-
Die
Erfindung betrifft eine Maske mit mindestens einer Marke zur Bestimmung
der Drehlage der Maske.
-
Ferner
betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Bestimmung der Drehlage
einer Maske oder eines scheibenförmigen Objekts, wobei
die Maske bzw. das Objekt mindestens eine Marke umfasst, die mindestens
zwei Strukturelemente aufweist, die eine nicht drehsymmetrische
Figur repräsentieren.
-
Die
Vermessung von Strukturen auf einem Substrat, beispielsweise einer
Maske, wird mit einer Koordinaten-Messmaschine durchgeführt.
Solch eine Koordinaten-Messmaschine ist hinlänglich aus dem
Stand der Technik bekannt. Beispielsweise wird dabei auf das Vortragsmanuskript
„Pattern
Placement Metrology for Mask making" von Frau Dr. Carola Bläsing
verwiesen. Der Vortrag wurde gehalten anlässlich der Tagung
Semicon, Education Program in Genf am 31. März. 1998, in
dem die Koordinaten-Messmaschine ausführlich beschrieben
worden ist. Der Aufbau einer Koordinaten-Messmaschine, wie er z.
B. aus dem Stand der Technik bekannt ist, wird in der nachfolgenden
Beschreibung zu der
1 näher erläutert.
Ein Verfahren und ein Messgerät zur Positionsbestimmung
von Strukturen auf einem Substrat ist aus der Deutschen Offenlegungsschrift
DE 10047211 A1 bekannt.
Zu Einzelheiten der genannten Positionsbestimmung sei daher ausdrücklich
auf diese Schrift verwiesen.
-
Die
unveröffentlichte deutsche Patentanmeldung
DE 2007 030 390.6 offenbart eine
Koordinaten-Messmaschine, der eine Einrichtung zum automatischen
Orientieren des Substrats zugeordnet ist. Der Koordinaten-Messmaschine
ist ferner eine Steuer- und Recheneinheit zugeordnet, so dass auf Grundlage
von mindestens zwei unterschiedlichen und automatisch eingestellten
Orientierungen des Substrats eine Selbstkalibrierung durchführbar
ist.
-
Die
unveröffentlichte deutsche Patentanmeldung
DE 10 2007 039 983.0 offenbart
ein Verfahren zum Vermessen von Strukturen auf einem Substrat mit
einer Koordinaten-Messmaschine. Im ersten Schritt wird zum Vermessen
von mindestens einer Struktur auf dem Substrat ein vordefiniertes
Messverfahren angewendet, wobei das Vermessen die Position und/oder
die Breite der Struktur umfasst und wobei das vordefinierte Messverfahren
aus einer Vielzahl von Prozessen besteht, die mit dem Koordinatensystem
der Koordinaten-Messmaschine verknüpft sind. Im zweiten
Schritt wird das Messverfahren für ein Substrat mit einer
ersten Orientierung des Koordinatensystems des Substrats in Bezug
auf das Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine definiert.
Im dritten Schritt wird eine Abweichung mindestens einer zweiten
Orientierung des Koordinatensystems des Substrats von der ersten
Orientierung ermittelt. Im vierten und letzten Schritt wird das
vordefinierte Messverfahren entsprechend der Abweichung der ersten
Orientierung von der mindestens zweiten Orientierung gedreht, so
dass die mit dem Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine verknüpften
Prozesse entsprechend der zweiten Orientierung ausgeführt
werden.
-
Aufgabe
der gegenwärtigen Erfindung ist, eine Maske zu schaffen,
aus der die Drehlage der Maske leicht und zuverlässig bestimmt
werden kann.
-
Diese
Aufgabe wird durch eine Maske gelöst, die die Merkmale
des Anspruchs 1 umfasst. Weitere Vorteile ergeben sich aus den zugehörigen
Unteransprüchen und der Beschreibung.
-
Ebenso
liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zu schaffen,
mit dem die Drehlage solch einer erfindungsgemäßen
Maske leicht und zuverlässig bestimmt werden kann.
