에 침지된 피처리재인 브레이크 디스크 로터(1)를 음극으로 하기 위해 이것에 음극측 케이블(101)에 접속된 전극판(13)을 접촉시키는 한편, 인산 아연 피막(8)의 생성을 미끄럼 이동면(2a, 3a)에 집중시키기 위해, 양극으로서 미끄럼 이동면(2a, 3a)의 평면 형상과 대략 동일 크기이고 또한 양극측 케이블(102)에 접속된 도너츠 원판형의 2매의 불용해성 전극판(9, 10)을 이용한다. 그리고, 한 쪽 전극판(9)을 내측의 미끄럼 이동면(3a)에 대해 평행해지도록 소정 거리(W)(예를 들어, W ＝ 80 ㎜ 정도) 이격하여 대향시키는 동시에, 다른 한 쪽의 전극판(10)을 외측의 미끄럼 이동면(2a)에 대해 평행해지도록 상기와 동등 거리 이격하여 대향시키고, 앞서 서술한 바와 같이 전해 처리에 수반하는 인산 아연 피막(8)의 생성을 각 미끄럼 이동면(2a, 3a)에 집중시키기 위해 각 전극판(9, 10)에 불용해성의 마스킹재(11, 12)로 부분적으로 마스킹을 실시한다. 동시에, 로드 휠 부착면(6)에는 인산 아연 피막(8)이 생성되지 않도록 마찬가지로 전극판(10)과 전극판(13) 사이에 가교적으로 통형의 마스킹재(14)를 배치하여 마스킹을 실시한다.

이 상태에서, 음극과 양극 사이에 통전하여 각 미끄럼 이동면(2a, 3a)에서의 전해 처리에 의한 인산 아연 피막(8)의 생성을 촉진시킨다. 즉, 막두께(t)가 1 내지 10 ㎛, 피막 질량이 4 내지 35 g/㎡, 결정립 50 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 막두께(t)가 2 내지 8 ㎛의 인산 아연 피막(8)을 생성시킨다. 이들의 값은, 상기 처리액 농도, 온도, 전류치, 처리 시간 외에 전압이나 전류 밀도 등을 적절하게 조정함으로써 제어한다.

특히, 인산 아연 피막(8)의 막두께가 1 ㎛ 미만에서는 소기의 방청 내식 성능을 얻을 수 없고, 또한 10 ㎛를 초과해도 막두께 증가에 따른 방청 내식 성능의 향상이 완만해져 무의미하다.

상기한 전해 처리가 종료되었다면, 도1에 도시한 바와 같이 브레이크 디스크 로터(1)를 인산염 피막 형성액 속에서 취출하여, 상온에서 0.5 분간 이상 세척을 실시한다.

이렇게 하여 브레이크 디스크 로터(1)의 미끄럼 이동면(2a, 3a)에 형성된 인산 아연 피막(8)의 방청성을 평가하기 위해 염수 분무 시험을 행하였다. 그리고, 그 방청 성능을 비교한 결과를 표1에 나타낸다.

염수 분무경과 시간	미끄럼 이동면 녹 발생율 (％)
	종래의 화성 처리 4 ㎛	전해 처리 2 ㎛	전해 처리 4 ㎛
0.5 Hr	1	0	0
1	5	0	0
2	18	0	0
3	25	0	0
4	32	0	0
5	45	0	0
6	55	0	0
7	60	0	0
8	68	0	0
9	73	1	1
10	80	1	1

표1에서는 종래의 인산 염화성 피막을 4 ㎛의 막두께로 형성한 것과, 본 실시 형태의 전해 처리에서 2 ㎛ 및 4 ㎛의 막두께로 인산 아연 피막(8)을 형성한 것과의 비교 결과를 나타낸다. 표1로부터 명백한 바와 같이, 종래의 인산 염화성 피막 처리의 경우에는 염수 분무 후의 경과 시간의 증가와 함께 녹 발생율이 증가하고, 예를 들어 염수 분무 후 10시간 경과시에는 상기 브레이크 디스크(1)의 미끄럼 이동면(2a, 3a) 중 그 80 ％의 영역에 녹이 발생해 버린다. 이에 대해, 본 실시 형태의 전해 처리에 의한 인산 아연 피막 처리의 경우에는, 막두께가 2 ㎛ 및 4 ㎛ 중 어느 것에 대해서도 염수 분무 후 10 시간 경과시에 미끄럼 이동면의 1 ％ 정도의 영역에 녹이 발생하고 있는 것에 지나지 않고, 종래의 것과 비교하여 방청 성능이 대폭으로 향상되어 있는 것을 알 수 있다.

또한, 도5는 상기 인산 아연 피막(8)의 막두께와 제동 횟수의 관계를, 도6은 상기 인산 아연 피막 형성 처리를 실시한 브레이크 디스크 로터(1)의 미끄럼 이동면(2a, 3a)의 마찰 계수와 제동 횟수의 관계를 각각 나타내고 있다.

