KR20010080110A - 고무 조성물에서 충전재로서, 알루미늄히드록시카보네이트, 히드록시옥시카보네이트 또는옥시카보네이트의 용도 - Google Patents
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Abstract
본발명은 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트, 히드록시옥시카보네이트 또는 옥시카보네이트로 구성되는 하나 이상의 화합물을 포함하며, 고무 조성물에서 사용되는 충전재 및 상기 화합물로서 적어도 부분적으로 형성되는것을 특징으로하는 하나 이상의 충전재를 포함하는 하나 이상의 엘라스토머기지 고무 조성물을 제공한다.
Description
본 발명은 고무 조성물에서, 무정형의 알루미늄 히드록시카보네이트, 히드록시옥시카보네이트 또는 옥시카보네이트의 충전재로서의 용도에 관한 것이다. 또한 그렇게 수득된 고무 조성물에 관한것이다.
결국, 또한 이러한 조성물 기재 최종 물품 및 특히 타이어 커버에 관한 것이다. 예를 들어, 엘라스토머(elastomer)에 침전된 실리카 또는 알루미나와 같은 강화 백색 충전재를 사용하는 것이 알려져 있다. 그러나, 그 결과가 언제나 기대하는 바는 아니었다.
본 발명의 목적은 고무 조성물에 사용하는, 하기 특성을 고려할때 충분히 만족시켜주는, 충전재를 제공하는것이다. 즉, 바람직하게:
-경화를 위해서, 알루미나에의해 제공되는것보다 월등히 뛰어나며 고도로 분산가능한 침전 실리카와 동등할 정도로 탁월한 적합성 및 아주 좋은 유동적 특성,
- 특별히 놀라운 동적인 특성, 특히 이 조성물 기재 타이어에 회전에 대한 낮은 저항성을 야기하는, 낮은 진폭에서 파인(Payne) 효과 및/또는 이 조성물 기재 타이어에 향상된 접착력을 야기하는, 0℃에서 매우 높은 탄젠트(tanget),
- 율(modulus)관점에서 좋은 강화,
- 열 노화 및 UV(자외선) 노화에 상당히 높은 저항성.
이 목적으로, 본 발명의 주된 문제는 고무 조성물에서 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트, 또는 무정형 알루미늄 히드록시옥시카보네이트, 또는 무정형 알루미늄 옥시카보네이트로 구성되는, 적어도 하나의 화합물(A)의 충전재로서 사용이다.
더욱 특히, 상기 히드록시카보네이트, 히드록시옥시카보네이트 또는 옥시 카보네이트는 알루미늄 몰당 0.01 이상, 특히 0.04 몰 이상의 탄산염을 포함한다; 이것은 알루미늄 몰당 0.1 몰 이상의 탄산염을 포함할 수 있다. 일반적으로, 이것의 탄산염/알루미늄 몰비는 0.25 이하, 특히 0.2 이하이다.
히드록시카보네이트, 히드록시옥시카보네이트 또는 옥시 카보네이트에 존재하고, 적외선 분광기로 검출될수 있는 탄산염은 대개 공유(covalent)이다.
화합물(A)는 일반적으로 40 내지 150 ㎡/g, 특히 45 내지 95 ㎡/g의 BET 비 표면적을 갖는다; 이것은 50 내지 75 ㎡/g 일수 있다. BET 표면적은 NF 기준 T 45007 (1987년 11월)에 부합하는, " Journal of the American Chemical Society", (1938 2월) Vol. 60, 309 페이지에 설명된 Brunauer-Emmet-Teller 방법에 따라 측정된다.
이 화합물(A)는 바람직하게는 낮은 비율의 반응 표면 Al-OH 반응기를 보인다.
본발명의 형태중 몇몇이 선호되나 제한 되지 않는 본 발명의 선택적인 형태들이 이하에서 설명된다.
본 발명의 첫번째 선택적인 형태에 따라, 사용되어지는 화합물(A)는 아래의 화학식(I)에 일치하는 무정형의 알루미늄 히드록시카보네이트이다.
식에서,
0.5 ≤x ≤ 3, 예를 들면 1 ≤x ≤ 3
0.01 ≤y ≤ 0.25, 예를 들면 0.04 ≤y ≤ 0.25, 특히 0.1 ≤y ≤ 0.25
z ≤ 1.5, 예를 들면 z ≤ 1
상기식 (I) 에서, y는 0.2 이하이다.
특히 본 발명의 이 선택적인 형태의 정황에서, 화합물(A)는 바람직하게는 다음의 특징을 갖는다: 150 내지 700℃ 사이의 어떤 온도에서 2시간 동안 하소반응(공기하에서)된후나, 600℃ 에서 가스 흐름(gas stream)을 이용하여, 이 가스와 화합물의 접촉시간을 1 내지 2 초 로하여 빠른 탈수반응으로 구성되는 처리를 한후에 무정형(X-선 회절 스펙트럼이 평평한 채로 남아있는)으로 남아있는다.
본 발명의 이 선택적인 형태에서, 화합물(A)는 일반적으로 ,예를 들어 15 내지 25 nm의 크기를 갖는 충분히 구형이며, 다공성이거나 다공성이 아닌 개별적인 입자의 집합체로 형성되어 있다.
본 발명의 두번째 선택적인 형태에 의하면, 사용되어지는 화합물 (A)는 150내지 700℃ 사이, 특히 180 내지 650℃ 사이의 어떤 온도에서 무정형의 알루미늄 히드록시카보네이트(출발 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트로 공지된)를 특히 1 내지 3시간, 예를 들면 2시간 동안 특히 공기하에서 하소반응시킴으로써 얻어진다.
