KR20020087043A - 형광증백제로서의 트리아지닐아미노스틸벤 유도체 - Google Patents

형광증백제로서의 트리아지닐아미노스틸벤 유도체 Download PDF

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KR20020087043A
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시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크.
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Abstract

본 발명은 화학식 1의 화합물, 이의 제조방법 및 합성 또는 천연 유기 재료용 광학 증백제 또는 사진 재료 내 얼룩 제거제로서의 상기 화합물의 용도에 관한 것이다.
화학식 1
상기 화학식에서,
R1은 각각 독립적으로, 비치환되거나, 하이드록시, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-하이드록시, C1-C4-알콕시알콕시, -OCOM, -OCOC1-C4-알킬, 또는 아미노 그룹에서 수소원자가 제거된 아미노산 잔기에 의해 치환된 선형 C1-C4-알킬렌 잔기이고,
R2는 각각 독립적으로, 비치환되거나, 하이드록시, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-하이드록시, C1-C4-알콕시알콕시, -OCOM, -OCOC1-C4-알킬, -CO2M, CO2C1-C4-알킬, SO3M, 또는 비치환되거나, 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, NH2또는 일치환 또는 이치환된 아미노에 의해 치환된 페녹시에 의해 치환된 선형 C1-C4-알킬렌 잔기; 또는 비치환되거나, 1 내지 3개의 SO3M, SO2NHC1-C4-알킬, -SO2NH2, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, -CONH2, -CONHC1-C4-알킬, -NHCOC1-C4-알킬 또는 일치환 또는 이치환된 아미노 그룹에 의해 치환된 페닐이며,
R3은 서로 독립적으로, 수소, C1-C4-알킬, 할로겐, 시아노, SO3M, -SO2NH2, SO2NHC1-C4-알킬, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, -CONH2, -CONHC1-C4-알킬 또는 -NHCOC1-C4-알킬이고,
M은 수소, 알킬 금속원자, 암모늄 또는 아민으로부터 형성된 양이온이며,
m은 1 내지 3의 정수이다.

Description

형광증백제로서의 트리아지닐아미노스틸벤 유도체{Triazinylaminostilbene derivative as fluorescent whitening agents}
본 발명은 형광증백제로서 유용하거나 사진 재료 내 얼룩을 제거하는데 유용한 신규한 4,4'-디아미노스틸벤-2,2'-디설폰산 화합물에 관한 것이다.
국제 공개특허공보 제96/00221호에는, 직물, 종이 등을 위한 형광증백제가 기재되어 있다. 기재되어 있는 화합물은 화학식의 화합물[여기서, Ra와 Rb는 동일하거나 상이하고 각각 화학식 -NRcRd의 라디칼{여기서, Rc는 수소; 하나 이상의 머캅토, C1-C6티오알킬, OH 및 SO3M'(여기서, M'는 수소, 무색 양이온 또는 아민 유도된 양이온이다)로 임의로 치환된 C1-C6알킬 또는 -Re(CO2M')x(여기서, Re는 탄소수 1 내지 6의 지방족 잔기이고, 그룹 CO2M'와 결합되지 않은 원자가들은 하나 이상의 수소, 머캅토, C1-C6티오알킬, OH 및 SO3M'<여기서, M'는 위에서 정의한 바와 같다>와 결합되어 있지 않고, x는 1 내지 4의 정수이다)이고, 단 Rc가 하나 이상의 머캅토, C1-C6티오알킬, OH 및 SO3M'로 임의로 치환된 C1-C6알킬인 경우, Rc는 둘 이상의 OH와 SO3M'로 치환되며, Rd는 Rc, 수소 또는 C3-C6알킬이고, 단 Rc와 Rd가 둘 다 수소일 수 없으며, Rc와 Rd중의 어느 하나가 수소인 경우, 다른 하나는 -(NHCH2CO2H)일 수 없거나, Rc와 Rd는 질소원자와 함께 단지 5원 또는 6원 환만을 형성할 수 있으며, 이들 중의 하나는 -COOM' 또는 -SO3M'로 단독으로 치환된 헤테로사이클릭이다}이며, Rf는 각각 독립적으로, 수소, 메틸, C1-C6알콕시 또는 할로겐이다]이다.
또한, 국제 공개공보 제98/42685호에는 특정 화합물을 제외하고는, 화학식[여기서, X는 O 또는, 바람직하게는 NH이고, M은 수소, 알칼리 금속 원자, 암모늄, 또는 아민으로부터 형성된 양이온이며, R1은 각각 독립적으로, 아미노 그룹에서 수소원자가 제거된 아미노산 잔기이고, n은 1 또는 2이며, R2는 각각 독립적으로, 수소, C1-C3알킬, 할로겐, 시아노, COOR(여기서, R은 수소 또는 C1-C3알킬이다), CONH-R(여기서, R은 위에서 정의한 바와 같다), SO2NH-R(여기서, R은 위에서 정의한 바와 같다), NH-COR(여기서, R은 위에서 정의한 바와 같다) 또는 SO3M(여기서, M은 위에서 정의한 바와 같다)이거나, n이 1인 경우, R2는 CO-R3(여기서, R3은 C1-C3알킬 또는 페닐이다)일 수 있다]의 유사 화합물 및 형광증백제로서 이의 용도가 기재되어 있다.
신규한 그룹의 4,4'-디아미노스틸벤-2,2'-디설폰산 화합물은, 이들 중의 대부분이 형광증백제로서 유용하고 우수한 특성을 가지며, 국제 공개특허공보 제96/00221호 및 국제 공개특허공보 제98/42685호에 기재되어 있는 화합물보다 용이하게 제조된다고 밝혀졌다. 또한, 신규한 화합물은 사진 재료 내 얼룩을 제거하는데 유용하다.
따라서, 본 발명은 화학식 1의 신규한 화합물을 제공한다.
