KR20030002231A - 비대칭의 중첩표시를 이용한 레티클 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 중첩표시를 이용한 레티클에 관한 것으로, 특히 다수의 중첩표시 중 비대칭의 중첩표시를 포함하는 레티클에 관한 것으로, 반도체 노광공정에 사용되는 마주보는 스크라이브 레인상에 복수개의 대칭 중첩표시를 포함하는 레티클에 있어서, 상하좌우를 식별하기 위하여 상기 대칭 중첩표시와 구별되는 비대칭 중첩표시를 포함하는 것을 특징으로 함으로써, 레티클이 역상으로 로딩되는 경우를 감지하여 공정상의 사고를 예방할 수 있는 효과가 있다.

Description

비대칭의 중첩표시를 이용한 레티클{Reticle using asymmetry overlay mark}
본 발명은 중첩표시를 이용한 레티클에 관한 것으로, 보다 상세하게는 다수의 중첩표시 중 비대칭의 중첩표시를 포함하는 레티클에 관한 것이다.
종래의 중첩표시는 노광 필드 사이즈가 대형화 됨에 따라 웨이퍼 정렬을 보정하고 정확도를 높이기 위한 목적으로 사용된다. 즉, 다수회의 노광공정 중 웨이퍼에 전사되는 중첩표시의 위치변화를 파악하여 웨이퍼의 정렬을 보정하는 것이다.
도 1은 종래의 대칭 웨이퍼 중첩표시를 이용한 레티클을 도시하는 평면도이다. 도 1에 도시된 바와 같이 종래의 중첩표시(11,12,13,14)는 좌우의 스크라이브 레인(scribe lane)의 상단부와 하단부에 각각 4개가 위치한다. 하지만, 상기의 중첩표시(11,12,13,14)들은 좌우 및 상하로 대칭이 되는 형상을 하고 있기 때문에, 상기의 중첩표시는 레티클이 180°회전되어 로딩된 경우, 즉 상하가 역전된 경우에 있어서, 레티클의 비정상적인 로딩을 감지할 수 없는 문제가 있다.
역으로 로딩이 되면, 웨이퍼 상에 원하는 패턴을 얻을 수 없는 공정사고를 초래하게 되는 심각한 문제가 발생한다.
본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 역로딩을 감지할 수 있는 비대칭의 중첩표시를 이용한 레티클을 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1은 종래의 대칭 웨이퍼 중첩표시를 이용한 레티클을 도시하는 평면도.
도 2는 본 발명의 제1 실시례에 따른 비대칭 중첩표시를 이용한 레티클을 도시하는 평면도.
도 3은 본 발명의 제2 실시례에 따른 비대칭 중첩표시를 이용한 레티클을 도시하는 평면도.
도 4는 본 발명의 제2 실시례에 따른 레티클을 이용하여 웨이퍼에 전사된 패턴을 도시하는 평면도.
도 5는 본 발명의 제2 실시례에 따른 레티클을 이용하여 웨이퍼에 전사된 중첩표시 패턴의 부분 확대도.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >
11,12,13,14 : 대칭 중첩표시24,26 : 비대칭 중첩표시
32,34,36 : 웨이퍼에 전사된 레티클 패턴
41,42,43,44 : 웨이퍼에 전사된 중첩표시
51 : 웨이퍼에 전사된 대칭 중첩표시
52 : 웨이퍼에 전사된 비대칭 중첩표시
상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 반도체 노광공정에 사용되는 마주보는 스크라이브 레인상에 복수개의 대칭 중첩표시를 포함하는 레티클에 있어서, 상하좌우를 식별하기 위하여 상기 대칭 중첩표시와 구별되는 비대칭 중첩표시를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상술한 목적 및 기타의 목적과 본 발명의 특징 및 이점은 첨부된 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해 질 것이다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 발명의 제1 실시례에 따른 비대칭 중첩표시(24)를 이용한 레티클을 도시하는 평면도이고, 도 3은 본 발명의 제2 실시례에 따른 비대칭 중첩표시(26)를 이용한 레티클을 도시하는 평면도이다.
도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 레티클은 종래의 중첩표시와 동일한 대칭 중첩표시(11,12,13,14) 및 종래의 중첩표시와 다른 우측하단의 비대칭 중첩표시(24,26)를 가진다. 대칭 중첩표시(11,12,13,14)들은 종래의 중첩표시와 마찬가지로 웨이퍼 정렬을 보정하기 위하여 사용되어지고, 비대칭 중첩표시(24,26)는 레티클의 상하좌우를 식별하기 위하여 사용된다.
