KR20020046889A

KR20020046889A - 열처리 장치 및 열처리 방법

Info

Publication number: KR20020046889A
Application number: KR1020010000926A
Authority: KR
Inventors: 가와모토히로시
Original assignee: 스기야마 야승; 고요 써모시스템 주식회사
Priority date: 2000-12-15
Filing date: 2001-01-08
Publication date: 2002-06-21
Also published as: TW448284B; JP2002181457A; KR100636714B1; JP3696505B2

Abstract

고온으로 판형 피처리물을 열처리할 때에 에너지 손실을 일으키는 일없이 판형 피처리물의 깨짐을 방지할 수 있고, 처리 시간을 단축하여 가열실 온도 분포 특성을 양호하게 유지할 수 있는 콤팩트하고 간단한 구성의 열처리 장치를 제공한다.

복수의 판형 피처리물(3)을 적재 가능한 적재체(15)를 제1 가열실(13)의 내부와 제2 가열실(14)의 내부 사이에서 왕복 이동시키는 이동 기구(18)를 구비한다. 상기 제1 가열실(13)로 통하도록 노에는 판형 피처리물(3)의 출입구(12b)가 설치되어 있다. 제1 가열실(13)내의 적재체(15)에 판형 피처리물(3)을 한 장씩 적재함과 동시에, 이 적재체(15)로부터 판형 피처리물(3)을 한 장씩 추출 가능한 반송 기구(5)를 구비한다. 상기 제1 가열실(13)에 있어서의 가열 온도는 제2 가열실(14)에 있어서의 가열 온도보다 더 낮게 유지된다.

Description

열처리 장치 및 열처리 방법{HEAT TREATMENT DEVICE AND HEAT TREATMENT METHOD}

본 발명은 예컨대, 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판이나, 이 기판을 이용한 전자 부품 등의 판형 피처리물을 고온으로 열처리하는 데 알맞은 열처리 장치와 열처리 방법에 관한 것이다.

종래, 액정 디스플레이 장치용 유리 기판 등의 판형 피처리물을 열처리하기 위한 열처리 장치에 있어서는, 랙(rack)이나 카세트에 수납된 복수의 판형 피처리물을 가열실내에서 가열한 후에 외기 중에 추출하여 냉각하고 있다. 이러한 열처리 장치에 있어서, 그 가열실로부터 복수의 판형 피처리물을 한 장씩 추출하기 위한 기술(일본 특허 출원 공개 번호 P2000-169169A)이나, 그 가열실로부터 복수의 판형 피처리물을 일거에 추출하는 기술(일본 특허 출원 공개 번호 P2000-274952A, P2000-274955A)이 개시되어 있다.

가열실에 있어서의 가열 온도가 예컨대, 300℃ 라는 고온일 경우, 판형 피처리물을 가열실내에서 가열한 후에 외기 중에 추출하여 냉각하면, 가열실 온도와 외기 온도의 차가 크기 때문에 판형 피처리물이 깨지는 문제가 있다.

따라서, 가열실에 있어서의 가열의 종료 후에 판형 피처리물을 외기 중에 추출하기 전에 그 가열실의 온도를 서서히 저하시키는 것이 제안되었다. 그러나, 그 후에 별도의 로트(lot)의 판형 피처리물을 처리할 때에 가열실의 온도를 상승시킬 필요가 있다. 그렇게 가열실의 온도를 상승 및 하강시키면, 가열실내의 온도 분포 특성이 악화하여 노내의 축열 에너지가 손실되고, 또한 처리 시간이 길어진다는 문제가 있다. 또한, 열풍 가열을 행하는 경우는 먼지 제거용 필터를 구성하는 유리 섬유 등에 온도 변동에 의한 팽창 수축이 생겨 입자가 발생하기 때문에 청결도가 저하한다는 문제가 있다.

