KR20020026540A - 부압 가스 공급 용기를 이용하는 자동 스위칭 가스 전달시스템 - Google Patents

부압 가스 공급 용기를 이용하는 자동 스위칭 가스 전달시스템 Download PDF

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Abstract

가스 소모성 프로세스 유닛(38), 예컨대 반도체 제조 툴(38)에 가스를 분배하기 위한 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템(10)에 관한 것이다.

Description

부압 가스 공급 용기를 이용하는 자동 스위칭 가스 전달 시스템{AUTO-SWITCHING GAS DELIVERY SYSTEM UTILIZING SUB-ATMOSPHERIC PRESSURE GAS SUPPLY VESSELS}
최신의 반도체 제조 플랜트(fab)의 작동은 툴 및 제조 플랜트의 가동 시간과 이용을 최대화시키기 위해 프로세스 화학물의 연속한 전달을 필요로 한다. 공급 용기로부터 압축된 처리 가스 및 압축 액화된 처리 가스의 연속적인 전달을 위해, 종래의 전달 시스템은 통상 자동화된 스위칭 기능을 채택하고 있다. 이러한 자동 스위칭 기능은 공지된 바와 같이, 제조 플랜트에서의 중요한 프로세스를 강제적으로 정지할 필요 없이 사용자가 공급 실린더를 교환할 수 있게 해준다.
압축된 처리 가스 및 압축 액화된 처리 가스의 자동 스위칭 방법은 매우 간단하다. 압축된 처리 가스 및 압축 액화된 처리 가스는 모두 프로세스 툴로 대기압 이상의 압력으로 전달 라인에서 전달된다.
압축된 가스에 있어서, 대부분의 전달 시스템은 높은 실린더의 압력, 예컨대 800-1200 psig 에서 20-100 psig 의 작업 압력으로 낮추기 위해 조절기를 사용한다. 압축된 가스 실린더는 일반적으로 실린더의 압력이 100-200 psig 사이에 도달 할 때 교환 및 서비스를 중단해야 한다. 이는 실린더 압력이 전달 라인의 압력 설정점(모든 압축된 가스 전달 시스템의 설계를 위해 제공됨) 보다 높이 유지되는 한, 통상 전달 라인의 압력, 즉 조절기의 다운스트림(downstream)의 압력은 실린더 압력의 점진적인 감소에 의해 영향을 받지 않는다는 것을 의미한다.
압축 액화된 가스에 있어서도 이와 유사하게 설계된다. 가장 명백한 차이점은 BCl3및 WF6(실린더 압력이 각각 4.4 및 2.4 psig) 등의 비교적 낮은 압력으로 압축 액화된 가스에서 찾을 수 있다. 이들 시스템은 전달 라인의 압력을 일정하게 유지하기 위한 조절기를 반드시 구비할 필요는 없다. 그 대신, 대부분의 압축 액화된 가스 전달 시스템은 전달 라인의 압력을 일정하게 유지하도록 가열하는 실린더와 전달 라인을 필요로 한다. 일정한 전달 라인의 압력은 정압이거나 부압일 수 있다. 실례로서, WF6의 분배를 위한 전달 라인의 일정한 압력은 약 12 psia로 되는 것이 좋다.
압축된 가스 혹은 압축 액화된 가스 중 어느 하나에 있어서, 분배 시스템의 기본적인 설계는 프로세스 전달 라인 내에 일관된 압력을 제공하는 것이다. 이러한 설계에 의해 동일한 배기 매니폴드의 격리 밸브의 토글링(toggling)과 관련된 것을 자동 스위칭이 가능하게 된다. 전달 라인의 압력은, 자동 스위치 기구가 설치될 경우 하나의 압축된 실린더와 다른 실린더에 있어 현저한 차이는 없다. 그 결과, 다운스트림 프로세스는 분배 시스템의 자동 스위칭 중에 어떠한 압력 교란에 영향을 받지 않게 된다.
압축된 가스 및 압축 액화된 가스용의 기존의 프로세스 가스 전달 시스템을 사용하여 부압의 가스 공급원에 자동 스위칭 기능을 부여하기는 어렵다. 그 첫 번째 이유는 종래의 압축된 가스 및 압축 액화된 가스 시스템은 "일정한" 혹은 "안정된" 압력 조작을 위해 설계되어 있기 때문이다. 이들 시스템은 일정한 부압 가스를 전달하는 능력을 제공하지 못할뿐더러 상이한 절대압으로 될 수 있는 2개의 부압 실린더 사이에서 자동적으로 스위칭 되는 기능도 없다. 공지 기술에 근거하면, "빈" 부압 실린더와 "가득 찬" 부압 실린더 사이에서의 스위칭은 툴 및 이와 관련한 가스 유동 라인의 도처에서 압력 스파이크를 유발할 수 있다. 이러한 압력 스파이크는 입자 생성 및 질량 유동의 불일치와 불안정을 초래할 수 있으며, 이들 양자는 프로세스의 수행 및 성능에 부정적인 영향을 미칠 수 있다.
압축된 가스 전달 시스템과는 달리, 단일 실린더의 부압 전달 시스템의 현행 구조는 다이프램 조절기 등의 기계적 조절기를 사용하는 것을 포함하지 않는다. 그 이유는 다음과 같이 여러 가지가 있다. 그중 하나는 종래의 기계적 조절기는 원하지 않는 압력 강하를 야기한다는 것이다. 더욱이, 기계적 조절기는 매우 낮은 부압에서 유효한 작동을 하기에는 부적합할 수 있다. 그 대신, 대부분의 종래의 기계적 조절기는 약 300 Torr 이내의 압력에서 작동되도록 구성할 수 없다. 조절기를 사용하지 않으면, 부압 가스 전달 시스템으로부터의 전달 라인내의 부압 가스의 절대 압력은 부압 가스 실린더의 절대 압력과 거의 동일하게 된다. 그러한 것으로서, 전달 라인내의 압력은 가스가 부압 실린더로부터 추출되고 운반될 때 감소하게 될 것이다. 부압 실린더의 압력은 실린더가 채워진 상태에 따라 10-700 Torr 범위이다. "가득 찬" 부압 실린더의 압력은 650-700 Torr 이다. "빈" 부압 실린더의 압력은 10-30 Torr 이다. 이들 2개의 상태에서의 자동 스위칭은 전술한 이유로 인해 권고할 만한 것이 못된다. 빈 부압 실린더의 압력 조건으로부터 가득 찬 부압 실린더의 압력 조건으로의 점진적인 전이(轉移)를 확보하기 위해 제어 장치가 필요하게 된다.
전술한 형태의 부압 가스 공급원은 1996.5.21일자로 글렌 엠. 톰(Glenn M. Tom)과 제임스 브이. 맥마너스(James V. McManus) 명의로 발행된 미국 특허 제5,518,528호에 개시된 흡착제를 주성분으로 하는 가스 저장 및 분배 시스템을 포함한다. 상기 특허의 가스 저장 및 분배 시스템은 가스, 예컨대, 수화물 가스, 할로겐화물 가스, 유기 금속 그룹 V 화합물 등의 저장 및 분배를 위한 흡착 및 탈착 장치를 포함한다. 상기 특허의 흡착제를 주성분으로 하는 가스 저장 및 분배 시스템은 압력 차등 조정 및/또는 열 차등 조정식 탈착에 의한 후속 분배를 위해, 제올라이트 혹은 활성 탄소 물질 등의 캐리어 흡착제 매체상에 저장된 소르빈산 가스를 가역적으로 흡착시킴으로써 그 저장된 소르빈산 가스의 압력을 감소시키며, 선택적으로 저장 및 분배 용기를 통과하는 캐리어 가스의 흐름으로 부압 공급 용기 내의 흡착제로부터 저장된 가스의 농도 차등 조정식 탈착을 제공한다.
