KR200264231Y1 - 반도체웨이퍼의세정및건조장치 - Google Patents

Abstract

본 고안은 반도체 웨이퍼의 세정 및 건조 장치에 관한 것으로, 종래의 반도체 웨이퍼의 세정 및 건조 장치는 내부용기의 내측에 고정 설치되어 있는 분사관을 통하여 상기 반도체 웨이퍼를 세정할 수 있는 세정용액이나 헹굼용액이 공급됨과 동시에 상기 반도체 웨이퍼가 수납되어 있는 캐리어가 설치된 상기 내부용기가 회전하게 되어 상기 반도체 웨이퍼에 상기 세정용액이나 헹굼용액이 골고루 분사될 수 있으나, 상기 분사관이 고정되어 있어 상기 웨이퍼에 상기 세정용액이나 헹굼용액을 수평방향으로 공급하는 것이며 반도체 웨이퍼가 수평으로 수납되는 것이어서 반도체 웨이퍼에 세정용액이나 헹굼용액이 지나가다 머무는 흔적이 남게 되어 반도체 웨이퍼가 손실되게 되는 문제점이 있었다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 본 고안은 반도체 웨이퍼를 수직으로 수납함과 아울러 반도체 웨이퍼를 세정할 수 있는 세정용액과 헹굼용액을 공급할 수 있는 공급관을 상기 외부용기의 상부에 수평으로 설치하여 상기 반도체 웨이퍼에 상기 세정용액과 헹굼용액이 샤워 또는 자유낙하식으로 공급되게 되고, 또 상기 반도체 웨이퍼를 수납하는 캐리어를 회전 고정할 수 있게 하여 그 반도체 웨이퍼가 수직 또는 수평으로 수납되게 되고, 상기 반도체 웨이퍼에 세정용액과 헹굼용액의 머무름으로 인한 흔적이 방지되어 그 흔적으로 인한 반도체 웨이퍼의 손실을 방지하게 되는 효과가 있다.

Description

반도체 웨이퍼의 세정 및 건조 장치

본 고안은 반도체 웨이퍼의 세정 및 건조 장치에 관한 것으로, 특히 세정용 액이나 헹굼용액를 세정 및 건조 장치의 상부에서 샤위(SHOWER) 또는 자유낙하를시켜 웨이퍼를 세정할 수 있도록 하여 상기 세정용액이나 헹굼용액의 머무름에 의한 웨이퍼의 손실을 절감할 수 있게 한 반도체 웨이퍼의 세정 및 건조 장치에 관한 것이다.

종래의 반도체 웨이퍼의 세정장치(1)는 도면 제 1 도에서 보는 바와 같이 반도체 웨이퍼(2)를 세정한 세정용액이나 행굼용액이 외부로 배출될 수 있는 드레인(Drain)(3)이 있는 외부용기(4)가 있고, 그 외부용기(4)의 내부에는 상기 반도체 웨이퍼(2)가 수평으로 다수개 수납되는 캐리어(5)가 다수개 설치되고 상기 세정용액이나 행굼용액이 빠져나갈 수 있는 다수개의 배출구멍(미도시)이 있는 내부용기(6)가 있으며, 그 내부용기(6)의 하부의 중심부에는 회전축(7)이 연결되어 있고, 그 회전축(7)에는 상기 내부용기(6)를 회전시킬 수 있는 전동기(8)가 구비되어 있고, 또 상기 내부용기(6)의 내측의 중심부에는 소정의 직경과 길이를 가지며 그 측면에는 세정용액이나 행굼용액를 분사할 수 있는 다수개의 분사구멍(9)이 구비된 분사관(10)이 있다.

상기와 같이 구성된 반도체 웨이퍼의 세정장치(1)는 상기 내부용기(6)에 설치된 캐리어(5)에 상기 반도체 웨이퍼(2)를 수평으로 수납하고, 상기 전동기(8)에 전원을 공급하여 상기 내부용기(6)를 회전시키면서 상기 분사관(10)으로 세정용액을 공급하여 상기 반도체 웨이퍼(2)를 세정한 다음, 그 세정용액은 상기 외부용기(4)에 있는 드레인(3)를 통하여 배출되며, 상기 세정용액에 의한 세정이 끝난 후, 상기 분사관(10)으로 상기 반도체 웨이퍼(2)를 헹굴 수 있는 헹굼용액을 공급하여 그 반도체 웨이퍼(2)를 헹구고 그 헹굼용액은 상기 외부용기(4)의드레인(3)을 통하여 배출되게 되어 상기 반도체 웨이퍼(2)가 세정된다.