본 발명은 상기 문제를 해결할 수 있는 열처리 장치와 열처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 열처리 시스템의 구성을 도시한 설명도이며,

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 열처리 시스템의 부분 파단 측면도이고,

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 열처리 장치의 부분 파단 평면도이며,

도 4는 본 발명의 실시예의 반송 기구의 사시도이다.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

1 : 열처리 시스템

2 : 열처리 장치

3 : 판형 피처리물

5 : 제1 반송 기구

12 : 노(爐)

12a : 접속구

12b : 출입구

13 : 제1 가열실

14 : 제2 가열실

15 : 랙(적재체)

18 : 이동 기구

31 : 제1 폐쇄 부재

32 : 제2 폐쇄 부재

본 발명의 열처리 장치는 노와, 이 노내에 설치되는 제1 가열실과, 상기 제1 가열실에 통하도록 노내에 설치되는 제2 가열실과, 복수의 판형 피처리물을 적재 가능한 적재체와, 이 적재체를 제1 가열실의 내부와 제2 가열실의 내부 사이에서 왕복 이동시키는 이동 기구와, 이 제1 가열실에 통하도록 노에 설치되는 판형 피처리물의 출입구와, 제1 가열실내의 적재체에 판형 피처리물을 한 장씩 적재함과 동시에 적재체로부터 판형 피처리물을 한 장씩 추출 가능한 반송 기구를 구비하고, 상기 제1 가열실에 있어서의 가열 온도는 제2 가열실에 있어서의 가열 온도보다 더 낮게 유지되어 있는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 열처리 방법은 본 발명의 열처리 장치를 이용하여 판형 피처리물을 열처리할 때에 있어서, 제1 가열실내에 있어서 적재체에 복수의 판형 피처리물을 적재시키고, 복수의 판형 피처리물을 적재한 적재체를 제2 가열실내에 이동시키며, 상기 제2 가열실내에 있어서 적재체에 적재된 복수의 판형 피처리물을 제2 가열실의 유지 온도까지 가열하고, 제2 가열실의 유지 온도까지 가열된 복수의 판형 피처리물을 적재한 적재체를 제1 가열실내에 이동시키며, 제1 가열실내에 있어서 상기 적재체에 적재된 복수의 판형 피처리물의 온도를 제1 가열실의 유지 온도까지 저하시키고, 제1 가열실내에 있어서의 유지 온도가 된 복수의 판형 피처리물을 제1 가열실로부터 추출하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 열처리 장치에 따르면 본 발명의 열처리 방법을 실시할 수 있다.

본 발명에 따르면, 판형 피처리물을 제2 가열실에서 예컨대, 300℃라는 고온으로 가열하여 열처리를 실시한 후에, 제1 가열실에 있어서 제2 가열실에 있어서의 가열 온도보다 더 낮은 온도까지 저하시키고, 그러한 후에 제1 가열실로부터 외기 중에 추출할 수 있다. 이에 따라, 판형 피처리물을 열처리한 후에 외기 중에 추출할 때에, 판형 피처리물의 온도와 외기 온도의 차를 저감하여 판형 피처리물이 깨어지는 것을 방지할 수 있다. 더욱이, 상기 제2 가열실의 온도를 저하시킬 필요가 없기 때문에, 제2 가열실내의 온도 분포 특성을 양호하게 유지하고, 제2 가열실내의 에너지 손실을 없애 처리 시간이 길어지는 것을 방지할 수 있다. 또한 열풍 가열을 하는 경우, 제1 가열실에 있어서의 먼지 제거용 필터를 구성하는 유리 섬유 등은 온도 변동이 없기 때문에 팽창 수축하는 일은 없어 입자 발생에 의한 청결도저하를 방지할 수 있다. 또한, 판형 피처리물을 제1 가열실에 있어서의 적재체에 직접 적재하거나, 그 적재체에 적재된 판형 피처리물을 제1 가열실로부터 직접 추출할 수 있어 구성을 단순화시킬 수 있다.

상기 제1 가열실은 제2 가열실의 아래쪽에 배치되어 있는 것이 바람직하다.

이에 따라, 제2 가열실내의 고온 분위기내에 제1 가열실내의 저온 분위기가 유입하는 것을 억제하여 제2 가열실내의 온도 분포 특성을 양호하게 유지하고 에너지 손실을 방지할 수 있다. 또한, 장치 설치 면적을 저감할 수 있다.

