KR102369008B1 - 에어펄스 발생 장치 - Google Patents

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KR102369008B1
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오경철
김호종
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주식회사 투인리브
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Abstract

에어펄스 발생 장치가 소개된다.
이를 위해 본 발명은 내부에 소정 공간이 형성되고 소정 공간과 연통되는 유입홀(110)과 배출홀(120)이 형성된 본체(100); 상기 본체(100) 내부에 위치하고, 상기 유입홀(110)로 유입된 제1에어(A)에 의해 회전할 수 있는 복수개의 블레이드(210)가 그 외주면에 설치되고, 그 일측에 소정 높이로 돌출된 체결홈(220)이 형성된 회전구(230)로 이루어진 회전부(200); 상기 체결홈(220)에 끼움결합 될 수 있도록 일측에 형성된 체결돌기(310)와 타측에 제2에어(B)가 유입될 수 있는 가이드홀(320) 및 상기 가이드홀(320)과 내부에서 연통되어 외부로 제2에어(B)가 배출될 수 있는 펄스홀(330)이 형성된 펄스디스크(300); 및 내부에 상기 펄스디스크(300)가 위치한 채 회전할 수 있는 소정공간이 형성되고, 외부에서 상기 가이드홀(320) 측으로 에어를 공급할 수 있는 펄스인입홀(410)이 형성되고, 상기 펄스홀(330)과 동일한 위치에 있을때 외부로 제2에어(B)가 배출될 수 있는 펄스배출홀(420)이 형성된 펄스하우징(400)을 포함한다.

Description

에어펄스 발생 장치{APPARATUS FOR GENERATING AIR PULSE}
본 발명은 에어펄스 발생 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 웨이퍼 제조공정 중 웨이퍼에 부착되어 있는 이물질을 제거하기 위한 세정공정에서 사용되는 세정장치는 세정액이 채워진 세정조와, 건조기가 구비되고, 카세트에 수납한 복수개의 웨이퍼를 상기 공정부로 이송하기 위한 로봇 등의 이송장치가 부가되어, 로봇 암 등이 카세트에 수납한 복수개의 웨이퍼를 세정조에 침지시킨 후 건조하는 베스식 액체세정이 대부분이었다.
그러나, 종래의 베스식 세정장치는 다수개의 웨이퍼를 세정조에 담궈서 한번에 세정하여야 하기 때문에 설비의 규모가 커져 작업공간에 제한을 받을 뿐 아니라, 다수개의 웨이퍼가 하나의 베스에 담궈져 세정됨으로 인해 균일한 세정이 이루어지지 못하는 문제점이 있었다.
한편, 상기와 같은 액체에 의한 세정 이외에 최근에는 에어를 이용하여 웨이퍼 상의 이물질을 제거하는 기술이 개발되고 있다.
즉, 부유성 이물질을 제거하기 위해 연속적인 에어 블로우 또는 진공을 이용한다.
그러나, 습식 혹은 건식에 의한 이물질 제거는 여전히 효율적이지 못하고, 초미세먼지는 제거되지 않는 등의 문제가 발생하였다.
이에 본 발명은 펄스화된 에어를 공급하여 미세먼지 혹은 초미세먼지를 효율적으로 제거하기 위한 장치에 관한 것이다.
KR 10-1485356 (2015.01.16 등록)
본 발명은 실린더 형식의 펄스발생기를 지양하고, 별도의 추가적인 장비 없이 펄스화된 공기를 웨이퍼 상에 분사하여 이물질을 제거하는 장치를 제공함에 그 목적이 있다.
더 나아가 본 발명은 반도체 시스템 이외에 미세먼지 혹은 초미세먼지를 제거하기 위한 다른 기술분야에도 적용 가능한 새로운 개념의 펄스화된 공기에 의한 에어펄스 발생 장치에 관한 것이다.
에어펄스 발생 장치가 소개된다.
