KR20010089623A - 하나 이상의 왁스 및 하나 이상의 세라미드 화합물을포함하는 화장 조성물 및 방법 - Google Patents

하나 이상의 왁스 및 하나 이상의 세라미드 화합물을포함하는 화장 조성물 및 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 융점이 70 내지 85 ℃ 사이의 범위이고, 탄소 사슬의 80 % 이상이 40 개 이상의 탄소 원자를 보유하는 하나 이상의 왁스, 및 하나 이상의 세라미드-형 화합물을 포함하는, 케라틴성 물질, 특히 사람 모발의 처리를 위한 화장 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 조성물을 사용하는 처리 방법에 관한 것이다.

Description

하나 이상의 왁스 및 하나 이상의 세라미드 화합물을 포함하는 화장 조성물 및 방법{COSMETIC COMPOSITION COMPRISING AT LEAST A WAX AND AT LEAST A CERAMIDE COMPOUND AND METHODS}
본 발명은 하나 이상의 특정 왁스 및 하나 이상의 세라미드-형 화합물을 포함하는, 모발과 같은 케라틴성 물질의 처리를 위한 화장 조성물, 및 이 조성물을 사용하는 비치료적인 처리 방법에 관한 것이다.
악천후 상황 또는 물리적(송풍 건조, 빗질 등) 또는 화학적(염색, 웨이브 퍼머(permanent waving) 등) 모발 처리에 의해 손상된 모발을 처리하는 것을 가능하게 하는 모발 배합물은 당업계에 이미 공지되어 있다. 화장 특성, 특히 습윤 및 건조 모발의 풀림 및 부드러움을 개선시키고, 또한 상기 공격으로부터 모발 섬유를 보호하는 장점을 갖는 각종 왁스가 상기 목적으로 이미 사용되었다. 그러나, 상기 왁스는 여전히 부적절한 특성을 갖고, 예를 들어 처리를 과하게 할 경우 모발을 무겁고 거칠게 하는 경향이 있다.
또한, 모발 섬유를 보호하기 위한 목적으로, 콜레스테롤 에스테르와 배합된 세라미드 및 글리코세라미드가 공지되어 있다. 그럼에도 불구하고 후자의 조성물 또는 세라미드만을 모발에 적용하면 습윤 모발 및 건조 모발 모두에 부적절한 화장 성능이 나타난다.
게다가, 송풍 건조와 같은 기계적 처리 동안, 모발을 성형하기 위한 건조기의 열 및 모발에 브러쉬를 통과시키는 것에 의해 모발이 손상된다.
따라서, 많은 모발 가닥이 송풍 건조 동안 끊어진다. 그러므로, 상기 공격 동안 모발이 끊어지지 않도록 보호하는 것을 가능하게 하는 조성물을 조사했다.
이제, 본 발명자들은 놀랍게도 세라미드-형 화합물과 배합한 특정 왁스를 포함하는 조성물을 사용함으로써, 습윤 모발 및 건조 모발 모두에서의 화장 성능에서 실질적인 향상이 관찰되었다는 것을 발견했다.
본 발명자들은 특히 배합물이, 2 개의 성분의 특성의 단순한 부가가 아닌 시너지 효과를 갖는다는 것을 관찰했다.
특히, 왁스 단독 또는 세라미드-형 화합물 단독으로 수득된 것보다 더 높은, 송풍 건조 동안 모발의 끊어짐에 대한 매우 양호한 보호 효과가 얻어졌다.
풀림(빗질의 용이함) 특성 또한 오직 세라미드-형 화합물만, 또는 오직 왁스만을 포함하는 조성물의 풀림보다 더 우수하다.
상기 발견이 본 발명의 토대를 형성한다.
그러므로, 본 발명의 목적은, 화장적으로 허용가능한 매질 중, 융점이 70 내지 85 ℃ 사이이고, 탄소 사슬의 80 % 이상이 40 개 이상의 탄소 원자를 보유하는 하나 이상의 왁스, 및 하나 이상의 세라미드-형 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 케라틴성 물질, 특히 모발의 처리를 위해 의도된 화장 조성물이다.
본 발명의 목적은, 또한 케라틴성 물질, 특히 모발을 물리적 또는 화학적 공격으로부터, 특히 송풍 건조와 관련되어 보호하기 위한, 상기에 정의된 조성물의용도이다.
상기 조성물은 또한 모발의 화장 특성, 특히 부드러움 및 매끈함을 향상시키는 것을 가능하게 한다.
본 발명에 있어서, 세라미드-형 화합물은 천연 또는 합성 세라미드 및/또는 글리코세라미드 및/또는 슈도세라미드 및/또는 네오세라미드를 의미하는 것으로 이해된다.
