KR200286746Y1 - 평행노광장치 - Google Patents
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Abstract
평행노광장치가 개시된다. 개시된 평행노광장치는 노광 소재의 진행방향을 가로지르는 방향의 일측에 위치되는 광원과, 상기 광원으로부터 출사된 광을 소정 방향으로 반사시키며 소정 파장을 가지는 광을 분리시키고 상기 광의 경로상에 위치되는 제 1 미러와, 상기 제 1 미러에 의해 반사된 광을 분할하여 멀티광으로 바꾸는 분광수단과, 상기 멀티광을 소정방향으로 굴절시키는 제 2 미러를 포함하는 것을 특징으로 하며 소재 각 부위에 도달하는 빛의 광량차이를 최소화 한다는 이점을 가진다.
Description
본 고안은 평행노광장치에 관한 것으로서, 더 상세하게는 노광소재에 도달하는 빛을 균일화하는 평행노광장치에 관한 것이다.
기존의 평행노광장치는 소재의 진행방향 바로 위에 광원이 부착되어 있으며 상기 광원에서 조사되는 빛을 복수개의 미러로 반사시켜 레지스트가 도포된 소재를 감광한다. 이것을 에칭공정에서는 노광공정이라고 하며 노광작업은 수초동안 진행된다. 상기 노광정도는 여러가지 조건에 의해 달라지지만, 소재 표면에 대한 노광량 분포의 균일도가 제품품질에 상당한 영향을 미친다.
도 1 내지 도2에는 종래의 평행노광장치의 구성이 도시되어 있다.
상기 도면들을 참조하면, 종래의 평행노광장치는 노광소재(15)의 상면에 설치되며 상기 노광소재(15)의 화살표 방향의 진행방향으로 설치되는 광원(11)과, 상기 광원(11)으로부터 출사된 광을 소정 방향으로 반사시키며 소정 파장을 가지는 광을 분리시키고 상기 광의 경로상에 위치되는 제 1 미러(12)와, 상기 제 1 미러(12)에 의해 반사된 광을 분할하여 멀티광으로 바꾸는 분광수단(13)과, 상기 멀티광을 소정방향으로 굴절시키는 제 2 미러(14)를 포함한다.
상술한대로 광원(11)이 배치된 경우는 작업면적의 길이(Area Length, 소재진행방향과 동일)가 길어질수록 광원의 빛과 소재부위별과의 거리차가 발생한다. 특히 노광소재(15)의 길이가 150㎜ 인 경우 심하게 발생되며 이런 노광량의 균일도의 차이에 의해 리드프레임 제품의 품질이 좌우된다.
상술한 바와 같은 노광장치에서, 상기 노광소재(15)에 대한 노광공정은 다음과 같이 이루어진다.
먼저 상기 광원(11)으로 부터 출사된 광은 제 1 미러(11)에 의해 소정 파장을 가지는 광만이 분리되어 반사된다. 그리고, 제 1 미러(11)에 의해 분리된 광은 광경로를 따라 분광수단(13)를 통과하면서 분할되어 멀티광으로 바뀌게 된다. 그리고, 상기 분광수단(13)에 의해 형성된 멀티광은 제 2 미러(14)에 의해 굴절되어 배치된 노광소재(15)인 레지스트가 도포된 리드프레임에 조명되나 빛이 균일하지 못한 문제점이 있다.
도 2를 참조하여 보면, 빔 A, B, C 가 상호간 간격이 큰 것을 알 수 있으며 이는 상기 노광소재(15)에 불균일한 노광이 된다는 것을 보여준다.
따라서, 본 고안은 상기의 문제점을 해결하기 위해 창출된 것으로서, 조사되는 빛과 소재사이의 거리를 최소화시키고, 조사되는 빔간의 상호 균일성을 향상시키는 데 그 목적이 있다.
도 1은 종래의 평행노광장치의 구성을 보인 평면 구성도.
도 2는 종래의 평행노광장치의 개략적인 구성을 보인 측면 구성도.
도 3은 본 고안에 따른 평행노광장치의 구성을 보인 평면 구성도
도 4는 본 고안에 따른 평행노광장치의 개략적인 구성을 보인 측면 구성도.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >
11...광원 12...제 1 미러
13...분광수단 14...제 2 미러
15...노광소재
상기의 목적을 달성하기 위한 본 고안은, 노광소재의 진행방향을 가로지르는 방향의 일측에 위치되는 광원과, 상기 광원으로부터 출사된 광을 소정 방향으로 반사시키며 소정 파장을 가지는 광을 분리시키고 상기 광의 경로상에 위치되는 제 1 미러와, 상기 제 1 미러에 의해 반사된 광을 분할하여 멀티광으로 바꾸는 분광수단과, 상기 멀티광을 소정방향으로 굴절시키는 제 2 미러를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 고안에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
본 고안의 일 실시예에 따른 평행노광장치가 도3 내지 도4에 도시되어 있다.