제1 가열실과 제2 가열실 사이에 적재체가 통과 가능한 접속구가 설치되고, 적재체가 제1 가열실에 위치할 때에 접속구를 열차폐 가능하게 폐쇄하는 제1 폐쇄 부재와, 적재체가 제2 가열실에 위치할 때에 접속구를 열차폐 가능하게 폐쇄하는 제2 폐쇄 부재가 설치되며, 제1 폐쇄 부재는 접속구의 폐쇄시에 그 접속구 주위의 부분과 간극을 둔 상태로 대향하고, 제2 폐쇄 부재는 접속구의 폐쇄시에 그 접속구 주위의 부분에 밀접하게 설치되는 것이 바람직하다.

이에 따라, 제2 가열실내의 고온 분위기내에 제1 가열실내의 저온 분위기가 유입하는 것을 억제하고 에너지 손실을 방지할 수 있다. 또한, 제2 폐쇄 부재에 의해 접속구를 폐쇄할 때에는 제2 가열실내의 고온 분위기내에 제1 가열실내의 저온분위기가 유입하는 것을 완전히 저지하여 제2 가열실내의 온도 분포 특성을 양호하게 유지할 수 있다.

더욱이, 상기 적재체가 제1 가열실에 위치할 때에 접속구를 폐쇄하는 제1 폐쇄 부재는 접속구 주위의 부분과 접촉하는 일이 없기 때문에 그러한 접촉에 의해입자 발생이 생기는 일은 없다. 이에 따라, 제1 가열실에 위치하는 적재체상의 판형 피처리물에 입자가 떨어져 더럽혀지는 일은 없다.

상기 제1 폐쇄 부재와 제2 폐쇄 부재는 상기 적재체와 함께 이동 가능하게 되고 있는 것이 바람직하다.

이에 따라, 각 폐쇄 부재를 폐쇄 위치와 개방 위치 사이에서 이동시키기 위한 전용의 기구가 불필요하여 구조를 단순화시킬 수 있다.

본 발명의 방법에 있어서, 복수의 판형 피처리물을 적재한 적재체를 제1 가열실로부터 제2 가열실에 이동시키기 전에 제1 가열실내에 있어서, 그 적재체에 적재된 복수의 판형 피처리물을 제1 가열실의 유지 온도까지 가열하는 것이 바람직하다.

이에 따라, 판형 피처리물을 제1 가열실로부터 제2 가열실로 이동시켰을 때 제2 가열실내의 온도 변동을 작게 하고 온도 분포를 양호하게 유지할 수 있다.

도 1에 도시하는 열처리 시스템(1)은 복수의 열풍 가열식 열처리 장치(2)와, 액정 디스플레이 장치용 유리 기판 등의 판형 피처리물(3)을 각 열처리 장치(2)와 중계 스테이션(4) 사이에서 반송하는 제1 반송 기구(5)와, 이 판형 피처리물(3)을 중계 스테이션(4)과 복수의 인수(引受) 스테이션(6) 사이에서 반송하는 제2 반송 기구(7)를 구비한다. 각각의 인수 스테이션(6)에는 별도의 공정으로부터 카세트(8)가 반출 반입된다. 카세트(8)에 복수의 판형 피처리물(3)이 가로 방향으로 한 장씩 추출 가능하게 상하로 간격을 두어 적재된다.

도 2, 도 3에 도시한 바와 같이, 각 열처리 장치(2)는 내열 재질의 노(12)에의해 구성된다. 노(12)의 내부에 제1 가열실(13)과 제2 가열실(14)이 설치된다. 제1 가열실(13)은 제2 가열실(14)의 아래쪽에 배치된다. 제1 가열실(13)과 제2 가열실(14)은 노(12)에 형성되는 접속구(12a)를 통해 서로 통한다. 제1 가열실(13)에 통하도록 노에는 판형 피처리물(3)의 출입구(12b)가 설치되어 있다. 출입구(12b)는 문(12c)에 의해 개폐된다.

