KR200211268Y1 - 반도체웨이퍼노광장비의공정챔버안정화장치 - Google Patents

Abstract

본 고안은 반도체 웨이퍼 노광장비의 공정챔버 안정화장치에 관한 것으로, 본 고안은 공정챔버의 챔버도어측 내벽면과 함께 소정의 내부공간을 이루는 동시에 그 내부공간에 캐리어 엘리베이터를 수용하는 이물질 차단실이 상기한 챔버도어의 타측면에 차단실 도어를 구비하여 설치되되, 상기 이물질 차단실의 일측 내벽에는 웨이퍼의 수납시 외부로부터 유입된 이물질을 강제로 배기시키는 송풍기가 장착되고, 그 송풍기의 타측 벽에는 이물질 차단실내의 이물질을 공정챔버 외부로 배출시키도록 흡기수단이 구비된 배기관이 연통 설치되어 구성됨으로써, 웨이퍼의 입출시 공정챔버가 개방되더라도 외부의 이물질이 이물질 차단실에서 정체되었다가 강제로 배기되어 장비의 오염 및 광학계의 디포커스를 방지할 수 있는 효과가 있다.

Description

반도체 웨이퍼 노광장비의 공정챔버 안정화장치{APPARATUS FOR STABLIZING PROCESS CHAMBER OF OPTICAL EXPOSURE SYSTEM IN SEMICONDUCTOR}

본 고안은 반도체 웨이퍼 노광장비의 공정챔버에 관한 것으로, 특히 내부에 이물질 차단실을 형성하여 웨이퍼의 세팅시 외부로부터 이물질이 장비 전체로 침투하는 것을 방지한 반도체 웨이퍼 노광장비의 공정챔버 안정화장치에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 웨이퍼 노광장비인 스테퍼는, 공정챔버의 내부에 카세트 단위로 묶인 웨이퍼가 안착되기 위한 웨이퍼 로더 및 웨이퍼 언로더, 레티클 로더 및 레티클 언로더, 조명계, 광학계, 웨이퍼 스테이지 등으로 구성되어 있다.

이러한 스테퍼의 공정챔버(1)는 도 1에 도시된 바와 같이, 통상 단일벽으로 형성되어 그 일측벽에 웨이퍼가 입출되기 위한 챔버도어(2)가 설치되어 있고, 그 챔버도어(2)의 내측에는 카세트에 수납된 웨이퍼가 안치되기 위한 웨이퍼 로더 및 웨이퍼 언로더(이하, 캐리어 엘리베이터로 통칭함)(3)가 설치되어 있으며, 레티클 로더 및 레티클 언로더(미도시), 조명계(미도시), 광학계(미도시), 웨이퍼 스테이지(미도시) 등이 각각 단일벽으로 형성된 공정챔버(1)의 내부에 설치되어 있다.

상기와 같이 구성된 종래 공정챔버의 캐리어 엘리베이터(3)에 웨이퍼를 세팅시키기 위하여는, 먼저 챔버도어(2)를 개방시켜 작업자가 웨이퍼가 담겨진 카세트(미도시)를 수동으로 캐리어 엘리베이터(3)에 옮겨 세팅을 실시한 다음에 상기 챔버도어(2)를 닫고 소정의 노광공정을 실시하게 된다.

이후, 각 웨이퍼에 대한 소정의 노광공정이 종료되면, 상기 챔버도어(2)를 다시 개방하고 작업자가 웨이퍼가 담겨진 카세트를 역시 수동으로 캐리어 엘리베이터(3)로부터 옮겨 언로딩을 실시하게 되는 것이었다.

그러나, 상기와 같이 단일벽으로만 밀폐되는 종래의 공정챔버에 있어서는, 웨이퍼가 수납된 카세트(미도시)를 챔버(1) 내부로 입출시키기 위하여 챔버도어(2)를 개방하게 될 때에, 챔버(1) 내부가 챔버 외부에 완전개방되어 외부의 이물질이 공기중에 포함되거나 또는 작업자의 손을 통해 챔버(1)의 내부로 유입되고, 이 챔버(1)의 내부로 유입된 이물질이 챔버내부를 오염시키거나 웨이퍼 척(미도시)에 들러붙어 광학계의 디포커스를 유발시켜 결국 칩불량 및 생산성을 저하시키게 되는 문제점이 있었다.

