KR20010067114A

KR20010067114A - 방향족 화합물 이성체의 제조방법

Info

Publication number: KR20010067114A
Application number: KR1020000049600A
Authority: KR
Inventors: 가토마사시; 가토야스하루; 오카다고이치
Original assignee: 히라이 가쯔히꼬; 도레이 가부시끼가이샤
Priority date: 1999-08-26
Filing date: 2000-08-25
Publication date: 2001-07-12
Also published as: KR100696277B1; EP1081121A3; US7091389B1; EP1081121A2; EP1081121B1

Abstract

제올라이트를 함유하는 흡착제와, 탈착제를 사용하여 알킬기 및/또는 할로겐으로 치환된 방향족 화합물을 흡착분리함으로써 이성체를 제조할 때, 탈착제의 불순물을 저감시킨 후, 흡착분리공정에 공급함으로써 흡착제의 열화(劣化)를 억제하여 수명을 길게 하고, 효율좋게 방향족 화합물 이성체를 제조할 수 있다.

Description

방향족 화합물 이성체의 제조방법{METHOD FOR PRODUCING AROMATIC COMPOUND ISOMERS}

발명이 속한 기술분야

본 발명은 방향족 화합물 이성체의 제조방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 제올라이트를 함유하는 흡착제와 탈착제를 사용하여 목적하는 방향족 화합물 이성체를 흡착분리에 의해 제조하는 방법에 관한 것이다.

관련기술

방향족 화합물은 합성원료, 의약·농약의 중간체로서 유용한 화합물로서, 특정의 이성체를 얻기 위하여 제올라이트를 함유하는 흡착제와 접촉시켜서 흡착분리하는 방법이 알려져 있다.

가령, 특공평 1-45457호 공보에는 2,6-디클로로톨루엔을 흡착분리할 때, 파우자사이트형 제올라이트를 흡착제로 사용하는 방법, 특개평 4-30025호 공보에는 m-디클로로벤젠을 흡착분리할 때 칼륨이온 및 납이온을 필수성분으로 함유하는 파우자사이트형 제올라이트를 흡착제로 사용하는 방법, 특공평 4-46933호 공보에는 할로겐화 벤젠 유도체를 이성화할 때에 생기는 HCl을 증류 등에 의해 제거하고, 제올라이트 흡착분리제에 의해 특정의 이성체를 분리하는 공정 등이 알려져 있다.

또, 복소환식 화합물의 경우, 특개평 9-143162호 공보, 특개평 10-251230호 공보 및 EP 173440호 공보에 피리딘환을 갖는 화합물을 흡착분리할 때에 파우자사이트형 제올라이트를 흡착제로 하여 분리하는 방법이 개시되어 있다.

제올라이트를 함유하는 흡착제를 사용하여 방향족 화합물 이성체를 흡착분리할 때에, 일반적으로는 흡착제의 성능은 경시적으로 저하되기 때문에, 적절한 시점에서 신품과의 교환 또는 연소 등에 의한 재생처리를 행할 필요가 있다. 따라서, 흡착제의 수명 또는 재생주기를 길게 하는 것은 공업적으로 매우 유리하다.

상기 특공평 4-46933호 공보에 기재된 제올라이트 흡착제를 이용하여 방향족 화합물 이성체의 흡착분리를 행할 때, 이성화 반응에 의해 부가생성되는 HCl을 미리 제거하는 방법은 흡착제의 열화를 억제하기 위한 수단이나, 공업적으로 요망되는 수명 또는 재생주기를 달성하기 위하여는 불충분하다.

흡착분리에서, 일반적으로 탈착제는 순환 재사용되나, 분리하고자 하는 방향족 화합물 이성체에 미량으로 함유되는 불순물이나 방향족 화합물 이성체 및/또는 탈착제의 분해나 반응에 의해 생성하는 불순물 등이 순환 재사용하는 탈착제에 축적하여 흡착제의 성능을 저하시킨다고 추정된다.

발명의 개요

본 발명의 목적은 제올라이트를 함유하는 흡착제의 열화를 억제하여 수명을 길게 할 수 있고, 효율좋게 방향족 화합물 이성체를 제조함에 있다.

본 발명은 제올라이트를 함유하는 흡착제와, 탈착제를 사용하여 알킬기 및/또는 할로겐으로 치환된 방향족 화합물을 흡착분리함으로써 이성체를 제조할 때에 탈착제의 불순물을 저감시킨 후, 흡착분리공정에 공급하는 것을 특징으로 하는 방향족 화합물 이성체의 제조방법이다.

또, 다음의 양태는 본 발명의 바람직한 방법이다.