세라미드-형 화합물은 예를 들어, 특허 출원 DE 4,424,530; DE 4,424,533; DE 4,402,929; DE 4,420,736; WO 95/23807; WO 94/07844; EP-A-0,646,572; WO 95/16665; FR-2,673,179; EP-A-0,227,994; WO 94/07844; WO 94/24097 및 WO 94/10131 에 기재되어 있고, 그의 지침이 참고로 본 명세서에 포함된다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 세라미드-형 화합물은 바람직하게는 하기 화학식 I 에 해당한다:
[식 중:
R1은 하기:
- 포화 또는 불포화의 직쇄 또는 분지쇄 C1-C50, 바람직하게는 C5-C50탄화수소 라디칼(이때, 상기 라디칼은 산 R7COOH 에 의해 임의로 에스테르화된 하나 이상의 히드록실기로 치환되는 것이 가능하고, R7은 임의로 모노- 또는 폴리히드록실화된 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 C1-C35탄화수소 라디칼이고, R7라디칼의 히드록실(들)은 임의로 모노- 또는 폴리히드록실화된 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 C1-C35지방산에 의해 에스테르화되는 것이 가능함);
- 또는, 라디칼 R''-(NR-CO)-R' (여기서, R 은 수소 원자 또는 모노- 또는 폴리히드록실화, 바람직하게는 모노히드록실화된 C1-C20탄화수소 라디칼을 나타내고, R' 및 R'' 는 탄소수의 합이 9 내지 30 사이인 탄화수소 라디칼이고, R' 는 2 가 라디칼임);
- 또는, 라디칼 R8-O-CO-(CH2)p(여기서, R8은 C1-C20탄화수소 라디칼을 나타내고, p 는 1 내지 12 의 범위의 정수임)
를 나타내고;
R2는 수소 원자, 다당류-형 라디칼, 특히 (글리코실)n, (갈락토실)m(여기서, n 은 1 내지 4 의 범위의 정수이고, m 은 1 내지 8 의 범위의 정수임) 또는 술포갈락토실 라디칼, 술페이트 또는 포스페이트 잔기, 포스포릴에틸아민 라디칼 및 포스포릴에틸암모늄 라디칼로부터 선택되고;
R3는 수소 원자 또는 히드록실화 또는 비히드록실화된 포화 또는 불포화C1-C33탄화수소 라디칼(이때, 히드록실(들)은 무기 산 또는 산 R7COOH (여기서, R7은 상기에 정의된 것과 동일한 의미를 가짐)에 의해 에스테르화되는 것이 가능하고, 히드록실(들)이 (글리코실)n, (갈락토실)m, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 또는 포스포릴에틸암모늄 라디칼에 의해 에테르화되는 것이 가능하고, 또한 R3가 하나 이상의 C1-C14알킬 라디칼로 치환되는 것이 가능함)을 나타내고;
바람직하게는, R3는 C15-C26α-히드록시알킬 라디칼(이때, 히드록실기는 C16-C30α-히드록시산에 의해 임의로 에스테르화됨)을 나타내고;
R4는 수소 원자, 메틸 또는 에틸 라디칼, 임의로 히드록실화된 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 C3-C50탄화수소 라디칼, 라디칼 -CH2-CHOH-CH2-O-R6(여기서, R6은 C10-C26탄화수소 라디칼 또는 라디칼 R8-O-CO-(CH2)P를 나타내고, R8은 C1-C20탄화수소 라다칼을 나타내고, p 는 1 내지 12 의 범위의 정수임)를 나타내고;
R5는 수소 원자 또는 임의로 모노- 또는 폴리히드록실화된 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 C1-C30탄화수소 라디칼(이때, 히드록실(들)은 (글리코실)n, (갈락토실)m, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 또는 포스포릴에틸암모늄 라디칼에 의해 에테르화되는 것이 가능함)을 나타내되;
단, R3및 R5가 수소를 나타내거나, R3가 수소를 나타내고 R5가 메틸을 나타낼 경우, R4는 수소 원자, 또는 메틸 또는 에틸 라디칼을 나타내지 않음].
화학식 I 의 화합물 중, 그의 구조가 DOWNING 에 의해 [Journal of Lipid Research Vol. 35, 2060-2068, 1994]에 기재된 세라미드 및/또는 글리코세라미드, 또는 그의 지침이 참고로 본 명세서에 포함된 프랑스 특허 출원 FR-2,673,179 에 기재된 것이 바람직하다.
본 발명에 따라 더 특별히 바람직한 세라미드-형 화합물은, R1이 임의로 히드록실화된 C14-C22지방산으로부터 유도된 포화 또는 불포화 알킬을 나타내고; R2가 수소 원자를 나타내고; R3가 임의로 히드록실화된 직쇄 C11-C17, 바람직하게는 C13-C15라디칼을 나타내는 화학식 I 의 화합물이다.
상기 화합물은 예를 들어 하기이다;
- 2-(N-리놀레오일아미노)-1,3-옥타데칸디올,
- 2-(N-올레오일아미노)-1,3-옥타데칸디올,
- 2-(N-팔미토일아미노)-1,3-옥타데칸디올,
- 2-(N-스테아로일아미노)-1,3-옥타데칸디올,
- 2-(N-베헤노일아미노)-1,3-옥타데칸디올,
- 2-[N-(2-히드록시팔미토일)아미노]-1,3-옥타데칸디올,
- 2-(N-스테아로일아미노)-1,3,4-옥타데칸트리올 및 특히 N-스테아로일피토스핑고신,
- 2-(N-팔미토일아미노)-1,3-헥사데칸디올, 또는
상기 화합물들의 혼합물.
예를 들어, DOWNING 분류에 따른 세라미드(들) 2 및 세라미드(들) 5 의 혼합물과 같은 특정 혼합물을 또한 사용할 수 있다.
또한, R1이 C12-C22지방산으로부터 유도된 포화 또는 불포화 알킬 라디칼을 나타내고; R2가 갈락토실 또는 술포갈락토실 라디칼을 나타내고; R3가 포화 또는 불포화 C12-C22탄화수소 라디칼, 바람직하게는 -CH=CH-(CH2)12-CH3기를 나타내는 화학식 I 의 화합물을 사용하는 것이 가능하다.
