KR200198436Y1

KR200198436Y1 - 반도체웨이퍼의산화막증착장치용버블러

Info

Publication number: KR200198436Y1
Application number: KR2019970022535U
Authority: KR
Inventors: 송기철
Original assignee: 김영환; 현대반도체주식회사
Priority date: 1997-08-20
Filing date: 1997-08-20
Publication date: 2000-10-02
Also published as: KR19990009335U

Abstract

본 고안은 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러에 관한 것으로, 종래에는 장비를 멈춘 다음 재가동시 정상적인 작업이 이루지기 까지는 많은 시간이 소요되어 생산성이 저하되는 문제점이 있었다. 본 고안 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러는 장비에서 버블링동작을 하지 않을 때 용기의 내측에 수납되어 있는 소스 용액(12)을 순환시키며 일정온도로 가열하기 위한 용액순환가열수단(20)을 설치하여, 장비의 비가동시에 용액(12)을 균일한 온도로 유지함으로서, 종래와 같이 정상작업이 이루어질때까지 지체하지 않고 즉시 작업을 진행할 수 있도록 함으로서, 생산성이 향상되는 효과가 있다.

Description

반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러{BUBBLER FOR DEPOSITION APPARATUS OXIDE-FILM OF SEMICONDUCTOR WAFER}

본 고안은 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러(BUBBLER)에 관한 것으로, 특히 비작동시에도 용액의 온도를 균일하게 유지할 수 있도록 하는데 적합한 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 웨이퍼에 BPSG 필름을 증착하기 위한 "ART-5800"장비는 가스를 주입하여 액체 소스(LIQUID SOURCE)에 버블을 발생시키기 위한 몇 개의 버블러가 설치되어 있다. 이와 같은 버블러가 설치된 산화막증착장치가 도 1에 개략적으로 도시되어 있는 바, 이를 간단히 설명하면 다음과 같다.

도 1은 종래 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러가 설치된 상태를 개략적으로 보인 구성도로서, 도시된 바와 같이, 종래에는 공정 챔버(CHAMBER)(1)의 일측에 용액(2)을 기화시키기 위한 버블러(3)가 연결설치되어 있다.

그리고, 상기 버블러(3)는 용액(2)이 수납되는 용기(4)와, 그 용기(4)의 외측에 설치되어 용액(2)을 가열하기 위한 히터(HEATER)(5)와, 상기 용액(2)의 온도를 측정하기 위한 써머커플(6)과, 그 써머커플(6)의 측정온도에 따라 히터(5)를 조절하기 위한 온도 콘트롤러(7)로 구성되어 있다.

도면중 미설명 부호 8은 캐리어 가스 주입관이다.

상기와 같이 구성되어 있는 종래 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치의 동작을 설명하면 다음과 같다.

먼저, 용액(2)이 수납되어 있는 버블러(3)의 용기(4)에 캐리어 가스 주입관(8)으로 캐리어 가스(N₂또는 He)를 주입하면, 용기(4)의 내부에 버블이 발생되고, 이와 같이 발생된 버블에 용액(2)이 묻어서 챔버(1) 측으로 이동하여 웨이퍼에 증착이 된다.

이와 같은 일련의 동작을 진행하기 위해서는 용기(4)의 내측에 수납되어 있는 용액(2)을 일정한 온도로 유지시키는 것이 필요한데, 그 이유는 온도에 따라 캐리어 가스에 묻어 나오는 용액(2)의 양이 다르기 때문이다.

그러나, 상기와 같은 종래 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러(3)는 증착공정을 진행하지 않을때는 동작을 멈추게 되며, 재가동을 시작할때는 용기(4)의 내측 중심부에 수납되어 있는 용액(2)과 외측에 수납되어 있는 용액(2)의 온도차이로 챔버(1)에 규정치 만큼의 용액이동이 이루어지지 못하여 정상적인 용액이동이 이루어질때까지 지체하여야 하므로 생산성 저하의 주요인이 되는 문제점이 있었다.

상기와 같은 문제점을 감안하여 안출한 본 고안의 목적은 장비의 재가동시에 즉시 작업이 이루어지도록 하는데 적합한 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러를 제공함에 있다.

도 1은 종래 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러가 설치된 상태를 개략적으로 보인 구성도.

도 2는 본 고안 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러가 설치된 상태를 개략적으로 보인 구성도.