이 선택적인 형태에서, 시작하는 무정형의 알루미늄 히드록시카보네이트는 바람직하게는 다음의 특성을 갖는다: 600℃ 에서 가스 흐름을 이용하여, 이 가스와 화합물의 접촉시간을 1 내지 2 초로하는 빠른 탈수반응으로 구성되는 처리를 거친후에 무정형으로 남아있는다.
본발명의 세번째 선택적인 형태에 의하면, 사용되어지는 화합물 (A)는 500내지 700℃ 사이, 특히 600℃ 같은 온도에서 가스 흐름을 이용하여, 무정형의 알루미늄 히드록시카보네이트(출발 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트로 공지된)를 이 가스와 출발 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트의 접촉시간을 몇분의 일초 내지 4초, 특히 1 내지 2 초로하는 빠른 탈수반응에 의해 얻어진다.
이 선택적인 형태에서, 시작하는 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트는 바람직하게는 다음의 특성을 지닌다: 150 내지 700℃ 사이의 어떤온도에서 2시간동안 하소반응(공기하에서)후에 무정형으로 남아있는다.
특히 본발명의 두번째 및 세번째 선택적인 형태에서, 사용되어진 화합물(A)는 유리하게 높은 분산성을 나타낸다. 이 분산성은 초음파 분쇄(deagglomeration)후에 아래에 설명되는 시험에따라 수행되는 미분(fines) (τf) 수준, 0.3 ㎛ 미만 크기 입자의 중량 비율의 측정을 이용하여 분석된다.
이 시험에서, 화합물의 분산 능력은 화합물의 서스펜션(처리전에 초음파에의해 미리 분쇄된)시 수행되는 입자 크기 측정(침강에 의한)에의해 측정된다. 초음파하에서 분쇄(또는 분산)은 12 mm의 직경을 갖는 탐침을 갖는 브란손(Branson) OSI 소니피어(sonifier) (450W)를 이용하여 수행된다. 입자 크기 측정은 세디그래프(SediGraph) 입자 측정기( X-선의 빔으로 + 주사(scanning)의 중력장에서 침강시킴)을 이용하여 수행된다.
화합물(A)를 75ml 의 부피를 갖는 샘플 튜브에 4 그램 무게 달아 놓고, 1g/l 의 소듐 헥사메타포스페이트(hexametaphosphate)용액의 첨가로 50 그램을 만든다: 화합물(A)의 8% 를 포함하는 수성 서스펜션은 이렇게 제조되며, 이는 마그네틱 교반(stirring)으로 2분간 균질화 시킨다. 초음파 하에서 분쇄(분산)은 그후 아래와 같이 수행된다: 탐침을 4 cm 길이이상 담근후에, 파워 침의 편향이 20% 를 나타내게 출력 파워를 조절한다. 분쇄는 180 초 동안 수행된다.
입자 크기 측정은 그후에 세디그래프(SediGraph) 입자 측정기를 이용하여 수행된다. 이를 위해, X-선의 빔에 의한 셀(cell)의 주사의 수직율이 처음에 분석된 최고 크기 63㎛ 에 해당하는 946으로 조절한다. 탈염수(deionized water)는 상기 셀에서 회전하고, 종이 레코더의 전기적 영점 및 기계적 영점을 조절한다(이 조절은 최고 민감도에서 레코더의 "100%"의 전위차계(potentiometer)로 수행된다). 종이 레코더의 펜은 85 ㎛ 의 출발 크기를 나타내는 점에 위치시킨다. 분쇄된 화합물(A)의 서스펜션(임의로 전에 냉각된)은 그후에 세디그래프(SediGraph) 입자 측정기의 셀에서 순환되고(입자 크기 분석은 30℃ 에서 수행된다), 그후 분석을 시작한다. 그 분석은 0.3㎛ 의 크기에 도달하면( 대개 45분후) 곧 자동으로 정지시킨다. 미분(fines) (τf) 수준, 즉 0.3㎛미만 크기 입자의 중량비율이 그후 계산된다.
미분(fines) (τf) 수준 또는 0.3㎛미만 크기 입자의 수준은, 화합물이 분산성에서 증가함에 따라 증가한다.
특히 본발명의 두번째 및 세번째 선택적인 형태에서, 사용되어진 화합물(A)은 80% 이상, 특히 90% 이상, 대단히 높게는 95% 이상의 미분(fines) (τf) 수준을 나타낸다.
본 발명의 두번째 및 세번째 선택적인 형태에서, 시작하는 무정형의 알루미늄 히드록시카보네이트는 바람직하게는 알루미늄 1 몰당 0.01 이상, 특히 0.04 몰이상의 탄산염을 포함한다; 이는 알루미늄 1 몰당 0.1 몰이상의 탄산염을 포함할수 있다. 일반적으로, 그 탄산염/알루미늄 몰비는 0.25 이하, 특히 0.2 이하 이다.
이 시작하는 무정형의 알루미늄 히드록시카보네이트에 존재하고, 적외선 분광기에 의해 검출되는 탄산염은 대개 공유(covalent)이다.
이 시작하는 무정형의 알루미늄 히드록시카보네이트는 일반적으로 40 내지 150 ㎡/g, 특히 45 내지 95㎡/g 의 BET 비 표면적을 갖는다; 이것은 50 내지 75㎡/g일수 있다.