이를 위해 본 발명은 내부에 소정 공간이 형성되고 소정 공간과 연통되는 유입홀(110)과 배출홀(120)이 형성된 본체(100); 상기 본체(100) 내부에 위치하고, 상기 유입홀(110)로 유입된 제1에어(A)에 의해 회전할 수 있는 복수개의 블레이드(210)가 그 외주면에 설치되고, 그 일측에 소정 높이로 돌출된 체결홈(220)이 형성된 회전구(230)로 이루어진 회전부(200); 상기 체결홈(220)에 끼움결합 될 수 있도록 일측에 형성된 체결돌기(310)와 타측에 제2에어(B)가 유입될 수 있는 가이드홀(320) 및 상기 가이드홀(320)과 내부에서 연통되어 외부로 제2에어(B)가 배출될 수 있는 펄스홀(330)이 형성된 펄스디스크(300); 및 내부에 상기 펄스디스크(300)가 위치한 채 회전할 수 있는 소정공간이 형성되고, 외부에서 상기 가이드홀(320) 측으로 에어를 공급할 수 있는 펄스인입홀(410)이 형성되고, 상기 펄스홀(330)과 동일한 위치에 있을때 외부로 제2에어(B)가 배출될 수 있는 펄스배출홀(420)이 형성된 펄스하우징(400)을 포함한다.
상기와 같은 구성으로 이루어진 본 발명에 의한다면, 종래 그 구조가 복잡하고 생산 단가도 높은 펄스생성기를 대체할 수 있는 새로운 개념의 펄스발생기가 제공되는 이점이 있다.
반도체 제조 공정에서 가장 중요한 세정 작업이 종래에 비해 향상 될 수 있는 이점이 있다.
이물질에 의한 찍힘, 크랙 등과 같은 손상이 없는 양질의 세정 효과가 기대된다.
반도체 시스템 이외에 미세먼지 혹은 초미세먼지의 제거가 필요한 경우 본 발명이 적용될 수 있는 등 다양한 효과가 구현된다.
도 1과 도 2는 본 발명의 체결 상태를 나타내는 도면,
도 3과 도 4는 본체(100)의 양 측면에 대한 도면이고, 도 5는 본체(100)의 측면도,
도 6은 제1회전공간(910)에 회전부(200)가 위치한 상태를 나타내고,
도 7은 제2회전공간(920)에 체결홈(220)이 돌출된 상태를 나타내고,
도 8은 제2베어링부재(600)가 체결홈(220) 외주면을 감싼 채 회전결합될 수 있는 상태를 나타내는 도면,
도 9는 회전부(200)의 사시도이고, 도 10은 측면도,
도 11은 케이스(130)의 사시도이고, 도 12는 회전부(200)가 케이스(130)에 체결된 상태를 나타내는 도면,
도 13과 도 14는 펄스디스크(300)의 양 측면을 나타내는 도면이고, 도 15는 평면도,
도 16과 도 17은 체결홈(220)과 체결돌기(310)를 매개로 펄스디스크(300)가 회전부(200)에 체결된 상태를 나타내는 도면이고,
도 18과 도 19는 본체(100)에 펄스디스크(300)와 회전부(200)가 체결된 상태를 나타내는 도면,
도 20과 도 21은 펄스하우징(400)의 양 측면을 나타내는 도면이고, 도 22는 측면을 나타내는 도면,
도 23은 펄스디스크(300)가 펄스하우징(400)에 체결된 상태를 나타내는 도면,
도 24와 도 25는 회전가이드부(800)를 나타내는 도면,
도 26은 제6회전공간(960)을 나타내는 도면,
도 27은 제3베어링부재(700)가 제5회전공간(950)에 회전가이드부(800)가 제6회전공간(960)에 위치한 도면,
도 28은 펄스디스크(300)에 제3베어링부재(700)와 회전가이드부(800)가 설치된 상태를 나타내는 도면이다.
