KR20020087353A - 편광자와 그 사용을 위한 수정판을 가지는 광학 이미지시스템 - Google Patents

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KR20020087353A
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게르하르트미하엘
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칼 짜이스 세미컨덕터 매뉴팩츄어링 테크놀로지즈 악티엔게젤샤프트
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Abstract

1. 편광자와 그 사용을 위한 수정판을 갖는 광학 이미지 시스템이 개시된다.
2.1 본 발명은 광축(16)을 따라 연속적으로 배열된 수개의 이미지 광학 구성품(L1 내지 L16)과, 상기 이미지 광학 구성요소의 마지막까지 연장되는 지역의 소정의 위치에 방사상으로 편광된 빛을 발생시키는 수단과, 그러한 시스템에 채용될 수 있는 수정판을 갖는 광학 이미지 시스템에 관한 것이다.
2.2 본 발명에 따르면, 방사상으로 편광된 빛의 편광 평면을 회전시키고 동일물을 접선 방향으로 편광된 빛으로 변환하기 위한, 특히 그러한 수정판의 형태인 편광 회전자(14)가, 광학 트레인에서 상기 방사상으로 편광된 빛을 발생시키는 수단을 따르는 그 이미지 광학 구성품이 배열된 곳에서 착수하는 지역내의 소정 위치에서 제공된다.
2.3 동일물을, 예를 들면, 마이크로 리소그래픽 투사 노광 시스템에 적용하는 것.

Description

편광자와 그 사용을 위한 수정판을 가지는 광학 이미지 시스템{optical imaging system with polarizers and a crystalline-quartz plate for use thereon}
본 발명은 광축(16)을 따라 연속적으로 배열된 복수의 이미지 광학 구성품과 상기 이미지 광학 구성요소까지 연장되는 지역의 예정된 위치에 방사상으로 편광된 빛을 발생하는 수단과 그러한 시스템에 채용할 수 있는 수정판을 갖는 광학 이미지 시스템에 관한 것이다.
독일 공개공보 DE 195 35 392 A1은, 예를 들어, 광원으로서의 아이-라인(i-line) 수은 방전 램프를 가지는 마이크로 리소그래픽 투사 노광 시스템 형태인 상기 유형의 광학 이미지 시스템을 개시한다. 상기 시스템이 웨이퍼를 노광하기 위해 방사상으로 편광된 빛을 채용하는 것은, 동시에 상기 포토레지스트의 내부와 외부의 인터페이스의 반사에 의하여 유발될 수 있는 어떤 정지파를 최대한 억압하는 것을 달성하면서, 특히 아주 큰 입사각으로 포토레지스트 층으로 상기 빛을 커플링하는 것을 향상시키기 위해 의도된 것이었다. 복굴절 재료를 채용하는 다양한 유형의 방사상 편광자는 방사상으로 편광된 빛을 발생시키는 유망한 수단으로 언급되었다. 그 선택된 방사상 편광자는 상기 웨이퍼에의 입사에 선행하여 이루어지는 방사상 편광의 정도가 변하지 않고 남아 있도록 하기 위하여 상기 시스템이 광학적 연속에 있어서 광학 요소의 최종 국면을 수정하거나 광학 요소를 편광 시키는 것을 따르는 그 지역 내에 배열되었다. 반사굴절을 수반하는 광학 시스템이 상기 시스템의 투사 렌즈로서 채용되는 경우에, 수반된 방사상 편광자는 바람직하게는, 예를 들면, 상기 광학 시스템의 최종 편향 거울을 따르게 배열되어야 한다. 그렇지 않으면, 그것은 예를 들면, 투사 노광 시스템의 선행하는 조명 시스템 내에 배열될 것이다.