그 예로, WAITAKI INTERNATIONAL BIOSCIENCES 사에 의해 상품명 GLYCOCER 로 시판되는, 글리코세라미드의 혼합물로 이루어진 제품을 언급할 수 있다.
또한, 특허 출원 EP-A-0,227,994, EP-A-0,647,617, EP-A-0,736,522 및 WO 94/07844 에 기재된 화학식 I 의 화합물을 사용하는 것도 가능하다.
상기 화합물은 예를 들어, QUEST 사에 의해 시판되는 QUESTAMIDE H (비스-(N-히드록시에틸-N-세틸)말론아미드), 및 세틸산 N-(2-히드록시에틸)-N-(3-세틸록시-2-히드록시프로필)아미드이다.
또한, 특허 출원 WO 94/24097 에 기재된 N-도코사노일-N-메틸-D-글루카민을 사용하는 것도 가능하다.
세라미드-형 화합물의 농도는 조성물의 총 중량에 대해 대략 0.0001 내지 20중량% 사이, 바람직하게는 대략 0.001 내지 10 중량% 사이, 훨씬 더 바람직하게는 0.005 내지 3 중량% 사이의 범위일 수 있다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 왁스는 바람직하게는 탄소수 40 내지 65 의 탄소 사슬을 80 중량% 이상, 바람직하게는 95 중량% 초과로 갖는다.
상기 특징에 상응하는 왁스는 특히 해바라기 왁스, 특별히 융점이 약 77 ℃ 이고(KOFLER 블록을 사용하여 측정함), 강하점(drop point)이 약 70 ℃ 이고, 탄소수 40 내지 65 의 탄소 사슬을 95 중량% 초과로 포함하는 수소화 해바라기 왁스(Laboratoire Soetenaey 시판)이다.
본 발명에 따른 왁스의 농도는 조성물의 총 중량에 대해 대략 0.0001 내지 20 중량% 사이, 바람직하게는 대략 0.001 내지 10 중량% 사이, 훨씬 더 바람직하게는 0.005 내지 3 중량% 사이의 범위일 수 있다.
본 발명의 조성물은 유리하게는, 보통 조성물의 총 중량에 대해 대략 0.1 내지 60 중량% 사이, 바람직하게는 3 내지 40 중량% 사이, 훨씬 더 바람직하게는 5 내지 30 중량% 사이의 양으로 존재하는 하나 이상의 계면활성제를 추가로 포함한다.
상기 계면활성제는 음이온성, 양쪽성, 비이온성 및 양이온성 계면활성제, 또는 그의 혼합물로부터 선택될 수 있다.
본 발명을 수행하기에 적절한 계면활성제는 특히 하기이다:
(i)음이온성 계면활성제(들):
그의 성질이 본 발명의 맥락 내에서 정말 결정적으로 중요하지는 않다.
따라서, 본 발명의 맥락 내에서 그 자체만으로 또는 혼합물로서 사용될 수 있는 음이온성 계면활성제의 예로서, 특히 하기 화합물의 염(특별히, 알칼리금속, 특히 나트륨 염, 암모늄 염, 아민 염, 아미노 알콜 염 또는 마그네슘 염)을 언급할 수 있다(비제한 목록): 알킬 술페이트, 알킬 에테르 술페이트, 알킬아미도 에테르 술페이트, 알킬아릴폴리에테르 술페이트, 모노글리세리드 술페이트, 알킬 술포네이트, 알킬 포스페이트, 알킬아미드술포네이트, 알킬 아릴 술포네이트, α-올레핀술포네이트, 파라핀술포네이트, 알킬 술포숙시네이트, 알킬 에테르 술포숙시네이트, 알킬아미드 술포숙시네이트, 알킬 술포숙시나메이트, 알킬 술포아세테이트, 알킬 에테르 포스페이트, 아실 사르코시네이트, 아실 이세티오네이트 및 N-아실타우레이트, 바람직하게는 탄소수 8 내지 24 의 상기 상이한 화합물 모두의 알킬 또는 아실 라디칼, 및 바람직하게는 페닐 또는 벤질기를 나타내는 아릴 라디칼. 더 유용한 음이온성 계면활성제 중, 지방산의 염, 예를 들어, 올레산, 리시놀레산, 팔미트산 및 스테아르산의 염, 코프라유 또는 수소화 코프라유의 산, 및 아실 라디칼이 탄소수 8 내지 20 인 아실 락틸레이트를 또한 언급할 수 있다. 또한, 약한 음이온성 계면활성제, 예를 들어, 알킬-D-갈락토시드우론산 및 그의 염, 및 폴리옥시알킬렌화 (C6-C24)알킬 에테르 카르복실산, 폴리옥시알킬렌화 (C6-C24)알킬아릴 에테르 카르복실산, 폴리옥시알킬렌화 (C6-C24)알킬아미도 에테르 카르복실산 및 그의 염, 특별히 에틸렌 옥시드기 2 내지 50 개를 포함하는 것 및 그의 혼합물을 사용하는 것도 가능하다.
음이온성 계면활성제 중, 알킬 술페이트 및 알킬에테르 술페이트의 염 및 그의 혼합물의 사용이 본 발명에 있어서 바람직하다.