-
Diese
Aufgabe wird durch ein Verfahren gelöst, das die Merkmale
des Anspruchs 8 umfasst. Weitere Vorteile ergeben sich aus den zugehörigen Unteransprüchen
und der Beschreibung.
-
Auf
der erfindungsgemäßen Maske ist mindestens eine
Marke zur Bestimmung der Drehlage der Maske angeordnet und die mindestens
eine Marke auf der Maske weist mindestens zwei Strukturelemente
auf, die eine nicht drehsymmetrische Figur repräsentieren.
Durch die Anordnung einer nicht drehsysmmetrischen Figur auf der
Maske ist die Lage der Maske eindeutig identifizierbar.
-
Für
eine oben beschriebene nicht drehsymmetrische Figur sind zahlreiche,
sogar unendlich viele Ausführungsformen denkbar. Für
die Bestimmung der Drehlage einer Maske reicht es jedoch üblicherweise
aus, eine eher einfache Ausgestaltung für die nicht drehsymmetrische
Figur auf der Maske zu verwenden. Grundsätzlich wird die
Nicht-Drehsymmetrie der Figur auf der Maske dadurch erreicht, dass mindestens
eine der Marken auf der Maske eine nicht drehsymmetrische Form aufweist
und/oder die Anordnung aller für die Bestimmung der Drehlage
verwendeten Marken in ihrer Gesamtheit eine nicht drehsymmetrische
Figur darstellen.
-
So
umfasst die Maske in einer Ausführungsform mindestens eine
Marke, die selber nicht drehsymmetrisch ist und damit die nicht
drehsymmetrische Figur repräsentiert. Diese Marke umfasst
also die mindestens zwei Strukturelemente. Speziell können
in einer bevorzugten Ausführungsform die mindestens zwei
Strukturelemente der Marke derart sein, dass das eine Strukturelement
drehsymmetrisch ist, wohingegen das andere Strukturelement nicht
drehsymmetrisch ist. Noch spezieller kann in einer weiteren Ausführungsform
das drehsymmetrische Strukturelement ein Kreuz mit vier Achsen im 90° Winkel
sein und das nicht drehsymmetrische Strukturelement exzentrisch
bezüglich des Mittelpunkts des Kreuzes angeordnet sein.
-
In
einer weiteren Ausführungsform umfasst die Maske mindestens
zwei Marken, wobei jede der mindestens zwei Marken drehsymmetrisch
ist und die mindestens zwei Marken derart auf der Maske angeordnet
sind, dass die mindestens zwei Marken eine nicht drehsymmetrische
Figur repräsentieren. Speziell umfasst in einer bevorzugten
Ausführungsform die Maske drei Marken, wobei jede der drei
Marken drehsymmetrisch ist und die drei Marken derart auf der Maske
angeordnet sind, dass die drei Marken eine nicht drehsymmetrische
Figur repräsentieren.
-
Die
erfindungsgemäße Maske kann in einer Koordinaten-Messmaschine
aus dem Stand der Technik verwendet werden.
-
Das
erfindungsgemäße Verfahren zur Bestimmung der
Drehlage eines scheibenförmigen Objekts setzt sich aus
drei Schritten zusammen. Das Objekt umfasst mindestens eine Marke,
die mindestens zwei Strukturelemente aufweist, die eine nicht drehsymmetrische
Figur repräsentieren. Im ersten Schritt wird ein Bild der
nicht drehsymmetrischen Figur aufgenommen. Im zweiten Schritt wird
die aktuelle Orientierung der nicht drehsymmetrischen Figur in Bezug
auf ein vorgegebenes Koordinatensystem ermittelt. Im dritten und
letzten Schritt wird die aktuelle Orientierung des Objekts mithilfe
der ermittelten aktuellen Orientierung der nicht drehsymmetrischen
Figur in Bezug auf das vorgegebene Koordinatensystem bestimmt.