상기 노(12)의 내부에 복수의 판형 피처리물(3)을 적재 가능한 적재체로서 랙(15)이 배치된다. 이 랙(15)은 복수의 판형 피처리물(3)을 가로 방향으로 한 장씩 추출 가능하게, 두께 방향을 상하 방향으로 하여 상하로 간격을 두어 적재한 것으로, 예컨대 도 4에 도시한 바와 같이, 지주(15a)로부터 돌출하는 폴(pawl)(15b)을 통해 판형 피처리물(3)을 적재하도록 되어 있다. 상기 중계 스테이션(4)에 복수의 판형 피처리물(3)을 가로 방향으로 한 장씩 추출 가능하게 상하로 간격을 둔 상태로 적재 가능한 적재대(9)가 설치되어 있다.

상기 랙(15)은 제1 가열실(13)의 내부와 제2 가열실(14)의 내부 사이에서 상하 이동할 수 있도록, 상기 접속구(12a)를 통과 가능한 치수로 되어 있다. 이 랙(15)을 제1 가열실(13)의 내부와 제2 가열실(14)의 내부 사이에서 상하 이동시키는 이동 기구(18)가 설치되어 있다. 이 이동 기구(18)는 노(12)의 아래쪽에 배치되는 구동 장치(18a)와, 노(12)의 바닥부를 관통하는 로드(18b)를 구비한다. 로드(18b)의 상단에 의해 후술의 제2 폐쇄 부재(32)를 통해 랙(15)이 지지되고, 로드(18b)의 하단은 구동 장치(18a)에 있어서의 상하 이동체(18a')에 연결되어 있다.

상기 제1 반송 기구(5)와 제2 반송 기구(7)는 독립적으로 구성되어 있다.도 4에 도시한 바와 같이, 상기 로봇은 포크(19a)와, 이 포크(19a)를 도면 중 화살표로 도시한 바와 같이 신축 선회시키는 아암(19b, 19c)과, 포크(19a)와 아암(19b, 19c)을 도면 중 화살표로 도시한 바와 같이 승강시키는 승강 장치(19d)와, 이 포크(19a), 아암(19b, 19c), 로봇(19)을 가로 방향으로 주행시키는 주행 장치(19e)를 구비하고 있다. 제1 반송 기구(5)를 구성하는 로봇에 의해, 제1 가열실(13)내의 랙(15)과 중계 스테이션(4)상의 적재대(9)에 대하여 판형 피처리물(3)이 한 장씩 적재되고, 또한, 적재된 판형 피처리물(3)이 추출된다. 상기 제2 반송 기구(7)를 구성하는 로봇에 의해, 중계 스테이션(4)상의 적재대(9)와 인수 스테이션(6)상의 카세트(8)에 대하여 판형 피처리물(3)이 적재되고, 또한, 적재된 판형 피처리물(3)이 추출된다. 상기 제1 반송 기구(5)와 제2 반송 기구(7)는 공지의 것을 이용할 수 있다.

상기 제1 가열실(13)내에 있어서 랙(15)에 적재된 판형 피처리물(3)을 가열하도록 열풍을 발생하는 열풍 가열 기구(16a)가 설치되어 있다. 또한, 제2 가열실(14)내에 있어서 랙(15)에 적재된 판형 피처리물(3)을 가열하도록 열풍을 발생하는 열풍 가열 기구(16b)가 설치되어 있다. 양 열풍 가열 기구(16a, 16b)는 본 실시예에서는 유사한 구성이 되어, 노(12)에 부착되는 히터(22)와 열풍 순환용 팬(23)을 구비한다. 또한, 노(12)의 내부에 설치된 내벽(21)의 한 측면에 먼지 제거용 필터(17)가 부착되어 있다. 내벽(21)의 다른 측면에 통풍구(25)가 형성되어 있다. 도 3에 있어서 화살표로 도시한 바와 같이, 노(12)내의 분위기는 히터(22)에 의해 가열되고 팬(23)에 의해 순환됨으로써 필터(17)를 통해 랙(15)에 적재된판형 피처리물(3)에 가로 방향으로부터 내뿜어지는 열풍이 된다. 이 열풍은 각 판형 피처리물(3)의 겉과 속을 따라 흐르고, 그 후에 통풍구(25)를 통해 히터(22)에 이르러 다시 가열된다. 필터(17)는 유리 섬유에 의해 여과재가 주구성되는 HEPA 필터가 이용되고 있다.