상기 특허에 개시된 타입의 흡착제를 주성분으로 하는 가스 저장 및 분배 시스템의 전형적인 구조에 따르면, 분배 조립체는 가스가 그 위에 흡착된 고상의 흡착제를 수용하고 있는 저장 및 분배 용기와 연통하여 가스의 흐름에 결합되어 있다. 이러한 시스템의 가스 분배 조립체는 저장 및 분배 용기의 외부에 고상의 물리적 흡착제 매체로부터의 흡착제 가스의 탈착을 행하도록 용기 내부의 압력보다 낮은 압력과, 분배 조립체를 통해 탈착된 가스의 가스 유동을 제공하기 위해 배치되어 있다.
따라서, 상기 특허의 저장 및 분배 용기는 고압의 가스 실린더, 특히 유해한 가스를 수용하는 실린더에 있어서 현저한 개선점을 제공한다. 종래의 고압 가스 실린더는 조절기 조립체의 파손뿐만 아니라 손상 혹은 오작동에 의해 누설이 일어나기 쉽고, 또는 가스의 내부적인 분해가 실린더 내부의 가스압을 급속하게 증가시킬 경우 실린더로부터의 원하지 않는 가스의 방출이 일어나기 쉽다.
본 발명은 반도체 제작 툴(tool) 등의 가스 소모성 프로세스 설비에 가스를 공급하기 위한 부압 가스 전달 시스템에 관한 것으로, 이 시스템은 부압 가스 공급 용기를 사용하며, 압력 스파이크(spikes) 및 유동 교란 없이 빈 용기로부터 가득 찬 용기로의 자동 스위칭이 가능한 특성을 갖는다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 자동 스위칭 가능한 부압 가스 전달 시스템을 개략적으로 도시한 도면이다.
따라서, 본 발명의 목적은 자동 스위칭 가능한 부압 가스 전달 시스템을 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은 부압 흡착제를 주성분으로 하는 가스 저장 및 분배 용기용의 자동 스위칭 가능한 부압 가스 전달 시스템을 제공하는 데 있다.
본 발명의 또 다른 목적 및 장점은 첨부된 청구의 범위와 상세한 설명을 통해 더욱 명백해질 것이다.
본 발명은 반도체 제품의 제조 등의 응용례에 사용하기에 적합한 부압 가스의 분배를 위한 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템에 관한 것이다.
본 발명의 일관점에 따르면, 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템이 제공되며, 이 시스템은
(a) 복수 개의 가스 패널로, 이 패널 각각은 가스 유동 회로를 구비하며, 상기 가스 유동 회로는, 부압 가스 공급원에 결합 가능하고 분배된 가스가 통과하는 생성물 가스 유동 라인과, 퍼지(purge) 가스 공급원에 결합 가능하고 퍼지 가스가 통과하는 퍼지 가스 라인과, 상기 생성물 가스 유동 라인에 있는 압력 제어식 유량 조절기와, 상기 패널의 가스 유동 회로에 있는 상기 생성물 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 라인 각각을 선택적이면서 독립적으로 차단하여 이들 라인을 통한 가스의 유동을 방지하는 선택적 작동식 밸브를 포함하는, 복수 개의 가스 패널과,
(b) 상기 각각의 가스 패널에 있는 생성물 가스 유동 라인을 상호 접속시켜, 상기 복수 개의 가스 패널 중의 능동적인 분배 패널의 상기 생성물 가스 유동 라인으로부터 생성물 가스를 배출하는 생성물 가스 매니폴드와,
(c) 상기 각각의 가스 패널에 있는 생성물 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 라인과 가스 유동 연통 상태로 결합되는 퍼지 가스 매니폴드와,
(d) 상기 퍼지 가스 매니폴드를 통해 상기 복수 개의 가스 패널 중의 무분배 패널의 유동 회로로부터 가스를 배출하도록 배열되어 있는 선택적 작동식 배기 구동기와,
(e) 상기 각각의 가스 패널에서, (1) 상기 선택적인 작동식 밸브와, (2) 상기 선택적인 작동식 배기 구동기를 선택적으로 작동시키도록 배열되어 있는 중앙 처리 장치(CPU)를 포함하며,
상기 각각의 가스 패널은, (Ⅰ) 상기 부압 가스 공급원으로부터의 가스를 상기 생성물 가스 유동 라인을 통해 상기 생성물 가스 매니폴드까지 유동시키는 능동적인 분배 작동 모드와, (Ⅱ) 상기 퍼지 가스 공급원으로부터의 가스를 상기 퍼지 가스 라인을 통해 상기 생성물 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 매니폴드로 유동시키는 퍼지 작동 모드와, (Ⅲ) 상기 퍼지 가스 라인, 상기 생성물 가스 유동 라인 및 상기 퍼지 가스 매니폴드를 상기 배기 구동기의 작동 중에 배기 처리하는 배기 작동 모드와, (Ⅳ) 상기 능동적인 분배 작동 모드 (Ⅰ)의 재 초기화를 위해, 상기 생성물 가스 유동 라인을 상기 생성물 가스 매니폴드로부터 나온 생성물 가스로 충전하고, 상기 생성물 가스 유동 라인에 있는 상기 압력 제어식 유량 조절기가 작동하여 상기 부압 가스 공급원으로부터 상기 생성물 가스 유동 라인을 통해 상기 생성물 가스 매니폴드까지 생성물 가스의 유량을 제어하는 능동적인 가스 분배 상태 작동 모드로의 충전 전이를 포함하는, 다수의 작동 모드에서 순차적으로, 교번적으로, 그리고 반복적으로 작동하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 또 다른 관점에 따르면, 자동 스위칭 부압 가스 전달 방법이 제공되며, 이 방법은,
(a) 가스 유동 회로를 각각 구비하며, 상기 가스 유동 회로는, 부압 가스 공급원에 결합 가능하고 분배된 가스가 통과하는 생성물 가스 유동 라인과, 퍼지 가스 공급원에 결합 가능하고 퍼지 가스가 통과하는 퍼지 가스 라인과, 상기 생성물 가스 유동 라인에 있는 압력 제어식 유량 조절기와, 상기 패널의 가스 유동 회로에 있는 상기 생성물 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 라인 각각을 선택적이면서 독립적으로 차단하여 이들 라인을 통한 가스의 유동을 방지하는 선택적 작동식 밸브를 포함하는, 복수 개의 가스 패널과; 상기 각각의 가스 패널에 있는 생성물 가스 유동 라인을 상호 접속시켜, 상기 복수 개의 가스 패널 중의 능동적인 분배 패널의 생성물 가스 유동 라인으로부터 생성물 가스를 배출하는 생성물 가스 매니폴드와; 상기 각각의 가스 패널에 있는 생성물 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 라인과 가스 유동 연통 상태로 결합되는 퍼지 가스 매니폴드와; 상기 퍼지 가스 매니폴드를 통해 상기 복수 개의 가스 패널 중의 무분배 패널의 유동 회로로부터 가스를 배출하도록 배열되어 있는 선택적 작동식 배기 구동기를 제공하는 단계와,