방사상으로 편광된 빛은 고도로 효율적인 반사 방지막을 그것의 이미지 광학 구성요소, 특히 그것의 렌즈에 채용하는 것을 허용하기 때문에, 방사상으로 편광된 빛, 즉, 그것의 인터페이스에의 입사 평면에 평행하게 선형적으로 편광된 빛은, 일반적으로, 이미지 광학, 예를 들면, 마이크로 리소그래픽 투사 노광 시스템의 이미지 광학을 수반하는 경우에 바람직하고, 이것은 주로 중요한 문제인데, 이는 높은 수치의 구경과, 예를 들어, 자외선 스펙트럼 영역에 해당하는 짧은 파장을 갖는 마이크로 리소그래픽 투사 노광 시스템의 경우에 그러한데, 이것은 그러한 스펙트럼영역에서 사용에 적합한 코팅 재료가 거의 없기 때문이다. 다른 한편으로, 접선 방향으로 편광된 빛, 즉 렌즈의 각각의 인터페이스에 이미지 광선의 입사 평면에 직각되게 선형적으로 편광된 빛, 또는 비슷하게 수반된 빛은 바람직하게는 이미지가, 예를 들면 웨이퍼에 비칠 때 가장 좋게 가능한 간섭 주름을 발생시키는 것을 허용하기 위해 조명에 채용되어야 한다. 동일물을 허용하기 위해, 구 독일 특허출원 번호 제 100 10 131.3 호는 투사 렌즈의 동공 평면의 부근에 배열되거나 독일 특허공보 제 DE 195 35 392 A1호 의 방사상 편광자 대신에 구획을 이룬 복굴절 판으로부터 조립될 수 있는 광학적 트레인(train)에 있어서 동일물에 선행하는 조명 시스템 내에 접선 방향으로 편광시키는 요소를 채용하는 것을 제안했다.
본 발명은 처음에 언급한 양자가 비교적 높은 반사 방지막을 그 광학 요소에 허용하도록 하는 유형의 광학 이미지 시스템을 제공하는 기술적 문제점에 기초하는데, 이것은 반사된 산란광을 방해하는 것을 최소화하고 고대비의 간섭 주름을 이미지 평면과 그것에 채용할 수 있는 수정판상에서 만들 수 있는 광 비임을 방출할 수 있다.
본 발명은 청구항 제1항에 기재된 특성을 갖는 광학 이미지 시스템과 청구항 제6항에 기재된 특성을 갖는 수정판을 제공함으로써 상기 문제점을 해결한다.
도 1은 그것의 조명 시스템 내에 배열된 방사상으로 편광된 빛을 발생하기 위한 수단과 동일물의 편광 평면을 회전하고 동일물을 그것의 투사 렌즈에 배열된 접선 방향으로 편광된 빛으로 변환하는 편광 회전자를 가지는 마이크로 리소그래픽 투사 노출 시스템의 개략도,
도 2는 도1에 도시된 투사 렌즈의 상세도.
본 발명에 따른 광학 이미지 시스템은, 그 양자가 최소한 상기 시스템의 이미지 광학 구성요소가 작동하는 방사상으로 편광된 빛을 발생하는 수단과 상기 방사상으로 편광된 빛의 편광 평면을 회전시키고 이미지 평면에 접선 방향으로 편광될 빛을 발산하기 위하여 동일물을 접선 방향으로 편광된 빛으로 변환시키기 위한 편광 회전자가를 제공하고, 여기서 상기 편광 회전자는 최소한 하나의, 바람직하게는 복수의, 또는 심지어 모든 상기 시스템의 이미지 광학 구성요소에 배열되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 상기 방법의 결과는, 방사상으로 편광된 빛을 발생하는 상기 수단과 상기 편광 회전자 사이에 위치된 상기 시스템의 모든 이미지 광학 구성요소가 방사상 편광된 빛으로 작동할 수 있고, 이를 위해서 그들은 고효율의 반사 방지막일 것이다. 특히, 상기 광원, 즉 상기 시스템의 첫 번째 이미지 광학 구성요소의 앞이지만 상기 편광 회전자의 앞인 위치와 상기 시스템의 최종 이미지 광학 구성요소 사이의 빔의 경로에 있는 임의의 위치에 위치한 통상적인 유형의 방사상 편광자는 방사상으로 편광된 빛을 발생하는 상기 수단으로 소용된다. 상기 편광 회전자는 수반된 이미지 광학 구성요소에 바람직한 상기 방사상으로 편광된 빛을 그리고 나서 상기 이미지 평면에 입사될 접선 방향으로 편광된 빛으로 동시에 변환할 것이고, 이는 그것의 고대비 간섭 주름을 발생할 수 있게 할 것이다. 상기 편광 변환은 편광 회전 평면에 의해 영향을 받기 때문에, 관련된 명암도의 손실은 낮은 수준으로 유지될 수 있다.