상기 화학식에서,
R1은 각각 독립적으로, 비치환되거나, 하이드록시, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-하이드록시, C1-C4-알콕시알콕시, -OCOM, -OCOC1-C4-알킬, 또는 아미노 그룹에서 수소원자가 제거된 아미노산 잔기에 의해 치환된 선형 C1-C4-알킬렌 잔기이고,
R2는 각각 독립적으로, 비치환되거나, 하이드록시, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-하이드록시, C1-C4-알콕시알콕시, -OCOM, -OCOC1-C4-알킬, -CO2M, CO2C1-C4-알킬, SO3M, 또는 비치환되거나, 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, NH2또는 일치환 또는 이치환된 아미노에 의해 치환된 페녹시에 의해 치환된 선형 C1-C4-알킬렌 잔기; 또는 비치환되거나, 1 내지 3개의 SO3M, SO2NHC1-C4-알킬, -SO2NH2, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, -CONH2, -CONHC1-C4-알킬, -NHCOC1-C4-알킬 또는 일치환 또는 이치환된 아미노 그룹에 의해 치환된 페닐이며,
R3은 서로 독립적으로, 수소, C1-C4-알킬, 할로겐, 시아노, SO3M, -SO2NH2, SO2NHC1-C4-알킬, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, -CONH2, -CONHC1-C4-알킬 또는 -NHCOC1-C4-알킬이고,
M은 수소, 알킬 금속원자, 암모늄 또는 아민으로부터 형성된 양이온이며,
m은 1 내지 3의 정수이다.
화학식 1의 화합물의 범주내에서, R1그룹, R2그룹 및 R3그룹이 모두 동일한 것이 바람직하다.
화학식 1의 추가로 바람직한 화합물은, 아미노산 잔기인 R1이 각각 동일하고, 각각 화학식 -NH-CH(CO2H)-R4[여기서, R4는 수소 또는 화학식 -CHR5R6의 그룹(여기서, R5및 R6은 서로 독립적으로, 수소, 또는 하이드록시, 티오, 메틸티오, 아미노, 카복시, 설포, 페닐, 4-하이드록시페닐, 3,5-디요오도-4-하이드록시페닐, β-인돌릴, β-이미다졸릴 및 NH=C(NH2)NH-로부터 선택된 하나 또는 두개의 치환체에 의해 임의로 치환된 C1-C4-알킬이다)이다]를 갖는 화합물이다.
화학식 1의 특히 유용한 화합물은, 아미노산 잔기인 R1이 유도되는 아미노산이 글리신, 알라닌, 사르코신, 세린, 시스테인, 페닐알라닌, 티로신(4-하이드록시페닐알라닌), 디요오도티로신, 트립토판(β-인돌릴알라닌), 히스티딘(β-이미다졸릴알라닌), α-아미노부티르산, 메티오닌, 발린(α-아미노이소발레르산), 노르발린, 로이신(α-아미노이소카프로산), 이소로이신(α-아미노-β-메틸발레르산), 노르로이신(α-아미노-n-카프로산), 아르기닌, 오르니틴(α,δ-디아미노발레르산), 리신(α,ε-디아미노카프로산), 아스파르트산(아미노석신산), 글루탐산(α-아미노글루타르산), 트레오닌, 하이드록시글루탐산 또는 타우린, 또는 이들의 혼합물 및 광학 이성체인 화합물이다.
특히 바람직한 화합물은, 아미노산 잔기인 R1이 유도되는 아미노산이 사르코신, 타우린, 글루탐산 또는 아스파르트산인 화합물이고, 아스파르트산 또는 이미노디아세트산인 화합물이 가장 바람직하다.
화학식 1의 추가로 바람직한 화합물은, R1이 비치환되거나, 하이드록시, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-하이드록시, C1-C4-알콕시알콕시, -OCOM(여기서, M은 위에서 정의한 바와 같다) 또는 -OCOC1-C4-알킬에 의해 치환된 선형 C1-C4-알킬렌 잔기인 화합물이고, 특히 R1이 비치환되거나, 하이드록시, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-하이드록시 또는 C1-C4-알콕시알콕시에 의해 치환된 선형 C1-C4-알킬렌 잔기인 화합물이고, 가장 바람직하게는, R1이 비치환되거나, 하이드록시 또는 C1-C4-알콕시에 의해 치환된 선형 C1-C4-알킬렌 잔기인 화합물이다.
잔기 R2에 대해, 바람직하게는, 비치환되거나, 하이드록시, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-하이드록시, C1-C4-알콕시알콕시, -OCOM, -OCOC1-C4-알킬, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, SO3M, 또는 비치환되거나, 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, -CO2M 또는 -CO2C1-C4-알킬, NH2또는 일치환 또는 이치환된 아미노에 의해 치환된 페녹시에 의해 치환된 선형 C1-C4-알킬렌 잔기인 화합물이고, 가장 바람직하게는, 하이드록시, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-하이드록시, C1-C4-알콕시알콕시, -OCOM, -OCOC1-C4-알킬, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, SO3M 또는 디-C1-C4-알킬아미노에 의해 치환된 메틸렌, 에틸렌 또는 프로필렌인 화합물이다.
특히 중요한 화합물은, R2가 하이드록시에틸, 하이드록시프로필, 에톡시에틸, 하이드록시에톡시에틸, 메톡시에톡시에틸, 아세트산 또는 프로피오산 잔기 또는 이의 메틸 또는 에틸 에스테르, 에틸 또는 메틸 아세테이트, 디메틸아미노에틸, 또는 에틸 설폰산 또는 이의 나트륨 염인 화합물이고, 하이드록시에틸 또는 아세트산나트륨 잔기가 가장 바람직하다.
추가로 중요한 화합물은, 각각의 R2가 비치환되거나, 1 내지 3개의 SO3M, SO2NHC1-C4-알킬, -SO2NH2, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, -CONH2, -CONHC1-C4-알킬, -NHCOC1-C4-알킬 또는 일치환 또는 이치환된 아미노 그룹에 의해 치환된 페닐인 화합물이다.
특히 중요한 화합물은, 각각의 R2가 비치환되거나, 하나의 SO3M, -SO2NH2또는 -NHCOC1-C4-알킬 그룹에 의해 치환된 페닐인 화합물이나, 페닐 그룹이 치환되지 않은 화합물이 바람직하다.
화학식 1의 추가로 바람직한 화합물은, 각각의 R3잔기가 수소, C1-C4-알킬, 할로겐, 시아노, SO3M, -SO2NH2, SO2NHC1-C4-알킬, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, -CONH2, -CONHC1-C4-알킬 또는 -NHCOC1-C4-알킬인 화합물이고, R3이 수소인 화합물이 가장 바람직하다.
상기 화학식 1의 화합물에서, M이 수소, Na, K, Ca, Mg, 암모늄, 모노-, 디-, 트리- 또는 테트라-C1-C4-알킬암모늄, 모노-, 디- 또는 트리-C1-C4-하이드록시알킬암모늄, 또는 C1-C4-알킬 그룹과 C1-C4-하이드록시알킬 그룹과의 혼합물로 이치환 또는 삼치환된 암모늄인 것이 바람직하고, 수소 또는 Na인 것이 특히 바람직하며, m이 1인 것이 바람직하다.