-
In
einer Ausführungsform ist das Objekt eine Maske. In diversen
weiteren Ausführungsformen des erfindungsgemäßen
Verfahrens umfasst die Maske nicht drehsymmetrische Figuren wie
bereits oben beschrieben.
-
Nachfolgend
wird beschrieben wie mit weiteren Zwischenschritten und nachfolgenden
Schritten das erfindungsgemäße Verfahren so erweitert
werden kann, dass nicht nur die Drehlage des Objekts bzw. der Maske
bestimmt wird, das heißt die Ist-Drehlage bzw. Ist-Orientierung
bestimmt wird, sondern zusätzlich auch das Objekt bzw.
die Maske in diverse Soll-Drehlagen bzw. Soll-Orientierungen gedreht
werden kann.
-
In
der Beschreibung wird der Begriff Objekt bzw. Maske als gleichbedeutender
Begriff für eine Maske zur Herstellung von Halbleitern,
einen Wafer selbst oder ein Flat-Panel-Display verwendet. Es ist für
einen Fachmann selbstverständlich, dass der Begriff Maske
keine Beschränkung der Erfindung darstellt.
-
In
einer weiteren Ausführungsform umfasst der oben beschriebene
zweite Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens
als Zwischenschritt, dass die Orientierung der nicht drehsymmetrischen
Marke bzw. der nicht drehsymmetrischen Figur durch ein Mustererkennungsverfahren
aus dem Stand der Technik bestimmt wird.
-
In
einer weiteren Ausführungsform umfasst der oben beschriebene
erste Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens
als Zwischenschritt, dass die Positionen der Strukturelemente angefahren
werden, um das Bild der nicht drehsymmetrischen Figur aufzunehmen
und mit dem Mustererkennungsverfahren zu verarbeiten.
-
In
einer weiteren Ausführungsform umfasst das erfindungsgemäße
Verfahren als vierten Schritt, dass eine Information mit der ermittelten
aktuellen Orientierung des Objekts ausgegeben wird.
-
In
einer weiteren Ausführungsform umfasst das erfindungsgemäße
Verfahren als fünften Schritt, dass die Daten zu einer
vorgegebenen Soll-Orientierung für die nicht drehsymmetrische
Figur in Bezug auf das vorgegebene Koordinatensystem aus den CAD-Daten
des Objekts bzw. der Maske ausgelesen werden.
-
In
einer weiteren Ausführungsform umfasst das erfindungsgemäße
Verfahren als sechsten Schritt, dass die Daten zu den Mustern der
Strukturelemente aus den CAD-Daten des Objekts ausgelesen werden.
-
In
einer weiteren Ausführungsform umfasst das erfindungsgemäße
Verfahren als siebten Schritt, dass die Daten zu einer vorgegebenen
Soll-Orientierung für das Objekt in Bezug auf das vorgegebene Koordinatensystem
aus den CAD-Daten der Marken auf dem Objekt an eine Koordinaten-Messmaschine ausgegeben
werden.
-
In
einer weiteren Ausführungsform umfasst das erfindungsgemäße
Verfahren als achten Schritt, dass die Abweichung der aktuellen
Orientierung von einer vorgegebenen Soll-Orientierung für
die nicht drehsymmetrische Figur in Bezug auf das vorgegebene Koordinatensystem
bestimmt wird.
-
In
einer weiteren Ausführungsform umfasst das erfindungsgemäße
Verfahren als neunten Schritt, dass die Abweichung der aktuellen
Orientierung von der vorgegebenen Soll-Orientierung für
das Objekt in Bezug auf das vorgegebene Koordinatensystem aus der
ermittelten Abweichung der aktuellen Orientierung von der einer
vorgegebenen Soll-Orientierung für die nicht drehsymmetrische
Figur bestimmt wird.