그러나, 상기와 같은 구조의 반도체 웨이퍼의 세정장치는 상기 내부용기의 내측에 고정 설치되어 있는 분사관을 통하며 상기 세정용액이나 헹굼용액이 공급됨과 동시에 상기 반도체 웨이퍼가 수납되어 있는 캐리어가 설치된 상기 내부용기가 회전하게 되어 상기 반도체 웨이퍼에 상기 세정용액이나 헹굼용액이 골고루 분사될 수 있으나, 상기 분사관이 고정되어 있어 상기 웨이퍼에 상기 세저용액이나 헹굼용액을 수평방향으로 공급하게 될 뿐만 아니라 웨이퍼가 수평으로 수납되어 있기 때문에 상기 반도체 웨이퍼에 세정용액이나 행굼용액이 지나가다 머무는 흔적이 남게 되어 상기 반도체 웨이퍼가 손실되게 되는 문제점이 있었다.

따라서, 본 고안의 목적은 상기의 문제점을 해결하여 반도체 웨이퍼를 수직으로 수납하고 세정용액이나 헹굼용액을 분사 또는 자유낙하식으로 공급할 수 있음과 아울러 그 세정용액이나 헹굼용액의 머무는 흔적을 막아 상기 반도체 웨이퍼의 손실을 방지할 수 있는 반도체 웨이퍼의 세정 및 건조 장치를 제공함에 있다.

본 고안에 목적은 반도체 웨이퍼를 세정할 수 있는 세정용액이나 헹굼용액이 배출될 수 있는 드레인이 구비된 소정의 크기를 갖는 외부용기와, 그 외부용기의 내측에 설치되어 전동기와 그 전동기에 연결 구동되는 회전축이 연결되어 회전할 수 있고 또 상기 세정용액이나.행굼용액이 상기 외부용기의 내측으로 배출될 수 있도록 다수개의 배출구멍이 있는 소정의 크기를 갖는 내부용기와, 상기 내부용기의 내측에 설치되어 반도체 웨이퍼가 수직으로 배치 수납되는 다수개의 캐리어와, 그리고 상기 내부용기의 상부의 외측용기에 수평으로 설치되어 상기 캐리어에 수납된반도체 웨이퍼에 상기 세정용액이나 행굼용액을 샤워 또는 자유 낙하식으로 공급할 수 있는 다수개의 공급구멍이 형성된 다수개의 용액 공급관과, 상기 외부용기의 내측 상부에는 상기 반도체 웨이퍼를 세정한 후, 건조가스를 공급하기 위한 가스 공급관이 구비되어 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼의 세정 및 건조 장치에의하여 달성된다.

상기 캐리어는 상기 내부용기에 대하여 수평 또는 수직으로 변환할 수 있도록 설치된 것을 특징으로 한다.

상기 공급관은 상기 내부용기에 연결 구동되는 회전축에 대하여 수직으로 상기 외부용기에 설치되어 상기 반도체 웨이퍼를 세정할 수 있는 세정용액과 헹굼용액을 샤워 또는 자유 낙하할 수 있도록 설치된 것을 특징으로 한다.

이하, 본 고안의 반도체 웨이퍼의 세정 및 건조 장치의 일 실시예를 첨부된 도면에 의거하여 설명한다.

도면 제 2 도는 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼의 세정 및 건조 장치의 세정시 상태를 보인 개략도이고, 도면 제 3 도는 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼의 세정 및 건조 장치의 건조시 상태를 보인 개략도이다.

상기 도면 제 2 도와 제 3 도에 도시된 바와 같이 반도체 웨이퍼를 세정한 세정용액이나 헹굼용액이 외부로 배출될 수 있는 드레인(Drain)(13)이 수개가 형성되어 있는 외부용기(14)가 있고, 그 외부용기(14)의 내부에는 상기 반도체 웨이퍼(12)가 다수개 수납되는 캐리어(15)가 다수개 설치되고, 그 캐리어(15)는 상기 반도체 웨이퍼(12)를 상기 외부용기(14)에 대하여 수직 및 수평으로 수납할 수있도록 회전 고정이 가능하도록 설치되며 그리고 상기 세정용액이나 행굼용액이 빠져나갈 수 있는 다수개의 배출구멍(미도시)이 있는 내부용기(16)가 있으며, 그 내부용기(16)의 하부의 중심부에는 회전축(17)이 연결되어 있고, 그 회전축(17)에는 상기 내부용기(16)를 회전시킬 수 있는 전동기(18)가 구비되어 있고, 또 상기 외부용기(14)의 상부에는 상기 세정용액과 헹굼용액을 상기 내측용기(16)의 내부에 설치된 캐리어(15)에 수납된 반도체 웨이퍼(12)를 세정할 수 있도록 소정의 직경을 갖고 다수개의 공급구멍(19)이 형성된 세정용액 및 헹굼용액 공급관(20)이 상기 회진축(17)에 대하여 수직방향으로 다수개가 설치된다.