가장 특히 중요한 화합물은 화학식 2, 화학식 3 및 화학식 4의 화합물이다.
화학식 1의 화합물은 공지된 반응 조건하에, 염화시아누르산을 4,4-디아미노-2,2'-스틸벤 디설폰산, 화학식의 그룹(여기서, R2, R3및 m은 위에서 정의한 바와 같다)을 도입시킬 수 있는 아미노 화합물 및 R1그룹(여기서, R1은 위에서 정의한 바와 같다)을 도입시킬 수 있는 화합물과 연속해서, 임의의 순서로 반응시킴으로써 제조될 수 있다.
바람직하게는, 염화시아누르산 2mol을 초기에 4,4'-디아미노-2,2'-스틸벤 디설폰산 1mol과 반응시키고, 화학식의 그룹(여기서, R2, R3및 m은 위에서 정의한 바와 같다)을 도입시킬 수 있는 아미노 화합물과 반응시킨 다음, 최종적으로 R1그룹(여기서, R1은 위에서 정의한 바와 같다)을 도입시킬 수 있는 화합물과 반응시킨다.
그 결과, 본 발명의 추가의 양태는 화학식 5의 화합물이다.
상기 화학식에서,
R2, R3, M 및 m은 위에서 정의한 바와 같다.
화학식 5의 화합물의 범주내에서, 2개의 R2그룹 및 2개의 R3그룹 모두가 동일한 것이 바람직하다.
R2잔기에 대해, 하이드록시, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-하이드록시, C1-C4-알콕시알콕시, -OCOM, -OCOC1-C4-알킬, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, SO3M 또는 디-C1-C4-알킬아미노에 의해 치환된 메틸렌, 에틸렌 또는 프로필렌 잔기가 바람직하다.
특히 중요한 화합물은, R2가 하이드록시에틸, 하이드록시프로필, 에톡시에틸, 하이드록시에톡시에틸, 메톡시에톡시에틸, 아세트산 또는 프로피온산 잔기 또는 이의 메틸 또는 에틸 에스테르, 에틸 또는 메틸 아세테이트, 디메틸아미노에틸, 또는 에틸 설폰산 또는 이의 나트륨 염인 화합물이고, 하이드록시에틸 또는 아세트산나트륨 잔기가 가장 바람직하다.
추가로 중요한 화합물은, 각각의 R2가 비치환되거나, 1 내지 3개의 SO3M, SO2NHC1-C4-알킬, -SO2NH2, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, -CONH2, -CONHC1-C4-알킬, -NHCOC1-C4-알킬 또는 일치환 또는 이치환된 아미노 그룹에 의해 치환된 페닐인 화합물이다.
특히 중요한 화합물은, 각각의 R2가 비치환되거나, 하나의 SO3M, -SO2NH2또는 -NHCOC1-C4-알킬 그룹에 의해 치환된 페닐인 화합물이나, 페닐 그룹이 치환되지 않은 화합물이 바람직하다.
화학식 5의 추가로 바람직한 화합물은, 각각의 R3잔기가 수소, C1-C4-알킬, 할로겐, 시아노, SO3M, -SO2NH2, SO2NHC1-C4-알킬, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, -CONH2, -CONHC1-C4-알킬 또는 -NHCOC1-C4-알킬인 화합물이고, R3이 수소인 화합물이 가장 바람직하다.
상기 화학식 5의 화합물에서, M이 수소, Na, K, Ca, Mg, 암모늄, 모노-, 디-, 트리- 또는 테트라-C1-C4-알킬암모늄, 모노-, 디- 또는 트리-C1-C4-하이드록시알킬암모늄, 또는 C1-C4-알킬 그룹과 C1-C4-하이드록시알킬 그룹과의 혼합물로 이치환 또는 삼치환된 암모늄인 것이 바람직하고, 수소 또는 Na인 것이 특히 바람직하며, m이 1인 것이 바람직하다.
출발 물질은 시판중인 공지된 화합물이다.
본 발명의 추가의 양태는 물, 화학식 1의 형광증백제 및 임의로 보조제를 함유하는, 합성 또는 천연 유기 재료를 증백시키거나 사진 재료 내 얼룩을 제거하기 위한 조성물이다.
보다 특히, 상기 증백 조성물은 물을 함유하고, 각각의 경우, 조성물의 중량을 기준으로 하여, 상기한 형광증백제 혼합물 3 내지 25중량%, 바람직하게는 5 내지 15중량%를 함유하며, 보조제 0 내지 60중량%, 바람직하게는 5 내지 50중량%를 함유한다.
적합한 보조제에는, 예를 들면, 지방 알콜, 고지방산 또는 알킬 페놀을 갖는 에틸렌 옥사이드 부가물 또는 에틸렌디아민 에틸렌 옥사이드-프로필렌 옥사이드 부가물 그룹으로부터의 음이온성 또는 비이온성 분산제, N-비닐피롤리돈과 3-비닐프로피온산과의 공중합체, 보습제(예: 에틸렌 글리콜, 글리세롤 또는 소르비톨), 또는 살생물제가 포함된다.
화학식 1의 화합물의 대부분은 직물, 특히 종이와 같은 합성 또는 천연 재료 및 또한 세제 조성물용으로 탁월한 형광증백제이다.
따라서, 본 발명은 기재를 화학식 1의 화합물과 접촉시킴을 포함하는 기판의 형광증백시키는 방법을 추가로 제공한다.
종이를 형광증백시키는데 사용하는 경우, 본 발명에 따르는 화학식 1의 화합물은 종이 피복 조성물의 형태로 종이 기재에 적용시키거나 가호 프레스(size press) 속에서 종이 기재에 직접 적용시킬 수 있다.
한 가지 바람직한 국면에 있어서, 본 발명은 종이 표면을 백색 안료, 결합제 분산액, 임의의 수용성 공결합제 및 충분량의 본 발명에 따르는 화학식 1의 형광증백제를 포함하는 피복 조성물과 접촉시켜, 처리된 종이가, 백색 안료를 기준으로 하여, 화학식 1의 형광증백제를 0.01 내지 1중량% 함유하도록 함을 포함하는, 종이 표면의 형광증백법을 제공한다.
본 발명의 방법에 따라 사용한 종이 피복 조성물의 백색 안료 성분으로서는, 무기 안료, 예를 들면, 규산알루미늄, 규산마그네슘[예: 도토(China clay) 및 카올린], 황산바륨, 새틴 화이트(satin white), 이산화티탄, 탄산칼슘(백악) 또는 활석 뿐만 아니라, 백색 유기 안료도 바람직하다.