이때 비대칭 중첩표시(24,26)의 위치는 스크라이브 레인상의 가로중심축을 제외한 어느 곳에도 위치할 수 있다. 비대칭 중첩표시(24,26)는 도 2에 도시한 바와 같이, 기존의 대칭 중첩표시(11,12,13,14)와 별도의 패턴(24)으로 형성할 수도 있고, 도 3에 도시한 바와 같이, 기존의 대칭 중첩표시(11,12,13) 중 적어도 하나를 변형한 패턴(26)으로 도시할 수 있다. 후자의 경우에는, 변형되지 않은 대칭 중첩표시(11,12,13)만으로 웨이퍼 정렬을 하게되고 변형된 패턴(26)은 다른 대칭 패턴과 다른 모양의 패턴 또는 동일한 모양의 패턴을 대칭위치가 아닌 위치로 이동된다. 바람직하게는, 비대칭 중첩표시(26)는 4개의 대칭 중첩표시(11,12,13,14) 중 하나를 다른 중첩표시(11,12,13)와 대칭되는 위치에서1㎛정도 이동하여 형성한다.
첨부된 도면에서는 우하단의 중첩표시(26)에 한정하여 비대칭 중첩표시로 하였지만, 비대칭 중첩표시는 우하단의 중첩표시에만 한정되지 않고, 어느 위치의 중첩표시(11,12,13)라도 자유로이 비대칭 중첩표시로 사용할 수 있다.
도 4는 본 발명의 제2 실시례에 따른 레티클을 이용하여 웨이퍼에 전사된 패턴을 도시하는 평면도이고, 도 5는 본 발명의 제2 실시례에 따른 레티클을 이용하여 웨이퍼에 전사된 중첩표시 패턴의 부분 확대도이다. 이때 비대칭 중첩표시(26)는 위치가 마주하는 대칭 중첩표시(12)와 비교하여 위쪽으로 자리하고 표시의 크기도 작은 경우를 예를 들어 설명하도록 한다.
레티클(32,34)은 정상적으로 로딩되고 레티클(36)은 역상으로 로딩된 경우라고 가정하면, 레티클(34)의 좌상단에 전사되는 중첩표시 패턴(41)은 도5의 a에 도시된 바와 같이 하나의 큰 사각형(52)으로 중첩되어 형성된다. 이는 도3 에 도시된 바와 같이 좌상단의 패턴(11)과 우상단의 패턴(13)은 좌우로 대칭이기 때문에 레티클(32)의 우상단의 대칭 중첩표시 패턴(13)에 의하여 웨이퍼에 전사되는 큰 사각형(52)과 레티클(34)의 좌상단의 대칭 중첩표시 패턴(14)에 의하여 웨이퍼에 전사되는 큰 사각형(52)이 동일하기 때문이다.
레티클(34)의 좌하단에 전사되는 중첩표시 패턴(42)은 도 5의 b에 도시된 바와 같이 작은 사각형(54)이 큰 사각형(52)의 위쪽에 겹쳐진 형태로 중첩되어 형성된다. 이는 도3 에 도시된 바와 같이 좌하단의 패턴(11)과 우하단의 패턴(26)은 좌우로 비대칭이기 때문에 레티클(32)의 우하단의 비대칭 중첩표시 패턴(26)에 의하여 웨이퍼에 전사되는 작은 사각형(54)과 레티클(34)의 좌하단의 대칭 중첩표시 패턴(12)에 의하여 웨이퍼에 전사되는 큰 사각형(52)이 상이하기 때문이다.
레티클(34)의 우상단에 전사되는 중첩표시 패턴(43)은 도 5의 c에 도시된 바와 같이 작은 사각형(54)이 큰 사각형(52)의 아래쪽에 겹쳐진 형태로 중첩되어 형성된다. 레티클(36)이 정상적으로 로딩된 경우에는 패턴(41)과 동일한 하나의 큰사각형의 패턴이 전사되어야 하나, 레티클(36)은 역로딩된 상태이기 때문에 전사된 중첩표시 패턴(43)은 레티클(34)의 우상단의 패턴(13)과 레티클(36)의 우하단의 패턴(26)이 겹쳐지게 되는데, 도3 에 도시된 바와 같이 우상단의 패턴(13)과 우하단의 패턴(26)은 동일하지 않기 때문에, 레티클(34)의 좌상단의 대칭 중첩표시 패턴(13)에 의하여 웨이퍼에 전사되는 큰 사각형(52)과 역로딩된 레티클(36)의 우하단의 비대칭 중첩표시 패턴(26)에 의하여 웨이퍼에 전사되는 작은 사각형(54)이 상이하기 때문이다. 따라서, 도 5의 c와 같은 패턴이 오버레이 리딩장비 등에서 감지된 경우에는, 그 패턴의 오른쪽의 레티클이 역로딩된 것을 알 수 있게 되는 것이다.
레티클(34)의 우하단(44)에 전사되는 패턴(44)은 정상적으로 로딩된 경우의 패턴(42)과 동일하게 도 5의 b와 같은 모양이 형성된다. 이는 레티클(36)에 의한 패턴은 정상적인 경우에는 레티클의 좌하단의 패턴(12)이 전사되고, 역로딩의 경우에는 레티클의 우상단의 패턴(13)이 전사되는데, 본 실시례에서는 두 패턴 모두 대칭 중첩표시이기 때문이다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 비대칭 중첩표시를 이용한 레티클에 의하면, 리딩장비에서 좌우를 식별할 수 있는 비대칭 중첩표시를 포함한 레티클을 사용하여 레티클이 역으로 로딩되는 경우를 감지함으로써 이로 인한 제조 공정상의 사고를 방지할 수 있는 현저한 효과가 있다.
아울러 본 발명의 바람직한 실시예들은 예시의 목적을 위해 개시된 것이며, 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가 등이 가능할 것이며, 이러한 수정 변경 등은 이하의 특허청구의 범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.

