KR200195119Y1 - 반도체 에피텍셜 공정용 멀티 챔버 시스템의 안전 장치 - Google Patents

반도체 에피텍셜 공정용 멀티 챔버 시스템의 안전 장치 Download PDF

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Abstract

본 고안은 반도체 에피텍셜 공정용 멀티 챔버 시스템의 안전 장치에 관한 것으로, 본 고안은 공정 챔버와 듀얼 시일 펌프의 사이에 연결된 가스 공급라인에 설치되어 장비의 예방 정비 또는 고장이 발생시 작업이 가능한 공정 챔버의 가동이 중단되는 것을 방지하기 위해 오픈된 공정 챔버에서 유입되는 외부 공기를 차단시키기 위해 폐쇄 및 개방되는 제 1 밸브와, 상기 가스 공급라인에 연통되도록 설치되는 질소가스 공급라인과, 상기 질소가스 공급라인에 설치되어 공정 챔버의 분해시 어퍼 돔의 분리를 촉진시키기 위한 질소가스를 공급하기 위해 개방 및 폐쇄되는 제 2 밸브와, 상기 질소가스 공급라인에 설치되어 어퍼 돔의 분리를 촉진하기 위해 공급되는 질소가스의 압력을 조정하기 위한 레귤레이터로 구성된 것을 그 특징으로 한다.
따라서, 본 고안에 의하면, 에피텍셜 공정을 진행하기 위한 반도체 멀티 챔버 시스템의 예방 정비 또는 가스 누설 등에 의한 고장이 발생됐을 때 장비 전체의 가동을 중단시키지 않고도 작업이 가능한 공정 챔버는 계속 작업을 실시하면서 동시에 예방 정비 또는 장비 수리를 효율적으로 병행하여 진행할수 있게 된다.