이것은 일반적으로, 예를 들어 15 내지 25 nm의 크기를 갖는 충분히 구형이며, 다공성이거나 다공성이 아닌 개별적인 입자의 집합체로 형성된다.
이것은 바람직하게는 낮은 비율의 반응 표면 Al-OH 기능기를 갖는다.
마찬가지로, 시작하는 무정형의 알루미늄 히드록시카보네이트는 바람직하게는 아래의 화학식(I)에 대응한다.
[화학식 I]
Al(OH)X(CO3)yㆍzH2O
식에서,
0.5 ≤x ≤ 3, 예를 들면 1 ≤x ≤ 3
0.01 ≤y ≤ 0.25, 예를 들면 0.04 ≤y ≤ 0.25, 특히 0.1 ≤y ≤ 0.25
z ≤ 1.5, 예를 들면 z ≤ 1
상기식 (I) 에서, y는 0.2 이하이다.
본 발명의 두번째 및 세번째 선택적인 형태에서, 출발 무정형의 알루미늄 히드록시카보네이트는(특히 위에서 언급한 화학식 (I) 에 대응하는) 다음 과정을 거쳐서 준비될수있다.
침전 반응은 이산화탄소 (CO2) 포함하는 가스 혼합물을 반응 챔버에 포함된 알칼리 금속 알루미늄산염, 특히 알루미늄산 나트륨의 서스펜션에 투입하는것으로 수행된다. 특히 이 알루미늄산 나트륨 서스펜션은 10 내지 150 g/l, 특히 20 내지 100g/l 의 Al2O3로 표시되는 농도를 나타낼수있다; 예를 들면 이농도는 40 내지 70 g/l이다.
이것은 일반적으로 1 내지 2, 바람직하게는 1.15 내지 1.75 의 Na2O/Al2O3몰비를 갖는다. 이것의 pH는 변화할수 있는데, 예를 들면 11 내지 13.5, 특히 12 내지 13 사이이다.
이 출발 반응 온도는, 즉 가스 혼합물의 도입 시작에서의 알루미늄산염 서스펜션의 온도, 일반적으로 15℃ 이하로 맞춘다; 예를 들면 5 내지 15℃ 이다.
반응은 일반적으로 교반으로 수행된다.
반응 챔버 속으로 도입된 가스혼합물은 바람직하게는 이산화탄소 가스외에 공기를 포함한다. 이 가스 혼합물은 그때 20 내지 50 %, 특히 30 내지 40 %의 이산화탄소 가스 부피 및 50 내지 80 %, 특히 60 내지 70 %의 공기 부피를 포함할수있다.
반응 챔버내의 압력은 반응중에 바람직하게는 1.3 내지 3.5 바(bar), 예를 들면 1.7 내지 2.5 바를 유지한다.
최후 반응 온도는 일반적으로 25℃ 이하 이어야 한다; 예를 들면 10 내지 25 ℃이다. 탄산염화중에 반응 챔버의 냉각을 유지시키는것이 바람직하다.
반응(탄산염화)의 지속기간은 10 내지 60 분, 예를 들면 10 내지 30 분일수있다.
반응의 마지막에서 반응 배지의 pH는 일반적으로 9.5 내지 10.5 이다.
pH와 온도의 조절은 의도하지 않은 상(phase), 다소니트(dawsonite)의 형성을 억제할 수있게 한다.
얻어진 침전물은 그후 대개 예를 들면 물로서 여과하고, 선택적으로 세척한다. 여기서, 여과수단이 어떤 타입이든지, 필터 압력이 유리하게 사용된다.
추득된 산물은 그후 임의적으로 다시 서스펜션시킨후에(또는 재슬러리), 바람직하게는 예를 들어 400 내지 500 ℃의 온도 및 예를 들어 100 내지 135 ℃의 온도에서 특히 APV 타입의 분무기를 사용하여 품어 내어 건조시킨다.
수득된 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트는 그 덩어리들/집합체들( agglomerates/aggregates)를 "부수기"위해서 알려진 적당한 도구를 통해 마지막으로 분쇄 과정을 거친다.
무정형 알루미늄 히드록시카보네이트 또는 옥시카보네이트가 충전재( 특히 강화 충전재로서)로서 사용된 고무 조성물은 일반적으로 하나 또는 그 이상의 엘라스토머(elastomer)를 기재로하고 있다.
적당한 엘라스토머중에서 -150 내지 + 20℃의 유리 전이 온도를 나타내는 엘라스토머가 좀더 특히 언급될 수있다.
가능한 엘라스토머로서 특히 디엔 엘라스토머가 언급될수 있다.
예를 들어, 적어도 하나의 불포화된 것(특히, 에틸렌, 프로필렌, 부타디엔, 이소프렌, 스티렌등과 같은), 폴리(부틸 아크릴레이트), 또는 그들의 배합물를 포함하는 지방성 또는 방향족 모노머에서 유도되는 천연고무, 중합체 또는 공중합체가 언급될 수 있다. 실리콘 엘라스토머 및 할로겐화된 엘라스토머가 언급될 수있다.
상기 언급한 고무 조성물에 존재하는 충전재는 중량상 적어도 부분적으로,특히 압도적으로 무정형의 알루미늄 히드록시카보네이트, 히드록시옥시카보네이트 또는 옥시카보네이트로 구성되는 화합물 (A) 으로 구성된다. 침전된 실리카, 특히 높게 분산가능한 화합물 같은 또다른 화합물이 임의적으로 충전재로 사용될 수 있으나 대개 중량상 화합물 (A) 에 비해 작은 비율이다.