제1 가열실(13)에 있어서의 가열 온도는 제2 가열실(14)에 있어서의 가열 온도보다 더 낮게 유지된다. 예컨대, 제1 가열실(13)에 있어서의 가열 온도는 200℃∼250℃가 되고, 제2 가열실(14)에 있어서의 가열 온도는 300℃가 된다.

도 2에 도시한 바와 같이, 상기 접속구(12a)를 열차폐 가능하게 폐쇄하는 수단으로서 제1 폐쇄 부재(31)와 제2 폐쇄 부재(32)가 설치되어 있다.

제1 폐쇄 부재(31)는 상기 랙(15)의 상부와 함께 이동 가능하게 부착되고 있다. 랙(15)이 제1 가열실(13)에 위치할 때, 제1 폐쇄 부재(31)는 접속구(12a)를 열차폐 가능하게 폐쇄한다. 즉, 상기 제1 폐쇄 부재(31)는 접속구(12a)의 폐쇄시에 접속구(12a)의 내부에 배치되고, 또한, 접속구(12a) 주위의 부분인 내주면과 간극(δ)을 둔 상태로 대향한다.

제2 폐쇄 부재(32)는 상기 랙(15)의 하부와 함께 이동 가능하게 부착된다. 상기 랙(15)이 제2 가열실(14)에 위치할 때, 제2 폐쇄 부재(32)는 접속구(12a)를 열차폐 가능하게 폐쇄한다. 즉, 상기 제2 폐쇄 부재(32)는 접속구(12a)의 폐쇄시에 접속구(12a)의 아래쪽에 배치되고, 또한, 접속구(12a) 주위의 부분의 하면과 밀접하게 된다.

상기 구성에 의해 열처리를 행하는 경우, 제1 가열실(13)을 예컨대,200∼250℃ 정도의 온도로 유지하고, 제2 가열실(14)을 예컨대, 300℃ 정도의 온도로 유지한다. 다음에, 제2 반송 기구(7)에 의해 인수 스테이션(6)상의 카세트(8)로부터 추출한 판형 피처리물(3)을 중계 스테이션(4)상의 적재대(9)에 적재시키고, 제1 반송 기구(5)에 의해 그 중계 스테이션(4) 상의 적재대(9)로부터 추출한 판형 피처리물(3)을 출입구(12b)를 통해 제1 가열실(13)내의 랙(15)에 적재시킨다. 이것을 반복함으로써 카세트(8)내의 모든 판형 피처리물(3)을 랙(15)으로 옮긴다. 다음에, 랙(15)에 적재된 복수의 판형 피처리물(3)을 제1 가열실(13)의 유지 온도까지 가열한다. 다음에, 이 복수의 판형 피처리물(3)을 적재한 랙(15)을 이동 기구(18)에 의해 제2 가열실(14)에 이동시킨다. 다음에, 이 랙(15)에 적재된 복수의 판형 피처리물(3)을 제2 가열실(14)의 유지 온도까지 가열하고, 설정 시간의 고온 열처리를 행한다. 다음에, 상기 복수의 판형 피처리물(3)을 적재한 랙(15)을 이동 기구(18)에 의해 제1 가열실(13)에 이동시키고, 그 랙(15)에 적재된 판형 피처리물(3)의 온도를 제1 가열실(13)의 유지 온도까지 저하시킨다. 다음에, 제1 가열실(13)의 유지 온도가 된 복수의 판형 피처리물(3)을 제1 반송 기구(5)에 의해 출입구(12b)를 통해 랙(15)으로부터 한 장씩 추출하여 중계 스테이션(4)상의 적재대(9)에 적재시킨다. 상기 중계 스테이션(4)에 있어서의 적재대(9)에 적재된 판형 피처리물(3)을 방냉하고, 그 후에 제2 반송 기구(7)에 의해 중계 스테이션(4)의 적재대(9)로부터 추출한 판형 피처리물(3)을 인수 스테이션(6)상의 카세트(8)에 적재시킨다.