(ii)비이온성 계면활성제(들):
비이온성 계면활성제는 또한 그 자체로 잘 공지된 화합물이고(이 점에 관해서는, 특히 1991 년에 Blackie & Son (Glasgow 및 London)에 의해 출판된 M.R. Porter 의 "Handbook of Surfactants" pp. 116-178 을 보라), 본 발명의 맥락에서, 그의 성질이 결정적으로 중요하지는 않다. 따라서, 상기는 알콜, 알파-디올, 알킬페놀, 또는 예를 들어, 탄소수 8 내지 18 의 지방 사슬을 갖는 폴리에톡실화, 폴리프로폭실화 또는 폴리글리세롤화 지방산(에틸렌 옥시드 또는 프로필렌 옥시드기의 수가 특히 2 내지 50 의 범위인 것이 가능하고 글리세롤기의 수가 특히 2 내지 30 의 범위인 것이 가능함)으로부터 특별히 선택될 수 있다(비제한 목록). 에틸렌 옥시드 및 프로필렌 옥시드의 공중합체, 및 에틸렌 옥시드 및 프로필렌 옥시드와 지방 알콜의 축합체를 또한 언급할 수 있다; 바람직하게는 에틸렌 옥시드 2 내지 30 몰을 포함하는 폴리에톡실화 지방 아미드, 글리세롤기 1 내지 5 개, 특별히 1.5 내지 4 개를 평균적으로 포함하는 폴리글리세롤화 지방 아미드, 바람직하게는 에틸렌 옥시드 2 내지 30 몰을 포함하는 폴리에톡실화 지방 아민, 에틸렌 옥시드 2 내지 30 몰을 포함하는 소르비탄의 옥시에틸렌화 지방산 에스테르, 수크로스의 지방산 에스테르, 폴리에틸렌 글리콜의 지방산 에스테르, 알킬폴리글리코시드, N-알킬글루카민 유도체, 아민 옥시드, 예를 들어, (C10-C14) 알킬아민의 옥시드 또는 N-아실아미노프로필모르폴린 옥시드. 알킬폴리글리코시드가 본 발명의 맥락 내에서 특히 매우 적합한 비이온성 계면활성제를 구성한다는 것을 알게 될 것이다.
(iii)양쪽성 계면활성제(들):
그의 성질이 본 발명의 맥락 내에서 결정적으로 중요하지는 않은 양쪽성 계면활성제는, 특히 지방족 라디칼이 탄소수 8 내지 22 이고 하나 이상의 수-가용화 음이온기(예를 들어, 카르복실레이트, 술포네이트, 술페이트, 포스페이트 또는 포스포네이트)를 포함하는 직쇄 또는 분지쇄인 지방족 2 차 또는 3 차 아민의 유도체일 수 있고(비제한 목록); (C8-C20)알킬베타인, 술포베타인, (C8-C20)알킬아미도(C1-C6)알킬베타인 또는 (C8-C20)알킬아미도(C1-C6)알킬술포베타인을 더 언급할 수 있다.
아민 유도체 중, 하기 구조 (2) 및 (3)을 갖고, 특허 US-2 528 378 및 US-2 781 354 에 기재되어 있는, Miranol 이라는 이름으로 시판되는 제품을 언급할 수 있다:
R2-CONHCH2CH2-N(R3)(R4)(CH2COO-) (2)
[식 중: R2는 가수분해된 코프라유에 존재하는 산 R2-COOH 으로부터 유도된 알킬 라디칼, 헵틸, 노닐 또는 운데실 라디칼을 나타내고, R3는 베타-히드록시에틸기를 나타내고, R4는 카르복시메틸기를 나타냄];
R5-CONHCH2CH2-N(B)(C) (3)
[식 중:
B 는 -CH2CH2OX' 를 나타내고, C 는 -(CH2)z-Y' 를 나타내고(z 는 1 또는 2 이고, X' 는 -CH2CH2-COOH 기 또는 수소 원자를 나타내고, Y' 는 -COOH 또는 라디칼 -CH2-CHOH-SO3H 를 나타냄), R5는 코프라유 또는 가수분해된 아마인유에 존재하는 산 R9-COOH 의 알킬 라디칼, 알킬 라디칼, 특히 C7, C9, C11, C13, 또는 C17알킬 라디칼 및 그의 이소 형태 또는 불포화 라디칼 C17을 나타냄].
상기 화합물들은 [CTFA 사전, 제 5 판, 1993]에 디소듐 코코암포디아세테이트, 디소듐 라우로암포디아세테이트, 디소듐 카프릴암포디아세테이트, 디소듐 카프릴로암포디아세테이트, 디소듐 코코암포디프로피오네이트, 디소듐 라우로암포디프로피오네이트, 디소듐 카프릴암포디프로피오네이트, 디소듐 카프릴로암포디프로피오네이트, 라우로암포디프로피론산, 코코암포디프로피온산이라는 이름으로 분류되어 있다.
그 예로, RHONE POULENC 사에 의해 상품명 MIRANOL C2M 농축물로 시판되는 코코암포디아세테이트를 언급할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물에, 바람직하게는 계면활성제의 혼합물, 특별히 음이온성 계면활성제의 혼합물, 및 음이온성 계면활성제 및 양쪽성 또는 비이온성 계면활성제의 혼합물을 사용한다. 특히 바람직한 혼합물은 하나 이상의 음이온성 계면활성제 및 하나 이상의 양쪽성 계면활성제로 구성된 혼합물이다.