청구항 제2항에 따른 본 발명의 다른 구현예에 있어서, 광학적으로 활성화된 재료를 갖는 판은 편광 회전자로서 채용된다. 광학적으로 활성화된 재료는 전달된 빛의 편광 평면을 회전시키는 것으로 알려져 있고, 동일물이 그것을 통해 회전하는각도는 상기 재료의 두께에 비례할 것이고 수반된 비례상수는 수반된 파장이 감소함에 따라 증가할 것이다. 청구항 제3항에 따른 본 발명의 다른 구현예에 있어서, 수정판은 상기 편광 회전자로 소용된다. 비록 상기 편광판이 또한 복굴절 특성을 가질 것이지만, 적당하게 상기 판의 치수와 방향을 정하면 동일물을 아주 낮은 수준에 유지하는 것을 허용할 것이므로 바람직한 편광 회전자는 상기 수정판의 광학적 작용에 의해 현저하게 변화되지 않을 것이고, 최소한 예를 들면 약 157nm 또는 그 보다 짧은 파장을 갖는 자외선을 수반하는 경우에 그러하다.
청구항 제4항과 청구항 제5항에 따라서, 그 안에서 상기 광학 이미지 시스템이 마이크로 리소그래픽 투사 노광 시스템인 본 발명의 다른 유익한 구현예에 있어서, 방사상으로 편광된 빛의 편광 평면을 회전하고 동일물을 접선 방향으로 편광된 빛으로 변환하기 위한 상기 편광 회전자는 그 경로가 대략 그것의 광축에 평행한 상기 시스템의 투사 렌즈의 부분 내에 배열되고, 특히 동공 평면이나 동공 평면과 예를 들어, 조명되는 웨이퍼를 보유하는 동일물의 이미지 평면 사이에 위치한 부분내에 배열된다. 상기 배열의 첫 번째 경우에 있어서, 상기 편광 회전자를 상기 동공 평면에 배열하는 것은 상기 편광 회전자에 대략 직교 입사하는 빛이 동일물의 높은 광학적 활성을 발산하고, 복굴절 효과와 같은 동일물의 축 이탈 조명의 효과가 최소한으로 남을 것이라는 이점을 갖는다. 반면에, 상기 편광 회전자를 상기 이미지 평면에 가깝게 배열하는 것은 상기 동공 평면과 상기 편광 회전자 사이에 위치하는 그 이미지 광학 요소들이 또한 방사상으로 편광된 빛에 의해 관통될 것이고 더 작은 편광 회전자를 채용하는 것이 충분할 것이라는 장점을 갖는다.
청구항 제6항에 의해 다루어진 본 발명에 따른 수정판의 경우에 있어서, 상기 판의 결정 축은 대략 그 표면에 직교하는 방향에 평행하게 배향되어 있다. 상기 배향을 갖는 수정판은 특히 본 발명에 따른 광학 이미지 시스템의 편광 회전자로서 채용되는데 아주 적당하다.
본 발명의 변경된 구현예에 있어서, 상기 수정판의 두께는 500㎛ 또는 그 미만이고 바람직하게는 200㎛ 또는 그 미만이다. 그렇게 얇은 판은 특히 157nm 또는 그 미만의 먼 자외선 파장에서 작동될 때, 본 발명에 따른 광학 이미지 시스템에 편광 회전을 성취하기 위해 특히 적당하다.
본 발명의 유익한 구현예는 첨부된 도면에 도시되어 있고, 다음에서 설명될 것이다.
도1은 그것의 투사 렌즈 내의 그것의 편광 회전자의 배열을 제외하고 독일 특허공보 제 DE 195 35 392 A1호에 인용된 것과 비슷한 전통적인 마이크로 리소그래픽 투사 노광 시스템을 도시한다. 거울(2)에 의해 초점이 맞춰진 바람직한 파장의 조명하는 자외선 방사를 방출하는 예를 들면, 아이라인(i-line) 수은 방전램프와 같은 광원(1)으로부터의 빛은 특히 줌 렌즈이고 다양한 조절을 하게 허용하는 렌즈인 렌즈(4)가 따르는 구경 정지(3)를 조명하는데, 특히 바람직한 원형 구경을 선택하면서 한다. 수은 방전 램프 대신에, 약 260nm 또는 그 미만의, 예를 들면, 157nm의 파장에서 방사되는 레이저 광원이 상기 광원(1)으로 채용될 수 있을 것이고, 이 경우, 상기 거울(2)은 불필요할 것이다.
