KR20030003517A - 반도체 세정용 버블 제트 샤워 모듈 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 분기박스가 형성된 베드에 공기유입포트와 물유입포트를 갖는 노즐이 일정간격으로 설치되어 반도체에 공기와 물이 버블된 혼합체를 분사하여 샤워시킴으로써, 파티클을 제거하여 세정시키는 반도체 세정용 버블 제트 샤워 모듈에 있어서,상기 베드(52)의 상측부위에 하나의 공기 공급통로(56)가 형성된 것과;상기 베드(52)의 공기 공급통로(56) 하측부위에 역시 하나의 물 공급통로(58)가 형성된 것과;상기 공기 공급통로(56)와 물 공급통로(58)를 연통시키기 위한 각각의 연통공(60)이 복수가 형성된 것과;상기 연통공(60)이 형성된 부위에 각각 설치되어 상기 공기 공급통로(56)를 통해 유입된 공기와, 상기 물 공급통로(58)를 통해 유입된 물을 버블시켜 분사시키는 복수개의 노즐(54)들이 상기 베드(52)와 일체형성되어 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 세정용 버블 제트 샤워 모듈.
- 제 1항에 있어서,상기 노즐(54)은, 상기 공기 공급통로(56)와 물 공급통로(58)의 연통공(60)을 막음하는 압력판(62)과;상기 압력판(62)을 지지하며 공기압에 의해 상하로 슬라이드 되는 가이드 봉(63)과;상기 가이드 봉(63)의 외주에 축설되어 상기 압력판(62)이 연통공(60)을 막음한 상태로 유지시키며, 일정압력의 공기압이 작용할 경우 압축되어 상기 연통공(60)을 개방시키는 압축스프링(64)과;상기 물과 공기가 버블된 혼합체가 배출되기 위한 배출통로(66)와;상기 배출통로(66)를 통한 물과 공기의 버블된 혼합체가 분사되기 위한 노즐구멍(68)을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 세정용 버블 제트 샤워 모듈.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2001-0039411A KR100433453B1 (ko) | 2001-07-03 | 2001-07-03 | 반도체 세정용 버블 제트 샤워 모듈 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2001-0039411A KR100433453B1 (ko) | 2001-07-03 | 2001-07-03 | 반도체 세정용 버블 제트 샤워 모듈 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20030003517A true KR20030003517A (ko) | 2003-01-10 |
KR100433453B1 KR100433453B1 (ko) | 2004-05-31 |
Family
ID=27713123
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2001-0039411A KR100433453B1 (ko) | 2001-07-03 | 2001-07-03 | 반도체 세정용 버블 제트 샤워 모듈 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100433453B1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210011168A (ko) * | 2019-07-22 | 2021-02-01 | 주식회사 싸이노스 | 반도체장비 부품용 세정장치 |
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Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2877263B2 (ja) * | 1991-05-27 | 1999-03-31 | 三菱重工業株式会社 | 微細氷粒を用いる洗浄方法 |
JPH0777209B2 (ja) * | 1992-01-31 | 1995-08-16 | 株式会社国際電気エルテック | 噴射形超音波洗浄装置 |
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JP3410385B2 (ja) * | 1999-04-19 | 2003-05-26 | 株式会社ディスコ | 洗浄装置及び切削装置 |
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-
2001
- 2001-07-03 KR KR10-2001-0039411A patent/KR100433453B1/ko active IP Right Grant
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20210011168A (ko) * | 2019-07-22 | 2021-02-01 | 주식회사 싸이노스 | 반도체장비 부품용 세정장치 |
KR102214115B1 (ko) * | 2020-10-12 | 2021-02-09 | 임재균 | 현장 실시용 스텐리스 스틸 전해 부식 장치 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR100433453B1 (ko) | 2004-05-31 |
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