바람직하게는 소듐, 트리에탄올아민 또는 암모늄 (C12-C14)알킬 술페이트, 옥시에틸렌화 소듐, 에틸렌 옥시드 2.2 몰을 포함하는 트리에탄올아민 또는 암모늄 (C12-C14)알킬 에테르 술페이트, 소듐 코코일 이세티오네이트 및 소듐 (C14-C16)알파올레핀 술포네이트 및 이것들의 하기와의 혼합물로부터 선택되는 음이온성 계면활성제를 사용한다:
- 양쪽성 계면활성제, 예를 들어, 특별히 활성 물질 38 % 의 수용액으로 상품명 "MIRANOL C2M CONC" 및 MIRANOL C32 라는 이름으로 RHONE POULENC 사에 의해 시판되는, 디소듐 코코암포디프로피오네이트 또는 소듐 코코암포프로피오네이트로 불리는 아민 유도체;
- 또는, 쯔비터이온성 유형의 양쪽성 계면활성제, 예를 들어, 알킬베타인, 특별히 AS 32 % 의 수용액으로 "DEHYTON AB 30" 라는 이름으로 HENKEL 사에 의해 시판되는 코코베타인.
또한, 양이온성 계면활성제를 사용하는 것도 가능하고, 그 중 특별히 하기를 언급할 수 있다(비제한 목록): 임의로 폴리옥시알킬렌화된 1 차, 2 차 또는 3 차 지방 아민의 염; 4 차 암모늄 염, 예를 들어, 테트라알킬암모늄, 알킬아미도알킬트리알킬암모늄, 트리알킬벤질암모늄, 트리알킬히드록시알킬암모늄 또는 알킬피리디늄 클로라이드 또는 브로마이드; 이미다졸린 유도체; 또는 양이온성 특성이 있는 아민의 옥시드.
본 발명의 조성물은 또한, 증점제, 향료, 진주광택제, 방부제, 선스크린, 음이온성 또는 비이온성 또는 양이온성 또는 양쪽성 중합체, 단백질, 단백질 가수분해물, 직쇄 또는 분지쇄 C16-C40지방산, 예를 들어, 18-메틸에이코사노산, 히드록시산, 비타민, 판테놀, 식물유, 동물유, 광유 또는 합성유 및 종래에 화장 분야에서 사용된 임의의 다른 첨가제(본 발명에 따른 조성물의 특성에 영향을 주지 않음)로부터 선택되는 하나 이상의 첨가제를 포함할 수 있다.
상기 첨가제는 본 발명에 따른 조성물 중 조성물의 총 중량에 대해 0 내지 50 중량% 의 범위일 수 있는 비율로 존재한다. 각각의 첨가제의 정확한 양은 그의 성질 및 그의 기능에 따라 당업자에 의해 쉽게 결정될 수 있다.
화장적으로 허용가능한 매질은 물 단독으로, 또는 물 및 하나 이상의 화장적으로 허용가능한 용매, 예를 들어, 모노알콜, 폴리알콜, 글리콜 에테르 및 그의 혼합물의 혼합물로 구성될 수 있다. 모노알콜은 특별히 C1-C4저급 알콜, 예를 들어, 에탄올, 이소프로판올, t-부탄올, n-부탄올; 알킬렌 글리콜, 예를 들어, 프로필렌 글리콜, 글리콜 에테르 및 그의 혼합물로부터 선택된다.
바람직하게는, 조성물은 조성물의 총 중량에 대해 물 50 내지 95 중량% 를 포함한다.
조성물의 pH 는 보통 2 내지 12 사이, 바람직하게는 4 내지 9 사이이다. 통상적으로 조성물에 염기(유기 또는 무기 염기), 예를 들어, 수성 암모니아 또는 1 차, 2 차 또는 3 차 (폴리)아민, 예를 들어, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 이소프로판올아민 또는 1,3-프로판디아민을 첨가하거나, 무기 또는 유기산, 바람직하게는 카르복실산, 예를 들어, 시트르산을 첨가함으로써 원하는 값으로 pH 를 조절할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 케라틴성 물질, 예를 들어, 모발, 피부, 속눈썹, 눈썹, 손톱, 입술, 두피, 더 특별히 모발의 세정 또는 처리에 더 특별히 사용될 수 있다.
특별히, 본 발명에 따른 조성물은 세제 조성물, 예를 들어, 샴푸, 샤워 젤 및 거품 목욕품(bath)이다. 본 발명의 상기 구현예에서, 조성물은 통상 수성 세정 기재를 포함한다.
세정 기재를 형성하는 계면활성제(들)은 상기에 정의된 음이온성, 양쪽성, 비이온성 및 양이온성 계면활성제로부터 단독으로 또는 혼합물로 고르게 잘 선택될 수 있다.
세정 기재의 양 및 질은 최종 조성물 상에서 만족스런 거품 형성 및/또는 세정력을 제공하기에 충분한 것이다.
따라서, 본 발명에 있어서, 세정 기재는 최종 조성물의 충 중량의 4 내지 50 중량%, 바람직하게는 6 내지 35 중량%, 훨씬 더 바람직하게는 8 내지 25 중량% 를 나타낼 수 있다.
본 발명의 목적은 또한 상기에 정의된 화장 조성물을 케라틴성 물질에 적용하고, 이어서 임의로 물로 헹구는 것을 수행하는 것으로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 피부 또는 모발과 같은 케라틴성 물질을 처리하는 방법이다.
따라서, 본 발명에 따른 상기 방법은 헤어스타일의 유지, 처리, 케어 또는 피부, 모발 또는 임의의 다른 케라틴성 물질로부터의 메이크업의 세정 또는 제거를하게 한다.