이 조성물은 바람직하게는 침전된 실리카를 충전재로서 포함하지 않는 것이고, 또는 충전재가 완전히 화합물 (A) 로 구성되는 것이다.
이 고무조성물은 일반적으로 적어도 하나의 커플링제(coupling agent) 및/또는 적어도 하나의 코팅제를 추가적으로 포함한다.
본 발명은 또한 상기 고무 조성물기재 완성된 물품에도 관련이 있다. 완성된 물품으로서 타이어 커버, 특히 타이어의 월(walls) 및 트레드(treads), 구두의 밑창 등이 언급될수 있다.
아래의 실시예는 본발명의 범위를 제한함 없이 본 발명을 설명한다.
실시예 1
압력하에서 작동될수 있는 가스/ 액체 전이를 위해 적당한 교반 수단, 즉 루스톤(Rushton) 터빈(요구되어지는 방산 출력(dissipated power)이 약 4kW/m3인)이 장착되고, 자켓을 갖고있는, 100 리터의 부피를 갖는 반응기가 이용된다.
Al2O3으로 표현했을때, 290 g/l 의 농도를 갖고, Na2O/Al2O3몰비가 1.45 인 알루미늄산 나트륨 용액 17.8 리터를 반응기에 도입한다. 반응 부피는 그후탈염수로 100 리터로 만든다. 얻어진 서스펜션의 pH는 12 보다 크다.
이 서스펜션은 자켓에의해 냉각된다; 그래서 그 온도는 10℃ 로 내려온다.
다음 조성을 갖는 가스 혼합물은
Q (CO2) 10 Sm3/h
Q (공기) 18.6 Sm3/h
그후 루스톤 터빈하에서 반응기로 도입된다.
반응기내의 압력은 2 바 로 유지된다.
반응(탄산염화작용)은 대략 15 분간 지속된다.
냉각은 반응 기간동안 자켓에서 유지된다. 반응혼합물의 최후 온도는 대략 20℃ 가 된다.
반응의 종결은 특히 pH 탐침을 이용하여 모니터될수 있다. 반응 혼합물의 최후 pH는 10 이다.
형성된 침전물은 그후 필터 압력을 이용하여 여과되고, 탈염수로 씻어낸다. 씻을때 사용되는 물의 양은 건조 고체(Al2O3로 표현되는) kg당 대략 67 ℓ이다.
최종적으로, 수득된 산물은 탈염수속에서 다시 현탁한 후에 입구 온도 450 ℃ 및 출구 온도 125 ℃ 인 APV 분무기를 이용하여 뿌림으로써 건조된다.
이렇게 제조된 산물은 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트이다: 이것의 X-선 회절 스펙트럼은 평평하다.
이 산물은 공기하에서, 200℃, 400℃ 및 600℃ 에서 2 시간동안 하소반응 후에 무정형으로 남는다; 이것은 또한 600℃ 에서 가스 흐름을 사용하여 이 산물과 가스의 접촉시간을 1 내지 2 초로하는 빠른 탈수 과정후에도 또한 무정형으로 남는다.
적외선 분광기에 의해 검출된 이 산물에 존재하는 탄산염은 공유이다. 이 산물은 알루미늄의 몰당 0.1 몰의 탄산염을 포함한다.
초음파 분쇄공정후에 25 중량 % 의 미분(fines) (τf) 수준을 갖는다.
이것의 BET 비 표면적은 90m2/g 이다.
실시예 2
실시예 1에서 제조된 알루미늄 히드록시카보네이트는 200℃ 에서 2 시간동안 공기하에서 하소반응된다.
그후 AHC1 로 일컬어지는, 수득된 화합물은 무정형이다.
적외선 분광기에 의해 검출된, 이 화합물에 존재하는 탄산염은 천연적으로 공유이다. 화합물 AHC1은 알루미늄 1 몰당 0.09 몰의 탄산염을 포함한다.
이것의 입자 크기(Malvern)은 5.0㎛ 이다.
초음파 분쇄공정후에 94 중량 %의 미분(fines) (τf) 수준을 갖는다.
이것의 BET 비 표면적은 75m2/g 이다.
실시예 3
실시예 2에서 제조된, AHC1로 일컬어지는 히드록시옥시카보네이트는 덩어리/집합체를 분수기위해 공기 제트 분쇄기를 이용하는 분쇄 공정을 수행한다.
수득된 무정형의 화합물은 AHC2 로 일컬어진다.
적외선 분광기에 의해 검출된, 이화합물에 존재하는 탄산염은 천연적으로 공유이다. 화합물 AHC2은 알루미늄 1 몰당 0.09 몰의 탄산염을 포함한다.
이것의 입자 크기(Malvern)은 1.25㎛ 이다.
초음파 분쇄공정후에 94 중량 %의 미분(fines) (τf) 수준을 갖는다.
이것의 BET 비 표면적은 75m2/g 이다.
실시예 4
실시예 1에서 제조된 알루미늄 히드록시카보네이트는 600℃ 에서 2 시간동안 공기하에서 하소반응된다. 이것은 그후 덩어리/집합체를 분수기위해 공기 제트 분쇄기를 이용하는 분쇄 공정을 수행한다
얻어진 무정형의 화합물은 AHC3로 일컬어진다.