(b) 상기 각각의 가스 패널에서, (1) 상기 선택적인 작동식 밸브와, (2) 상기 선택적인 작동식 배기 구동기를 선택적으로 작동시켜, 상기 각각의 가스 패널을 (Ⅰ) 상기 부압 가스 공급원의 가스를 상기 생성물 가스 유동 라인을 통해 상기 생성물 가스 매니폴드까지 유동시키는 능동적인 분배 작동 모드와, (Ⅱ) 상기 퍼지 가스 공급원의 퍼지 가스를 상기 퍼지 가스 라인을 통해 상기 생성물 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 매니폴드로 유동시키는 퍼지 작동 모드와, (Ⅲ) 상기 퍼지 가스 라인, 상기 생성물 가스 유동 라인 및 상기 퍼지 가스 매니폴드를 상기 배기 구동기의 작동 중에 배기 처리하는 배기 작동 모드와, (Ⅳ) 상기 능동적인 분배 작동 모드 (Ⅰ)의 재 초기화를 위해, 상기 생성물 가스 유동 라인을 상기 생성물 가스 매니폴드로부터 나온 생성물 가스로 충전하고, 상기 생성물 가스 유동 라인에 있는 상기 압력 제어식 유량 조절기가 작동하여 상기 부압 가스 공급원으로부터 상기 생성물 가스 유동 라인을 통해 상기 생성물 가스 매니폴드까지 생성물 가스의 유량을제어하는 능동적인 가스 분배 상태 작동 모드로의 충전 전이를 포함하는 다수의 작동 모드에서 순차적으로, 교번적으로, 그리고 반복적으로 작동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 또 다른 관점에 따르면, 개별의 부압 생성물 가스 공급원 용기에 각각 결합 가능한 복수 개의 가스 패널에 배열되어 있는 매니폴드 가스 캐비닛 유동 회로에 의해 부압 생성물 가스 공급원으로부터의 생성물 가스를 공급하는 방법을 제공하며, 이 방법은
(a) 능동적인 생성물 가스 분배 모드에서 제1 패널을 작동시키고, 상기 제1 패널의 유동 회로에 결합된 부압 가스 공급원에서 나온 생성물 가스를 공급하는 단계와,
(b) 상기 능동적인 가스 분배 모드 동안에 상기 제1 패널에서, 상기 복수 개의 가스 패널 중의 제2 패널을 퍼지 가스로 퍼지 처리하고, 상기 제2 패널의 유동 회로를 배기하고, 상기 제2 패널의 유동 회로를 상기 제1 패널로부터 나온 생성물 가스 및 상기 제2 패널의 유동 회로에 결합된 부압 가스 공급원에서 나온 생성물 가스로 충전하고, 상기 제2 패널을 능동적인 가스 분배 상태로 만드는 단계와,
(c) 압력 스파이크 또는 유동 교란의 발생을 피하기 위해 상기 제2 패널의 유동 회로에서 나온 상기 생성물 가스 유량을 제어하면서 상기 제1 가스 패널에 결합된 부압 가스 공급원의 배출시에 상기 제2 패널을 능동적인 생성물 가스 분배 모드로 전환하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 관점, 특징 및 실시예는 이하의 상세한 설명과 첨부된 청구의 범위로부터 더욱 명백해질 것이다.
본 발명은 빈 부압 가스 공급 용기로부터 가득 찬 부압 가스 공급 용기로의 전이를 허용하는 자동 스위칭 능력을 갖는 부압 가스 전달 시스템에 관한 것이다. 본 발명의 시스템은 개별적이거나 복합 프로세스 툴에 또는 부압 가스 분배 시스템에 부압 가스를 방해받지 않고 전달할 수 있게 해준다.
본 발명의 부압 가스 전달 시스템의 예시적인 실시예가 도 1에 개략적으로 도시되어 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 부압 가스 전달 시스템(10)은 점선으로 개략적으로 표시한 가스 캐비닛 조립체(12)를 구비하며, 이 캐비닛 조립체는 서로 연결되어 있는 2개의 개별적인 가스 캐비닛 밀폐체를 포함하며, 이들 밀폐체 각각은 2개의 가스 패널들 중 대응하는 패널을 포위한다. 각각의 패널을 위한 가스 캐비닛은 단일의 밀폐체를 포함하며 공지의 억세스 도어(access door), 가스 공급 용기 부착 부재가 설치되어 있다.
도시된 가스 전달 시스템(10)은 일반적으로 서로 대칭이면서 도 1에 "패널 A"와 "패널 B" 로 표시된 개개의 가스 패널 조립체를 구비하며, 이들 조립체는 가스 전달, 퍼지 및 배출 작동 모드를 위한 파이핑 수단, 밸브 수단, 유동 제어 및처리 검출 수단을 포함한다. 전술한 바와 같이, 패널 A는 제1의 가스 캐비닛에 있고 패널 B는 제2의 가스 캐비닛이 있으며, 이들 가스 캐비닛 각각은 서로 연결되어 있다. 가스 패널 각각은 단일의 중앙 처리 장치(CPU: 48)와 일체화(상호 작동적으로 결합)되어도 좋다.
각각의 가스 패널 조립체들은 생성물 가스 배출 유동 라인(22)이 접합되는 생성물 가스 배출 매니폴드 라인(18)에 결합되어 있다. 생성물 배출 유동 라인(22)은 차례로 가스 소모성 설비(38)에 연결되어 있으며, 이 설비는 예컨대 반도체 제조 툴 혹은 다른 처리 장치를 포함해도 좋다.
상기 가스 전달 시스템(10)에 있어서, 자동 밸브들은 특정의 밸브 유닛의 번호 앞에 첨자 "AV-" 를 붙여 표시하였다. 이 장치에는 유동 제한 오리피스 부재들이 구비되어 있으며, 이 부재는 특정의 유동 제한 오리피스 부재의 번호 앞에 첨자 "RFO-" 를 붙여 표시하였다. 입자 필터는 특정의 입자 필터 유닛의 번호 앞에 첨자 "PF-"를 붙여 표시하였다. 압력 변환 부재는 특정의 압력 변환 유닛의 번호 앞에 첨자 "PT-"를 붙여 표시하였다. 압력 제어식 유량 조절 장치는 특정의 압력 제어식 유량 조절 장치의 번호 앞에 첨자 "FR-"를 붙여 표시하였다.
도시된 바와 같이, 패널 A는 퍼지 가스 공급원(34)에 결합된 퍼지 라인(30)을 포함한다. 이 퍼지 가스 공급원(34)은 실린더 혹은 다른 공급 컨테이너, 또는 퍼지 라인(30)을 통해 퍼지 가스가 선택적으로 유동하도록 퍼지 가스의 "하우스"/벌크(bulk) 퍼지 공급원을 포함할 수 있다. 퍼지 라인(30)은 자동 밸브(AV-1), 유동 제한 오리피스(PRO-1) 및 옵션의 입자 필터(PF-1)를 포함한다. 패널 A에서, 주요 가스 유동 라인(26)은 부압 가스 공급 용기(14)와 퍼지 가스 매니폴드 라인(20)을 이용하여 생성물 가스 배출 매니폴드 라인(18)을 상호 연결한다. 퍼지 라인(30)은 라인(31)을 경유하여 패널 B의 퍼지 라인(32)에 결합되며, 이에 따라 퍼지 가스 공급원(34)은 패널 A 와 패널 B 양자의 역할을 한다.
구체적인 실시예에 따르면, 부압 가스 공급 용기(14)는 미국 특허 제5,518,528호에 도시되고 설명된 형태의 흡착제를 주성분으로 하는 가스 저장 및 분배 용기와, 분배될 가스와 흡착 친화성을 갖는 물리적 흡착제, 예컨대 약 0.5kg의 아르신 가스가 장입된 비이드(bead) 활성탄 흡착제를 수용하는 "JY" 실린더를 포함할 수 있다. 본 명세서에서는 상기 미국 특허 제5,518,528호를 전체적으로 참고하고 있다. 가스 분배 모드에서, 아르신 가스는 주요 가스 요동 라인(26)과, 생성물 가스 배출 매니폴드 라인(18) 및 생성물 배출 유동 라인(22)을 통해 공급 용기(14)로부터 가스 소모성 설비(38)로 유동하며, 이 설비는 CVD 툴, 예컨대 마이크로전자 장치 구조체의 제조에 사용된 박막 기질에서 비소 및 인 원자의 침전 및 합체를 위한 툴을 포함해도 좋다.