이하 첨부된 도면을 참조로 본 발명인 에어펄스 발생 장치의 바람직한 실시예를 설명한다.
도 1과 도 2는 본 발명의 체결 상태를 나타내는 도면이다.
도시된 바와 같이 본 발명은 내부에 소정 공간이 형성되고 소정 공간과 연통되는 유입홀(110)과 배출홀(120)이 형성된 본체(100)를 개시한다.
본체(100)에 대해 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
도 3과 도 4는 본체(100)의 양 측면에 대한 도면이고, 도 5는 본체(100)의 측면도이다.
도시된 바와 같이 본체(100)는 직육면체의 형상으로 되어 있고, 그 일측에는 이하 설명할 회전부(200)가 위치한 채 회전될 수 있는 소정 공간이 형성되어 있다.
이 소정 공간은 제1회전공간(910)으로 회전부(200)에 형성된 블레이드(210)가 유입홀(110)로 유입된 제1에어(A)에 의한 타격으로 회전하게 되고, 회전부(200)를 회전시킨 뒤 제1에어(A)가 배출홀(120)을 따라 외부로 배출된다.
제1회전공간(910)은 소정 깊이의 원형으로 형성되고 있고, 이 원형의 내주면에는 유입홀(110)과 연통되는 유입구(111)와 배출홀(120)과 연통되는 배출구(121)가 형성되어 있다.
도 5에는 이러한 유입홀(110)과 배출홀(120)이 같은 면에 형성되어 있으나, 도시된 바와 같이 반드시 같은 면에 형성될 필요는 없고, 서로 다른 면에 형성될 수 있다.
서로 다른 면에 유입홀(110)과 배출홀(120)이 형성되는 경우 각각 연통되는 유입구(111)와 배출구(121) 역시 제1회전공간(910)의 원형의 내주면에 서로 다른 위치에 형성된다.
즉, 사용자의 선택 또는 설치되는 작업 환경(본 발명이 설치되는 환경 조건)에 따라 제1에어(A)의 유입과 배출시키는 배출홀(120)을 달리 설정할 수 있다.
유입홀(110)에 의해 유입된 제1에어(A)가 블레이드(210)를 타격하여 회전부(200)를 회전시키되, 리크된 제1에어(A)에 의해 내부에 압력이 차는 경우 제1베어링부재(500)가 원활하게 회전되지 않는 문제가 발생하는바 이하 설명할 벤트홀(V)에 의해 리크된 제1에어(A)를 외부로 배출하게 된다.
외부로 배출하지 않는 리크된 제1에어(A)가 제1베어링부재(500)를 일 방향으로 밀게 되어(제1베어링부재(500)에 압력이 가해진다.) 원활한 회전부(200)의 회전이 이루어지지 않게 되기 때문이다.
즉, 제1베어링부재(500)에 압력이 걸리지 않고 원활하게 회전될 수 있도록 하기 위함이다.
한편, 기 설명한 제1에어(A)와 이하 후술할 제2에어(B)는 도면에는 도시되어 있지 않지만 별도의 에어공급기(컴프레서 포함)를 통해 본 발명에 에어를 공급하게 된다.
도 4에는 체결홈(220)이 위치할 수 있는 별도의 제2회전공간(920)이 소정 깊이의 원형으로 형성되어 있고, 이하 후술할 제2베어링부재(600)가 이 제2회전공간(920)에서 회전하고, 체결돌기(310)가 체결홈(220)에 끼워진채 펄스디스크(300)가 회전하게 된다.
도 4와 도 5에는 소정 지름의 벤트홀(V)이 다수개 형성되어 있은데, 해당 벤트홀(V)을 통해 불필요한 에어가 외부로 배출되게 하는 기능을 수행하며, 내부에 걸리는 압력을 외부로 배출하는 기능을 수행하여 본 발명을 이루는 구성들이 원활하게 작동되도록 유도한다.