편광되지 않은 입사광을 방사상으로 편광된 빛으로 변환하는 방사상편광자(5)는 상기 렌즈(4)를 따라서 배열된다. 상기 방사상 편광자(5)는 예를 들어, 현저한 빛 손실의 유발 없이 상기 변환을 수행하는 독일 특허 공개공보 제 DE 195 35 392 A1호에 설명된 구성을 가지는 절두 원추형 편광자일 수 있다. 그리고 나서 결과적으로 주로 방사상으로 편광된 빛은 상기 방사상 편광자(5)로부터 허니콤 집광렌즈(6)와, 광학적 트레인에서 그것을 따르는 릴레이와 피일드(field) 렌즈(7)로 이동하고, 여기서 후자인 구성요소는 마스크(8)의 최적 조명을 집합적으로 제공하는 역할을 하는데, 상기 마스크는 이미지되는 패턴을 보유하는 "레티클(reticle)"이라고 명명되기도 한다. 감소렌즈로 구성되었고 광학적 트레인에서 상기 구성요소를 따르는 투사 렌즈(9)는 상기 투사 렌즈(9)의 물체 평면에 놓이고, 극히 높은 공간 해상도, 바람직하게는 1㎛보다 좋은 공간 해상도를 갖는 상기 투사 렌즈(9)의 이미지 평면에 놓이는 웨이퍼(11)위의 포트레지스트(10)의 필름에 상기 무늬를 이미지화한다. 상기 시스템의 수치상의 구경은 바람직하게는 0.5를 초과해야 하고, 특히 바람직하게는 0.7에서 0.9의 범위여야 한다.
도2는 많은 렌즈(L1 내지 L16)를 갖는 상기 투사 렌즈(9)의 유망한 구성을 도시한다. 그러한 유형의 투사렌즈에 통상적으로 채용된 다수의 렌즈 배열이 공지되었기 때문에, 도2에 도시되었던 그 렌즈(L1 내지 L16)는 상기 종래 유형의 렌즈 배열에 통상적으로 채용되는 렌즈를 나타내는 것으로 해석될 것이고 물론, 상징적으로는 사각형으로 표시되었지만, 물론 그것의 진정한 기하학적 형상을 나타내도록 의도된 것은 아니다. 상기 투사 렌즈(9)의 작동을 명확하게 하기 위해서, 주요 광 비임(12a,13a)과 상기 마스크와 중앙점(8a)과 상기 마스크의 에지에 가까운 점(8b)와 관련된 이미지 빔(12,13)의 주변 광선(12b,13b)의 경로는 각각 개략적으로 도시되었다.
도2에 도시된 투사 렌즈의 구별되는 특징은 이 특별한 예의 경우에 통상적인 구경 정지가 배열된 상기 투사 렌즈의 동공 평면(15)의 바로 뒤에 위치한 그것의 편광 회전자(14)의 배열이다. 상기 편광 회전자(14)는 방사상으로 편광된 빛의 입사 편광 평면을 회전하고 동일물을 접선 방향으로 편광된 빛으로 변환하도록 설계되었다. 도2에 개략적으로 도시된 그것의 결정 축(17)이 상기 투사 렌즈의 광축에 대략 평행하게 배향된 얇은 수정판은 그런 목적으로 채용될 수 있을 것이고, 여기서 상기 수정판(14)의 상기 결정 축(17)은 상기 판의 평면에 대략 직교하게, 즉 그 표면에 직교하는 것에 대략 평행하게 배향된다.
수정판은 광학적으로 활성화되고, 직교 복굴절의 경우와는 다르게 그것의 광학적 활성 때문에, 그것들의 원래의 배향에 관계없이 입사광의 편광 평면을 회전시키는 것으로 알려져 있다. 광학적으로 활성화된 재료의 다른 이점은 그것들이 이중 이미지를 발생시키지 않는다는 것이다. 주어진 재료의 회전각은 그것의 두께에 비례할 것이고, 여기서 수반된 비례상수는 그것들의 온도에 따라 변하고 수반된 파장에 의해 주로 결정된다. 여기에 수반된 적용의 경우에, 상기 비례상수는 파장이 감소함에 따라 현저하게 증가하고 가시광 비임에 있어서보다 자외선 스펙트럼 영역 내에 드는 파장에 있어서 몇 배 큰데, 예를 들어, 파장 범위가 150nm에서 260nm이고, 이는 그것의 두께가 단지 약 500㎛, 바람직하게는 200㎛ 또는 그 미만인 매우 얇은 수정판(14)을 채용하는 것이 자외선 방사가 마이크로 리소그래픽 투사 조명시스템에 채용된 경우에 바람직한 회전을 산출하기 위하여 충분하기 때문이다.