따라서, 본 고안은 상기와 같은 종래의 공정챔버가 가지는 문제점을 감안하여 안출한 것으로, 웨이퍼의 입출시 공정챔버가 개방되더라도 외부의 이물질에 의한 장비의 오염 및 광학계의 디포커스를 방지할 수 있는 반도체 웨이퍼 노광장비의 공정챔버 안정화장치를 제공하려는데 목적이 있다.

도 1a은 종래 공정챔버의 내부를 개략적으로 보인 횡단면도.

도 1b는 종래 공정챔버를 측면에서 보인 종단면도.

도 2는 본 고안에 의한 공정챔버의 내부를 개략적으로 보인 횡단면도.

도 3은 본 고안에 의한 공정챔버를 측면에서 보인 종단면도.

도 4는 본 고안에 의한 공정챔버를 개략적으로 보인 정면도.

***도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명***

10 : 공정챔버 11 : 챔버도어

12 : 이물질 차단실 12a : 차단실 도어

13 : 이온화기가 장착된 송풍기 14 : 배기관

이와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여, 웨이퍼가 안치될 캐리어 엘리베이터가 내부에 배치된 공정챔버의 일측벽에 웨이퍼의 입출을 위한 챔버도어가 구비되어 이루어지는 반도체 웨이퍼 노광장비에 있어서 ;

상기 공정챔버의 챔버도어측 내벽면과 함께 소정의 내부공간을 이루는 동시에 그 내부공간에 캐리어 엘리베이터를 수용하는 이물질 차단실이 상기한 챔버도어의 타측면에 차단실 도어를 구비하여 설치되되, 상기 이물질 차단실의 일측 내벽에는 웨이퍼의 수납시 외부로부터 유입된 이물질을 강제로 배기시키는 송풍기가 장착되고, 그 송풍기의 타측 벽에는 이물질 차단실내의 이물질을 공정챔버 외부로 배출시키도록 흡기수단이 구비된 배기관이 연통 설치되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 노광장비의 공정챔버 안정화장치가 제공된다.

이하, 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼 노광장비의 공정챔버 안정화장치를 첨부도면에 도시된 일실시예에 의거하여 상세하게 설명한다.

도 2는 본 고안에 의한 공정챔버의 내부를 개략적으로 보인 횡단면도이고, 도 3은 본 고안에 의한 공정챔버를 측면에서 보인 종단면도이며, 도 4는 본 고안에 의한 공정챔버를 개략적으로 보인 정면도이다.

이에 도시된 바와 같이 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼 노광장비의 공정챔버(10)는, 그 내부에 웨이퍼가 안치되기 위한 캐리어 엘리베이터(3), 레티클 로더 및 레티클 언로더(미도시), 조명계(미도시), 광학계(미도시), 웨이퍼 스테이지(미도시) 등이 구비됨과 아울러 일측벽에는 챔버도어(11)가 형성되는데, 상기 챔버도어(11)의 개방시 캐리어 엘리베이터(3)만이 챔버(10) 외부에 노출되도록 하는 것은 물론, 상기 챔버도어(11)의 폐쇄시에만 개방되어 웨이퍼를 노광위치로 입출시키기 위한 차단실 도어(12a)가 구비된 이물질 차단실(12)이 상기한 캐리어 엘리베이터(3)를 수용하여 공정챔버(10)의 내부에 형성된다.

상기 이물질 차단실(12)은 일측벽에는 외부로부터 유입된 이물질을 강제로 배기시키기 위한 송풍기(13)가 장착되고, 그 송풍기(13)의 타측벽에는 이물질 차단실(12)내의 이물질을 공정챔버(10) 외부로 배출시키기 위한 흡기수단(미도시)을 구비한 배기관(14)이 공정챔버(10)의 외곽까지 관통되도록 장착된다.

