KR100666424B1 - 감압 가스 공급 용기를 활용하는 자동 스위칭 가스 이송 시스템 - Google Patents
감압 가스 공급 용기를 활용하는 자동 스위칭 가스 이송 시스템 Download PDFInfo
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Abstract
Description
압력 제어식 유동 조절 장치(FR-2)는, 이송 라인 내의 프로세스 가스의 상승 속도, 즉 대부분의 질량 유동 제어기(MFCs)들이 유동 안정성을 헤치지 않고 견딜 수 있는 속도가 분당 20 Torr 보다 작게 되도록 한 방법으로 그것의 비례 제어 밸브를 "완전 개방" 상태로 천천히 개방시킨다.
Claims (31)
- (a) 복수 개의 가스 패널로서, 이 패널 각각은 가스 유동 회로를 구비하며, 상기 가스 유동 회로는, 감압 가스 공급원에 결합 가능하고 분배된 가스가 통과하는 생성 가스 유동 라인과, 퍼지 가스 공급원에 결합 가능하고 퍼지 가스가 통과하는 퍼지 가스 라인과, 상기 생성 가스 유동 라인에 있는 압력 제어식 유량 조절기와, 상기 패널의 가스 유동 회로에 있는 상기 생성 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 라인 각각을 선택적이면서 독립적으로 차단하여 이들 라인을 통한 가스의 유동을 방지하는 선택적 작동식 밸브를 포함하는 것인 복수 개의 가스 패널과,(b) 상기 각각의 가스 패널에 있는 생성 가스 유동 라인을 상호 접속시켜, 상기 복수 개의 가스 패널 중의 활성화 분배 패널의 상기 생성 가스 유동 라인으로부터 생성 가스를 배출하는 생성 가스 매니폴드와,(c) 상기 각각의 가스 패널에 있는 생성 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 라인과 가스 유동 연통 상태로 결합되는 퍼지 가스 매니폴드와,(d) 상기 퍼지 가스 매니폴드를 통해 상기 복수 개의 가스 패널 중의 비분배 패널의 가스 유동 회로로부터 가스를 배출하도록 구성되어 있는 선택적 작동식 배기 구동기와,(e) 상기 각각의 가스 패널에서, (1) 상기 선택적인 작동식 밸브와, (2) 상기 선택적인 작동식 배기 구동기를 선택적으로 작동시키도록 구성되어 있는 중앙 처리 장치(CPU)를 포함하며, 상기 각각의 가스 패널은, (Ⅰ) 상기 감압 가스 공급원으로부터의 가스를 상기 생성 가스 유동 라인을 통해 상기 생성 가스 매니폴드까지 유동시키는 활성화 분배 작동 모드와, (Ⅱ) 상기 퍼지 가스 공급원으로부터의 가스를 상기 퍼지 가스 라인을 통해 상기 생성 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 매니폴드로 유동시키는 퍼지 작동 모드와, (Ⅲ) 상기 퍼지 가스 라인, 상기 생성 가스 유동 라인 및 상기 퍼지 가스 매니폴드를 상기 배기 구동기의 작동 중에 배기 처리하는 배기 작동 모드와, (Ⅳ) 상기 활성화 분배 작동 모드 (Ⅰ)의 재초기화를 위해, 상기 생성 가스 유동 라인을 상기 생성 가스 매니폴드로부터 나온 생성 가스로 충전하고, 상기 생성 가스 유동 라인에 있는 상기 압력 제어식 유량 조절기가 작동하여 상기 감압 가스 공급원으로부터 상기 생성 가스 유동 라인을 통해 상기 생성 가스 매니폴드까지 생성 가스의 유량을 제어하는 활성화 가스 분배 상태 작동 모드로의 충전 전이를 포함하는, 다수의 작동 모드에서 순차적, 교번적, 그리고 반복적으로 작동되는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 제1항에 있어서, 2개 이상의 가스 패널을 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 제1항에 있어서, 2개의 가스 패널을 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 각각의 가스 패널은 개별적으로 분리된 가스 캐비닛에 의해 포위되어 있는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 제4항에 있어서, 상기 각각의 가스 패널은 단일의 중앙 처리 장치(CPU)와 일체화되어 있는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 활성화 분배 작동 모드 (Ⅰ)에서 상기 가스 패널의 생성 가스 유동 라인에 결합되는 감압 가스 공급원을 더 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 감압 가스 공급원은 표면에 가스를 흡착하는 고상의 물리적 흡착제를 수용하는 가스 저장 및 분배 용기를 포함하며, 상기 고상의 물리적 흡착제는 상기 표면에 흡착되는 가스에 대하여 물리적인 흡착성을 갖는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 제7항에 