본 발명의 방법에 따라 사용한 종이 피복 조성물은 결합제로서 그 중에서도 특히 부타디엔/스티렌, 아크릴로니트릴/부타디엔/스티렌, 아크릴산 에스테르, 아크릴산 에스테르/스티렌/아크릴로니트릴, 에틸렌/비닐 클로라이드 및 에틸렌/비닐 아세테이트의 공중합체 또는 단독중합체(폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐리덴 클로라이드, 폴리에틸렌 및 폴리비닐 아세테이트 또는 폴리우레탄)를 기본으로 하는 플라스틱 분산제를 함유할 수 있다. 바람직한 결합제는 스티렌/부틸 아크릴레이트 또는 스티렌/부타디엔/아크릴산 공중합체 또는 스티렌/부타디엔 고무로 이루어진다. 기타 중합체 라텍스는, 예를 들면, 미국 특허 제3,265,654호, 미국 특허 제3,657,174호, 미국 특허 제3,547,899호 및 미국 특허 제3,240,740호에 기재되어 있다.
임의의 수용성 보호 콜로이드는, 예를 들면, 콩 단백질, 카제인, 카복시메틸셀룰로스, 천연 녹말, 변성 녹말, 키토산 또는 이들의 유도체, 또는 특히 폴리비닐 알콜일 수 있다. 바람직한 폴리비닐 알콜 보호 콜로이드 성분의 비누화 수준과 분자량 범위는 넓다(예: 비누화 수준 범위는 40 내지 100이고, 평균 분자량 범위는 10,000 내지 100,000이다).
종이용 피복 조성물의 배합법은, 예를 들면, 문헌[참조: J. P. Casey "Pulp and Paper", Chemistry and Chemical Technology, 2nd edition, Volume Ⅲ, pages 1683-1649 및 "Pulp and Paper Manufacture", 2nd and 5th edition, Volume Ⅱ, page 497 (McGraw-Hill)]에 기재되어 있다.
본 발명의 방법에 따라 사용한 종이 피복 조성물은 백색 안료를 10 내지 70중량% 함유하는 것이 바람직하다. 결합제는, 중합체 화합물의 무수 함량이 백색 안료의 1 내지 30중량%, 바람직하게는 5 내지 25중량% 이하로 되도록 하기에 충분한 양으로 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명에 따라 사용한 형광증백제의 양은,형광증백제가, 백색 안료를 기준으로 하여, 바람직하게는 0.01 내지 1중량%, 보다 바람직하게는 0.05 내지 1중량%, 특히 0.05 내지 0.6중량%의 양으로 존재하도록 계산된다.
본 발명에 따르는 방법에 사용한 종이 피복 조성물은 상기 성분들을 10 내지 100℃, 바람직하게는 20 내지 80℃의 온도에서 목적하는 순서대로 혼합하여 제조할 수 있다. 상기 성분들은 또한 피복 조성물의 유동학적 특성[예: 점도 또는 보습량(water retention capacity)]을 조절하기 위해 첨가할 수 있는 통상적인 보조제를 포함한다. 이러한 보조제는, 예를 들면, 천연 결합제(예: 녹말, 카제인, 단백질 또는 젤라틴), 셀룰로스 에테르(예: 카복시알킬셀룰로스 또는 하이드록시알킬셀룰로스), 알긴산, 알기네이트, 폴리에틸렌 옥사이드 또는 폴리에틸렌 옥사이드 알킬 에테르, 에틸렌 옥사이드와 프로필렌 옥사이드와의 공중합체, 폴리비닐 알콜, 포름알데히드와 우레아 또는 멜라민과의 수용성 축합 생성물, 폴리포스페이트 또는 폴리아크릴산 염이다.
본 발명의 방법에 따라 사용한 피복 조성물은 피복된 인쇄 용지, 필기 용지 또는 특수 용지(예: 판지 또는 사진 용지)를 제조하는데 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 방법에 따라 사용한 피복 조성물은, 피복물이 70 내지 200℃, 바람직하게는 90 내지 130℃의 종이 표면 온도 범위에서, 예를 들면, 적외선 건조기 및/또는 열풍 건조기를 사용하여 3 내지 8%의 잔류 함수율로 건조시킨 후, 예를 들면, 에어 블레이드(air blade), 피복 블레이드, 롤러, 닥터 블레이드(doctorblade) 또는 로드를 사용하여 통상적인 방법으로 기재에 적용시키거나, 가호 프레스 속에서 기재에 적용시킬 수 있다. 따라서, 저온 건조에서조차도 비교적 높은 백색도를 성취할 수 있다.
본 발명에 따르는 방법을 사용함으로써, 수득한 피복물은, 전체 표면에 걸친 분산 형광증백제의 최적 분포가 두드러지고, 이로써 수득한 백색도 수준의 증가, 일광 견뢰도 및 승온 견뢰도(예: 60 내지 100℃에서 24시간 동안 안정함)와 물에 대한 우수한 삼출 견뢰도(bleed-fastness to water)가 우수하다.
바람직한 제2 국면에 있어서, 본 발명은 종이를 가호 프레스 속에서 호제, 임의의 무기 또는 유기 안료 및 화학식 1의 형광증백제 0.1 내지 20g/L를 함유하는 수용액과 접촉시킴을 포함하는, 종이 표면의 형광증백법을 제공한다. 바람직하게는, 호제는 녹말, 녹말 유도체 또는 합성 호제(synthetic sizing agent), 특히 수용성 공중합체이다.
바람직한 제3 국면에 있어서, 상기한 증백제는 직물을 처리하는데 특히 중요하다. 직물 기재를, 특히 형광증백제가 미분된 형태(현탁액, 소위 미세분산액 및 몇몇 경우 용액)로 존재하는 수성 매질 속에서 처리하는 것이 유리하다. 분산제, 안정화제, 습윤제 및 추가의 보조제를 처리 동안 임의로 첨가할 수 있다.
20 내지 140℃의 온도 범위, 예를 들면, 욕의 비점 또는 이에 근접한 온도(예: 약 90℃)에서 처리하는 것일 일반적이다. 본 발명에 따라, 직물 기재를 후처리하기 위해, 소위 용매 염색법[염색기 속에서 패드 열고정법 및 염착법]에 사용된 바와 같이, 유기 용매중의 용액 또는 에멀젼을 사용할 수도 있다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 광학증백제는, 예를 들면, 다음과 같은 형태로 사용될 수 있다.