Description

반도체 에피텍셜 공정용 멀티 챔버 시스템의 안전 장치
본 고안은 반도체 에피텍셜 공정용 멀티 챔버 시스템의 안전 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반도체 멀티 챔버 시스템의 예방 정비 또는 고장이 발생됐을 때 장비 전체의 가동을 중단시키지 않고 작업이 가능한 공정 챔버는 계속 작업을 실시하면서 동시에 예방 정비 또는 장비 수리를 병행할수 있도록 한 것이다.
일반적으로, 반도체 장비중 복수개의 공정 챔버가 구비되는 종래의 멀티 챔버 시스템에서 에피텍셜 공정(Epitaxial Process)을 진행 도중 공정 챔버(1)에 누설(Leak)이 발생하게 되면, 도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이 공정 챔버(1)의 베이스 플레이트(11)에 형성된 홀(Hole)을 통해서 듀얼 시일 펌프(Dual Seal Pump)(2)에 전달됨과 동시에, 이 전달된 가스에 의해 압력이 달라지므로 듀얼 시일 펌프(2)에 내장된 압력 스위치(도시는 생략함)에 의해 감지가 되어 디지탈 인풋 및 아웃풋 보드에 전달됨에 따라 발생되는 시그널에 의해서 사전에 안전 사고의 발생을 예방하기 위하여 장비의 가동이 중단된다.
이때, 상기한 듀얼 시일 펌프(2) 입구의 가스 공급라인(3)에는 공정 챔버(1)의 진공 상태를 감지하기 위한 버큠 스위치(10)가 설치되며, 장비의 예방 정비 또는 장비의 고장시, 복수개의 공정 챔버중 어느 하나의 공정 챔버(1)의 어퍼 돔(Upper Dome)(6)과 어퍼 클램프링(12)의 분리에 의해 예방 정비 또는 장비 수리를 실시하지 않아도 되는 공정 챔버(1), 즉 정상적인 공정의 진행이 가능한 공정 챔버(1)도 동시에 가동이 중단하게 된다.
이처럼, 전술한 바와 같은 종래의 장비는 장비의 예방 정비 또는 장비의 고장 발생시 작업이 가능한 다른 공정 챔버(1)도 동시에 가동이 중단되므로 인해 장비의 가동 중단시간(Down Time)이 길어지게 되고, 장비 가동률이 떨어지게 됨에 따라 생산성이 저하되게 되는 등의 많은 문제점이 있었다.
따라서, 본 고안은 상기한 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 반도체 멀티 챔버 시스템의 예방 정비 또는 고장이 발생됐을 때 장비 전체의 가동을 중단시키지 않고도 작업이 가능한 공정 챔버는 계속 작업을 실시하면서 동시에 예방 정비 또는 장비 수리를 병행할수 있도록 하여 장비의 가동 중단시간을 크게 줄일수 있음에 따른 생산성을 향상시킬수 있는 반도체 에피텍셜 공정용 멀티 챔버 시스템의 안전 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1은 일반적인 반도체 에피텍셜 공정 챔버를 나타낸 종단면도
도 2는 종래의 안전 장치를 나타낸 구성도
도 3은 본 고안을 나타낸 구성도
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
1; 공정 챔버 2; 듀얼 시일 펌프
3; 가스 공급라인 4; 제 1 밸브
5; 질소가스 공급라인 6; 어퍼 돔
7; 제 2 밸브 8; 레귤레이터
9; 첵크 밸브
상기한 목적을 달성하기 위해 본 고안은 공정 챔버와 듀얼 시일 펌프의 사이에 연결된 가스 공급라인에 설치되어 장비의 예방 정비 또는 고장이 발생시 작업이 가능한 공정 챔버의 가동이 중단되는 것을 방지하기 위해 오픈된 공정 챔버에서 유입되는 외부 공기를 차단시키기 위해 폐쇄 및 개방되는 제 1 밸브와, 상기 가스 공급라인에 연통되도록 설치되는 질소가스 공급라인과, 상기 질소가스 공급라인에 설치되어 공정 챔버의 분해시 어퍼 돔의 분리를 촉진시키기 위한 질소가스를 공급하기 위해 개방 및 폐쇄되는 제 2 밸브와, 상기 질소가스 공급라인에 설치되어 어퍼 돔의 분리를 촉진하기 위해 공급되는 질소가스의 압력을 조정하기 위한 레귤레이터로 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 에피텍셜 공정용 멀티 챔버 시스템의 안전 장치가 제공되므로써 달성된다.
여기서, 상기 질소가스 공급라인에는 어퍼 돔의 분리를 촉진하기 위해 공급되는 질소가스가 역류되는 것을 방지하기 위한 첵크 밸브가 설치된 것을 그 특징으로 한다.
따라서, 본 고안에 의하면, 에피텍셜 공정을 진행하기 위한 반도체 멀티 챔버 시스템의 예방 정비 또는 가스 누설 등에 의한 고장이 발생됐을 때 장비 전체의 가동을 중단시키지 않고도 작업이 가능한 공정 챔버는 계속 작업을 실시하면서 동시에 예방 정비 또는 장비 수리를 효율적으로 병행하여 진행할수 있게 된다.
이하, 상기한 목적을 달성하기 위한 본 고안의 바람직한 실시예를 첨부 도면에 의거하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 3은 본 고안을 나타낸 구성도로서, 종래의 기술과 동일한 부분에 대해서는 동일 부호를 부여하여 본 고안을 설명한다.
본 고안은 에피텍셜 공정을 진행하기 위한 반도체 멀티 챔버 시스템에 설치되는 각각의 복수개 공정 챔버(1)의 하단과 듀얼 시일 펌프(2)의 사이에 연결된 가스 공급라인(3)에 장비의 예방 정비 또는 고장이 발생시 작업이 가능한 공정 챔버(1)의 가동이 중단되는 것을 방지하기 위해 오픈된 공정 챔버(1)에서 유입되는 외부 공기를 차단시키기 위해 폐쇄 및 개방되는 복수개의 제 1 밸브(4)가 설치되고, 상기 복수개 공정 챔버(1)의 하단과 듀얼 시일 펌프(2)의 사이에 연결된 가스 공급라인(3)에는 질소가스 공급라인(5)이 연통되도록 설치되며, 질소가스 공급라인(5)에는 공정 챔버(1)의 분해시 어퍼 돔(6)의 분리를 촉진시키기 위한 질소가스를 공급하기 위해 개방 및 폐쇄되는 복수개의 제 2 밸브(7)가 설치된다.
또한, 상기 질소가스 공급라인(5)에는 어퍼 돔(6)의 분리를 촉진하기 위해 공급되는 질소가스의 압력을 조정하기 위한 레귤레이터(8)가 설치되고, 상기 질소가스 공급라인(5)에는 어퍼 돔(6)의 분리를 촉진하기 위해 공급되는 질소가스가 역류되는 것을 방지하기 위한 첵크 밸브(9)가 설치되며, 상기 듀얼 시일 펌프(2) 입구의 가스 공급라인(3)에는 공정 챔버(1)의 진공 상태를 감지하기 위한 버큠 스위치(10)가 설치되어 구성된다.
상기와 같이 구성된 본 고안은 도 3에 나타낸 바와 같이, 반도체 멀티 챔버 시스템에서 에피텍셜 공정을 진행하기 위한 기본적인 동작은 종래와 동일하게 진행되며, 다만 장비의 예방 정비 또는 장비의 고장이 발생하게 될 때 예방 정비 또는 장비 수리를 실시하는 공정 챔버(1)쪽의 공정 챔버(1) 하단과 듀얼 시일 펌프(2)의 사이에 연결된 가스 공급라인(3)에 설치된 제 1 밸브(4)를 폐쇄시키고, 공정 챔버(1)를 분해하게 된다.
이때, 상기 분해하기 위한 공정 챔버(1)의 내부에는 진공 상태가 형성되어 있으므로 인해 어퍼 돔(6)의 분리가 매우 어려움에 따라 이를 보완하기 위하여 상기 복수개 공정 챔버(1)의 하단과 듀얼 시일 펌프(2)의 사이에 연결된 가스 공급라인(3)에연통되는 질소가스 공급라인(5)에 설치된 제 2 밸브(7)를 개방시켜서 질소 가스를 적당한 압력으로 불어주므로써 상기 어퍼 돔(6)을 용이하게 분리할수 있게 된다.
상기 질소 가스는 질소가스 공급라인(5)에 설치된 레귤레이터(8)를 조정하여 서서히 낮은 압력에서 높은 압력을 가해주므로써 석영 재질인 어퍼 돔(6)의 파손을 방지할수 있고, 어퍼 돔(6)을 손쉽게 분리할수 있으며, 어퍼 돔(6)을 분해하기 위해 소요되는 분해 시간도 줄일수 있게 된다.
상기한 어퍼 돔(6)을 분리한 후에는 제 2 밸브(7)를 폐쇄시키고, 장비의 예방 정비 또는 수리를 실시한 다음, 상기 조립시의 역순으로 공정 챔버(1)를 조립하게 되며, 조립이 완료되면 제 1 밸브(4)를 서서히 개방시킴에 따라 정상적인 공정을 실시할수 있게 된다.
이상에서와 같이, 본 고안은 에피텍셜 공정을 진행하기 위한 반도체 멀티 챔버 시스템의 예방 정비 또는 가스 누설 등에 의한 고장이 발생됐을 때 장비 전체의 가동을 중단시키지 않고도 작업이 가능한 공정 챔버는 계속 작업을 실시하면서 동시에 예방 정비 또는 장비 수리를 병행할수 있으므로써 장비의 불필요한 가동 중단시간을 크게 줄일수 있어서 생산성을 증대시킬수 있으므로 인해 장비의 효율성 및 신뢰성을 대폭 향상시킨 매우 유용한 고안이다.
이상에서는 본 고안의 바람직한 실시예를 도시하고 또한 설명하였으나, 본 고안은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하 청구범위에서 청구하는 본 고안의 요지를 벗어남이 없이 당해 고안이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능할 것이다.