적외선 분광기에 의해 검출된 이화합물에 존재하는 탄산염은 천연적으로 공유이다. 화합물 AHC3 은 알루미늄 1 몰당 0.05 몰의 탄산염을 포함한다.
이것의 입자 크기(Malvern)은 0.95㎛ 이다.
초음파 분쇄공정후에 95 중량 %의 미분(fines) (τf) 수준을 갖는다.
이것의 BET 비 표면적은 58m2/g 이다.
실시예 5
다음의 공업적인 고무 제재가 제조된다(표 1: 조성물(중량부)).
조성물 R | 조성물 1 | |
SBR(1) | 100 | 100 |
SiO2충전재(2) | 50 | 0 |
AHC1 충전재 | 0 | 70 |
Si69 실란(3) | 4 | 4 |
디페닐 구아니딘(diphenylguanidine) | 1.45 | 1.45 |
스테아르산(Stearic acid) | 2.5 | 2.5 |
아연 산화물(zinc oxide) | 2.5 | 2.5 |
산화 방지제(4) | 1.45 | 1.45 |
술펜아미드(5)(sulfenamide) | 2 | 2 |
황 | 1 | 1 |
(1) 오일 27.3% 를 포함하는 용액(Buna VSL 5525-0 타입)에서 합성된 스티렌-부타디엔 공중합체
(2) EP-A-0 520 862의 실시예 12 의 침전된 실리카에의해 형성된 충전재
(3)충전재/고무 커플링제 (Degussa에 의해 시판되는)
(4) N-(1,3-디메틸부틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민
(5) N-시클로헥실-2-벤조티아질레술펜아미드(benzothiazylesulfenamide)
조성물은, 1 리터의 부피의 내부 혼합기(Banbury 타입)에서 엘라스토머를 열/ 기계적으로 작업하고, 두번째 단계에서, 분당 80 회전의 칼날 속도를 갖는 장치로 160℃ 의 온도가 얻어질때까지 작업하고, 외부 혼합기에서 수행되는 마지막 단계를 거쳐서 수득된다.
이 제재의 경화는 상응하는 혼합물의 경화의 역학에 적합하다.
조성물의 특성, 실시예 6 의 아래의 조성물의 경우에서, 다음의 기준 및/또는 방법에 따라 수행되어진 측정값(경화된 제재위에서)은 이하에 나타나있다.
유동학적 및 경화 특성
- 무니(Mooney) 일관성: NF 기준 T 43005( 무니 점성도계를 사용하여 100℃에서 무니 보드(Mooney board)(1+4)의 측정).
-경화: NF 기준 T 43015.
몬산토(Monsato) 100 S 유량계가 특히 미니(mini)의 토크(Cmin) 및 맥시(maxi)의 토크(Cmin)를 측정할때 사용된다.
Ts2 는 혼합의 조절이 가능한 동안의 시간에 대응한다; 고무 혼합물은 Ts2 (경화의 시작)에서 경화한다.
T90 은 경화의 90% 가 수행된 마지막 부분의 시간에 상응한다.
기계적 특성
- 장력(계수(moduli)): NF 기준 T 46002
계수 x% 는 장력하에서 x% 의 변형에서 측정된 스트레스에 대응한다.
-쇼아 A 경도: ASTM 기준 D2240
고려된 값은 힘의 적용 후 15초 에 측정된 것이다.
역학적 특성
-파인(payne) 효과:
실제 (G') 및 가상 (G") 계수 및 G'에 대한 G"의 비율로 정의 되는 상실 각의 탄젠트 (tan δ)는 기계적 분광계 장치( Metravib RDS 에서 나온 점성 분석기 VA2000)에서 변형의 차이로 측정되었다.
시험의 조건은 아래와 같다:
시험 견본은 모양이 평행 육면체( 대략 길이 6mm, 넓이 4mm, 두께 2.5mm)이다. 증가하는 진폭의 사인 곡선의 변형은 5Hz 의 일정한 진동수에 적용된다. G', G" 및 tan δ는 변형의 각 정도에서 평가된다. 다음부터는, △G'는 0.001 의 강성 조건 하에서 변형에서 측정된 계수 G' 와 1 의 강성조건하에서 변형에서 측정된 G' 사이의 차이를 나타내고, tan δmax 는 변형의 작용으로 상실각의 탄젠트의 최대를 나타낸다.
- 온도 역학의 (주사(scanning)):
실제 (E') 및 가상의 (E") 계수 및 E" 의 E' 에 대한 비율로 정의 되는 상실각의 탄젠트(tan δ)가 기계적 분광계 장치(Metravib RDS) 에서 나온 점성 분석기 VA2000)에서 온도의 차이로 측정되었다.
시험의 조건은 다음과 같다:
시험 견본은 모양이 평행 육면체( 대략 길이 10mm, 넓이 6mm, 두께 2.5mm)이다. 10 마이크론의 일정한 진폭을 갖는 사인 곡선의 변형은 10Hz 의 일정한 진동수에 적용된다. E', E" 및 tan δ는 온도의 작용으로 평가된다. 온도 주사율은 0.5℃/분 이다. 이하에서, tan δ max (T)는 온도의 함수로서 상실각의 탄젠트의 최대에 상응한다.
-온도 노화 및 UV 방사 노화에 대한 저항:
열 노화에 대한 저항은 60℃ 의 온도의 오븐에서 일주일을 보낸 시료에서 장력하에서 평가된다.