있어서, 상기 가스는 수화물 가스, 할로겐화물 가스 및 유기 금속 화합물 가스로 이루어진 그룹 중에서 선택된 가스 종을 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 생성 가스 매니폴드는 반도체 제조 설비의 프로세스 툴에 결합되는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 중앙 처리 장치(CPU)는 프로그래밍 가능한 논리 제어기를 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 퍼지 가스 매니폴드는 상기 배기 구동기가 결합되어 있는 퍼지 가스 배출 라인과 가스 유동 연통 상태로 결합되는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 제11항에 있어서, 상기 퍼지 가스 배출 라인은, 이 라인 내부에 배치되어 이 라인을 통과하는 상기 퍼지 가스의 오염물을 제거하는 세정기 유닛을 구비하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 퍼지 가스 라인은 이 라인 내부에 배치된 유량 제한 오리피스를 구비하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 퍼지 가스 라인은 이 라인 내부에 배치된 입자 필터를 구비하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 각각의 가스 패널은 분리된 개별 가스 캐비닛 내에 배치되고, 상기 개별 가스 캐비닛은 단일 조립체로서 함께 결합되는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 가스 유동 회로는, 이 회로의 내부에 배치되어 상기 감압 가스 공급원으로부터 상기 생성 가스 유동 라인 내로 유동되는 가스의 압력을 감시하는 압력 변환기를 구비하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 배기 구동기는 진공 펌프를 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 시스템.
- (a) 가스 유동 회로를 각각 구비하며, 상기 가스 유동 회로는, 감압 가스 공급원에 결합 가능하고 분배된 가스가 통과하는 생성 가스 유동 라인과, 퍼지 가스 공급원에 결합 가능하고 퍼지 가스가 통과하는 퍼지 가스 라인과, 상기 생성 가스 유동 라인에 있는 압력 제어식 유량 조절기와, 상기 패널의 가스 유동 회로에 있는 상기 생성 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 라인 각각을 선택적이면서 독립적으로 차단하여 이들 라인을 통한 가스의 유동을 방지하는 선택적 작동식 밸브를 포함하는, 복수 개의 가스 패널과; 상기 각각의 가스 패널에 있는 생성 가스 유동 라인을 상호 접속시켜, 상기 복수 개의 가스 패널 중의 활성화 분배 패널의 생성 가스 유동 라인으로부터 생성 가스를 배출하는 생성 가스 매니폴드와; 상기 각각의 가스 패널에 있는 생성 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 라인과 가스 유동 연통 상태로 결합되는 퍼지 가스 매니폴드와; 상기 퍼지 가스 매니폴드를 통해 상기 복수 개의 가스 패널 중의 비분배 패널의 유동 회로로부터 가스를 배출하도록 구성되어 있는 선택적 작동식 배기 구동기를 제공하는 단계와,(b) 상기 각각의 가스 패널에서, (1) 상기 선택적인 작동식 밸브와, (2) 상기 선택적인 작동식 배기 구동기를 선택적으로 작동시켜, 상기 각각의 가스 패널을 (Ⅰ) 상기 감압 가스 공급원의 가스를 상기 생성 가스 유동 라인을 통해 상기 생성 가스 매니폴드까지 유동시키는 활성화 분배 작동 모드와, (Ⅱ) 상기 퍼지 가스 공급원의 퍼지 가스를 상기 퍼지 가스 라인을 통해 상기 생성 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 매니폴드로 유동시키는 퍼지 작동 모드와, (Ⅲ) 상기 퍼지 가스 라인, 상기 생성 가스 유동 라인 및 상기 퍼지 가스 매니폴드를 상기 배기 구동기의 작동 중에 배기 처리하는 배기 작동 모드와, (Ⅳ) 상기 활성화 분배 작동 모드 (Ⅰ)의 재초기화를 위해, 상기 생성 가스 유동 라인을 상기 생성 가스 매니폴드로부터 나온 생성 가스로 충전하고, 상기 생성 가스 유동 라인에 있는 상기 압력 제어식 유량 조절기가 작동되어 상기 감압 가스 공급원으로부터 상기 생성 가스 유동 라인을 통해 상기 생성 가스 매니폴드까지 생성 가스의 유량을 제어하는 활성화 가스 분배 상태 작동 모드로의 충전 전이를 포함하는 다수의 작동 모드에서 순차적, 교번적, 그리고 반복적으로 작동시키는 단계를 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 방법.