\상기 구성에 따르면, 판형 피처리물(3)을 제2 가열실(14)에 있어서 예컨대,300℃라는 고온으로 가열한 후에, 제1 가열실(13)에 있어서 제2 가열실의 가열 온도보다 더 낮은 온도까지 저하시키고, 그 후에 제1 가열실(13)로부터 외기 중에 추출할 수 있다. 이에 따라, 판형 피처리물(3)을 외기 중에 추출할 때에 판형 피처리물(3)의 온도와 외기 온도차를 저감하여 판형 피처리물(3)이 깨지는 것을 방지할 수 있다. 더욱이, 제2 가열실(14)의 온도를 저하시킬 필요가 없기 때문에, 제2 가열실(14)내의 온도 분포 특성을 양호하게 유지하고 제2 가열실(14)내의 에너지 손실을 없애 가열에 필요한 시간을 단축하여 처리 시간이 길어지는 것을 방지할 수 있다. 또한, 제2 가열실(14)에 있어서, 먼지 제거용 필터(17)를 구성하는 유리 섬유는 온도 변동이 없기 때문에 팽창 수축하는 일은 없고 입자 발생에 의한 청결도 저하를 방지할 수 있다. 또한, 랙(15)에 적재된 판형 피처리물(3)을 제1 가열실(13)로부터 제2 가열실(14)로 이동시키기 전에 제1 가열실(13)의 유지 온도까지 가열하고 있기 때문에, 판형 피처리물(3)을 제1 가열실(13)로부터 제2 가열실(14)에 이동시켰을 때에 제2 가열실(14)내의 온도 변동을 작게 하여 온도 분포를 양호하게 유지할 수 있다.

또한, 제1 반송 기구(5)에 의해 판형 피처리물(3)을 제1 가열실(13)의 랙(15)에 직접 적재하거나, 그 랙(15)에 적재된 판형 피처리물(3)을 제1 가열실(13)로부터 직접 추출할 수 있기 때문에 구성을 단순화시킬 수 있다.

상기 제1 가열실(13)은 제2 가열실(14)의 아래쪽에 배치되고 접속구(12a)는 제1, 제2 폐쇄 부재(31, 32)에 의해 열차폐 가능하게 폐쇄되기 때문에, 제2 가열실(14)내의 고온 분위기내에 제1 가열실(13)내의 저온 분위기가 유입하는 것을억제하고 에너지 손실을 방지할 수 있다. 또한, 장치의 설치 면적을 줄일 수 있다. 또한, 제2 폐쇄 부재(32)에 의해 접속구(12a)를 폐쇄할 때는 제2 가열실(14)내의 고온 분위기내에 제1 가열실(13)내의 저온 분위기가 유입하는 것을 완전히 저지하고, 제2 가열실(14)내의 온도 분포 특성을 양호하게 유지할 수 있다. 더욱이, 랙(15)이 제1 가열실(13)에 위치할 때 제1 폐쇄 부재(31)는 접속구(12a) 주위의 부분과 접촉하는 일이 없기 때문에 그러한 접촉에 의해 입자 발생이 생기는 일은 없다. 이에 따라, 제1 가열실(13)에 위치하는 랙(15) 상의 판형 피처리물(3)에 입자가 떨어지는 일은 없고 오염을 방지할 수 있다. 양 폐쇄 부재(31, 32)는 랙(15)과 함께 이동하기 때문에, 그 접속구(12a)의 폐쇄 위치와 개방 위치 사이에서 이동시키기 위한 전용의 기구가 불필요하고 구조를 단순화시킬 수 있다.