상기 공급관(20)은 상기 세정용액과 헹굼용액을 샤워 또는 자유낙하하여 상기 반도체 웨이퍼(12)에 공급할 수 있도록 되어 있고, 또 상기 외부용기(14)의 내측의 상부에는 상기 반도체 웨이퍼(12)를 건조한 때 질소를 공급할 수 있는 공급관(21)이 다수개 설치되어 상기 반도체 세정 및 건조 장치(11)가 구성된다.

상기와 같이 구성된 본 고안의 반도체 웨이퍼의 세정 및 건조 장치에 의한 작용효과는 다음과 같다.

먼저, 상기와 같이 구성된 반도체 웨이퍼의 세정 및 건조 장치(11)는 상기 내부용기(16)에 설치된 캐리어(15)에 상기 반도체 웨이퍼(12)가 상기 도면 제 2 도에 도시된 바와 같이 수직으로 수납될 수 있도록 상기 캐리어(15)를 회전고정하고, 그 캐리어(15)에 상기 반도체 웨이퍼(12)를 수납한 후, 상기 공급관(20)을 통하여 상기 세정용액과 헹굼용액을 샤워 또는 자유낙하시겨 상기 반도체 웨이퍼(12)를 세정하고, 그 세정용액과 헹굼용액은 상기 외부용기(14)의 드레인(13)을 통하여 배출된다.

그리고, 상기 세정용액과 헹굼용액에 의한 세정이 끝난 후, 상기 내부용기(16)에 설치되어 있는 캐리어(15)를 상기 반도체 웨이퍼(12)가 도면 제 3 도에 도시된 바와 같이 상기 회전축(17)에 대하여 수직이 되게 회전고정하고, 상기 전동기(18)에 전원을 인가하여 상기 내부용기(16)를 회전시킴과 동시에 상기 외부용기(14)의 내측의 상부에 설치되어 있는 질소 공급관(21)으로 질소를 공급하여 상기 반도체 웨이퍼(12)를 건조시킨다.

상기와 같이 반도체 웨이퍼를 세정할 수 있는 세정용액과 행굼용액을 공급할 수 있는 공급관을 상기 외부용기의 상부에 수평으로 설치하여 상기 반도체 웨이퍼에 상기 세정용액과 헹굼용액을 샤워 또는 자유낙하식으로 공급함과 아울러 상긴 반도체 웨이퍼를 수납하는 캐리어를 회전 고정할 수 있게 하여 그 반도체 웨이퍼가 수직 또는 수평으로 수납되어 상기 반도체 웨이퍼에 세정용액과 헹굼용액의 머무름으로 인한 흔적이 방지되어 반도체 웨이퍼의 손실을 방지하게 되는 효과가 있다.

또한 반도체 웨이퍼의 세정과 헹굼 및 건조 장치를 하나의 장비에서 일괄 작업으로 수행할 수 있으므로 작업능률이 향상될 뿐만 아니라 장비의 공간점유율을 줄여 공간 활용성을 높일 수 있게 되는 효과가 있다.

제 1 도는 종래의 반도체 웨이퍼의 세정장치의 구조를 보인 개략도,

제 2 도는 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼의 세정 및 건조 장치의 세정시 상태를 보인 개략도,

제 3 도는 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼의 세정 및 건조 장치의 건조시 상태를 보인 개략도.

( 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 )

11 : 세정 및 건조 장치 12 : 반도체 웨이퍼

13 : 드레인 14 : 외부용기

15 : 캐리어 16 : 내부용기

17 : 회전축 18 : 전동기

19 공급구멍 20,21 : 공급관

Claims (1)

1. 반도체 웨이퍼를 세정할 수 있는 세정용액이나 헹굼용액이 배출될 수 있는 드레인이 구비된 소정의 크기를 갖는 외부용기와, 그 외부용기의 내측에 설치되어 전동기와 그 전동기에 연결 구동되는 회전축이 연결되어 회전할 수 있고 또 상기 세정용액이나 헹굼용액이 상기 외부용기의 내측으로 배출될 수 있도록 다수개의 배출구멍이 있는 소정의 크기를 갖는 내부용기와, 상기 내부용기의 내측에 설치되어 반도체 웨이퍼가 수직으로 배치 수납되는 다수개의 캐리어와, 그리고 상기 내부용기의 상부의 외측용기에 수평으로 설치되어 상기 캐리어에 수납된 반도체 웨이퍼에 상기 세정용액이나 헹굼용액을 샤워 또는 자유낙하식으로 공급할 수 있는 다수개의 공급구멍이 형성된 다수개의 용액 공급관과, 상기 외부용기의 내측 상부에는 상기 반도체 웨이퍼를 세정한 후, 건조가스를 공급하기 위한 가스 공급관이 구비되어 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼의 세정및 건조 장치.