-
In
einer weiteren Ausführungsform umfasst das erfindungsgemäße
Verfahren als zehnten Schritt, dass das Objekt entsprechend der
ermittelten Abweichung der aktuellen Orientierung von der vorgegebenen
Soll-Orientierung des Objekts derart gedreht wird, dass die vorgegebene
Soll-Orientierung des Objekts eingestellt wird. Dabei kann das Objekt entsprechend
einem vorgegebenen Messrezept der Koordinaten-Messmaschine in den
aufgrund des Messrezepts vorgegebenen Objektorientierungen gedreht
und die nach dem Messrezept eingestellte Objektorientierung überprüft
werden.
-
Die
erfindungsgemäße Maske und das erfindungsgemäße
Verfahren werden nachfolgend anhand der schematischen Zeichnungen
genauer erläutert. Die Figuren zeigen im Einzelnen:
-
1:
eine schematische Ansichtsdarstellung einer Ausführungsform
einer Koordinaten-Messmaschine 1;
-
2:
eine schematische Ansichtsdarstellung einer Maske mit einem Ausführungsbeispiel
einer nicht drehsymmetrischen Marke in Sternenform;
-
3:
eine schematische Ansichtsdarstellung einer Maske mit einem Ausführungsbeispiel
einer drehsymmetrischen Marke in Kreuzform;
-
4:
eine schematische Ansichtsdarstellung einer Maske mit einem Beispiel
einer nicht drehsymmetrischen Marke mit einem drehsymmetrischen Strukturelement
und einem nicht drehsymmetrischen Strukturelement;
-
5:
eine schematische Ansichtsdarstellung einer Maske mit einem Beispiel
zweier symmetrischer Marken, die in ihrer Gesamtheit keine nicht drehsymmetrische
Figur repräsentieren; und
-
6:
eine schematische Ansichtsdarstellung einer Maske mit einem Beispiel
dreier symmetrischer Marken, die in ihrer Gesamtheit eine nicht drehsymmetrische
Figur repräsentieren.
-
1 zeigt
eine eine schematische Ansichtsdarstellung einer Ausführungsform
einer Koordinaten-Messmaschine 1, wie sie bereits ausführlich im
Stand der Technik beschrieben und somit auch ausführlich
aus dem Stand der Technik bekannt ist. Die Koordinaten-Messmaschine 1 umfasst
einen in X-Koordinatenrichtung und in Y-Koordinatenrichtung beweglichen
Messtisch 20. Der Messtisch 20 trägt ein
Substrat 2, das eine Maske 22 für die
Halbleiterherstellung sein kann. Auf einer Oberfläche des
Substrats 2 sind mehrere Strukturen 3 aufgebracht.
Der Messtisch 20 selbst ist auf Luftlagern 21 gestützt,
die ihrerseits auf einem Granitblock 25 abgestützt
sind. Für die Beleuchtung des Substrats 2 sind
mindestens eine Auflicht-Beleuchtungseinrichtung 14 und/oder eine
Durchlicht-Beleuchtungseinrichtung 6 vorgesehen. in der
hier dargestellten Ausführungsform wird das Licht der Durchlicht-Beleuchtungseinrichtung 6 mittels
eines Umlenkspiegels 7 in die untere Beleuchtungsachse 4 für
das Durchlicht eingekoppelt. Das Licht der Durchlicht-Beleuchtungseinrichtung 6 gelangt über
einen Kondensor 8 auf das Substrat 2. Das Licht
der Auflicht-Beleuchtungseinrichtung 14 gelangt durch die
Abbildungsoptik 9 auf das Substrat 2. Das von
dem Substrat 2 ausgehende Licht wird durch die Abbildungsoptik 9 gesammelt
und von einem halbdurchlässigen Spiegel 12 aus
der optischen Achse ausgekoppelt, die aus den Beleuchtungsachsen 4, 5 gebildet
wird. Dieses Messlicht gelangt auf eine Kamera 10, die
mit einem Detektor 11 versehen ist. Dem Detektor 11 ist
eine Recheneinheit 16 zugeordnet, mit der aus den aufgenommenen
Daten digitale Bilder erzeugt werden können.