도 6은 제1회전공간(910)에 회전부(200)가 위치한 상태를 나타내고, 도 7은 제2회전공간(920)에 체결홈(220)이 돌출된 상태를 나타내고, 도 8은 제2베어링부재(600)가 체결홈(220) 외주면을 감싼 채 회전 결합될 수 있는 상태를 나타내는 도면이다.
그 다음으로, 본체(100) 내부에 위치하고, 유입홀(110)로 유입된 제1에어(A)에 의해 회전할 수 있는 복수개의 블레이드(210)가 그 외주면에 설치된 회전부(200)가 개시된다.
회전부(200)가 위치하는 공간은 기 설명한 제1회전공간(910)이다.
도 9는 회전부(200)의 사시도이고, 도 10은 측면도이다.
유입홀(110)로 유입된 제1에어(A)는 유입구를 지나 블레이드(210)를 타격하여 그 힘에 의해 회전부(200)가 회전하게 되고, 제1에어(A)는 배출구를 지난 뒤 배출홀(120)을 따라 외부로 배출된다.
회전부(200)가 회전하게 되면, 회전부(200)에 결합된 펄스디스크(300)가 회전하게 된다.
회전부(200)의 일측에는 소정 높이로 돌출된 채 체결홈(220)이 형성된 회전구(230)와 그 타측에 회전부(200)와 회전 가능하게 결합된 제1베어링부재(500)가 개시된다.
제1베어링부재(500)가 위치한 채 회전 가능하게 결합될 수 있는 소정 공간이 형성된 케이스(130)가 개시된다.
도 11은 케이스(130)의 사시도이고, 도 12는 회전부(200)가 케이스(130)에 체결된 상태를 나타내는 도면이다.
도시된 바와 같이 케이스(130)에는 소정 깊이의 제3회전공간(930)이 형성되어 있고, 이 제3회전공간(930)에 제1베어링부재(500)가 위치한 채 회전 가능하게 결합된다.
한편, 체결홈(220)에 끼움 결합될 수 있도록 일측에 형성된 체결돌기(310)와 타측에 제2에어(B)가 유입될 수 있는 가이드홀(320) 및 가이드홀(320)과 내부에서 연통되어 외부로 제2에어(B)가 배출될 수 있는 펄스홀(330)이 형성된 펄스디스크(300)가 개시된다.
도 13과 도 14는 펄스디스크(300)의 양 측면을 나타내는 도면이고, 도 15는 평면도이다.
도시된 바와 같이, 펄스디스크(300)는 원판형으로 되어 있으며, 일측에는 제2에어(B)가 펄스디스크(300) 내부로 유입될 수 있는 가이드홀(320)이 돌출 형성되어 있으며, 타측에는 기 설명한 체결홈(220)에 끼워진 채 회전부(200)가 회전시 연동하여 회전될 수 있는 체결돌기(310)가 형성되어 있다.
가이드홀(320)을 따라 유입된 제2에어(B)는 펄스홀(330)과 펄스배출홀(420)이 동일한 위치에 있을 때 외부로 배출되면서 펄스 에어를 형성한다.
도 16과 도 17은 체결홈(220)과 체결돌기(310)를 매개로 펄스디스크(300)가 회전부(200)에 체결된 상태를 나타내는 도면이고, 도 18과 도 19는 본체(100)에 펄스디스크(300)와 회전부(200)가 체결된 상태를 나타내는 도면이다.
한편, 내부에 펄스디스크(300)가 위치한 채 회전할 수 있는 소정공간이 형성되고, 외부에서 가이드홀(320) 측으로 에어를 공급할 수 있는 펄스인입홀(410)이 형성되고, 펄스홀(330)과 동일한 위치에 있을 때 외부로 제2에어(B)가 배출될 수 있는 펄스배출홀(420)이 형성된 펄스하우징(400)이 개시된다.
도 20과 도 21은 펄스하우징(400)의 양 측면을 나타내는 도면이고, 도 22는 측면을 나타내는 도면이다.