복굴절 효과는 동시에 현저하게 더 짧은 파장에서 증가하지 않을 것이기 때문에, 어떤 방해하는 복굴절 영향에 대한 상기 광학적 활성의 상술한 바람직한 기능의 비율은 자외선 스펙트럼 영역 내에 해당하는 짧은 파장에서 상응하게 향상될 것이다.
상기 편광 회전자(14)를 상기 동공 평면(15) 가까이 또는 광 비임이 평행하게 전파하는 빔 경로의 다른 위치에, 또는 그것에 대해서 작은 입사각으로 배열하면서, 상기 광축(16)은 동일물에 입사하는 광 비임이 대략 그것의 표면에 직교할 것이고, 그 경우, 여기서 고려되는 예의 경우에, 바람직하지는 않지만, 수정판의 상기 복굴절 효과에 대한 상기 광학적 활성의 상기 바람직한 기능의 비율은 특히 클 것이다. 도2에 도시된 상기 편광 회전자(14)의 특별한 위치의 경우에, 상기 투사 렌즈의 상기 16개의 렌즈(L1 내지 L16) 중 11개와 상기 조명 시스템의 전체 광학적 트레인은 상기 방사상의 편광자(5)와 같이 착수하면서, 빛이 주로 방사상으로 편광되는 빔 경로의 그 부분내에 놓일 것이고, 이는 상기 편광 회전자(14)가 바람직하고, 주로 접선 방향의, 편광을 가질 상기 웨이퍼(11)에 입사하는 빛을 제공하는 동안, 수반된 렌즈에 고효율의 반사 방지막을 제공하는 것을 허용할 것이다.
이와는 달리, 상기 편광 회전자(14)는 또한 상기 시스템의 상기 광축(16)을 따라서 어떤 임의의 위치에 위치될 수 있으나, 바람직하게는 상기 이미지 광학 구성요소의 가능한 한 많은 양이 방사상으로 편광된 빛에 의해 투과되도록 하기 위해 상기 이미지 평면 또는 상기 웨이퍼(11)에 가능한 한 가깝게 위치되어야 한다. 상기 편광 회전자(14)를 상기 동공 평면(15)으로부터 상기 웨이퍼(11)에 가까운 위치로 재위치 시키는 것은 상기 편광 회전자(14)의 지적된 위치와 상기 웨이퍼(11) 사이에 위치된 최소한 몇 개의 그 렌즈(L12 내지 L16)가 여전히 방사상으로 편광된 빛에 의해 비추어지면서 상기 편광 회전자(14)를 위한 더 작은 직경을 선택하는 것을 허용할 것이다. 그러나 분기, 즉 상기 편광 회전자(14)에 입사하는 빔의 상기 광축(16)에 대한 최대 경사각은 그리고 나서 증가할 것이다.