주요 가스 유동 라인(26)은 밸브(AV-00)를 포함하는 밸브 조립체에 의해 공급 용기(14)에 결합되어 있다. 이 주요 가스 유동 라인(26)은 압력 변환기(PT-1). 자동 밸브(AV-2), 압력 제어식 유량 조절 장치(FR-1), 자동 밸브(AV-04)를 포함하며, 이러한 라인(26)은 자동 밸브(AV-05)를 포함하는 바이패스 유동 제어 루프(44)에 의해 선택적으로 결합된다.
패널 B는 패널 A와 구조적으로 일치한다. 패널 B는 도시된 바와 같이 퍼지라인(30)에 연결된 라인(31)을 경유하여 퍼지 가스 공급원(34)과 함께 결합된 퍼지 라인(32)을 포함한다. 전술한 퍼지 가스 공급원(34)은 실린더나 혹은 적절한 퍼지 가스가 그 내부에 수용된 다른 공급 컨테이너를 포함할 수 있다. 퍼지 가스 공급원(34)은 퍼지 라인(32)을 통해 선택적으로 유동할 수 있는 퍼지 가스를 공급한다. 변형례로서, 단일의 공급원 대신에 퍼지 가스 공급원(34), 즉 이곳으로부터 순차적으로 퍼지 라인(30, 32)의 각각에 분배될 수 있는 이 퍼지 가스 공급원은 해당하는 패널 A 및 패널 B 각각에 직접 관련된 별도의 퍼지 가스 공급원을 포함할 수 있다. 이러한 별도의 퍼지 가스 공급원에 의해, 패널 B 내의 퍼지 가스 라인(32)은 패널 A 내의 퍼지 가스 라인(30)과 유사하게 구성되어 있으며, 도시된 바와 같이 패널 A 내의 퍼지 가스 라인(30)을 위한 유동 제한 오리피스 및 선택적인 입자 필터를 포함할 수 있다.
퍼지 라인(32)은 자동 밸브(AV-11)를 포함한다. 패널 B 내의 주요 가스 유동 라인(28)은 생성물 가스 배출 매니폴드 라인(18)을 퍼지 가스 매니폴드 라인(20)뿐만 아니라 부압 가스 공급 용기(16)에 상호 연결시킨다.
주요 가스 유동 라인(28)은 밸브(AV-10)를 포함하는 밸브 헤드 조립체에 의해 공급 용기(16)에 결합되어 있다. 주요 가스 유동 라인(28)은 압력 변환기(PT-2), 자동 밸브(AV-12), 압력 제어식 유량 조절 장치(FR-2), 그리고 자동 밸브(AV-14)를 포함한다. 또한, 라인(28)에는 자동 밸브(AV-15)를 포함하는 선택적인 바이패스 유동 제어 루프(46)가 설치되어 있다.
퍼지 가스 매니폴드 라인(20)은 주요 가스 유동 라인(26, 28)을 도시된 바와같이 상호 연결한다. 퍼지 가스 매니폴드 라인(20)의 패널 A와 패널 B 세그먼트 각각에는 자동 밸브(AV-03, AV-13)가 설치되어 있다. 퍼지 가스 매니폴드 라인(20)은 차례로 배출 펌프(40)와 옵션의 세정기 카트리지(42)를 포함하는 퍼지 가스 배출 라인(24)에 연결되어 있다. 세정기 카트리지(42)는 가스 캐비닛(12)으로부터 퍼지 가스의 배기 이전에 원하지 않는 가스 성분의 퍼지 가스로부터 제거를 초래하는 적절한 화합 흡착 혹은 배기 물질을 수용하는 인-라인 캐니스터를 포함할 수 있다. 배기된 퍼지 가스는 시스템으로부터의 배출, 장치 내로의 리사이클 및/또는 내부 오염물을 감소시키도록 전체 혹은 부분적으로의 처리를 위해 전달될 수 있다.
이러한 관점에서, 퍼지 가스 배출 라인(24) 내의 일체형 세정기 카트리지(42)는 배기용 진공 펌프(40)로부터의 잔여 방출을 포획하는 기능을 한다. 통합된 세정기와 함께 부압 가스 실린더의 사용은 가스 캐비닛의 설계 및 조작을 더욱 안정되게 만든다.
배기 펌프(40)는 비록 추출기, 배출기, 저온 펌프, 팬, 송풍기 등과 같은 다른 장치를 사용할 수 있지만 진공 펌프를 포함하는 것이 적합하다. 격리 밸브, 자동 밸브(AV-03, AV-13)는 패널의 배기 회로로부터 진공 구동 부재, 배기 펌프(40)를 격리한다. 개개의 패널은 국부적인 펌프 퍼지, 국부적인 배기 및 격리된 실린더의 교환을 허용한다.
프로세스 전달 라인은 각각의 실린더[패널 A 용의 공급 용기(14); 패널 B 용의 공급 용기(16)]에 있는 표시 압력 변환기(패널 A의 PT-1; 패널 B의 PT-2), 높은유동 즉 높은 Cv밸브[공급 용기(14)에서의 AV-00; 공급 용기(16)에서의 AV-10]와, 옵션의 바이패스 루프[패널 A의 AV-05를 포함하는 루프(44); 패널 B의 AV-15를 포함하는 루프(46)]를 구비하는 다운스트림 압력 제어 장치[패널 A의 AV-2, FR-1, AV-4; 패널 B 의 FR-2 및 AV-14]를 포함한다.
유동 제어 장치(FR-1, FR-2)는 각각의 패널 A 및 패널 B에서 빈 부압 실린더로부터 가득 찬 부압 실린더로 스위칭하는 도중에 부드러운 전이를 확보하기 위해 사용된다. 다시 말해서, 유동 제어 장치(FR-1, FR-2)는 가득 찬 실린더의 압력이 다운스트림 전달 시스템, 나아가 프로세스 툴을 스파이킹(spiking)하는 것을 방지한다. 유동 제어 장치(FR-1, FR-2)는 각각 MKS 640 시리즈 압력 제어기(MKS Instruments, Ins.에서 시판) 등의 상업적으로 입수 가능한 장치나, 그렇지 않으면 다운스트림 압력 변환기의 조합, 가변 설정(비례) 제어 밸브, 그리고 장치의 전체 프로세스 제어 시스템에 설치 가능한 PID 제어기를 구비하는 압력 제어 조립체를 포함할 수 있다. 본 발명의 광범위의 실시에 양호한 유동 제어 장치는 인테그레이티드 플로 시스템즈, 인크(Integrated Flow Systems, Inc, 캘리포니아주 산타 크루즈 소재)에서 시판하는 모델 SR-3, 모델 SR-4 부압 조절기를 포함하며, 이 조절기는 약 20 내지 50 Torr 범위내의 압력이 선택적으로 설정될 수 있다.
부압 가스 전달 시스템(10)은 또한 가스 캐비닛 내에 설치되는 중앙 처리 장치(CPU, 48)를 포함할 수 있으며, 이 중앙 처리 장치는 사이클 시간 제어 프로그램 혹은 다른 자동 제어 방법에 따라 시스템 구성 요소들의 제어를 위해 상기 시스템 내의 밸브, 제어기 및 액츄에이터에 작동 가능하게 연결될 수 있다. 상기 CPU는프로그램 가능한 컴퓨터, 마이크로프로세서, 혹은 이러한 용도의 다른 마이크로전자 유닛을 포함할 수 있다. 양호하게는, CPU는 프로그램 가능한 논리 제어기(PLC)를 포함한다.
그 대안으로, 상기 CPU는 캐비닛(12)의 외측에 배치될 수 있고, 적절한 방법, 즉 신호 전송 와이어, 와이어리스(적외선) 링크 등으로 시스템의 밸브, 제어기 및 액츄에이터에 작동 가능하게 연결될 수 있다.