도시된 바와 같이 펄스하우징(400)에는 소정 깊이로 원형의 제4회전공간(940)이 형성되어 있고, 이 제4회전공간(940)에서 펄스디스크(300)가 회전하게 된다.
펄스하우징(400)에는 제2에어(B)가 유입될 수 있는 펄스인입홀(410)이 형성되어 있고, 펄스인입홀(410)로 유입된 제2에어(B)는 가이드홀(320)을 따라 유입된 후 펄스홀(330)과 펄스배출홀(420)이 동일한 위치에 있을 때 외부로 펄스화된 에어가 배출된다.
도면상에는 도시되어 있지 않지만 펄스홀(330)은 사용자의 선택에 따라 복수개가 형성될 수 있으며, 1개의 펄스홀(330)이 형성된 경우에는 펄스디스크(300) 내부에서 가이드홀(320)과 펄스홀(330)이 연통되어 있지만, 2개의 펄스홀(330)이 형성된 경우에는 펄스디스크(300)로 연장된 가이드홀(320)이 일 지점에서 분기된 후 2개의 펄스홀(330)을 형성하게 된다.
물론 이하 설명하겠지만, 상기와 같이 펄스디스크(300) 내부에서 분기되거나, 일방향으로만 분기될 수 있으나, 바람직하게는 일정한 수준 이상의 압력이 있는 제2에어(B)가 분사될 수 있도록 펄스디스크(300) 내부는 빈 공간으로 형성된다.
특히, 펄스홀(330)이 복수개 형성되는 경우 펄스화 자체가 상쇄될 수 있는바 바람직하게는 한개의 펄스홀(330)이 본 발명에 적용된다.
다시 도 20을 참조하면, 제4회전공간(940) 이외에 펄스하우징(400)에는 소정 깊이의 제5회전공간(950)이 더 형성되어 있다.
이 제5회전공간(950)에 제3베어링부재(700)가 회전 결합될 수 있도록 위치한다.
도 23은 펄스디스크(300)가 펄스하우징(400)에 체결된 상태를 나타내는 도면이다.
한편, 기 설명한 바와 같이 체결홈(220)에는 별도의 제2베어링부재(600)가, 가이드홀(320)에도 별도의 제3베어링부재(700)가 회전 가능하게 결합된 것을 특징으로 하고, 제3베어링부재(700) 외측에서 가이드홀(320) 측으로 회전가이드부(800)가 나사 체결되고, 회전가이드부(800)는 펄스하우징(400)의 소정 공간 내에 위치하는 것을 특징으로 한다.
회전가이드부(800)는 도 20에 도시된 제6회전공간(960)에 위치한다.
도 24와 도 25는 회전가이드부(800)를 나타내는 도면이고, 그 외주면에 나사산이 형성되어 있으며, 이 나사산은 가이드홀(320)의 내주면에 형성된 나사산을 통해 나사 결합된다.
기 설명한 바와 같이 펄스하우징(400)은 내부를 향해 순차적으로 그 반경이 작아지는 각각의 회전 공간이 형성되는데, 반경이 큰 순서대로 제4회전공간(940), 제5회전공간(950) 및 제6회전공간(960)으로 이루어지며, 각각의 회전공간에 순차적으로 펄스디스크(300), 제3베어링부재(700) 및 회전가이드부(800)가 위치하는 것을 특징으로 한다.
회전가이드부(800)는 일종의 너트이며, 해당 회전가이드부(800)를 통해 제3베어링부재(700)의 외경이 아닌 내경이 회전되도록 유도한다.
또한, 회전가이드부(800)는 유입되는 제2에어(B)의 리크를 방지하는 기능도 수행한다.
제3베어링부재(700)의 외경은 펄스하우징(400)에 밀착된 채 고정된다.
이때, 펄스하우징(400)의 소정 위치에는 유입된 제2에어(B)로 인해 제3베어링부재(700)에 압력이 가해져 제3베어링부재(700)의 회전이 원활하게 이루어지지 않는 것을 방지하기 위해 벤트홀(V)이 형성되어 있다.