- 제19항에 있어서, 2개 이상의 가스 패널을 작동시키는 단계를 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 방법.
- 제19항에 있어서, 2개의 가스 패널을 작동시키는 단계를 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 방법.
- 제19항에 있어서, 상기 활성화 분배 작동 모드 (Ⅰ)에서 상기 가스 패널의 생성 가스 유동 라인에 결합되는 감압 가스 공급원으로부터 가스를 분배하는 단계를 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 방법.
- 제19항에 있어서, 상기 감압 가스 공급원은 표면에 가스를 흡착하는 고상 물리적 흡착제를 수용하는 가스 저장 및 분배 용기를 포함하며, 상기 고상의 물리적 흡착제는 상기 표면에 흡착되는 가스에 대하여 물리적인 흡착성을 가진 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 방법.
- 제23항에 있어서, 상기 가스는 수화물 가스, 할로겐화물 가스 및 유기 금속 화합물 가스로 이루어진 그룹 중에서 선택된 가스 종을 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 방법.
- 제19항에 있어서, 상기 생성 가스 매니폴드로부터 반도체 제조 설비의 프로세스 툴로 생성 가스를 유동시키는 단계를 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 방법.
- 제19항에 있어서, 상기 각각의 가스 패널은 분리된 개별 가스 캐비닛 내에 배치되고, 상기 개별 가스 캐비닛은 단일 조립체로서 함께 결합되는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 방법.
- 제19항에 있어서, 상기 퍼지 가스를 세정하여 이 퍼지 가스로부터 오염물을 제거하는 단계를 더 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 방법.
- 제19항에 있어서, 상기 감압 가스 공급원으로부터 상기 생성 가스 유동 라인 내로 유동되는 가스의 압력을 감시하는 단계를 더 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 방법.
- 제19항에 있어서, 상기 모드 (Ⅲ)에서 상기 생성 가스 유동 라인 및 퍼지 가스 유동 라인을 진공 펌핑하는 단계를 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 방법.
- 제19항에 있어서, 상기 생성 가스를 반도체 장치 구조체에 사용하는 단계를 더 포함하는 것인 자동 스위칭 감압 가스 이송 방법.
- 개별 감압 생성 가스 공급원 용기에 각각 결합 가능한 복수 개의 가스 패널에 배치되어 있는 매니폴드 가스 캐비닛 유동 회로에 의해 감압 생성 가스 공급원으로부터의 생성 가스를 이송하는 방법으로서,(a) 활성화 생성 가스 분배 모드에서 제1 패널을 작동시키고, 상기 제1 패널의 유동 회로에 결합된 감압 가스 공급원에서 나온 생성 가스를 공급하는 단계와,(b) 상기 활성화 가스 분배 모드 동안에 상기 제1 패널에서, 상기 복수 개의 가스 패널 중의 제2 패널을 퍼지 가스로 퍼지 처리하고, 상기 제2 패널의 유동 회로를 배기하고, 상기 제2 패널의 유동 회로를 상기 제1 패널로부터 나온 생성 가스 및 상기 제2 패널의 유동 회로에 결합된 감압 가스 공급원에서 나온 생성 가스로 충전하고, 상기 제2 패널을 활성화 가스 분배 상태로 만드는 단계와,(c) 압력 스파이크 또는 유동 교란의 발생을 방지하기 위해 상기 제2 패널의 유동 회로에서 나온 상기 생성 가스 유량을 제어하면서 상기 제1 가스 패널에 결합된 감압 가스 공급원의 배출시에 상기 제2 패널을 활성화 생성 가스 분배 모드로 전환하는 단계를 포함하는 것인 감압 생성 가스 공급원으로부터의 생성 가스의 이송 방법.
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