상기 방향족 화합물이 벤젠환 또는 복소환을 갖는 방향족 화합물인 것,

방향족 화합물이 적어도 하나의 할로겐 원소로 핵치환된 방향족 화합물인 것,

탈착제에 함유되는 불순물을 증류, 방산(放散) 및 고체흡착제에 의한 흡착의 어느 한 방법으로 저감시킬 것,

탈착제에 함유되는 불순물을, 탈착제의 일부를 폐기하고, 불순물을 함유하지 않은 탈착제를 보충함으로써 저감시키는 것,

흡착분리공정에 공급하는 탈착제의 전량 또는 일부를, 불순물을 저감시키는 공정에 연속적 또는 단속적으로 공급하여 불순물을 저감시키고 나서 흡착분리공정에 공급하는 것이다.

도 1은 실시예 1에서의 의사이동상(擬似移動床)장치의 탈착제 제거 흐름을 도시한 도이며,

도 2는 실시예 1, 비교예 1 및 2에서의 흡착회수율의 경시변화를 도시한 도 이고,

도 3은 실시예 1에서의 탈착제에 축적한 고비물(高沸物) 불순물 성분을 도시한 도이며,

도 4는 실시예 2에서의 의사이동상 장치의 탈착제거 흐름을 도시한 도이고,

도 5는 실시예 2, 비교예 3 및 4에서의 흡착회수율의 경시변화를 도시한 도이고,

도 6은 실시예 2에서의 증류장치에서의 유출액 및 바닥액중의 불순물인 고비물 불순물 성분을 도시하는 도이고,

도 7은 실시예 3, 비교예 3에서의 흡착회수율의 경시변화를 도시하는 도이다.

본 발명에서 흡착분리의 대상이 되는 방향족 화합물은 알킬기 및/또는 할로겐으로 치환된 방향족 화합물이다. 이 방향족 화합물은 복수의 이성체를 가지고 있고, 각 이성체간의 비점 차가 작을 경우는 증류 등에 의한 분리가 곤란하고, 흡착분리에 의해 이성체를 분리하는 방법이 적합하다.

본 발명에 사용되는 알킬기 및/또는 할로겐으로 치환된 방향족 화합물은 치환기중 적어도 하나는 알킬기 또는 할로겐이나, 이들 치환기 외에 수산기, 알데히드기, 카르복실기 등의 산소를 함유하는 치환기, -NO₂, -NH₂, -NHR, -NR₂, -NRR'(R, R'는 메틸기, 에틸기, 프로필기의 적어도 하나) 등의 질소를 함유하는 치환기 등을 가지고 있어도 상관없다.

또, 여기서 말하는 방향족 화합물이란 벤젠의 유도체에 한하지 않고, 나프탈렌, 안트라센, 펜안트렌 등의 다환방향족 화합물, 피리딘, 트리아진 등의 복소환식 화합물 등도 포함된다.

복소환식 화합물의 구체예로는, α-피콜린, β-피콜린, γ-피콜린, 2,5-루티딘, 2,6-루티딘, 2,4-루티딘, 2,5-루티딘, 3,4-루티딘, 2,3-루티딘, 2,4,6-콜리딘, 2-에틸피리딘, 3-에틸피리딘, 4-에틸피리딘, 2-비닐피리딘, 3-비닐피리딘, 4-비닐피리딘, 2-피리딘메탄올, 3-피리딘메탄올, 4-피리딘메탄올, 2-아미노피리딘, 3-아미노피리딘, 4-아미노피리딘, 2-디메틸아미노피리딘, 3-디메틸아미노피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 2-알데히도피리딘, 3-알데히도피리딘, 4-알데히도피리딘, 니코틴산, 이소니코틴산, 피콜린산, 2-클로로피리딘, 3-클로로피리딘, 4-클로로피리딘, 3,5-디클로로피리딘, 2,6-디클로로피리딘, 2,4-디클로로피리딘, 2,5-디클로로피리딘, 3,4-디클로로피리딘, 2,3-디클로로피리딘, 2-시아노피리딘, 3-시아노피리딘, 4-시아노피리딘, 2-클로로-5-메틸피리딘, 2-클로로-4-메틸피리딘, 2-클로로-3-메틸피리딘, 2-클로로-6-메틸피리딘, 메틸피롤, 에틸피롤, 프로필피롤, 디메틸피롤, 클로로피롤, 메틸푸란, 에틸푸란, 프로필푸란, 디메틸푸란, 클로로푸란, 메틸티오펜, 에틸티오펜, 프로필티오펜, 디메틸티오펜, 클로로티오펜, 메틸퀴놀린, 에틸퀴놀린, 프로필퀴놀린, 디메틸퀴놀린, 클로로퀴놀린 등을 들 수 있다.

알킬기 및/또는 할로겐으로 치환된 방향족 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물일 경우에 본 발명 방법이 바람직하게 채용된다.