본 발명의 조성물은 또한 헹굼 제거되는 모발 컨디셔너, 또는 그렇지 않으면 모발의 웨이브 퍼머, 스트레이트(straightening), 염색 또는 탈색용 조성물의 형태, 또는 대안적으로, 염색, 탈색, 웨이브 퍼머 또는 모발 스트레이트 전 또는 후, 또는 대안적으로 웨이브 퍼머 또는 모발 스트레이트의 두 단계 사이에 적용되는 헹굼-제거 조성물의 형태로 제공될 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 특별히, 헤어스타일의 유지, 모발 성형 또는 헤어 스타일링(styling)을 위한 리브-인(leave-in) 제품으로서 사용될 수 있다.
상기는 더 특별히 모발 셋팅 로션, 송풍 건조 로션, 고정 조성물 (랙커(lacquer)) 및 헤어 스타일링 조성물이다.
본 발명의 조성물은 또한 피부 세정 조성물의 형태, 특별히 목욕 또는 샤워 용액 또는 젤의 형태, 또는 메이크업-제거 제품의 형태로 제공될 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 피부 및/또는 모발 케어용 수성 또는 수성-알콜성 로션의 형태로 제공될 수 있다.
본 발명에 따른 화장 조성물은 젤, 밀크, 크림, 로션, 스틱, 에멀젼, 증점 로션 또는 무스의 형태로 제공될 수 있고, 피부, 손톱, 속눈썹, 입술, 및 더 특별히 모발용으로 사용될 수 있다.
조성물을 다양한 형태, 특별히 기화기, 펌프 디스펜서 또는 에어로졸 용기에 포장하여, 기화 형태 또는 무스 형태로 조성물을 적용할 수 있다. 상기 포장 형태는 예를 들어, 모발 처리용 스프레이, 랙커 또는 무스를 얻는 것을 원할 경우에 권장된다.
랙커 또는 에어로졸 무스를 얻기 위해 본 발명에 따른 조성물을 에어로졸 형태로 포장할 경우, 상기는 휘발성 탄화수소, 예를 들어, n-부탄, 프로판, 이소부탄, 펜탄, 염소화 및/또는 불소화 탄화수소 및 그의 혼합물로부터 선택될 수 있는 하나 이상의 추진제를 포함한다. 추진제로서 이산화탄소 기체, 아산화질소, 디메틸 에테르, 질소, 압축 공기 및 그의 혼합물을 사용하는 것이 또한 가능하다.
하기 본문 또는 선행 본문에서, 표현된 백분율은 중량% 이다.
본 발명을 이제 하기 실시예의 도움으로 더 충분히 설명할 것이고, 이는 기술된 구현예에 국한되는 것으로 간주되지 않아야 한다.
실시예에서 AS 는 활성 물질을 의미한다.
실시예 1
하기 4 개의 송풍-건조 조성물을 제조했다:
1본 발명 2비교예 3비교예 4비교예
N-올레오일디히드로스핑고신(세라미드) 0.1 g - 0.5 g -
수소화 해바라기 왁스(Laboratoire SOETENAEY) 0.4 g 0.5 g - -
베헤닐 트리메틸 암모늄 클로라이드 2 g AS 2 g AS 2 g AS 2.5 g AS
물 qs 100 g 100 g 100 g 100 g
조성물 1 g 을, 미리 세정하고 짠 모발 타래(2.7 g)에 적용한다. 5 분 동안 작용하게 하고, 타래를 빗질하고, 이어서 물로 헹군다.
습윤 모발 상에서 타래 대 타래의 미끄러짐
미끄럼 벤치에 부착된, 움직일 수 있는 타래를 2 개의 다른 고정된 타래 사이에서 수직선 방식으로 이동하게 한다. 타래가 미끄러지도록 가하는 힘을 드라이빙 팔에 연결된 전자식 게이지로 측정한다. 미끄는 힘이 낮을수록 조성물 특성이 좋다.
그 결과를 하기 표에 정리한다:
시험 조성물 1본 발명 2비교예 3비교예 4비교예
미끄는 힘 24.7 g 34.4 g 34.4 g 41.4 g
본 발명에 따른 조성물 1 에 대한 미끄는 힘은 조성물 2, 3 및 4 에 대한 것보다 현저하게 낮다.
그러므로, 세라미드 및 해바라기 왁스 둘 다를 포함하는 조성물이 2 개의 화합물 중 오직 하나만을 포함하는 것보다 더 나은 화장 특성을 나타낸다.
송풍 건조 시험:
조성물 1 g 을, 미리 세정하고 짠 모발 타래(2.7 g)에 적용한다. 5 분 동안 작용하게 하고, 타래를 빗질하고, 이어서 물로 헹군다.
송풍 건조를 브러쉬 및 모발 건조기를 사용하여 수행한다. 송풍 건조를 모근부터 말단까지 브러쉬를 통과시켜서 수행한다. 끊어진 모발을 빗을 사용하여 브러쉬 상에서 꼼꼼하게 회수하고 이어서 중량을 잰다. 타래에 대해 회수된 모발의 질량을 초기 모발 1 g 에 대한 회수된 모발의 질량에 대해 나타낸다.
회수된 모발의 질량을 각각의 조성물 1 내지 4 에 대해 비교한다. 끊어진 모발의 질량이 높을수록, 조성물이 모발을 덜 보호한다.
그 결과를 하기 표에 정리한다:
시험 조성물 1본 발명 2비교예 3비교예 4비교예
송풍 건조 후 브러쉬 상에서 회수된 모발의 질량 8.7 mg/g 12.1 mg/g 13.1 mg/g 17.5 mg/g
세라미드 및 해바라기 왁스 둘 다를 포함하는 본 발명에 따른 조성물 1 에 있어서, 송풍 건조 후 브러쉬 상에서 회수된 모발의 질량이 현저하게 감소(-28 %)하는 것이 관찰된다.