(a) 소위 "담체", 습윤제, 연화제, 팽윤제, 산화방지제, 광안정화제, 열안정화제 및 화학적 표백제(아염소산염 표백제 및 표백 욕 첨가제)를 갖는 혼합물,
(b) 가교결합제 및 후처리제(예: 전분 또는 합성 후처리제)를 갖는 혼합물 및 매우 다양한 직물 후처리 공정, 특히 합성 수지 후처리법(예: "세척-및-마모", "영구 프레스" 및 "철 사용하지 않음"과 같은 내주름성 후처리법), 내열성 후처리법, 유연 후처리법, 방오 후처리법, 정전기방지 후처리법 또는 항미생물성 후처리법과의 조합.
(c) 첨가제로서 다양한 비누 및 세척제 및
(d) 광학증백 작용을 하는 기타 기재와의 조합.
증백 공정을 직물 처리법 또는 후처리법과 조합하는 경우, 조합 처리법은 다수의 경우 목적하는 증백 효과를 수득하는 농도에서 광학증백 작용을 하는 화합물을 함유하는 상응하는 안정한 제형을 사용함으로써 유리할 수 있다.
특정 경우에 있어서, 증백제의 완전한 효과는 후처리에 의해 성취된다. 이는, 예를 들면, 화학 처리법(예: 산 처리법), 열 처리법(예: 열) 또는 조합된 화학/역 처리법일 수 잇다.
본 발명에 따라 사용될 광학 증백제의 양은 광학적으로 증백될 물질에 비해 광범위한 범위내에서 가변적일 수 있다. 확실하고 지속적인 효과는 이미 극소량, 특정 경우, 예를 들면, 0.03중량% 양으로 성취될 수 있었다. 그러나, 약 0.5중량%이하의 양이 사용될 수도 있다. 실행시 중요한 대부분의 경우에 있어서, 바람직하게는, 증백될 물질 기준으로, 0.05 내지 0.5중량%의 양이 중요하다.
본 발명의 제4 국면에 있어서, 광학증백제는 또한 세척욕 첨가제로서, 또는 산업용 및 가정용 세척제로서 특히 적합하고, 다양한 방식으로 첨가할 수 있다. 광학증백제는 물 또는 유기 용매에서 이들의 용액 형태로, 또는 수성 분산액 또는 슬러리로서 미세하게 분할된 상태로 세척욕에 첨가하는 것도 적합하다. 광학증백제 또는 이들의 성분은 세척제의 제조 공정의 모든 단계에서 가정용 또는 산업용 세척제, 예를 들면, 세척용 분말의 분무-건조 전이나 액상 세척제 배합물의 제조 동안 소위 "슬러리"에 첨가하는 것이 유리하다. 화합물은 물 또는 기타 용매에서 용액 또는 분산액 형태로, 또한 무수 증백제 분말 형태의 보조제를 사용하지 않고 가할 수 있다. 그러나, 이들은 후처리된 세척제상에 용해되거나 예비분산된 형태로 분무될 수 있다.
사용될 수 있는 세척제는, 예를 들면, 조각 및 분말 형태의 비누, 합성 제품, 고지방 알콜의 설폰산 반-에스테르의 가용성 염, 고급 알킬에 의해 치환되고/되거나 알킬에 의해 다치환된 아릴설폰산, 고분자량 매질의 알콜을 갖는 카복실산 에스테르, 지방산 아실아미노알킬- 또는 아미노아릴-글리세롤-설포네이트, 지방 알콜의 인산 에스테르 등과 같은 세제 기재의 혼합물이다. 사용될 수 있는 소위 "빌더"는, 예를 들면, 알칼리 금속 폴리포스페이트, 알칼리 금속 폴리메타포스페이트, 알칼리 금속 피로포스페이트, 카복시에틸셀룰로스의 알칼리 금속 염, 기타 "얼룩 재침착 방지제", 알칼리 금속 실리케이트, 알칼리 금속 카보네이트, 알칼리 금속보로네이트, 알칼리 금속 퍼보레이트, 니트릴트리아세트산, 에틸렌디아민-테트라아세트산 및 발포 안정화제(예: 고지방산의 알칸올아미드)가 있다. 또한, 세척제에는, 예를 들면, 정전기방지제, 초지방 피부 보호제(예: 라놀린, 효소, 항미생물제, 향료 및 염료)가 포함될 수 있다.
증백제는, 예를 들면, 차아염소산염과 같은 활성 염소 공여체의 존재하에 효과적이며, 비이온성 세척제(예: 알킬페놀 폴리글리콜 에테르)를 사용하여 세척욕에서 효과가 실질적으로 감소하지 않으면서 사용될 수 있다는 특정 이점을 갖는다. 또한, 과붕산염 또는 과산 및 활성화제의 존재하에, 예를 들면, 테트라아세틸글리콜우릴 또는 에틸렌디아민-테트라아세트산은 분말상 세탁제 및 세척욕 둘 다에서 매우 안정한 신규한 증백제이다.
본 발명에 따른 증백제는 액상 또는 분말상의 즉시 사용가능한 세척제의 중량 기준으로, 0.005 내지 2중량%, 바람직하게는 0.03 내지 0.5중량%의 양으로 첨가한다. 증백제가 셀룰로스 섬유, 폴리아미드 섬유, 고급 후처리된 셀룰로스 섬유, 양모 등으로 이루어진 직물을 세탁하는데 사용하는 경우, 본 발명에 따른 광학증백제 소정량을 함유하는 세척액은 일광에 노출시 광택이 난다.
예를 들면, 다음과 같이 세척한다:
상기한 직물은 빌더를 함유하는 착화합물인 세척제 1 내지 10g/kg 및 세척제 중량 기준으로, 청구의 범위에 기재한 증백제 0.05 내지 1중량%를 함유하는 세척욕에서 5 내지 100℃, 바람직하게는 25 내지 100℃에서 1 내지 30분 동안 처리한다. 액상 비는 1:3 내지 1:50일 수 있다. 세척 후, 직물을 통상적인 방식으로 헹군 다음, 건조시킨다. 세척욕에는 표백 첨가제로서 활성 염소(예를 들면, 하이포클로라이드 형태로) 0.2g/L 또는 과붕산나트륨 0.1 내지 2g/L가 함유될 수 있다.