이하에서는 도 1에 도시된 부압 가스 전달 시스템(10)의 통상의 자동 스위칭 작동에 대해 설명한다. 패널 A는 "작동" 모드에 있고, 패널 B는 "대기" 모드에 있으며, 그리고 부압 실린더(14, 16)는 대응하는 패널 A와 패널 B의 조립체에 연결되어 있다.
패널 A에 있어서, 부압 공급 실린더(14)로부터의 가스는 주요 가스 유동 라인(26) 내의 개방 밸브(AV-00)를 통해 유동하며, 밸브(AV-2, AV-04) 또한 개방되어 공급된 가스는 생성물 가스 배출 매니폴드 라인(18)으로 지나 가스 소모성 설비(38)로 유동하도록 가스 캐비닛(12)으로부터 생성물 배출 유동 라인(22)으로 배출된다.
패널 A에서의 이러한 분배 작동 중에, 밸브(AV-1, AV-3)는 폐쇄된다. 압력 변환기(PT-1)는 부압 공급 실린더(14)로부터 분배된 가스의 압력을 검출하고, 그 검출된 압력은 제어 목적을 위해 CPU(48)로 입력되며, 압력 제어된 유동 제어 장치(FR-1)는 설비의 요구 조건에 부합하여 가스 소모성 설비(38)로 향하는 분배된 가스의 유동을 제어한다.
패널 A에 연결된 부압 공급 실린더(14)가 빈 조건에 도달할 때, 패널 B는 스위칭을 위해 CPU(48)의 제어하에서 자동적으로 준비된다. 빈 상태 혹은 거의 빈 상태의 부아 실린더는 CPU를 프로그래밍함으로써 최종 사용자에 의해 형성될 수 있으며, 이에 대응하는 빈 설정점 혹은 거의 빈 설정점은 최종 사용자의 의도에 따라 CPU에서 미리 설정할 수 있다.
스위칭을 위해 패널 B를 준비하는 것은 퍼지 및 배출 사이클을 수행하는 것과 패널 B를 부압 가스로 충전하는 것을 수반한다. 이러한 프로세스 단계 중에, 압력 제어식 유량 조절 장치(FR-2)는 CPU로부터의 직접 디지털 신호, 예컨대 이러한 CPU의 시스템 프로그램 가능한 논리 제어기(PLC)를 사용하여 완전히 폐쇄될 것이다.
패널 B의 퍼지에 있어서, 퍼지 가스 공급원(34)으로부터의 퍼지 가스는 라인(31)으로부터 퍼지 라인(32)을 거쳐 퍼지 가스 매니폴드 라인(20)으로 유동하여 배기 펌프(40)의 작동하에서 퍼지 가스 배출 라인(24) 내의 가스 캐비닛(12)으로부터 배출된다. 퍼지 단계 중에, 밸브(AV-11, AV-13, AV-20)는 개방되고 밸브(AV-10, AV-12, AV-14)는 폐쇄된다. 공급원(34)으로부터의 퍼지 가스는 압력 서지(surge)의 발생을 막고 퍼지 유동 회로 내의 압력 강하를 조절하기 위해 유동 제한 오리피스(RFO-1)를 통해 라인(30)으로 유동한다. 변형례로서, 대응하는 밸브(AV-11, AV-13)는 패널 B내의 대응하는 라인(32) 세그먼트(혹은, 이와 일치하게 패널 A의 유사한 시퀀스의 밸브 AV-1, AV-3)를 선택적으로 압축하기 위해 토글-시퀀스될 수 있으며, 이에 후속하여 퍼지 작동에서의 라인으로부터 퍼지 가스의 진동 배출이 행해진다.
퍼지 단계 이후에, 밸브(AV-1)는 폐쇄되고, 퍼지 가스 배출 라인(24) 및 퍼지 가스 매니폴드 라인(20)을 포함하는 퍼지 유동 회로는 배기 펌프(40)의 연속 작동하에서 배기된다. 이러한 배기가 완료된 후, 밸브(AV-13, AV-20)는 폐쇄되고, 패널 B[주요 가스 유동 라인(28) 포함]의 가스 분배 회로는 생성물 가스로 보충되어 능동적인 분배 조건을 유발한다.
능동적인 분배를 위해 패널 B의 가스 분배 회로의 보충을 달성하기 위해, 밸브(AV-4)는 주요 가스 유동 라인(28)에서 개방되며, 패널 B의 압력 제어식 유량 조절 장치(FR-2)의 압력 변환기는 패널 A에 연결되고 능동적인 분배 모드에 여전히 있는 부압 가스 공급 용기(14)의 압력인 전달 라인의 압력에 노출된다.
생성물 배출 유동 라인(22)의 압력이 낮은 설정점 혹은 "빈" 설정점에 도달할 때, 패널 B의 압력 제어식 유량 조절 장치(FR-2)의 압력 변환기에 의한 검출에 따라 패널 B의 밸브(AV-10, AV-12)는 개방된다. 이 때, 압력 제어식 유량 조절 장치(FR-2) 제어 밸브를 폐쇄하는 디지털 신호는 종료되며, 압력 제어식 유량 조절 장치(FR-2)는 작동을 시작하여 패널 B의 압력을 패널 A의 압력보다 높은 10 Torr 내에 유지시킨다. 이와 동시에, 패널 A의 밸브(AV-2, AV-4)는 폐쇄되며, 펌프/퍼지 사이클은 패널 A로부터 잔여의 가스를 제거하기 시작한다.
압력 제어식 유도 조절 장치(FR-2)는, 전달 라인 내의 프로세스 가스의 상승 속도, 즉 대부분의 질량 유동 제어기(MFCs)들이 유동 안정성을 헤치지 않고 견딜 수 있는 속도가 분당 20 Torr 보다 작게되도록 한 방법으로 그것의 비례 제어 밸브를 "완전 개방" 상태로 천천히 개방시킨다.
압력 제어식 유도 조절 장치(FR-2)에서의 전달 라인 압력이 압력 변환기(PT-2)에 의해 결정된 바와 같이 부압 가스 공급 용기(16)의 압력과 동일할 때, 압력 제어식 유도 조절 장치(FR-2)는 완전히 개방되어 유동을 제한하지 않게 된다.
이 때, 패널 A는 "오프-라인"(생성물 가스의 분배에 대해 활발하지 않음)이 되고, 패널 B와 관련한 전술한 퍼지/배기와 충전 시퀀스를 겪을 수 있다. 패널 A의 퍼지/배기와 충전 시퀀스 중에 패널 B는 생성물 가스를 연속하여 분배한다.
이러한 패널의 퍼지/배기와 충전 시퀀스 중에 패널 A의 밸브(AV-00)가 폐쇄됨에 따라, 패널 A내의 "사용된" 부압 가스 공급 용기(14)는 교환될 수 있는데, 다시 말해서 패널 B의 부압 가스 공급 용기가 배출되고, 전술한 자동 스위칭 절차가 실행될 때 가스 전달 시스템의 능동적인 가스 분배 패널로서의 패널 A의 후속 갱신된 조작을 위해 상기 용기가 제거되어 새로운(가득 찬) 부압 가스 공급 용기로 교체될 수 있다.
최종 사용자로 하여금 생성물 가스를 설비에 공급하는 부압 가스 공급 용기의 일정한 량이 잔존하는 생성물 가스로서 가스 소모성 설비(38)의 질량 유동 제어기(MFC)를 사용할 수 있도록 하기 위해, 압력 제어식 유량 조절 장치(FR-2)를 고정식 조절기로서 사용하는 것을 피하는 것이 바람직하다. 최종 사용자는 예컨대 MFC의 밸브 전압 읽기를 기록하고 이러한 밸브 전압 읽기를 부압 가스 공급 용기의 "빈" 상태로 접근하는 측정치로서 사용할 수 있다. MFC 밸브 전압은 부압 가스 공급 용기 내의 압력이 감소함에 따라 비례하여 증가하며, 이는 최고의 베이스 압력,예컨대 ＞20 Torr 에서 조작되는 MFC의 정확한 관점으로부터 나온 것이면 바람직하다.