도5로부터 명백한 바와 같이, 브레이크 디스크 로터(1)의 미끄럼 이동면(2a, 3a)에 형성한 인산 아연 피막(8)은 종래의 것과 마찬가지로 50회 정도의 제동을 행하기까지의 동안에 그 대부분이 브레이크 패드와의 마찰력으로 인해 소실되어 버리는 것을 알 수 있다. 이것은, 예를 들어 해외로 수출된 차량이 실제로 사용자에게 이르기까지의 동안에 소실되어 버리는 것을 의미하고, 특히 수송 과정에서의 녹 발생 방지를 목적으로 하여 인산 아연 피막 형성 처리를 실시했다고 해도 디스크 브레이크 본래의 제동 기능에 어떠한 악영향도 미치지 않게 된다.

마찬가지로, 도6으로부터는 브레이크 디스크 로터(1)의 미끄럼 이동면(2a, 3a)에 인산 아연 피막(8)이 남아 있는 한, 약간 마찰 계수가 저하하지만, 필요 최저한의 값이 되는 μ ＝ 0.2는 충분히 확보할 수 있고, 또한 제동 횟수가 80회 정도를 초과하여 상기와 같이 인산 아연 피막(8)이 대부분 소실되면, 미끄럼 이동면(2a, 3a)의 마찰 계수도 μ ＝ 0.3 내지 0.4의 범위 내에서 안정화하게 된다.

도7의 (A) 및 (B), 도8은 본 발명의 바람직한 제2 실시의 형태로서 드럼식 브레이크의 브레이크 드럼(21)에 적용한 경우의 예를 나타내고 있다.

도7의 (A) 및 (B)에 도시한 바와 같이, 바닥이 있는 원통형의 브레이크 드럼(21)은 단부착 원통형의 본체부(22)와 바닥벽부(23)를 구비하고 있는 동시에, 바닥벽부(23) 중 그 중앙 부분에서 한층 높아진 부분이 로드 휠 부착면(24)으로 되어 있고, 본체부(22) 내주의 미끄럼 이동면(25)과 로드 휠 부착면(24) 및 개구 단부면(26)이 주조 후에 기계 가공되는 동시에, 상기 미끄럼 이동면(25)과 개구 단부면(26)을 제외한 부분, 즉 로드 휠 부착면(24)을 포함하는 바닥벽부(23)와 본체부(22)의 원통 외주면에 도장이 실시된다. 또한, 로드 휠 부착면(24)에는 허브 볼트를 부착하기 위한 복수의 볼트 구멍(27)이 형성된다.

그리고, 상기한 도장에 앞서, 그 기초 처리로서 미끄럼 이동면(25) 및 개구 단부면(26)을 포함하는 전체면에 제1 실시 형태와 같이 전해 처리에 의한 인산 아연 피막(8)이 형성된다.

따라서, 본 실시 형태에 있어서도 앞의 제1 실시 형태와 완전히 동일한 효과를 얻을 수 있게 된다.

Claims (4)

1. 철계 재료로 이루어지는 디스크형 혹은 드럼형의 회전 브레이크 부재 중 적어도 상대측 마찰 부재와의 미끄럼 이동면이 되어야 할 영역에, 인산 이온, 아연 이온 및 초산 이온을 함유하는 인산염 피막 형성액 속에서의 전해 처리에 의해, 막두께 1 내지 10 ㎛, 질량 4 내지 35 g/㎡, 결정립 50 ㎛ 이하의 인산염 피막을 형성한 것을 특징으로 하는 차량용 브레이크 장치의 회전 브레이크 부재.
2. 철계 재료로 이루어지는 디스크형 혹은 드럼형의 회전 브레이크 부재 중 적어도 상대측 마찰 부재와의 미끄럼 이동면이 되어야 할 영역에, 인산 이온, 아연 이온 및 초산 이온을 함유하는 인산염 피막 형성액 속에서 전해 처리를 실시하여 막두께 1 내지 10 ㎛, 질량 4 내지 35 g/㎡, 결정립 50 ㎛ 이하의 인산염 피막을 형성하는 것을 특징으로 하는 회전 브레이크 부재의 방청 처리 방법.
3. 제2항에 있어서, 상기 전해 처리는 인산염 피막 형성액 속에 침지된 회전 브레이크 부재를 음극으로 하고, 회전 브레이크 부재 중 미끄럼 이동면이 되어야 할 영역에 대해 소정 거리 이격하여 대향시킨 전극을 양극으로서 처리하는 것을 특징으로 하는 회전 브레이크 부재의 방청 처리 방법.
4. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 회전 브레이크 부재가 디스크 브레이크 장치의 브레이크 디스크 로터인 것을 특징으로 하는 회전 브레이크 부재의 방청 처리 방법.