본 발명에 따른 증백제는 또한 "담체"를 포함하는 세정 욕으로부터 적용할 수 있다. 이를 위해, 증백제는 "담체"로서, 예를 들면, 폴리비닐 알콜, 전분, 아크릴산을 기본으로 하는 공중합체, 포름알데하이드/우레아, 에틸렌-우레아 또는 프로필렌-우레아 유도체를 함유하는 연질 세정제 또는 또다른 세정제내로, 세정제를 기준으로 하여, 0.005 내지 5중량%, 바람직하게는 0.2 내지 2중량% 양으로 혼입된다. 세정욕 1L당 1 내지 100mL, 바람직하게는 2 내지 25mL 양으로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 증백제를 함유하는 이러한 유형의 세정제는 매우 다양한 유형의 처리 직물에 광택이 나게한다.
본 발명의 제5 국면에 있어서, 화학식 1의 화합물은 또한 은 할라이드 사진용 감광성 재료를 포함하는 사진 재료 내 얼룩을 제거하는데 적합한데, 보다 상세하게는, 착색된 얼룩을 방지하고, 특히 유색 현상액 및 표백 고정욕을 사용하여 상기 은 할라이드 사진용 감광성 재료를 제조하는 과정에서 유발되는 착색 염료 얼룩을 방지하기 위한 방법에 적합하다.
다음 실시예는 본 발명을 설명하며, 부 및 퍼센트는 달리 언급하지 않는 한, 중량 기준이다.
실시예 1
화학식 2
염화시아누르산 18.4g을 아세톤 100mL에 용해시키고, 상기 용액을 반응 용기에 함유된 얼음 100g에 가한다. 이어서, 물 330mL중의 4,4'-디아미노-2,2'-스틸벤 디설폰산 나트륨 염 18.4g 용액을 5℃에서 10분에 걸쳐 첨가한다. 이어서, 1mol의 탄산나트륨 수용액 50mL를 10분에 걸쳐 첨가한다. 이어서, N-2-하이드록시에틸 아닐린 14.55g을 가하고, 온도를 35℃로 증가시킨 다음, pH를 7 내지 7.5로 유지시키고, 혼합물을 추가로 2시간 동안 교반시킨다. 침전된 생성물을 여과하고, 물로 세척한 다음, 건조시켜, 화학식 2a의 화합물 39g을 수득한다.
C36H30Cl2N10Na2O8S2에 대한 원소분석:
계산치: C 47.32%, H 3.54%, Cl 7.76%, N 15.33%, S 7.02%;
실측치: C 47.1%, H 4.0%, Cl 7.7%, N 15.5%, S 6.7%.
물 150mL중의 화학식 2의 화합물 10g에 아스파르트산 3.4g을 첨가하고, 혼합물을 70℃로 가열한 다음, 32% 수산화나트륨 수용액을 첨가함으로써 pH를 8 내지 8.5로 유지시킨다. 상기 온도에서 2시간 후에, 반응이 완결된다. 이어서, 혼합물을 pH를 37% 수성 염산을 첨가함으로써 3으로 조절하고, 온도를 70℃에서 유지시킨다. 침전된 유리 산을 여과하고, 메탄올/물 혼합물에서 현탁시킨 다음, 32% 수산화나트륨 수용액을 첨가함으로써 pH를 9로 조절한다. 침전된 생성물을 여과하고, 건조시켜, 화학식 2의 화합물 8.8g을 수득한다.
C44H38N12Na6O16S2ㆍ10.5H2O에 대한 원소분석:
계산치: C 38.23%, H 4.31%, N 12.17%, Na 9.99%, S 4.64%;
실측치: C 38.2%, H 4.5%, N 12.2%, Na 9.8%, S 4.6%.
실시예 2
화학식 3
얼음/물 40g에 염화시화눌산 12.5g을 가하고, 폴리에틸렌 글리콜 0.5g을 가한 다음, 혼합물을 15분 동안 교반시킨다. 이어서, 물 90mL중의 4,4'-디아미노-2,2'-스틸벤 디설폰산 나트륨 염 12g 용액을 5℃에서 10분에 걸쳐 첨가한다. 이어서, 물 60mL중의 17% 탄산나트륨 수용액 20g을 첨가하고, pH가 5.5로 감소할때까지 혼합물을 5℃에서 교반시킨다. 이어서, 플라스크의 내용물을 중량이 193g으로 되도록 진공하에 농축시키면, 20%의 화학식 2a의 화합물 용액이 생성되는데, 이는 HPLC에 따라 상기 실시예 1에서 수득한 바와 동일하다.
아스파르트산이 동량의 이미노디아세트산으로 대체되는 것을 제외하고는, 상기 용액을 화학식 2의 화합물을 제조하기 위해 상기한 바와 같이 동일한 방식으로 처리한다. 수득한 화학식 3의 화합물의 C44H38N12Na6O16S2ㆍ16H2O에 대한 원소분석은다음과 같다:
계산치: C 35.68%, H 4.75%, N 11.35%, S 4.33%;
실측치: C 35.52%, H 4.59%, N 11.27%, S 4.43%.
실시예 3
화학식 4
염화시아누르산 16g을 아세톤 90mL에 용해시키고, 용액을 얼음/물 90g에 부어넣는다. 이어서, 물 200mL중의 80.8% 4,4'-디아미노-2,2'-스틸벤 디설폰산 20g 및 얼음/물 90g 용액을 염화시아누르산 현탁액에 20분에 걸쳐 첨가한다. 1M 탄산나트륨 수용액 43.5mL를 첨가함으로써 pH를 4.5 내지 5.0으로 조절하고, 온도는 5℃ 미만으로 유지시킨다. 30분 동안 교반시킨 후에, 97% N-페닐글리신 13.6g 및 1M 탄산나트륨 수용액 43.5mL를 첨가한다. 이어서, 온도를 20℃로 증가시키는 시간 동안 혼합물을 3시간 동안 교반시키고, 32% 수산화나트륨 수용액 10.9g을 첨가함으로써 pH를 6.8 내지 7.5로 유지시킨다. 반응 혼합물을 여과하고, 여액을 농축시킨 다음, 메탄올 200mL로 희석시키고, 용액을 이소프로판올 1L에 부어넣는다. 침전된 생성물을 여과시킴으로써 분리시키고, 진공하에 80℃에서 건조시켜, 화학식 3a의 화합물을 수득한다.
수득한 생성물의 C36H24Cl2N10Na4O10S2ㆍ7H2Oㆍ0.2NaCl에 대한 원소분석은 다음과 같다:
계산치: C 38.50%, H 3.45%, Cl 6.95%, N 12.50%, S 5.71%;
실측치: C 38.46%, H 3.60%, Cl 7.01%, N 12.59%, S 5.67%.