Claims (2)

  1. 공정 챔버와 듀얼 시일 펌프의 사이에 연결된 가스 공급라인에 설치되어 장비의 예방 정비 또는 고장이 발생시 작업이 가능한 공정 챔버의 가동이 중단되는 것을 방지하기 위해 오픈된 공정 챔버에서 유입되는 외부 공기를 차단시키기 위해 폐쇄 및 개방되는 제 1 밸브와, 상기 가스 공급라인에 연통되도록 설치되는 질소가스 공급라인과, 상기 질소가스 공급라인에 설치되어 공정 챔버의 분해시 어퍼 돔의 분리를 촉진시키기 위한 질소가스를 공급하기 위해 개방 및 폐쇄되는 제 2 밸브와, 상기 질소가스 공급라인에 설치되어 어퍼 돔의 분리를 촉진하기 위해 공급되는 질소가스의 압력을 조정하기 위한 레귤레이터로 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 에피텍셜 공정용 멀티 챔버 시스템의 안전 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 질소가스 공급라인에는 어퍼 돔의 분리를 촉진하기 위해 공급되는 질소가스가 역류되는 것을 방지하기 위한 첵크 밸브가 설치된 것을 특징으로 하는 반도체 에피텍셜 공정용 멀티 챔버 시스템의 안전 장치.
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