상기 복굴절 효과의 강도에 대한 상기 광학적 활성의 강도의 비율은 입사각이 증가함에 따라 감소할 것이고, 이는 수정판 재료의 상기 복굴절에 의해 그 영향을 다소 악화시킬 것이다. 그러나, 허용될 수 있는 최대 입사각에 관한 결정은 수반될 특별할 적용에 기초하여 이루어질 수 있다. 완전히 방사상으로 편광된 빛의 이상적인 경우에, 심지어 높은 빔 분기, 즉, 동일물에 큰 입사각으로 되는 것에 대해서도 복굴절 효과는 일어나지 않을 것이기 때문에 그 결정은 빛이 그것의 동일물에의 도착에 선행하여 상기 편광 회전자(14) 결정의 광축에 대하여 방사상으로 편광된 정도에 의존할 것이다. 그러나, 상기 이상적인 경우는 보통 실제 실행에 있어서는 달성될 수 없으며, 그것은 상기 조명 시스템에 의해 공급되는 빛은 완전히 방사상으로 편광되지 않을 것이고 완전한 방사상 편광으로부터의 약간의 이탈이 상기 렌즈에서의 스트레스를 유발하는 복굴절로 인해 발생할 것이기 때문이다. 그럼에도 불구하고, 아주 높은 빔 분기는 결과적인 매우 높은 정도의 광학적 활성으로 인해 허용될 수 있으며, 특히 짧은 자외선 파장에서 그러하고 상기 편광 회전자(14)는 심지어 상기 렌즈의 마지막(L16)과 상기 웨이퍼(11) 사이에 위치될 수 있을 것이다. 상기 편광 회전자(14)의 후자의 배치는 상기 광학 이미지 시스템의 모든 이미지 광학 구성요소가 방사상으로 편광된 빛과 같이 작동될 수 있으며 상기 편광 회전자(14)가 더 이상 상기 투사 렌즈에 통합될 필요가 없을 것이다, 즉 동일한 것의 외부에 위치될 수 있을 것이라는 특히 유익한 이점을 가진다.
유익한 구현예의 전술한 설명은 본 발명에 따른 광학 이미지 시스템이 주로 대부분의 상기 이미지 광학 구성요소, 바람직하게는 그것의 최소한 3분의 2가 그것을 위해 상기 이미지 광학 구성요소가 고효율의 반사 방지막을 갖는 방사상으로 편광된 빛에 의해 비추어질 것이라는 것을 제공하는 것에 의해 대부분 산란광의 방해하는 영향으로부터 자유롭게 고품질의 이미지를 달성하는 것을 허용할 것이라는 것을 명백하게 한다. 상기 광학 이미지 시스템은 또한 동일물이 예를 들어, 웨이퍼의 포토레지스트를 그것의 이미지 평면에 노광시키기 위한 마이크로 리소그래픽 투사 조명 시스템으로 채용된 것과 같이 높은 콘트라스트의 간섭 주름을 발생하는 것을 허용하는 주로 접선 방향으로 편광된 빔을 제공할 수 있을 것이다.

Claims (7)

  1. 광축(16)을 따라 순차로 배열된 복수의 이미지 광학 요소(4,6,7과 L1내지L16)와, 동일한 최종 이미지 광학 요소보다 앞서 소정의 위치에 배열된 상기 광학 이미지 시스템을 통과시키는 방사상으로 빛을 편광시키는 수단(5)을 가지고, 여기서 상기 방사상으로 편광된 빛을 접선상에 편광된 빛으로 변환시키는 편광 회전자(14)는 광학적 트레인에 있어서 상기 방사상의 편광자를 따르는 이미지 광학 요소를 따라 소정 위치에 배열되는 것을 특징으로 하는 특히, 마이크로 리소그래픽 투사 노광 시스템인 광학 이미지 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 편광 회전자는 광학적으로 활성화된 재료로부터 제조된 판(14)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 이미지 시스템.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 판(14)은 그 광축이 상기 광학 이미지 시스템의 상기 광축(16)에 평행하게 정렬된 수정판으로부터 제조된 것을 특징으로 하는 광학 이미지 시스템.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    동일물이 마이크로 리소그래픽 투사 노광 시스템을 형성하고, 상기 편광 회전자(14)는 그 이미지 빔의 경로가 대략 상기 광학 이미지 시스템의 상기 광축과 평행한 상기 마이크로 리소그래픽 투사 노광 시스템의 투사 렌즈의 부분 내에 배열되는 것을 특징으로 하는 광학 이미지 시스템.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    동일물이 마이크로 리소그래픽 투사 노광 시스템을 형성하고, 상기 편광 회전자(14)는 동공 면(15)과 상기 마이크로 리소그래픽 투사 노광 시스템의 투사 렌즈의 이미지 면(10,11) 사이에 배열되는 것을 특징으로 하는 광학 이미지 시스템.
  6. 특히 제1항 내지 제5항에 따른 광학 이미지 시스템에 채용되는 것으로서,
    편광 회전자(14)로서 구성되고 그 결정 축이 대략 동일한 평면과 수직인 것을 특징으로 하는 수정판.
  7. 제6항에 있어서,
    동일물은 500㎛ 또는 이하, 바람직하게는 200㎛ 또는 이하의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 수정판.
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