-
Die
Position des Messtisches 20 wird mittels eines Laser-Interferometers 24 gemessen
und bestimmt. Das Laser-Interferometer 24 sendet hierzu einen
Messlichtstrahl 23 aus. Ebenso ist die Abbildungsoptik 9 mit
einer Verschiebeeinrichtung 15 in Z-Koordinatenrichtung
verbunden, damit die Abbildungsoptik 9 auf die Oberfläche
des Substrats 2 fokussiert werden kann. Die Position der
Abbildungsoptik 9 kann z. B. mit einem Glasmaßstab
(nicht dargestellt) gemessen werden. Der Granitblock 25 ist ferner
auf schwingungsgedämpft gelagerten Fliesen 26 aufgestellt.
Durch diese Schwingungsdämpfung sollen alle möglichen
Gebäudeschwingungen und Eigenschwingungen der Koordinaten-Messmaschine 1 weitestgehend
reduziert bzw. eliminiert werden. Es ist selbstverständlich,
dass der Granitblock 25 keine Beschränkung der
Erfindung darstellt. Jedes blockartige Gebilde kann verwendet werden,
das geeignet ist, eine Ebene zur Verfügung zu stellen,
in der der Messtisch 20 verfahren werden kann.
-
2 zeigt
eine schematische Ansichtsdarstellung einer Maske 22 mit
einem Ausführungsbeispiel einer nicht drehsymmetrischen
Marke 30 in Sternenform. Ein Koordinatensystem mit Achsen
X' und Y' ist in die Maske 22 eingezeichnet. Der Mittelpunkt
der Maske 22 bildet den X'/Y'-Koordinatenursprung, der
zugleich den Mittelpunkt für die Drehsymmetrie bildet.
Die Marke 30 ist als Stern mit unregelmäßigen
Zacken ausgeformt, deren Mittelpunkt im X'/Y'-Koordinatenursprung
liegt. Es ist selbstverständlich, dass die Marke 30 nicht
auf die Lage im X'/Y'-Koordinatenursprung beschränkt ist.
Die Marke 30 kann an jeder beliebigen Stelle der Maske 22 vorgesehen
sein. Da die Form des Sterns durch die unregelmäßigen
Zacken nicht drehsymmetrisch ist, ist folglich auch die Marke 30 nicht
drehsymmetrisch. Die Marke 30 bildet somit eine nicht drehsymmetrische
Figur 32 gemäß der vorliegenden Erfindung. Die
Maske 22 mit der Marke 30 gemäß dem
Ausführungsbeispiel in 2 eignet
sich daher zur Bestimmung der Drehlage der Maske 22. In
der Praxis sind solche komplexen Formen wie die eines Sterns für eine
Marke 30 jedoch unüblich.
-
3 zeigt
eine schematische Ansichtsdarstellung einer Maske 22 mit
einem Ausführungsbeispiel einer drehsymmetrischen Marke 30 in
Kreuzform. Das X'/Y'-Koordinatensystem mit dem X'/Y'-Koordinatenursprung
sind wie bei 2 dargestellt. Die quadratisch
geformte Marke 30 umfasst als einziges Strukturelement 31 ein
Kreuz mit vier Achsen im 90° Winkel. Der Mittelpunkt des
Kreuzes und damit der Marke 30 liegt bei diesem Ausführungsbeispiel
im X'/Y'-Koordinatenursprung. Es ist selbstverständlich, dass
die Marke 30 nicht auf die Lage im X'/Y'-Koordinatenursprung
beschränkt ist. Die Marke 30 kann an Jeder beliebigen
Stelle der Maske 22 vorgesehen sein. Wenn mit einem optischen
System der Rotationszustand der Maske 22 bestimmt werden
soll, wird die Marke 30 untersucht, und somit kann an der
Marke alleine nicht der Drehzustand der Marke 30 bestimmt
werden (ganzzahlige Drehungen um 90°). insgesamt ist daher
die Marke 30 drehsymmetrisch bezüglich allen Drehungen
der Maske 22 um ein Vielfaches von 90° um den
X'/Y'-Koordinatenursprung. Die Maske 22 mit der Marke 30 gemäß diesem
Ausführungsbeispiel eignet sich daher nicht zur Bestimmung
der Drehlage der Maske 22, denn bei jeder Drehung der Maske 22 um
ein Vielfaches von 90° ergibt sich ein kongruentes Bild
gemäß 3.