실시예 2
하기 샴푸 조성물을 제조했다:
AS 70 % 를 포함하는 수용액 중 에틸렌 옥시드 2.2 몰을 포함하는 라우릴 에테르 술페이트 15 g AS
AS 30 % 를 포함하는 코코일 베타인 2.5 g AS
4 차화 구아 고무(RHODIA CHIMIE 의 Jaguar C 13S) 0.05 g
점도 300000 cSt 의 PDMS 2.7 g
세틸 2-히드록시세틸스테아릴 에테르/세틸 알콜 2.5 g
코프라산 모노이소프로파닐아미드 1 g
수소화 해바라기 왁스(Laboratoire SOETENAEY) 0.5 g
N-올레오일디히드로스핑고신 0.01 g
방부제 qs
향료 qs
물 qs 100 g
상기 조성물로 처리된 모발이 매우 우수한 화장 특성을 나타낸다.
실시예 3
하기 조성을 갖는 헹굼-제거 컨디셔너를 제조했다:
세틸스테아릴 알콜(중량 50/50) 5 g
미리스틸, 세틸 및 스테아릴 미리스테이트, 팔미테이트 및 스테아레이트 혼합물 1 g
AS 80 % 를 포함하는 베헤닐트리메틸암모늄 클로라이드(CLARIANT 의 GENAMIN KDMP) 3.2 g AS
양이온성 에멀젼으로서 아미노 에틸 이미노프로필기가 있는 폴리디메틸 실록산(수 중 AS 35 %) 1.05 g AS
글리세린 3 g
수소화 해바라기 왁스 0.5 g
N-올레오일디히드로스핑고신 0.1 g
방부제 qs
향료 qs
물 qs 100 g
실시예 4
하기 조성을 갖는 헹굼-제거 컨디셔너를 제조했다:
N-(2-히드록시헥사데카노일)-2-아미노옥타-데칸-1,3-디올 0.1 g
수소화 해바라기 왁스 0.4 g
AS 80 % 를 포함하는 베헤닐트리메틸암모늄 클로라이드(CLARIANT 의 GENAMIN KDMP) 1.6 g AS
물 qs 100 g
실시예 5
하기 조성을 갖는 헹굼-제거 컨디셔너를 제조했다:
세틸스테아릴 알콜(중량 50/50) 6 g
AS 80 % 를 포함하는 베헤닐트리메틸암모늄 클로라이드(CLARIANT 의 GENAMIN KDMP) 4 g AS
양이온성 에멀젼으로서 아미노 에틸 이미노프로필기가 있는 폴리디메틸 실록산(수 중 AS 35 %) 0.7 g AS
글리세린 3 g
수소화 해바라기 왁스 2 g
N-올레오일디히드로스핑고신 0.1 g
방부제 qs
물 qs 100 g

Claims (20)

  1. 화장적으로 허용가능한 매질 중, 융점이 70 내지 85 ℃ 사이이고, 탄소 사슬의 80 % 이상이 40 개 이상의 탄소 원자를 보유하는 하나 이상의 왁스, 및 하나 이상의 세라미드-형 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화장 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, 세라미드-형 화합물이 하기 화학식 I 에 해당하는 것을 특징으로 하는 조성물:
    [화학식 I]
    [식 중:
    R1은 하기:
    - 포화 또는 불포화의 직쇄 또는 분지쇄 C1-C50, 바람직하게는 C5-C50탄화수소 라디칼(이때, 상기 라디칼은 산 R7COOH 에 의해 임의로 에스테르화된 하나 이상의 히드록실기로 치환되는 것이 가능하고, R7은 임의로 모노- 또는 폴리히드록실화된 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 C1-C35탄화수소 라디칼이고, R7라디칼의 히드록실(들)은 임의로 모노- 또는 폴리히드록실화된 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 C1-C35지방산에 의해 에스테르화되는 것이 가능함);
    - 또는, 라디칼 R''-(NR-CO)-R' (여기서, R 은 수소 원자 또는 모노- 또는 폴리히드록실화, 바람직하게는 모노히드록실화된 C1-C20탄화수소 라디칼을 나타내고, R' 및 R'' 는 탄소수의 합이 9 내지 30 사이인 탄화수소 라디칼이고, R' 는 2 가 라디칼임);
    - 또는, 라디칼 R8-O-CO-(CH2)p(여기서, R8은 C1-C20탄화수소 라디칼을 나타내고, p 는 1 내지 12 의 범위의 정수임)
    를 나타내고;
    R2는 수소 원자, 다당류-형 라디칼, 특히 (글리코실)n, (갈락토실)m(여기서, n 은 1 내지 4 의 범위의 정수이고, m 은 1 내지 8 의 범위의 정수임) 또는 술포갈락토실 라디칼, 술페이트 또는 포스페이트 잔기, 포스포릴에틸아민 라디칼 또는 포스포릴에틸암모늄 라디칼로부터 선택되고;
    R3는 수소 원자 또는 히드록실화 또는 비히드록실화된 포화 또는 불포화 C1-C33탄화수소 라디칼(이때, 히드록실(들)은 무기 산 또는 산 R7COOH (여기서, R7은 상기에 정의된 것과 동일한 의미를 가짐)에 의해 에스테르화되는 것이 가능하고, 히드록실(들)이 (글리코실)n, (갈락토실)m, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 또는 포스포릴에틸암모늄 라디칼에 의해 에테르화되는 것이 가능하고, 또한 R3가 하나 이상의 C1-C14알킬 라디칼로 치환되는 것이 가능함)을 나타내고;
    바람직하게는, R3는 C15-C26α-히드록시알킬 라디칼(이때, 히드록실기는 C16-C30α-히드록시산에 의해 임의로 에스테르화됨)을 나타내고;
    R4는 수소 원자, 메틸 또는 에틸 라디칼, 임의로 히드록실화된 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 C3-C50탄화수소 라디칼, 라디칼 -CH2-CHOH-CH2-O-R6(여기서, R6은 C10-C26탄화수소 라디칼 또는 라디칼 R8-O-CO-(CH2)P를 나타내고, R8은 C1-C20탄화수소 라다칼을 나타내고, p 는 1 내지 12 의 범위의 정수임)를 나타내고;
    R5는 수소 원자 또는 임의로 모노- 또는 폴리히드록실화된 직쇄 또는 분지쇄의 포화 또는 불포화 C1-C30탄화수소 라디칼(이때, 히드록실(들)은 (글리코실)n, (갈락토실)m, 술포갈락토실, 포스포릴에틸아민 또는 포스포릴에틸암모늄 라디칼에 의해 에테르화되는 것이 가능함)을 나타내되;
    단, R3및 R5가 수소를 나타내거나, R3가 수소를 나타내고 R5가 메틸을 나타낼 경우, R4는 수소 원자, 또는 메틸 또는 에틸 라디칼을 나타내지 않음].