여기에서 앞서 도시된 도면에서와 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 가리킨다.
상기 도면들을 참조하면, 본 고안의 평행노광장치는 노광소재의 진행방향의측면에 위치되는 광원(11)과, 상기 광원(11)으로부터 출사된 광을 소정 방향으로 반사시키며 소정 파장을 가지는 광을 분리시키고 상기 광의 경로상에 위치되는 제 1 미러(12)와, 상기 제 1 미러(12)에 의해 반사된 광을 분할하여 멀티광으로 바꾸는 분광수단(13)과, 상기 멀티광을 소정방향으로 굴절시키는 제 2 미러(14)를 포함한다.
또한 상기 노광소재(15)는 리드프레임인 것이 바람직하다.
상기와 같은 구조를 가진 본 고안에 따른 평행노광장치는 노광소재(15)에 대한 노광공정은 다음과 같이 이루어진다.
먼저 광원(11)으로부터 출사된 광은 제 1 미러(12)에 의해 소정 파장을 가지는 광이 분리되어 반사된다. 그리고, 제 1 미러(12)에 의해 분리된 광은 광경로를 따라 분광수단(13)를 통과하면서 분할되어 멀티광으로 바뀌게 된다. 그리고, 상기 분광수단(13)에 의해 형성된 멀티광은 제 2 미러(14)에 의해 굴절되어 배치된 노광대상물인 레지스트가 도포된 노광소재(15)에 조명으로서 도달된다.
여기서 상술한 조명에서 균일성을 확보하기 위하여 반도체 리드프레임과 같은 노광 대상물인, 레지스트가 도포된 노광소재(15)의 위치를 광원(11)에서 출사된 광이 노광 대상물 상에 정확히 투영될 수 있도록 상기 광원과 작업 에어리어 즉, 노광소재(15) 간의 거리를 최단으로 조절하여야 하며, 또한 노광소재(15) 상의 각 지점에서 균일도가 유지 되어야 한다.
도 4를 보면 빔 A', B', C' 가 상호간 간격이 종래의 빔간격보다 줄어든 것을 알 수 있으며 이는 상기 노광소재(15)에 보다 균일하고 정확한 원하는 노광이가능하다는 것을 보여준다. 상기와 같은 노광소재의 각 부위에 도달하는 빛의 광량차이를 최소 95%이상 최소화한다.
상술한 바와 같이 본 고안에 따른 평행노광장치는 광원의 배치를 소재진행방향과 수직으로 해서 빛과 소재부위별과의 거리차의 최소화 및 소재 각 부위에 도달하는 빛의 광량차이를 최소화한다는 이점을 가진다.
본 고안은 상기에 설명되고 도면에 예시된 것에 의해 한정되는 것은 아니며, 다음에 기재되는 청구의 범위 내에서 더 많은 변형 및 변용예가 가능한 것임은 물론이다.
Claims (2)
- 노광소재의 진행방향을 가로지르는 방향의 일측에 위치되는 광원과;상기 광원으로부터 출사된 광을 소정 방향으로 반사시키며 소정 파장을 가지는 광을 분리시키고 상기 광의 경로상에 위치되는 제 1 미러와;상기 제 1 미러에 의해 반사된 광을 분할하여 멀티광으로 바꾸는 분광수단과;상기 멀티광을 소정방향으로 굴절시키는 제 2 미러; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 평행노광장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 노광소재는 리드프레임인 것을 특징으로 하는 평행노광장치.
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|---|---|---|---|
| KR2019970042152U KR200286746Y1 (ko) | 1997-12-29 | 1997-12-29 | 평행노광장치 |
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|---|---|---|---|
| KR2019970042152U KR200286746Y1 (ko) | 1997-12-29 | 1997-12-29 | 평행노광장치 |
Publications (2)
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Families Citing this family (2)
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| KR100401553B1 (ko) * | 2001-06-21 | 2003-10-17 | 한국과학기술연구원 | 미러 반사를 이용한 수평 구조형 노광장치 |
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1997
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