화학식 3a의 화합물 5.5g을 물 20mL에서 교반시키고, 98% 2-메톡시-에틸아민 1g을 첨가한다. 32% 수산화나트륨 수용액 1.1g을 첨가함으로써 pH를 8.5 내지 9.0으로 유지시키면서, 혼합물을 85℃로 가열한다. 2시간 후에, 혼합물을 냉각시키고, 2N 염산을 가함으로써 pH를 3.0으로 조절한 다음, 아세톤 50mL를 가한다. 현탁액을 여과하고, 고체를 메탄올 50mL에 가한 다음, 나트륨 메틸레이트의 32% 메탄올성 용액을 가하여 pH를 9.3이 되도록 한다. 이어서, 알콜을 증발시키고, 최종생성물을 진공하에 80℃에서 건조시켜, 화학식 4의 화합물을 수득한다.
수득한 생성물의 C42H38N12Na4O12S2ㆍ7.8H2Oㆍ0.4NaCl에 대한 원소분석은 다음과 같다:
계산치: C 41.20%, H 4.60%, Cl 1.10%, N 13.70%, S 5.23%;
실측치: C 41.25%, H 4.47%, Cl 1.07%, N 13.78%, S 5.20%.
실시예 4
표백된 면 견본은 다음 조성을 갖는 수성 욕에서 방출 방식으로 처리한다:
섬유의 중량을 기준으로 하여, 100% 활성 물질로서 화합물(4) 0.2중량% ,
울트라본(Ultravon)RUV 0.5mL/L,
3% 수산화나트륨 수용액 20mL/L,
10% 물 유리 수용액 2mL/L 및
35% 과산화수소 수용액 3mL/L.
1:40의 액상 비로 25 내지 95℃에서 30분 동안 처리하고, 95℃에서 추가로 30분 동안 처리한 다음, 최종적으로 30℃로 냉각시킨다. 견본을 처리 욕으로부터 제거하고, 세정한 다음, 60℃하의 오븐에서 건조시킨다.
견본의 백색도는 갠즈법(Ganz method)에 따라 측정하며, 문헌[참조: Ciba-Geigy Review, 1973/1 및 "Whiteness Measurement", ISCC Conference on Fluorescence and the Colorimetry of Fluorescent Materials, Williamsburg,February 1972, the Journal of Color and Appearance, 1, No. 5(1972)]에 상세하게 기재되어 있다.
상기한 바와 같이 처리한 견본에 대해 측정된 백색도 값은 127이다.

Claims (32)

  1. 화학식 1의 화합물.
    화학식 1
    상기 화학식에서,
    R1은 각각 독립적으로, 비치환되거나, 하이드록시, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-하이드록시, C1-C4-알콕시알콕시, -OCOM, -OCOC1-C4-알킬, 또는 아미노 그룹에서 수소원자가 제거된 아미노산 잔기에 의해 치환된 선형 C1-C4-알킬렌 잔기이고,
    R2는 각각 독립적으로, 비치환되거나, 하이드록시, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-하이드록시, C1-C4-알콕시알콕시, -OCOM, -OCOC1-C4-알킬, -CO2M, CO2C1-C4-알킬, SO3M, 또는 비치환되거나, 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, NH2또는 일치환 또는 이치환된 아미노에 의해 치환된 페녹시에 의해 치환된선형 C1-C4-알킬렌 잔기; 또는 비치환되거나, 1 내지 3개의 SO3M, SO2NHC1-C4-알킬, -SO2NH2, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, -CONH2, -CONHC1-C4-알킬, -NHCOC1-C4-알킬 또는 일치환 또는 이치환된 아미노 그룹에 의해 치환된 페닐이며,
    R3은 서로 독립적으로, 수소, C1-C4-알킬, 할로겐, 시아노, SO3M, -SO2NH2, SO2NHC1-C4-알킬, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, -CONH2, -CONHC1-C4-알킬 또는 -NHCOC1-C4-알킬이고,
    M은 수소, 알킬 금속원자, 암모늄 또는 아민으로부터 형성된 양이온이며,
    m은 1 내지 3의 정수이다.
  2. 제1항에 있어서, R1그룹, R2그룹 및 R3그룹이 모두 동일한 화합물.
  3. 제2항에 있어서, 각각의 R1이 아미노산 잔기이고, 각각 화학식 -NH-CH(CO2H)-R4[여기서, R4는 수소 또는 화학식 -CHR5R6의 그룹(여기서, R5및 R6은 서로 독립적으로, 수소, 또는 하이드록시, 티오, 메틸티오, 아미노, 카복시, 설포, 페닐, 4-하이드록시페닐, 3,5-디요오도-4-하이드록시페닐, β-인돌릴, β-이미다졸릴 및 NH=C(NH2)NH-로부터 선택된 하나 또는 두개의 치환체에 의해 임의로 치환된 C1-C4-알킬이다)이다]을 갖는 화합물.
  4. 제3항에 있어서, 아미노산 잔기인 R1이 유도되는 아미노산이 글리신, 알라닌, 사르코신, 세린, 시스테인, 페닐알라닌, 티로신(4-하이드록시페닐알라닌), 디요오도티로신, 트립토판(β-인돌릴알라닌), 히스티딘(β-이미다졸릴알라닌), α-아미노부티르산, 메티오닌, 발린(α-아미노이소발레르산), 노르발린, 로이신(α-아미노이소카프로산), 이소로이신(α-아미노-β-메틸발레르산), 노르로이신(α-아미노-n-카프로산), 아르기닌, 오르니틴(α,δ-디아미노발레르산), 리신(α,ε-디아미노카프로산), 아스파르트산(아미노석신산), 글루탐산(α-아미노글루타르산), 트레오닌, 하이드록시글루탐산 또는 타우린, 또는 이들의 혼합물 및 광학 이성체인 화합물.
  5. 제4항에 있어서, 아미노산 잔기인 R1이 유도되는 아미노산이 사르코신, 타우린, 글루타민산 또는 아스파르트산인 화합물.
  6. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 각각의 아미노산 잔기 R1이 유도되는 아미노산이 아스파르트산 또는 이미노디아세트산인 화합물.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, R1이, 비치환되거나, 하이드록시, C1-C4-알킬,C1-C4-알콕시, C1-C4-하이드록시, C1-C4-알콕시알콕시, -OCOM(여기서, M은 제1항에서 정의한 바와 같다) 또는 -OCOC1-C4-알킬에 의해 치환된 선형 C1-C4-알킬렌 잔기인 화합물.