* * 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 * *

12 : 소스 용액 14 : 용기

15 : 히터 16 : 써머 커플

17 : 온도 콘트롤러 20 : 용액순환가열수단

21 : 순환관 22 : 펌프

23 : 히터

상기와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여 소스 용액을 수납하기 위한 용기와, 그 용기에 수납되어 있는 용액을 가열하기 위한 히터와, 상기 소스용액의 온도를 측정하기 위한 써머 커플과, 그 써머 커플의 측정온도를 참고로 히터의 가열온도를 조절하기 위한 온도 콘트롤러로 구성되어 있는 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러에 있어서, 상기 용기에 수납되어 있는 소스 용액이 균일한 온도를 유지하도록 용액순환가열수단을 설치하되, 그 용액순환가열수단은 상기 용기의 상부와 하단부를 연결하는 순환관과, 그 순환관 상에 설치되는 펌프와, 상기 순환관의 외측에 설치되는 히터로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러가 제공된다.

이하, 상기와 같이 구성되는 본 고안 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러를 첨부된 도면의 실시예를 참고하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 2는 본 고안 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러가 설치된 상태를 개략적으로 보인 구성도로서, 도시된 바와 같이, 공정 챔버(11)의 일측에 소스 용액(12)을 기화시키기 위한 버블러(13)가 연결설치되어 있다.

그리고, 상기 버블러(13)는 소스 용액(12)이 수납되어 있는 일정 크기의 용기(14)와, 그 용기(14)의 외측면에 설치되어 상기 소스 용액(12)을 가열하기 위한 히터(15)와, 상기 용기(14)의 내측에 설치되어 소스 용액(12)의 온도를 측정하기 위한 써머 커플(16)과, 그 써머 커플(16)과 히터(15)의 사이에 연결되어 써머 커플(16)의 온도 측정값을 참고로 히터(15)를 가열하기 위한 온도 콘트롤러(17)와, 상기 용기(14)의 일측에 설치되어 장비의 비가동시 소스 용액(12)을 순환함과 동시에 일정온도로 가열하기 위한 용액순환가열수단(20)로 구성되어 있다.

상기 용액순환가열수단(20)은 상기 용기(14)의 상부와 하단부를 연결하는 순환관(21)과, 그 순환관(21) 상에 설치되는 펌프(22)와, 상기 순환관(21)의 외측에 설치되는 히터(23)로 구성되어 있다.

도면중 미설명 부호 18은 캐리어가스 주입관이다.

상기와 같이 구성되어 있는 본 고안 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러의 작용을 설명하면 다음과 같다.

소스 용액(12)이 수납되어 있는 버블러(13)의 용기(14)에 캐리어 가스 주입관(18)으로 캐리어 가스(N₂또는 He)를 주입하면, 용기(14)의 내부에 버블이 발생되고, 이와 같이 발생된 버블에 용액(12)이 묻어서 챔버(11) 측으로 이동하여 웨이퍼에 증착이 된다.

그리고, 상기와 같은 버블링동작을 하지 않을 때는 펌프(22)를 동작시켜서 순환관(21)을 통하여 용액(12)을 순환시키며, 순환관(21)의 외측에 설치된 히터(22)를 일정 온도로 가열하여 순환관(21)으로 순환되는 용액이 일정온도로 유지되도록 한다.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 고안 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러는 장비에서 버블링동작을 하지 않을 때 용기의 내측에 수납되어 있는 소스 용액을 순환시키며 일정온도로 가열하기 위한 용액순환가열수단을 설치하여, 장비의 비가동시에 용액을 균일한 온도로 유지함으로서, 종래와 같이 정상작업이 이루어질때까지 지체하지 않고 즉시 작업을 진행할 수 있도록 함으로서, 생산성이 향상되는 효과가 있다.

Claims

소스 용액을 수납하기 위한 용기와, 그 용기에 수납되어 있는 용액을 가열하기 위한 히터와, 상기 소스용액의 온도를 측정하기 위한 써머 커플과, 그 써머 커플의 측정온도를 참고로 히터의 가열온도를 조절하기 위한 온도 콘트롤러로 구성되어 있는 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러에 있어서, 상기 용기에 수납되어 있는 소스 용액이 균일한 온도를 유지하도록 용액순환가열수단을 설치하되, 그 용액순환가열수단은 상기 용기의 상부와 하단부를 연결하는 순환관과, 그 순환관 상에 설치되는 펌프와, 상기 순환관의 외측에 설치되는 히터로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼의 산화막증착장치용 버블러.