여기서, 상기 송풍기(13)는 외부로부터 유입된 이물질의 정전기를 제거하여 강제배기율을 향상시키기 위한 이온화기(Ionizer)(미부호)가 장착된다.

도면중 종래와 동일한 부분에 대하여는 동일한 부호를 부여하였다.

상기와 같은 반도체 웨이퍼 노광장비의 공정챔버에 웨이퍼를 로딩시키는 과정은 다음과 같다.

먼저, 상기 이물질 차단실(12)의 차단실 도어(12a)를 폐쇄시킨 상태에서 챔버도어(11)를 개방시켜 웨이퍼가 수납된 카세트를 캐리어 엘리베이터(3)에 적치시킨 이후에, 상기 챔버도어(11)를 다시 폐쇄시킴과 동시에 일정한 시간동안 이온화기(미부호)와 함께 송풍기(13)를 작동시켜 웨이퍼의 세팅시 이물질 차단실(12)로 유입되었던 각종 오염물질 등을 배기관(14)으로 배출시키게 된다.

이때, 상기 송풍기(13)와 함께 이온화기(미부호)를 작동시키므로, 그 송풍기(13)에 의한 공기의 흐름을 따라 전자가 같이 이동하면서 이물질 차단실(12)의 내벽 또는 웨이퍼 척(미도시)에 달라붙어 있던 이물질을 대전시켜 정전기를 제거하게 되어 이물질이 원활하게 배기되는 것이다.

이렇게, 일정한 안정화시간이 지난 다음에는 차단실 도어(12a)가 개방되어 웨이퍼가 한장씩 노광위치로 이송되어 소정의 노광작업을 마친 다음에는 다시 캐리어 엘리베이터(3)로 반송되고, 이후 상기 차단실 도어(12a)가 닫힌 다음에 챔버도어(11)를 개방시켜 노광공정을 마친 웨이퍼를 카세트 채로 인출하는 일련의 과정을 반복하게 되는 것이다.

이상에서 설명한 바와 같이 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼 노광장비의 공정챔버 안정화장치는, 공정챔버의 챔버도어측 내벽면과 함께 소정의 내부공간을 이루는 동시에 그 내부공간에 캐리어 엘리베이터를 수용하는 이물질 차단실이 상기한 챔버도어의 타측면에 차단실 도어를 구비하여 설치되되, 상기 이물질 차단실의 일측 내벽에는 웨이퍼의 수납시 외부로부터 유입된 이물질을 강제로 배기시키는 송풍기가 장착되고, 그 송풍기의 타측 벽에는 이물질 차단실내의 이물질을 공정챔버 외부로 배출시키도록 흡기수단이 구비된 배기관이 연통 설치되어 구성됨으로써, 웨이퍼의 입출시 공정챔버가 개방되더라도 외부의 이물질이 이물질 차단실에서 정체되었다가 강제로 배기되어 장비의 오염 및 광학계의 디포커스를 방지할 수 있는 효과가 있다.

Claims (2)

1. 웨이퍼가 안치될 캐리어 엘리베이터가 내부에 배치된 공정챔버의 일측벽에 웨이퍼의 입출을 위한 챔버도어가 구비되어 이루어지는 반도체 웨이퍼 노광장비에 있어서 ;

   상기 공정챔버의 챔버도어측 내벽면과 함께 소정의 내부공간을 이루는 동시에 그 내부공간에 캐리어 엘리베이터를 수용하는 이물질 차단실이 상기한 챔버도어의 타측면에 차단실 도어를 구비하여 설치되되,

   상기 이물질 차단실의 일측 내벽에는 웨이퍼의 수납시 외부로부터 유입된 이물질을 강제로 배기시키는 송풍기가 장착되고, 그 송풍기의 타측 벽에는 이물질 차단실내의 이물질을 공정챔버 외부로 배출시키도록 흡기수단이 구비된 배기관이 연통 설치되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 노광장비의 공정챔버 안정화장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 송풍기는 외부로부터 유입된 이물질의 정전기를 제거하도록 이온화기가 구비되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 노광장비의 공정챔버 안정화장치.