중심에 형성된 홀은 펄스인입홀(410)과 가이드홀(320)과 연통되게 체결되며, 도 26에 도시된 바와 같이 제6회전공간(960)에 회전 가능하게 위치한다.
제6회전공간(960)은 제5회전공간(950)에 비에 더 깊게 형성되어 있고, 반경은 제5회전공간(950)보다 작게 형성되어 있다.
도 27은 제3베어링부재(700)이 제5회전공간(950)에 회전가이드부(800)가 제6회전공간(960)에 위치한 도면을 나타내며, 도 28은 펄스디스크(300)에 제3베어링부재(700)와 회전가이드부(800)가 설치된 상태를 나타내는 도면이다.
기 설명한 바와 같이 유입홀(110)로 인입된 제1에어(A)가 회전부(200)의 블레이드(210)를 타격하여 회전부(200)의 회전을 유도하고, 회전부(200)의 회전에 의해 체결홈(220)과 체결돌기(310)의 매개로 결합된 펄스디스크(300)가 회전하게 된다.
이때, 펄스인입홀(410)을 따라 유입된 제2에어(B)가 회전가이드부(800)의 홀(H)을 따라 이동하고, 이동된 제2에어(B)는 가이드홀(320)을 따라 펄스디스크(300)의 내부로 유입된 후 펄스디스크(300)의 회전시 펄스홀(330)과 펄스배출홀(420)이 동일한 위치에 있을 때 외부로 펄스화된 에어가 배출되는 것을 특징으로 한다.
상기 측면케이스(130)의 소정 위치와 상기 본체(100)의 소정 위치 및 상기 펄스하우징(400)의 소정 위치에는 벤트홀(V)이 설치된 것을 특징으로 한다.
이러한 벤트홀(V)에 의해 제1에어(A) 또는 제2에어(B)의 리크가 발생되더라도 외부로 배출될 수 있어 제1베어링부재(500), 제2베어링부재(600) 및 제3베어링부재(700)에 불필요한 압력이 가해지지 않고 원활하게 회전될 수 있다.
상기와 같은 구조로 이루어진 본 발명에 의한다면, 펄스화된 에어가 발생되어 미세먼지,파티클이 발생할 수 있는 반도체 공정에 사용되어 클린화작업이 진행될 수 있고, 더 나아가 본 발명에 의한다면 반도체 공정에 사용되는 경우 이외에 클린작업이 필요한 모든 산업공정에 사용될 수 있는 등 다양한 효과가 구현된다.
100 : 본체 200 : 회전부
300 : 펄스디스크 400 : 펄스하우징
500 : 제1베어링부재 600 : 제2베어링부재
700 : 제3베어링부재 800 : 회전가이드부

Claims (5)

  1. 내부에 소정 공간이 형성되고 소정 공간과 연통되는 유입홀(110)과 배출홀(120)이 형성된 본체(100);
    상기 본체(100) 내부에 위치하고, 상기 유입홀(110)로 유입된 제1에어(A)에 의해 회전할 수 있는 복수개의 블레이드(210)가 그 외주면에 설치되고, 그 일측에 소정 높이로 돌출된 체결홈(220)이 형성된 회전구(230)로 이루어진 회전부(200);
    상기 본체(100)의 일측에서 상기 회전부(200)를 감싸면서 체결되는 케이스(130);
    상기 체결홈(220)에 끼움 결합 될 수 있도록 일측에 형성된 체결돌기(310)와 타측에 제2에어(B)가 유입될 수 있는 가이드홀(320) 및 상기 가이드홀(320)과 내부에서 연통되어 외부로 제2에어(B)가 배출될 수 있는 펄스홀(330)이 형성된 펄스디스크(300); 및
    내부에 상기 펄스디스크(300)가 위치한 채 회전할 수 있는 소정 공간이 형성되고, 외부에서 상기 가이드홀(320) 측으로 에어를 공급할 수 있는 펄스인입홀(410)이 형성되고, 상기 펄스홀(330)과 동일한 위치에 있을 때 외부로 제2에어(B)가 배출될 수 있는 펄스배출홀(420)이 형성된 펄스하우징(400)을 포함하는, 에어펄스 발생 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 회전부(200)의 타측에 제1베어링부재(500)가 회전가능하게 결합되고,