비록 본 발명의 실시예는 도 1에 도시되고 2개의 가스 패널(패널 A 및 패널 B)을 사용하는 가스 전달 시스템을 참조하여 설명하였지만, 본 발명의 이것에만 한정되는 것이 아니라 본 발명의 주어진 최종 사용례에 따라 2개 이상의 가스 패널을 사용할 수 있으며, 여기서 각각의 패널은 구성 요소의 가스 패널에 대해 자동적으로 스위칭되는 시퀀스에 따라 전술한 사이클 단계(능동적인 가스 분배, 퍼지, 배기 및 분배 조건으로의 충전 전이)를 겪게 된다.
따라서, 본 발명의 가스 전달 시스템은 복수개의 가스 패널들 중 하나를 능동적인 분배 패널로 하고 다른 하나를 순차적으로 퍼지, 배출 및 충전으로써 연속한 분배 작동을 허용한다는 것을 알 수 있다.
본 발명의 이러한 자동 스위칭 시스템은 빈 부압 실린더와 가득 찬 부압 실린더 사이의 자동 스위칭 결과로서 전달 라인을 통해 전파되는 큰 압력파를 방지하게 된다. 이러한 자동 스위칭 시스템은, 대체 가능한 부압 가스 실린더를 비축하여 실린더 재고를 제공하며, 이 재고로부터 새로운 실린더를 주어진 가스 패널을 위해 교환 중에 쉽게 장치할 수 있는 응용례에서 부압 가스의 연속적인 전달을 보장한다.
추가적으로, 본 발명의 가스 전달 시스템의 작동은 자동 스위칭 조작 중에 압력 스파이크의 발생을 방지하며, 따라서 시스템의 개개의 구성 요소로부터 떨어지는 입자를 최소화하는 역할을 한다. 그 결과, 가스 전달 시스템에 의해 분배된가스의 순도는 반도체 제조 등의 가스 소모성 프로세스에 요구되는 것과 같은 높은 수준 즉, 설정점 순도 레벨로부터 벗어나면 불량품이거나 심지어 의도하는 목적에 쓸모 없게 되는 반도체 제품을 생성하지 않는 수준으로 유지된다.
본 발명은 구체적인 구성 요소, 특징 및 실시예를 참조하여 설명하였으며, 따라서 본 발명은 이러한 구성 또는 조작에 한정되는 것이 아니라 해당 분야의 당업자라면 쉽게 실시할 수 있는 변형, 수정 및 다른 실시예를 광범위하게 포함하도록 해석되어야 한다.

Claims (31)

  1. (a) 복수 개의 가스 패널로, 이 패널 각각은 가스 유동 회로를 구비하며, 상기 가스 유동 회로는, 부압 가스 공급원에 결합 가능하고 분배된 가스가 통과하는 생성물 가스 유동 라인과, 퍼지 가스 공급원에 결합 가능하고 퍼지 가스가 통과하는 퍼지 가스 라인과, 상기 생성물 가스 유동 라인에 있는 압력 제어식 유량 조절기와, 상기 패널의 가스 유동 회로에 있는 상기 생성물 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 라인 각각을 선택적이면서 독립적으로 차단하여 이들 라인을 통한 가스의 유동을 방지하는 선택적 작동식 밸브를 포함하는, 복수 개의 가스 패널과,
    (b) 상기 각각의 가스 패널에 있는 생성물 가스 유동 라인을 상호 접속시켜, 상기 복수 개의 가스 패널 중의 능동적인 분배 패널의 상기 생성물 가스 유동 라인으로부터 생성물 가스를 배출하는 생성물 가스 매니폴드와,
    (c) 상기 각각의 가스 패널에 있는 생성물 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 라인과 가스 유동 연통 상태로 결합되는 퍼지 가스 매니폴드와,
    (d) 상기 퍼지 가스 매니폴드를 통해 상기 복수 개의 가스 패널 중의 무분배 패널의 유동 회로로부터 가스를 배출하도록 배열되어 있는 선택적 작동식 배기 구동기와,
    (e) 상기 각각의 가스 패널에서, (1) 상기 선택적인 작동식 밸브와, (2) 상기 선택적인 작동식 배기 구동기를 선택적으로 작동시키도록 배열되어 있는 중앙 처리 장치(CPU)를 포함하며,
    상기 각각의 가스 패널은, (Ⅰ) 상기 부압 가스 공급원으로부터의 가스를 상기 생성물 가스 유동 라인을 통해 상기 생성물 가스 매니폴드까지 유동시키는 능동적인 분배 작동 모드와, (Ⅱ) 상기 퍼지 가스 공급원으로부터의 가스를 상기 퍼지 가스 라인을 통해 상기 생성물 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 매니폴드로 유동시키는 퍼지 작동 모드와, (Ⅲ) 상기 퍼지 가스 라인, 상기 생성물 가스 유동 라인 및 상기 퍼지 가스 매니폴드를 상기 배기 구동기의 작동 중에 배기 처리하는 배기 작동 모드와, (Ⅳ) 상기 능동적인 분배 작동 모드 (Ⅰ)의 재 초기화를 위해, 상기 생성물 가스 유동 라인을 상기 생성물 가스 매니폴드로부터 나온 생성물 가스로 충전하고, 상기 생성물 가스 유동 라인에 있는 상기 압력 제어식 유량 조절기가 작동하여 상기 부압 가스 공급원으로부터 상기 생성물 가스 유동 라인을 통해 상기 생성물 가스 매니폴드까지 생성물 가스의 유량을 제어하는 능동적인 가스 분배 상태 작동 모드로의 충전 전이를 포함하는, 다수의 작동 모드에서 순차적으로, 교번적으로, 그리고 반복적으로 작동하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 가스 패널을 2개 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 상기 가스 패널을 2개 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  4. 제1항에 있어서, 상기 각각의 가스 패널은 개별적으로 분리된 가스 캐비닛 내에서 포위되어 있는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  5. 제4항에 있어서, 상기 각각의 가스 패널은 단일의 중앙 처리 장치(CPU)와 일체화되어 있는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  6. 제1항에 있어서, 상기 능동적인 분배 작동 모드 (Ⅰ)에서 상기 가스 패널의 생성물 가스 유동 라인에 결합되는 부압 가스 공급원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  7. 제1항에 있어서, 상기 부압 가스 공급원은 표면에 가스를 흡착하는 고상 물리적 흡착제를 수용하는 가스 저장 및 분배 용기를 포함하며, 상기 표면에 흡착되는 가스에 대하여 상기 고상의 물리적 흡착제가 물리적으로 흡착성을 갖는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  8. 제7항에 있어서, 상기 가스는 수화물 가스, 할로겐화물 가스 및 유기 금속 화합물 가스로 이루어진 그룹 중에서 선택된 가스 종을 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  9. 제1항에 있어서, 상기 생성물 가스 매니폴드는 반도체 제조 설비의 프로세스 툴에 결합되는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  10. 제1항에 있어서, 상기 중앙 처리 장치(CPU)는 프로그램밍 가능한 논리 제어기를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  11. 제1항에 있어서, 상기 퍼지 가스 매니폴드는 상기 배기 구동기가 결합되어 있는 퍼지 가스 배출 라인과 가스 유동 연통 상태로 결합되는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  12. 제11항에 있어서, 상기 퍼지 가스 배출 라인은 이 라인 내부에 배치되어 이 라인을 통과하는 상기 퍼지 가스의 오염물을 제거하는 세정기 유닛을 구비하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  13. 제1항에 있어서, 상기 가스 유동 회로는 도 1에 도시되어 있는 바와 같이 배열되는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  14. 제1항에 있어서, 상기 퍼지 가스 라인은 이 라인 내부에 배치된 유량 제한 오리피스를 구비하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  15. 제1항에 있어서, 상기 퍼지 가스 라인은 이 라인 내부에 배치된 입자 필터를 구비하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  16. 제1항에 있어서, 상기 각각의 가스 패널은 분리된 개별 가스 캐비닛 내에 배치되고, 상기 개별 가스 캐비닛은 단일 조립체로서 함께 결합되는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  17. 제1항에 있어서, 상기 가스 유동 회로는 이 회로의 내부에 배치되어 상기 부압 가스 공급원으로부터 상기 생성물 가스 유동 라인 속으로 유동되는 가스의 압력을 검출하는 압력 변환기를 구비하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  18. 제1항에 있어서, 상기 배기 구동기는 진공 펌프를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 시스템.