UV-A 노화에 대한 저항은 60℃ 의 온도에서 콘 아틀라스(Con Atlas) UV 장치에서 100 시간을 보낸 시료에서 장력하에서 평가된다.
이 두경우에서, 결과는 분기점에서 장력 및 변형으로 표현되고, 노화 전의 장력 및 변형의 값으로 표준화 된다.
조성물 R | 조성물 1 | |
무니(Mooney) 일관성 | 56 | 67 |
경화 | ||
Cmin(In.lb) | 11.4 | 13 |
Ts2(min) | 9 | 7 |
T90 (min) | 34 | 25 |
Cmax(In.lb) | 64 | 68 |
기계적 | ||
계수 100%(MPa) | 2.2 | 3.5 |
계수 300%(MPa) | 12.9 | 13.3 |
동적(파인(Payne)효과) | ||
△G'(MPa) | 1.15 | 0.52 |
tan δmax | 0.36 | 0.28 |
노화 | 조성물 R | 조성물 1 |
파단시 변형 | ||
초기 | 100 | 100 |
열 | 95 | 125 |
UV | 69 | 103 |
장력 | ||
초기 | 100 | 100 |
열 | 104 | 104 |
UV | 68 | 84 |
발명에 따른 조성물1 이 참고 조성물(조성물 R)에 대하여, 충분히 만족시켜주는 특성들을 나타내는것이 보여진다.
참고 조성물과 필적할만한 무니(Mooney) 점성도 및 경화의 역학을 가지면서,조성물 1 이 계수의 관점에서 더욱 명백한 강도를 나타낸다. 계수에서 진폭의 내림에서 날카로운 떨어짐(파인(Payne) 효과)가 화합물1에서 관찰된다. 이는 변형의 함수로서 탄젠트 δ의 최대값에서 강하에의해 또한 나타난다.
조성물 1은 참고 조성물보다 추가적으로 열 노화 및 UV 노화에서 훌륭한 저항을 제공한다.
실시예 6
아래의 공업적 고무 제재가 준비된다.( 표 4: 조성물(중량부))
조성물 R | 조성물 2 | 조성물 3 | |
SBR(1) | 100 | 100 | 100 |
SiO2충전재(2) | 50 | 0 | 0 |
AHC2 충전재 | 0 | 70 | 0 |
AHC3 충전재 | 0 | 0 | 70 |
Si69 실란(3) | 4 | 4 | 4 |
디페닐구아니딘(Diphenylguanidine) | 1.45 | 1.45 | 1.45 |
스테아르산 | 2.5 | 2.5 | 2.5 |
아연 산화물 | 2.5 | 2.5 | 2.5 |
산화방지제(4) | 1.45 | 1.45 | 1.45 |
술펜아미드(5)(sulfenamide) | 2 | 2 | 2 |
황 | 1 | 1 | 1 |
(1) 오일 27.3% 를 포함하는 용액(Buna VSL 5525-0 타입)에서 합성된 스티렌-부타디엔 공중합체
(2) EP-A-0 520 862 의 실시예 12 의 침전된 실리카에의해 형성된 충전재
(3)충전재/고무 커플링제 (Degussa에 의해 판매되는)
(4) N-(1,3-디메틸부틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민
(5) N-시클로헥실-2-벤조티아질레술펜아미드(benzothiazylesulfenamide)
조성물은, 1 리터의 부피의 내부 혼합기(Banbury 타입)에서 엘라스토머를 열/ 기계적으로 작업하고, 두번째 단계에서, 분당 80 회전의 칼날 속도를 갖는 장치로 160℃ 의 온도가 얻어질때까지 작업하고, 외부 혼합기에서 수행되는 마지막 단계를 거쳐서 얻어진다.
이 제재의 경화는 상응하는 혼합물의 경화의 역학에 적합하다.
조성물의 특성, 실시예 5 에서 설명된 기준 및/또는 방법에 따라 수행되어진 측정값(경화된 제재위에서)은 이하에 나타나있다.
조성물 R | 조성물 2 | 조성물 3 | |
무니(Mooney) 일관성 | 56 | 50 | 61.5 |
경화 | |||
Cmin (In.lb) | 11.4 | 8.6 | 10.4 |
Ts2 (min) | 9 | 7 | 6.4 |
T90 (min) | 34 | 27.3 | 29.3 |
Cmax (In.lb) | 64 | 65.2 | 66.2 |
기계적 | |||
계수 10% (MPa) | 0.41 | 0.34 | 0.39 |
계수 100% (MPa) | 2.2 | 2.3 | 3.0 |
계수 300% (MPa) | 12.9 | 9.9 | 4.6 |
동적(파인(Payne)효과) | |||
△G' (MPa) | 1.15 | 0.67 | 0.68 |
tan δ max | 0.36 | 0.27 | 0.26 |
Temp. dynamic | |||
tan δmax (T) | 0.67 | 1.80 | 1.67 |
노화 | 조성물 R | 조성물 2 | 조성물 3 |
파단시 변형 | |||
초기 | 100 | 100 | 100 |
온도 | 95 | 87 | 87 |
UV | 69 | 90 | 90 |
장력 | |||
초기 | 100 | 100 | 100 |
온도 | 104 | 104 | 105 |
UV | 68 | 101 | 101 |
마찬가지로, 발명에 따른 조성물 2 및 3 이 참고 조성물(조성물 R)에 대하여, 충분히 만족시켜주는 특성들을 나타내는것이 보여진다.