-
4 zeigt
eine schematische Ansichtsdarstellung einer Maske 22 mit
einem Beispiel einer nicht drehsymmetrischen Marke 30,
die ein drehsymmetrisches Strukturelement 31ds und
ein nicht drehsymmetrisches Strukturelement 31nds aufweist.
Das X'/Y'-Koordinatensystem mit dem X'/Y'-Koordinatenursprung sind
wie bei 2 dargestellt. Die Marke 30 ist
quadratisch ausgebildet. Es ist selbstverständlich, dass
die Marke 30 nicht auf die Lage im X'/Y'-Koordinatenursprung
beschränkt ist. Die Marke 30 kann an jeder beliebigen
Stelle der Maske 22 vorgesehen sein.
-
Das
drehsymmetrische Strukturelement 31ds der
Marke 30 ist ein Kreuz mit vier Achsen im 90° Winkel.
Das drehsymmetrische Strukturelement 31ds ist
drehsymmetrisch bezüglich allen Drehungen der Maske 22 um
ein Vielfaches von 90° um den X'/Y'-Koordinatenursprung.
-
Das
nicht drehsymmetrische Strukturelement 31nds ist
ein Quadrat, das an das drehsymmetrische Strukturelement 31ds grenzt und im Quadranten (I) liegt.
Nach einer Linksdrehung der Maske 22 um 90° liegt
das nicht drehsymmetrische Strukturelement 31nds im
Quadranten (II). Nach zwei weiteren Linksdrehungen um 90° liegt
das nicht drehsymmetrische Strukturelement 31nds zunächst
im Quadranten (III) und dann im Quadranten (IV). in den restlichen
drei Quadranten liegt jeweils kein nicht drehsymmetrisches Strukturelement 31nds .
-
Die
Marke 30 bildet daher insgesamt eine nicht drehsymmetrische
Figur (32) bezüglich aller Drehungen der Maske 22 um
ein Vielfaches von 90° um den X'/Y'-Koordinatenursprung.
Die Maske 22 mit der Marke 30 gemäß diesem
Ausführungsbeispiel eignet sich daher zur Bestimmung der
Drehlage der Maske 22.
-
In
den 2 bis 4 wurde die drehsymmetrische
Figur bzw. die nicht drehsymmetrische Figur 32 stets durch
eine einzige Marke 30 gebildet. Es können aber
auch mehrere Marken 30 für die Bildung einer nicht
drehsymmetrischen Figur 32 betrachtet werden. Ob die Gesamtheit
der Marken 30 eine drehsymmetrische oder nicht drehsymmetrische
Figur 32 repräsentieren, hängt von der
Anordnung der Marken 30 bezüglich des X'/Y'-Koordinatenursprungs
bezüglich der Maske 22 selbst ab.
-
5 zeigt
eine schematische Ansichtsdarstellung einer Maske 22 mit
einem Beispiel zweier symmetrischer Marken 30, die in ihrer
Gesamtheit keine nicht drehsymmetrische Figur 32 repräsentieren.
Das X'/Y'-Koordinatensystem mit dem X'/Y'-Koordinatenursprung sind
wie bei 2 dargestellt. Die beiden Marken 30 sind
quadratisch geformt. Wie man leicht erkennt, bilden die beiden Marken 30 eine drehsymmetrische
Figur bezüglich allen Drehungen der Maske 22 um
ein Vielfaches von 90° um den X'/Y'-Koordinatenursprung.