  19. (c) 가스 유동 회로를 각각 구비하며, 상기 가스 유동 회로는, 부압 가스 공급원에 결합 가능하고 분배된 가스가 통과하는 생성물 가스 유동 라인과, 퍼지 가스 공급원에 결합 가능하고 퍼지 가스가 통과하는 퍼지 가스 라인과, 상기 생성물 가스 유동 라인에 있는 압력 제어식 유량 조절기와, 상기 패널의 가스 유동 회로에 있는 상기 생성물 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 라인 각각을 선택적이면서 독립적으로 차단하여 이들 라인을 통한 가스의 유동을 방지하는 선택적 작동식 밸브를 포함하는, 복수 개의 가스 패널과; 상기 각각의 가스 패널에 있는 생성물 가스 유동 라인을 상호 접속시켜, 상기 복수 개의 가스 패널 중의 능동적인 분배 패널의 생성물 가스 유동 라인으로부터 생성물 가스를 배출하는 생성물 가스 매니폴드와; 상기 각각의 가스 패널에 있는 생성물 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 라인과 가스 유동 연통 상태로 결합되는 퍼지 가스 매니폴드와; 상기 퍼지 가스 매니폴드를 통해 상기 복수 개의 가스 패널 중의 무분배 패널의 유동 회로로부터 가스를 배출하도록 배열되어 있는 선택적 작동식 배기 구동기를 제공하는 단계와,
    (d) 상기 각각의 가스 패널에서, (3) 상기 선택적인 작동식 밸브와, (4) 상기 선택적인 작동식 배기 구동기를 선택적으로 작동시켜, 상기 각각의 가스 패널을 (Ⅰ) 상기 부압 가스 공급원의 가스를 상기 생성물 가스 유동 라인을 통해 상기 생성물 가스 매니폴드까지 유동시키는 능동적인 분배 작동 모드와, (Ⅱ) 상기 퍼지 가스 공급원의 퍼지 가스를 상기 퍼지 가스 라인을 통해 상기 생성물 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 매니폴드로 유동시키는 퍼지 작동 모드와, (Ⅲ) 상기 퍼지 가스 라인, 상기 생성물 가스 유동 라인 및 상기 퍼지 가스 매니폴드를 상기 배기 구동기의 작동 중에 배기 처리하는 배기 작동 모드와, (Ⅳ) 상기 능동적인 분배 작동 모드 (Ⅰ)의 재 초기화를 위해, 상기 생성물 가스 유동 라인을 상기 생성물 가스 매니폴드로부터 나온 생성물 가스로 충전하고, 상기 생성물 가스 유동 라인에 있는 상기 압력 제어식 유량 조절기가 작동하여 상기 부압 가스 공급원으로부터 상기 생성물 가스 유동 라인을 통해 상기 생성물 가스 매니폴드까지 생성물 가스의 유량을제어하는 능동적인 가스 분배 상태 작동 모드로의 충전 전이를 포함하는 다수의 작동 모드에서 순차적으로, 교번적으로, 그리고 반복적으로 작동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 방법.
  20. 제19항에 있어서, 상기 가스 패널을 2개 이상 작동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 방법.
  21. 제19항에 있어서, 상기 가스 패널을 2개 작동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 방법.
  22. 제19항에 있어서, 상기 능동적인 분배 작동 모드 (Ⅰ)에서 상기 가스 패널의 생성물 가스 유동 라인에 결합되는 부압 가스 공급원으로부터 가스를 분배하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 방법.
  23. 제19항에 있어서, 상기 부압 가스 공급원은 표면에 가스를 흡착하는 고상 물리적 흡착제를 수용하는 가스 저장 및 분배 용기를 포함하며, 상기 표면에 흡착되는 가스에 대하여 상기 고상의 물리적 흡착제는 물리적으로 흡착성을 가진 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 방법.
  24. 제23항에 있어서, 상기 가스는 수화물 가스, 할로겐화물 가스 및 유기 금속화합물 가스로 이루어진 그룹 중에서 선택된 가스 종을 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 방법.
  25. 제19항에 있어서, 상기 생성물 가스 매니폴드로부터 반도체 제조 설비의 프로세스 툴로 생성물 가스를 유동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 방법.
  26. 제19항에 있어서, 상기 각각의 가스 패널은 분리된 개별 가스 캐비닛 내에 배치되고, 상기 개별 가스 캐비닛은 단일 조립체로서 함께 결합되는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 방법.
  27. 제19항에 있어서, 상기 퍼지 가스를 세정하여 이 퍼지 가스로부터 오염물을 제거하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 방법.
  28. 제19항에 있어서, 상기 부압 가스 공급원으로부터 상기 생성물 가스 유동 라인 속으로 유동되는 가스의 압력을 검출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 방법.
  29. 제19항에 있어서, 상기 단계 (Ⅲ)에서 상기 생성물 가스 유동 라인 및 퍼지가스 유동 라인을 진공 펌핑하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 방법.
  30. 제19항에 있어서, 상기 생성물 가스를 반도체 장치 구조물에 사용하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자동 스위칭 부압 가스 전달 방법.