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 세라미드-형 화합물이 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
    - 2-(N-리놀레오일아미노)-1,3-옥타데칸디올,
    - 2-(N-올레오일아미노)-1,3-옥타데칸디올,
    - 2-(N-팔미토일아미노)-1,3-옥타데칸디올,
    - 2-(N-스테아로일아미노)-1,3-옥타데칸디올,
    - 2-(N-베헤노일아미노)-1,3-옥타데칸디올,
    - 2-[N-(2-히드록시팔미토일)아미노]-1,3-옥타데칸디올,
    - 2-(N-스테아로일아미노)-1,3,4-옥타데칸트리올,
    - 2-(N-팔미토일아미노)-1,3-헥사데칸디올, 또는
    상기 화합물들의 혼합물.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 세라미드-형 화합물이 비스(N-히드록시에틸-N-세틸)말론아미드, 세틸산 N-(2-히드록시에틸)-N-(3-세틸록시-2-히드록시프로필)아미드 또는 N-도코사노일-N-메틸-D-글루카민으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 세라미드-형 화합물(들)이 조성물의 총 중량에 대해 0.0001 내지 20 중량%, 바람직하게는 0.001 내지 10 중량%, 더 바람직하게는 0.005 내지 3 중량% 사이의 범위의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 왁스가 탄소수 40 내지 65 의 탄소 사슬 80 % 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 왁스가 조성물의 총 중량에 대해 0.0001 내지 20 중량%, 바람직하게는 0.001 내지 10 중량%, 더 바람직하게는 0.005 내지 3 중량% 사이의 범위의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 음이온성, 양이온성, 비이온성 또는 양쪽성 계면활성제, 또는 그의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 계면활성제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제 8 항에 있어서, 계면활성제(들)이 조성물의 총 중량에 대해 0.1 내지 60 중량% 사이, 바람직하게는 3 내지 40 중량% 사이, 훨씬 더 바람직하게는 5 내지 30 중량% 사이의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 화장적으로 허용가능한 매질이 물, 또는 물 및 하나 이상의 화장적으로 허용가능한 용매의 혼합물로 구성되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제 10 항에 있어서, 화장적으로 허용가능한 용매가 모노알콜, 폴리알콜, 글리콜 에테르 및 그의 혼합물로 구성되는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 젤, 밀크, 로션, 스틱, 크림, 분산물, 증점 로션 또는 무스의 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서, 헤어 스타일링(styling), 헤어스타일의 유지 또는 모발 성형을 위한 제품인 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 스프레이, 랙커 또는 무스를 얻기 위해 기화기, 펌프 디스펜서 또는 에어로졸 용기의 형태로 포장되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서, 증점제, 향료, 진주광택제, 방부제, 선스크린, 음이온성 또는 비이온성 또는 양이온성 또는 양쪽성 중합체, 단백질, 단백질 가수분해물, 18-메틸에이코사노산과 같은 직쇄 또는 분지쇄 C16-C40지방산, 히드록시산, 비타민, 판테놀 또는 지방 에스테르로부터 선택되는 하나 이상의 첨가제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서, 샴푸, 컨디셔너, 모발의 웨이브 퍼머, 스트레이트(straightening), 염색 또는 탈색용 조성물, 웨이브 퍼머 또는 모발 스트레이트의 두 단계 사이에 적용되는 헹굼-제거 조성물, 또는 피부 세정 조성물의 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  17. 모발과 같은 케라틴성 물질의 세정을 위한 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 정의된 조성물의 용도.
  18. 모발과 같은 케라틴성 물질의 처리 방법으로서, 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 따른 화장 조성물을 상기 물질에 적용하고, 이어서 임의로 물로 헹구는 것으로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  19. 물리적 또는 화학적 공격으로부터 케라틴성 물질, 특히 모발을 보호하기 위한 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 따라 정의된 조성물의 용도.
  20. 송풍 건조 동안 모발을 보호하기 위한 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 따라 정의된 조성물의 용도.
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