    상기 체결홈(220)에도 제2베어링부재(600)가 회전가능하게 결합되며, 상기 가이드홀(320)에도 제3베어링부재(700)가 회전가능하게 결합된 것을 특징으로 하고,
    상기 제3베어링부재(700)의 외측에서 상기 가이드홀(320) 측으로 내부에 홀이 형성된 회전가이드부(800)가 나사 체결되고, 회전가이드부(800)는 상기 펄스하우징(400)의 소정 공간 내에 위치하는 것을 특징으로 하는, 에어펄스 발생 장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 유입홀(110)로 인입된 제1에어(A)가 상기 회전부(200)의 블레이드(210)를 타격하여 상기 회전부(200)의 회전을 유도하고, 상기 회전부(200)의 회전에 의해 상기 체결홈(220)과 상기 체결돌기(310)를 매개로 결합된 상기 펄스디스크(300)가 회전하는 것을 특징으로 하되,
    상기 펄스인입홀(410)을 따라 유입된 제2에어(B)가 상기 회전가이드부(800)의 홀을 따라 이동하고, 상기 가이드홀(320)을 따라 이동된 뒤 상기 펄스디스크(300)의 내부로 유입된 후, 상기 펄스디스크(300)의 회전시 상기 펄스홀(330)과 상기 펄스배출홀(420)이 동일한 위치에 있을 때 외부로 펄스화된 에어가 배출되는 것을 특징으로 하는, 에어펄스 발생 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 펄스디스크(300)의 내부는 빈 공간으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하고,
    상기 빈 공간으로 제2에어(B)가 유입된 후 상기 펄스홀(330)과 상기 펄스배출홀(420)이 동일한 위치에 오기 전까지 상기 빈 공간으로 인입된 제2에어(B)의 압력이 증가하는 것을 특징으로 하며,
    압력이 증가된 제2에어(B)가 상기 펄스홀(330)과 상기 펄스배출홀(420)이 동일한 위치에 있을 때 외부로 배출되는 것을 특징으로 하는, 에어펄스 발생 장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 펄스하우징(400)은
    내부를 향해 순차적으로 그 반경이 작아지는 각각의 회전공간이 형성되고,
    상기 각각의 회전공간에 순차적으로 펄스디스크(300), 제3베어링부재(700) 및 회전가이드부(800)가 위치하는 것을 특징으로 하는, 에어펄스 발생 장치.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR860002656A (ko) * 1984-09-28 1986-04-28 로버트 제이, 에드워즈 전자-공기식 변환기
KR101485356B1 (ko) 2014-06-17 2015-01-27 주식회사 하이퓨리티 Led 및 반도체 웨이퍼 챔버 세정시에 사용되는 세정혼합가스 공급장치 및 이의 구동방법
KR20190119735A (ko) * 2018-04-13 2019-10-23 이건일 공압 펄스 발생장치 및 이를 이용한 정량공급장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR860002656A (ko) * 1984-09-28 1986-04-28 로버트 제이, 에드워즈 전자-공기식 변환기
KR101485356B1 (ko) 2014-06-17 2015-01-27 주식회사 하이퓨리티 Led 및 반도체 웨이퍼 챔버 세정시에 사용되는 세정혼합가스 공급장치 및 이의 구동방법
KR20190119735A (ko) * 2018-04-13 2019-10-23 이건일 공압 펄스 발생장치 및 이를 이용한 정량공급장치

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