  31. 개별의 부압 생성물 가스 공급원 용기에 각각 결합 가능한 복수 개의 가스 패널에 배열되어 있는 매니폴드 가스 캐비닛 유동 회로에 의해 부압 생성물 가스 공급원으로부터의 생성물 가스를 전달하는 방법으로서,
    (a) 능동적인 생성물 가스 분배 모드에서 제1 패널을 작동시키고, 상기 제1 패널의 유동 회로에 결합된 부압 가스 공급원에서 나온 생성물 가스를 공급하는 단계와,
    (b) 상기 능동적인 가스 분배 모드 동안에 상기 제1 패널에서, 상기 복수 개의 가스 패널 중의 제2 패널을 퍼지 가스로 퍼지 처리하고, 상기 제2 패널의 유동 회로를 배기하고, 상기 제2 패널의 유동 회로를 상기 제1 패널로부터 나온 생성물 가스 및 상기 제2 패널의 유동 회로에 결합된 부압 가스 공급원에서 나온 생성물 가스로 충전하고, 상기 제2 패널을 능동적인 가스 분배 상태로 만드는 단계와,
    (c) 압력 스파이크 또는 유동 교란의 발생을 피하기 위해 상기 제2 패널의 유동 회로에서 나온 상기 생성물 가스 유량을 제어하면서 상기 제1 가스 패널에 결합된 부압 가스 공급원의 배출시에 상기 제2 패널을 능동적인 생성물 가스 분배 모드로 전환하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 부압 생성물 가스 공급원으로부터의 생성물 가스의 전달 방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170115613A (ko) * 2015-02-12 2017-10-17 엔테그리스, 아이엔씨. 스마트 패키지

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002339071A (ja) * 2001-05-18 2002-11-27 L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude Ａｌｃｖｄシステムにおける処理ガス供給機構
AU2002361769A1 (en) * 2001-12-17 2003-06-30 Integrated Flow Systems, Llc Electronic controller for chemical delivery systems
US7429358B1 (en) * 2002-05-20 2008-09-30 Hy-Energy, Llc Method and apparatus for measuring gas sorption and desorption properties of materials
US6857447B2 (en) * 2002-06-10 2005-02-22 Advanced Technology Materials, Inc. Pressure-based gas delivery system and method for reducing risks associated with storage and delivery of high pressure gases
US7534363B2 (en) * 2002-12-13 2009-05-19 Lam Research Corporation Method for providing uniform removal of organic material
US7169231B2 (en) * 2002-12-13 2007-01-30 Lam Research Corporation Gas distribution system with tuning gas
US20040112540A1 (en) * 2002-12-13 2004-06-17 Lam Research Corporation Uniform etch system
US6786245B1 (en) * 2003-02-21 2004-09-07 Air Products And Chemicals, Inc. Self-contained mobile fueling station
US6955198B2 (en) * 2003-09-09 2005-10-18 Advanced Technology Materials, Inc. Auto-switching system for switch-over of gas storage and dispensing vessels in a multi-vessel array
DE102006002271A1 (de) * 2006-01-17 2007-07-19 Linde Ag Anlage zur Gaseversorgung
US7932181B2 (en) * 2006-06-20 2011-04-26 Lam Research Corporation Edge gas injection for critical dimension uniformity improvement
JP5106979B2 (ja) * 2007-10-15 2012-12-26 日本エア・リキード株式会社 ガス供給システム
US20090242046A1 (en) * 2008-03-31 2009-10-01 Benjamin Riordon Valve module
DE102008053461A1 (de) * 2008-10-28 2010-05-27 Linde Ag Verfahren und Vorrichtung zur Begrenzung von Rußablagerungen in Abhitzekesseln
US9175808B2 (en) * 2011-06-17 2015-11-03 Lam Research Corporation System and method for decreasing scrubber exhaust from gas delivery panels
KR101403988B1 (ko) * 2012-12-03 2014-06-10 주식회사 케이씨텍 가스 공급장치
US9447497B2 (en) * 2013-03-13 2016-09-20 Applied Materials, Inc. Processing chamber gas delivery system with hot-swappable ampoule
CN103922257B (zh) * 2014-04-25 2016-05-04 安徽亚格盛电子新材料有限公司 直接充装mo源的装置
WO2016069836A1 (en) * 2014-10-30 2016-05-06 Entegris, Inc. Ion implanter comprising integrated ventilation system
FR3039622B1 (fr) * 2015-07-31 2018-03-02 Air Liquide Electronics Systems Installation de distribution de gaz de travail.
US20180348034A1 (en) * 2017-05-31 2018-12-06 Air Liquide America Specialty Gases Llc Gas sampling apparatus
US11718913B2 (en) 2018-06-04 2023-08-08 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution system and reactor system including same
FR3089599B1 (fr) * 2018-12-06 2020-11-13 Air Liquide Réservoir de stockage de fluide cryogénique
KR101974647B1 (ko) * 2019-01-04 2019-05-02 조수민 가스 제거 장치 및 방법
RU2732277C1 (ru) * 2019-12-17 2020-09-14 Общество с ограниченной ответственностью "СервисСофт Инжиниринг" Автоматический интеллектуальный газораспределительный пункт
WO2023192762A1 (en) * 2022-03-29 2023-10-05 Praxair Technology, Inc. Method and system for optimized gas delivery with automated redundant pressure regulation safety feature
CN115595559A (zh) * 2022-10-27 2023-01-13 拓荆科技股份有限公司（Cn） 多腔室半导体设备

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1257176B (de) * 1965-02-26 1967-12-28 Draegerwerk Ag Umschaltvorrichtung fuer eine Druckgasversorgungsanlage mit zwei Druckgasbatterien
US4383547A (en) * 1981-03-27 1983-05-17 Valin Corporation Purging apparatus
FR2544052B1 (fr) * 1983-04-11 1985-07-05 Air Liquide Dispositif pour fournir a une conduite un fluide sous une pression determinee en provenance de deux recipients
JPS6326500A (ja) * 1986-07-18 1988-02-04 Fujitsu Ltd 圧縮ガス容器系統自動切換装置
US5313982A (en) * 1988-07-08 1994-05-24 Tadahiro Ohmi Gas supply piping device for a process apparatus
JP2602880B2 (ja) * 1988-03-05 1997-04-23 忠弘 大見 シリンダーキャビネット配管装置
JPH0644986B2 (ja) * 1988-05-08 1994-06-15 忠弘 大見 プロセスガス供給配管装置
JP2501913B2 (ja) * 1989-08-31 1996-05-29 大同ほくさん株式会社 オ―トシリンダ―ボツクス
US5158534A (en) 1990-07-03 1992-10-27 Cardiopulmonics, Inc. Automated gas delivery system for blood gas exchange devices
US5137047A (en) * 1990-08-24 1992-08-11 Mark George Delivery of reactive gas from gas pad to process tool
US5220517A (en) * 1990-08-31 1993-06-15 Sci Systems, Inc. Process gas distribution system and method with supervisory control
US5152309A (en) 1991-05-29 1992-10-06 Westinghouse Electric Corp. Valve control apparatus
US5368062A (en) * 1992-01-29 1994-11-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Gas supplying system and gas supplying apparatus
US5190068A (en) 1992-07-02 1993-03-02 Brian Philbin Control apparatus and method for controlling fluid flows and pressures
US5441076A (en) 1992-12-11 1995-08-15 Tokyo Electron Limited Processing apparatus using gas
US5441070A (en) 1993-11-10 1995-08-15 Thompson; Gary E. Fluid management system
US5749389A (en) * 1993-12-22 1998-05-12 Liquid Air Corporation Purgeable connection for gas supply cabinet
US5518528A (en) 1994-10-13 1996-05-21 Advanced Technology Materials, Inc. Storage and delivery system for gaseous hydride, halide, and organometallic group V compounds
US5677480A (en) * 1995-02-24 1997-10-14 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Method and system for assessing the operating condition of a pressure regulator in a corrosive gas distribution system
US5605179A (en) * 1995-03-17 1997-02-25 Insync Systems, Inc. Integrated gas panel
US5771178A (en) 1995-06-12 1998-06-23 Scully Signal Company Fail-safe fluid transfer controller
JP3291161B2 (ja) 1995-06-12 2002-06-10 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
KR100232112B1 (ko) * 1996-01-05 1999-12-01 아마노 시게루 가스공급유닛
KR100242982B1 (ko) * 1996-10-17 2000-02-01 김영환 반도체 장비의 가스 공급 장치
JPH10220699A (ja) * 1997-02-13 1998-08-21 Nec Kyushu Ltd ガス供給システム
JP3975508B2 (ja) * 1997-04-28 2007-09-12 株式会社島津製作所 液体材料気化装置
US5865205A (en) * 1997-04-17 1999-02-02 Applied Materials, Inc. Dynamic gas flow controller
GB9724168D0 (en) * 1997-11-14 1998-01-14 Air Prod & Chem Gas control device and method of supplying gas
JP3607950B2 (ja) * 1998-04-10 2005-01-05 大陽日酸株式会社 ガス供給設備
JP4142772B2 (ja) * 1998-08-31 2008-09-03 大陽日酸株式会社 半導体製造装置の制御方法
JP4304323B2 (ja) * 1998-09-07 2009-07-29 東京エレクトロン株式会社 ガス供給システム

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170115613A (ko) * 2015-02-12 2017-10-17 엔테그리스, 아이엔씨. 스마트 패키지
US10247363B2 (en) 2015-02-12 2019-04-02 Entegris, Inc. Smart package
US10508773B2 (en) 2015-02-12 2019-12-17 Entegris, Inc. Smart package
US10845006B2 (en) 2015-02-12 2020-11-24 Entegris, Inc. Smart package

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