Die Marken 30 eignen sich daher nicht zur Bestimmung der
Drehlage der Maske 22.
-
6 zeigt
eine schematische Ansichtsdarstellung einer Maske 22 mit
einem Beispiel dreier drehsymmetrischer Marken 30, die
in ihrer Gesamtheit eine nicht drehsymmetrische Figur 32 repräsentieren.
Die drei Marken 30 sind quadratisch geformt und drehsymmetrisch
bezüglich allen Drehungen der jeweiligen Marke 30 um
ein Vielfaches von 90° um ihren eigenen jeweiligen Mittelpunkt.
Jedoch bilden die drei Marken 30 in ihrer Gesamtheit eine
nicht drehsymmetrische Figur 31 bezüglich allen
Drehungen der Maske 22 um ein Vielfaches von 90° um
den X'/Y'-Koordinatenursprung. Die drei Marken 30 eignen
sich daher zur Bestimmung der Drehlage der Maske 22.
-
In
der Praxis ist die Verwendung von drei symmetrischen Marken 30 in
nicht drehsymmetrischer Anordnung auf der Maske 22 üblich.
Aus mehreren Marken 30 sind eventuelle Abweichungen der Drehlage
der Maske 22 von einer Soll-Lage im Vergleich zu einer
einzigen nichtdrehsymmetrischen Marke 30 genauer bestimmbar.
-
Abschließend
sei ganz besonders darauf hingewiesen, dass die Erfindung unter
Bezugnahme auf bevorzugte Ausführungsbeispiele beschrieben wurde.
Es ist jedoch für jeden Fachmann selbstverständlich,
dass Abwandlungen und Änderungen gemacht werden können,
ohne dabei den Schutzbereich der nachstehenden Ansprüche
zu verlassen. Darüber hinaus sind die Marken 30 im
Verhältnis zur Maske 22 zur besseren Anschaulichkeit übertrieben groß dargestellt,
in der Praxis sind die Marken 30 relativ zur Größe
der Maske 22 wesentlich kleiner. Bei Masken 22 für
die Halbleiterherstellung können die Masken 22 zur
Bestimmung der Drehlage extra aufgebracht sein. Die Lage der Marken 30 kann
man den CAD Daten der Maske 22 entnehmen. Wie die Masken 22 zur
Bestimmung der Drehlage aussehen und wie sie angeordnet sind, obliegt
dem Hersteller der Maske 22. Letztendlich ist nur sicherzustellen, dass
die Marke 30 alleine oder die Gesamtheit der Marken 30 nicht
drehsymmetrisch sind.
-
- 1
- Koordinaten-Messmaschine
- 2
- Substrat
- 3
- Struktur
auf Maske
- 4
- untere
Beleuchtungsachse
- 5
- obere
Beleuchtungsachse
- 6
- Durchlicht-Beleuchtungseinrichtung
- 7
- Umlenkspiegel
- 8
- Kondensor
- 9
- Abbildungsoptik
- 10
- Kamera
- 11
- Detektor
- 12
- halbdurchlässiger
Spiegel
- 14
- Auflicht-Beleuchtungseinrichtung
- 15
- Verschiebeeinrichtung
- 16
- Recheneinheit
- 20
- Messtisch
- 21
- Luftlager
- 22
- Maske
- 23
- Messlichtstrahl
- 24
- Laser-Interferometer
- 25
- Granitblock
- 26
- Fliese
- 30
- Marke
- 31
- Strukturelement
- 32
- nicht
drehsymmetrische Figur
-
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
-
Diese Liste
der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert
erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information
des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen
Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt
keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
-
Zitierte Patentliteratur
-
- - DE 10047211
A1 [0003]
- - DE 2007030390 [0004]
- - DE 102007039983 [0005]
-
Zitierte Nicht-Patentliteratur
-
- - „Pattern
Placement Metrology for Mask making" von Frau Dr. Carola [0003]