Claims (5)

  1. 반도체 노광공정에 사용되는 마주보는 스크라이브 레인상에 복수개의 대칭 중첩표시를 포함하는 레티클에 있어서,
    상하좌우를 식별하기 위하여 상기 대칭 중첩표시와 구별되는 비대칭 중첩표시를 포함하는 것을 특징으로 하는 레티클.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 비대칭 중첩표시는 적어도 하나의 상기 대칭 중첩표시를 대신하여 포함되는 것을 특징으로 하는 레티클.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 비대칭 중첩표시의 자리하는 위치와 상기 복수의 대칭 중첩표시의 자리하는 위치가 서로 비대칭인 것을 특징으로 하는 레티클.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 비대칭 중첩표시의 상기 레티클의 스크라이브 레인상의 위치와 마주하는 위치의 상기 대칭 중첩표시의 상기 스크라이브 레인상의 위치의 차이는 1㎛ 정도인 것을 특징으로 하는 레티클.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 비대칭 중첩표시의 모양과 상기 복수의 대칭 중첩표시의 자리하는 모양이 서로 비대칭인 것을 특징으로 하는 레티클.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE102007000973A1 (de) * 2007-11-05 2009-05-14 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Maske und Verfahren zur Bestimmung der Drehlage der Maske
DE102007000973B4 (de) * 2007-11-05 2013-10-02 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Maske, Verwendung der Maske in einer Koordinaten-Messmaschine und Verfahren zur Bestimmung der Drehlage der Maske

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