본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않는다. 예컨대 각 가열실(13, 14)의 가열 방법은 특별히 한정되지 않고, 제1 가열실(13)과 제2 가열실(14)에서 각기 다른 가열 방법을 채용해도 좋으며, 예컨대 제1 가열실(13)에 있어서 머플(muffle) 부착의 원적외선 가열 방식을 채용해도 좋다. 또한, 제1 폐쇄 부재(31)를 랙(15)과는 독립적으로 이동시키는 구동 장치로 설치해도 좋다.

본 발명에 따르면 고온으로 판형 피처리물을 열처리할 때에, 에너지 손실을 일으키는 일없이 판형 피처리물의 깨짐을 방지할 수 있고 처리 시간을 단축하여 가열실 온도 분포 특성을 양호하게 유지할 수 있으며, 청결도를 저하시키는 일이 없는 컴팩트하고 간단한 구성의 열처리 장치 및 열처리 방법을 제공할 수 있다.

Claims

노와,

상기 노내에 설치되는 제1 가열실과,

상기 제1 가열실에 통하도록 노내에 설치되는 제2 가열실과,

복수의 판형 피처리물을 적재 가능한 적재체와,

상기 적재체를 제1 가열실의 내부와 제2 가열실의 내부 사이에서 왕복 이동시키는 이동 기구와,

상기 제1 가열실에 통하도록 노에 설치되는 판형 피처리물의 출입구와,

상기 제1 가열실내의 적재체에 판형 피처리물을 한 장씩 적재함과 동시에, 그 적재체로부터 판형 피처리물을 한 장씩 추출 가능한 반송 기구를 구비하고,

상기 제1 가열실에 있어서의 가열 온도는 제2 가열실에 있어서의 가열 온도보다 더 낮게 유지되는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
제1항에 있어서, 상기 제1 가열실은 제2 가열실의 아래쪽에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
제2항에 있어서, 상기 제1 가열실과 제2 가열실 사이에 상기 적재체가 통과 가능한 접속구가 설치되고,

상기 적재체가 제1 가열실에 위치할 때에 접속구를 열차폐 가능하게 폐쇄하는 제1 폐쇄 부재와, 상기 적재체가 제2 가열실에 위치할 때에 접속구를 열차폐 가능하게 폐쇄하는 제2 폐쇄 부재가 설치되며,

상기 제1 폐쇄 부재는 접속구의 폐쇄시에 그 접속구 주위의 부분과 간극을 둔 상태로 대향하고,

상기 제2 폐쇄 부재는 접속구의 폐쇄시에 그 접속구 주위의 부분과 밀접하게 설치되는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
제3항에 있어서, 상기 제1 폐쇄 부재와 제2 폐쇄 부재는 상기 적재체와 함께 이동 가능하게 되어 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 열처리 장치를 이용하여 판형 피처리물을 열처리하는 방법에 있어서,

제1 가열실내에 있어서 적재체에 복수의 판형 피처리물을 적재시키는 단계와,

상기 복수의 판형 피처리물을 적재한 적재체를 제2 가열실내에 이동시키는 단계와,

상기 제2 가열실내에 있어서 상기 적재체에 적재된 복수의 판형 피처리물을 그 제2 가열실의 유지 온도까지 가열하는 단계와,

상기 제2 가열실의 유지 온도까지 가열된 복수의 판형 피처리물을 적재한 적재체를 제1 가열실내에 이동시키는 단계와,

상기 제1 가열실내에 있어서 그 적재체에 적재된 복수의 판형 피처리물의 온도를 상기 제1 가열실의 유지 온도까지 저하시키는 단계와,

상기 제1 가열실내에 있어서의 유지 온도로 된 복수의 판형 피처리물을 상기 제1 가열실로부터 추출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 열처리 방법.
제5항에 있어서, 복수의 판형 피처리물을 적재한 적재체를 제1 가열실로부터 제2 가열실에 이동시키기 전에, 제1 가열실내에 있어서 그 적재체에 적재된 복수의 판형 피처리물을 상기 제1 가열실의 유지 온도까지 가열하는 것을 특징으로 하는 열처리 방법.