참고 조성물과 필적할 만한 무니(Mooney) 점성도 및 경화의 역학을 가지면서, 조성물 1 이 계수의 관점에서 더욱 명백한 강도를 나타낸다. 계수에서 진폭의 내림에서 날카로운 떨어짐( 파인(Payne) 효과)가 화합물 2 및 3 에서 관찰된다.
이는 변형의 작용으로써 탄젠트 δ의 최대값에서 강하에 의해 또한 나타난다. 이렇게, 파인효과 및 에너지 소실은 참고 조성물에 대해서 본 발명에 따른 조성물에서 더 낮다.
게다가, 약 0 ℃ 에서 조성물 2 및 3 에서 매우 놀라운 동적 특성이 관찰된다.
이것은 T = 0℃ 에 위치하는 탄젠트 δ (T) 의 최대가 참고조성물에 보다 조성물 2 및 3에서 2 내지 3 배 높기때문이다.
결국, 조성물 2 및 3 은 참고 조성물에 필적할만한, 또는 오히려 더 훌륭한 열 노화 및 UV 노화에서 훌륭한 저항을 제공한다.
Claims (39)
- 고무 조성물에서 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트, 히드록시옥시카보네이트 또는 옥시카보네이트로 구성되는, 하나 이상의 화합물의 충전재로서의 용도.
- 제 1 항에 있어서, 상기 히드록시카보네이트, 히드록시옥시카보네이트 또는 옥시카보네이트가 알루미늄 1 몰당 0.01 이상, 특히 0.04 몰 이상의 탄산염을 포함하는 것을 특징으로하는 충전재의 용도.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 히드록시카보네이트, 히드록시옥시카보네이트 또는 옥시카보네이트가 알루미늄 1몰당 0.1 몰 이상의 탄산염을 포함하는것을 특징으로하는 충전재.
- 제 1 항 내지 3 항중 어느 한 항에 있어서, 히드록시카보네이트, 히드록시옥시카보네이트 또는 옥시카보네이트에 존재하는 탄산염이 천연적으로 공유(covalent)임을 특징으로 하는 충전재의 용도.
- 제 1 항 내지 4 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 화합물이 40 내지 150 ㎡/g 의 BET 비 표면적을 갖는 것을 특징으로 하는 충전재의 용도.
- 제 1 항 내지 5 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 화합물이 초음파 분쇄(deagglomeration)후에 80% 이상, 특히 90% 이상의 미분(fines) (τf) 수준을 나타냄을 특징으로하는 충전재의 용도.
- 제 1 항 내지 6 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 화합물이 하기 화학식에 상응하는 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트임을 특징으로하는 충전재의 용도( Al(OH)X(CO3)yㆍzH2O(식에서,0.5 ≤x ≤ 30.01 ≤y ≤ 0.25z ≤ 1.5)).
- 제 1 항 내지 7 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 화합물이 150 내지 700 ℃ 에서 2 시간 동안 하소반응 후에 무정형으로 남아있는 것을 특징으로하는 충전재의 용도.
- 제 1 항 내지 8 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 화합물이 600℃ 에서 가스 흐름을 사용하여 그 화합물과 가스의 접촉시간을 1 내지 2 초 로하는 빠른 탈수 과정으로 구성되는 처리과정후에 무정형으로 남아있는 것을 특징으로하는 충전재의용도.
- 제 1 항 내지 6 항중 어느 한 항에 있어서, 상기화합물이 알루미늄 히드록시카보네이트를 150 내지 700 ℃ 에서, 특히 1 내지 3 시간 동안 하소반응시킴으로 발생한 것임을 특징으로하는 충전재의 용도.
- 제 10 항에 있어서, 상기의 출발 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트가 600℃ 에서 가스 흐름을 사용하여 그 화합물과 가스의 접촉시간을 1 내지 2 초로하는 빠른 탈수 과정으로 구성되는 처리과정후에 무정형으로 남아있는 것을 특징으로하는 충전재의 용도.
- 제 1 항 내지 6 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 화합물이 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트를 500 내지 700 ℃, 특히 600℃ 에서 가스 흐름을 사용하여 그 히드록시카보네이트와 가스의 접촉시간을 1 초의 몇분의 일 내지 4 초, 특히 1 내지 2 초로하는 빠른 탈수 과정의 결과로 발생된것임을 특징으로하는 충전재의 용도.
- 제 12 항에 있어서, 상기의 출발 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트가 150 내지 700 ℃ 사이에서 2 시간동안 하소반응시킨 후에 무정형으로 남아있는것을 특징으로하는 충전재의 용도.
- 제 10 항 내지 13 항중 어느 한 항에 있어서, 상기의 출발 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트가 알루미늄 1 몰당 0.01 몰 이상, 특히 0.04 몰 이상, 특히 0.1 몰 이상의 탄산염을 포함하는 것을 특징으로하는 충전재의 용도.
- 제 10 항 내지 14 항중 어느 한 항에 있어서, 상기의 출발 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트에 존재하는 탄산염이 천연적으로 공유(covalent)임을 특징으로 하는 충전재의 용도.
- 제 10 항 내지 15 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 출발 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트가 40 내지 150 ㎡/g 의 BET 비 표면적을 갖는 것을 특징으로 하는 충전물의 용도.
- 제 10 항 내지 16 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 출발 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트가 하기 화학식에 상응함을 특징으로하는 충전재의 용도( Al(OH)X(CO3)yㆍzH2O(식에서,0.5 ≤x ≤ 30.01 ≤y ≤ 0.25z ≤ 1.5)).