  8. 제7항에 있어서, R1이 비치환되거나, 하이드록시, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-하이드록시 또는 C1-C4-알콕시알콕시에 의해 치환된 선형 C1-C4-알킬렌 잔기인 화합물.
  9. 제8항에 있어서, R1이 하이드록시 또는 C1-C4-알콕시에 의해 치환된 선형 C1-C4-알킬렌 잔기인 화합물.
  10. 제1항 내지 제9항 중의 어느 한 항에 있어서, R2가, 비치환되거나, 하이드록시, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-하이드록시, C1-C4-알콕시알콕시, -OCOM, -OCOC1-C4-알킬, -CO2M, CO2C1-C4-알킬, SO3M, 또는 비치환되거나, 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, NH2또는 일치환 또는 이치환된 아미노에 의해 치환된 페녹시에 의해 치환된 선형 C1-C4-알킬렌인 화합물.
  11. 제10항에 있어서, R2가 하이드록시, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-하이드록시, C1-C4-알콕시알콕시, -OCOM, -OCOC1-C4-알킬, -CO2M, -CO2C1-C4-알킬, SO3M(여기서, M은 제1항에서 정의한 바와 같다) 또는 디-C1-C4-알킬아미노에 의해 치환된 메틸렌, 에틸렌 또는 프로필렌인 화합물.
  12. 제10항 또는 제11항에 있어서, R2가 하이드록시에틸, 하이드록시프로필, 에톡시에틸, 하이드록시에톡시에틸, 메톡시에톡시에틸, 아세트산 또는 프로피온산 잔기 또는 이의 메틸 또는 에틸 에스테르, 에틸 또는 메틸 아세테이트, 디메틸아미노에틸 또는 에틸 설폰산, 또는 이의 나트륨 염인 화합물.
  13. 제12항에 있어서, R2가 하이드록시에틸 또는 아세트산나트륨 잔기인 화합물.
  14. 제1항 또는 제2항에 있어서, 각각의 R2가, 비치환되거나, 1 내지 3개의 SO3M, SO2NHC1-C4-알킬, -SO2NH2, -CO2M(여기서, M은 제1항에서 정의한 바와 같다), -CO2C1-C4-알킬, -CONH2, -CONHC1-C4-알킬, -NHCOC1-C4-알킬 또는 일치환 또는 이치환된 아미노 그룹에 의해 치환된 페닐인 화합물.
  15. 제14항에 있어서, 각각의 R2가, 비치환되거나, 하나의 SO3M, -SO2NH2또는 -NHCOC1-C4-알킬 그룹에 치환된 페닐인 화합물.
  16. 제14항 또는 제15항에 있어서, 각각의 R2가 페닐인 화합물.
  17. 제1항 내지 제16항 중의 어느 한 항에 있어서, R3이 수소, C1-C4-알킬, 할로겐, 시아노, SO3M, -SO2NH2, SO2NHC1-C4-알킬, -CO2M(여기서, M은 제1항에서 정의한 바와 같다), -CO2C1-C4-알킬, -CONH2, -CONHC1-C4-알킬 또는 -NHCOC1-C4-알킬인 화합물.
  18. 제17항에 있어서, R3이 수소인 화합물.
  19. 제1항 내지 제18항 중의 어느 한 항에 있어서, M이 수소, Na, K, Ca, Mg, 암모늄, 모노-, 디-, 트리- 또는 테트라-C1-C4-알킬암모늄, 모노-, 디- 또는 트리-C1-C4-하이드록시알킬암모늄, 또는 C1-C4-알킬 그룹과 C1-C4-하이드록시알킬 그룹과의 혼합물로 이치환 또는 삼치환된 암모늄인 화합물.
  20. 제19항에 있어서, 각각의 M이 수소 또는 Na인 화합물.
  21. 제1항에 있어서, R1이 아스파르트산 또는 이미노디아세트산으로부터 유도된 아미노산 잔기이고, R2가 하이드록시에틸이며, R3이 수소이고, M이 나트륨인 화합물.
  22. 제1항에 있어서, R1이 2-메톡시에틸아미노 잔기이고, R2가 아세트산나트륨 잔기이며, R3이 수소이고, M이 나트륨인 화합물.
  23. 화학식 5의 화합물.
    화학식 5
    상기 화학식에서,
    R2, R3, M 및 m은 제1항에서 정의한 바와 같다.
  24. 화학식 1의 화합물을 제조하기 위한, 제23항에 따르는 화학식 5의 화합물의 용도.
  25. 공지된 반응 조건하에, 염화시아누르산을 4,4-디아미노-2,2'-스틸벤 디설폰산, 화학식의 그룹(여기서, R2, R3및 m은 제1항에서 정의한 바와 같다)을 도입시킬 수 있는 아미노 화합물 및 R1그룹(여기서, R1은 제1항에서 정의한 바와 같다)을 도입시킬 수 있는 화합물과 연속해서, 임의의 순서로 반응시킴으로써 화학식 1의 화합물을 제조하는 방법.
  26. 합성 또는 천연 유기 재료용 광학증백제로서의 화학식 1의 화합물의 용도.
  27. 제26항에 있어서, 펄프, 가호-프레스 또는 피복 용품 내 종이용 광학증백제로서의 화학식 1의 화합물의 용도.
  28. 제26항에 있어서, 직물 재료, 특히 면 및 폴리아미드 재료 뿐만 아니라, 동일 섬유 및 기타 합성 섬유의 혼방 재료용 광학증백제로서의 화학식 1의 화합물의 용도.
  29. 제26항에 있어서, 세제 조성물에서 광학증백제로서의 화학식 1의 화합물의용도.
  30. 사진 재료 내 얼룩을 제거하기 위한, 화학식 1의 화합물의 용도.
  31. 물, 제1항에 따르는 형광증백제 및, 임의로, 보조제를 함유하는, 합성 또는 천연 유기 재료를 증백시키거나 사진 재료 내 얼룩을 제거하기 위한 조성물.
  32. 제31항에 있어서, 물 및, 각각의 경우, 조성물의 중량을 기준으로 하여, 제1항에 따르는 형광증백제 혼합물 3 내지 25중량%, 바람직하게는 5 내지 15중량%, 보조제 0 내지 60중량%, 바람직하게는 5 내지 50중량%를 함유하는 증백제 조성물.
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