- 제 1 항 내지 17 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 고무 조성물이 하나 이상의 엘라스토머 기재인 것을 특징으로하는 충전재의 용도(상기 엘라스토모는 바람직하게는 -150 내지 + 20℃ 의 유리 전이온도를 나타냄).
- 제 1 항 내지 18 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 고무 조성물이 하나 이상의 커플링제(coupling agent) 및/또는 하나 이상의 코팅제를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로하는 충전재의 용도.
- 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트, 히드록시옥시카보네이트 또는 옥시카보네이트로 구성되는 화합물로부터 적어도 부분적으로, 바람직하게는 완전히, 형성되는것을 특징으로하는 하나 이상의 충전재를 포함하는, 하나 이상의 엘라스토머기재 고무 조성물.
- 제 20 항에 있어서, 상기의 히드록시카보네이트, 히드록시옥시카보네이트 또는 옥시카보네이트가 알루미늄 1 몰당 0.01 몰 이상, 특히 0.04 몰 이상의 탄산염을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 20 항 또는 21 항에 있어서, 상기의 히드록시카보네이트, 히드록시옥시카보네이트 또는 옥시카보네이트가 알루미늄 1몰당 0.1 몰 이상의 탄산염을 포함하는 것을 특징으로하는 조성물.
- 제 20 항 내지 22 항중 어느 한 항에 있어서, 히드록시카보네이트, 히드록시옥시카보네이트 또는 옥시카보네이트에 존재하는 탄산염이 천연적으로 공유(covalent)임을 특징으로 하는 조성물.
- 제 20 항 내지 23 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 화합물이 40 내지 150 ㎡/g 의 BET 비 표면적을 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 20 항 내지 24 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 화합물이 초음파분쇄(deagglomeration)후에 80 % 이상, 특히 90% 이상의 미분(fines) (τf) 수준을 나타냄을 특징으로하는 조성물.
- 제 20 항 내지 25 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 화합물이 하기의 화학식에 상응하는 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트임을 특징으로하는 조성물( Al(OH)X(CO3)yㆍzH2O(식에서,0.5 ≤x ≤ 30.01 ≤y ≤ 0.25z ≤ 1.5)).
- 제 20 항 내지 26 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 화합물이 150 내지 700 ℃에서 2 시간 동안 하소반응 후에 무정형으로 남아있는것을 특징으로하는 조성물.
- 제 20 항 내지 27 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 화합물이 600℃ 에서 가스 흐름을 사용하여 그 화합물과 가스의 접촉시간을 1 내지 2 초로하는 빠른 탈수 과정으로 구성되는 처리과정 후에 무정형으로 남아있는 것을 특징으로하는 조성물.
- 제 20 항 내지 25 항중 어느 한 항에 있어서, 상기화합물이 무정형의 알루미늄 히드록시카보네이트를 150 내지 700 ℃ 에서 특히 1 내지 3 시간동안 하소반응시킴으로 발생한 것임을 특징으로하는 조성물.
- 제 29 항에 있어서, 상기의 출발 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트가 600℃ 에서 가스 흐름을 사용하여 그 화합물과 가스의 접촉시간을 1 내지 2 초로하는 빠른 탈수 과정으로 구성되는 처리과정 후에 무정형으로 남아있는 것을 특징으로하는 조성물.
- 제 20 항 내지 25 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 화합물이 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트를 500 내지 700 ℃, 특히 600℃ 에서 가스 흐름을 사용하여 그 히드록시카보네이트와 가스의 접촉시간을 1 초의 몇분의 일초 내지 4 초, 특히 1 내지 2 초 로하는 빠른 탈수 과정의 결과로 발생된것임을 특징으로하는 조성물.
- 제 31 항에 있어서, 상기의 출발 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트가 150 내지 700 ℃ 사이에서 2 시간동안 하소반응시킨 후에 무정형으로 남아있는것을 특징으로하는 조성물.
- 제 29 항 내지 32 항중 어느 한 항에 있어서, 상기의 출발 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트가 알루미늄 1 몰당 0.01 몰 이상, 특히 0.04 몰 이상, 특히 0.1 몰 이상의 탄산염을 포함하는 것을 특징으로하는 조성물.
- 제 29 항 내지 33 항중 어느 한 항에 있어서, 상기의 출발 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트에 존재하는 탄산염이 천연적으로 공유(covalent)임을 특징으로 하는 조성물.
- 제 29 항 내지 34 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 출발 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트가 40 내지 150 ㎡/g 의 BET 비 표면적을 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 29 항 내지 35 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 출발 무정형 알루미늄 히드록시카보네이트가 하기의 화학식에 상응함을 특징으로하는 조성물(Al(OH)X(CO3)yㆍzH2O(식에서,0.5 ≤x ≤ 30.01 ≤y ≤ 0.25z ≤ 1.5)).
- 제 20 항 내지 36 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 조성물이 -150 내지 + 20℃의 유리 전이온도를 나타내는 하나 이상의 엘라스토머에 기지를 둔것을 특징으로하는 조성물.
- 제 20 항 내지 37 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 고무 조성물이 하나 이상의 커플링제(coupling agent) 및/또는 하나 이상의 코팅제를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로하는 조성물.
- 제 20 항 내지 38 항중 어느 한 항에 따른 하나 이상의 조성물기재 최종 물품.
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