(식중 R1 및 R2는 각각 할로겐원자, 알킬기의 어느 하나를 표시하고, X1 및 X2는 각각 할로겐원자, 수소원자, 알킬기의 어느 하나를 표시한다.)

여기서 적어도 하나의 할로겐원소로 치환된 것이 특히 바람직하고, 할로겐원소는 염소 또는 브롬이 특히 바람직하다. 더욱 바람직하게는 염소로 핵치환된 방향족 화합물이다.

화학식 1로 표시되는 방향족 화합물(이성체)의 구체예로는, 가령 크실렌, 트리메틸벤젠, 테트라메틸벤젠, 에틸톨루엔, 디에틸벤젠, 트리에틸벤젠, 클로로톨루엔, 디클로로톨루엔, 트리클로로톨루엔, 클로로에틸벤젠, 디클로로벤젠, 트리클로로벤젠, 테트라클로로벤젠, 브로모톨루엔, 브로모에틸벤젠, 디브로모벤젠, 디브로모톨루엔, 클로로브로모벤젠, 디브로모클로로벤젠, 디클로로브로모벤젠 등을 들 수 있다. 그 중에서도 클로로톨루엔, 디클로로톨루엔, 클로로에틸벤젠, 디클로로벤젠, 트리클로로벤젠 등의 제조에 적합하다.

본 발명은 제올라이트를 함유하는 흡착제를 사용하여 흡착분리를 행한다.

여기서 제올라이트란, 결정성 알루미노실리케이트만이 아니라 ALPO, SAPO 등의 결정성 알루미노포스페이트, 실리코알루미노포스페이트 등도 함유된다.

흡착제는 상기 분리대상 화합물에 의해 적합한 것을 선택한다. 가령, 크실렌의 흡착분리에는 파우자사이트형 제올라이트 등이 바람직하고, 염소화 방향족 화합물 등의 할로겐화 방향족 화합물의 흡착분리에는 파우자사이트형 제올라이트나 펜타실형 제올라이트 등이 바람직하다. 이들 제올라이트를 함유하는 흡착제는 흡착선택성을 조정하기 위하여 알칼리금속염, 알칼리토류금속염 등으로 이온교환 처리할 경우도 있다. 또, 공업적인 취급을 쉽게 하기 위하여, 알루미나, 벤토나이트 등의 바인더와 함께 성형된 것이 바람직하게 사용된다.

본 발명에서의 탈착제로는, 특히 한정되지 않으나 가령 톨루엔, 크실렌, 나프탈렌, 클로로벤젠, 디클로로톨루엔 등의 방향족 화합물이 사용된다. 또, 복소환식 화합물의 경우는, 상기 탈착제에 첨가하여 아닐린, 메틸아닐린, 디메틸아닐린, 디페닐아민, 트리페닐아민, 톨루이딘, 아니시딘, 클로로아닐린, 브로모아닐린, 니트로아닐린, 디니트로아닐린, 트리니트로아닐린, 페닐렌디아민, 메틸아민, 디메틸아민, 에틸아민, 트리에틸아민, n-프로필아민, 디-n-프로필아민, 트리-n-프로필아민, 이소프로필아민, n-부틸아민, 이소부틸아민, sec-부틸아민, tert-부틸아민, 시클로헥실아민, 벤질아민, α-페닐에틸아민, β-페닐에틸아민, 에틸렌디아민, 테트라메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 피페라진, 피페리딘, 피롤리딘 등이 이용된다.

본 발명은 탈착제에 함유되는 흡착제 열화의 원인이 되는 불순물을 저감시키는 것이 중요하다. 재사용할 때의 불순물 양은 적을수록 좋으며, 1000중량ppm 이하, 더욱 바람직하게는 100중량ppm 이하이다. 불순물을 저감시킴으로써 탈착제의 열화를 억제할 수 있고, 효율좋게 흡착분리를 행할 수 있다.

탈착제에 함유되는 불순물의 측정방법은 불순물의 종류에 따라 다르나, 가스크로마토그래피, 칼피셔 수분계, 벡만 용존산소계나 가열시의 착색도 비교 등으로 측정된다.

탈착제에 함유되는 불순물을 저감시키는 방법은 증류, 방산, 고체흡착제에 의한 흡착, 탈착제의 일부를 폐기하여 불순물을 함유하지 않은 탈착제를 보충하는 등의 처리방법을 들 수 있다.

본 발명에서, 증류처리란 불순물을 함유하는 탈착제를 증류하여 비점이 낮은 불순물 및/또는 비점이 높은 불순물을 탈착제에서 제거하는 방법을 말한다. 증류의 방법은 통상법으로 실시된다. 증류탑은 붕단탑(棚段塔) 또는 충전탑 등 어느 것도 되고, 조작조건은 특별히 한정되지 않는다.

방산처리란, 가령 저장소중의 탈착제에 N₂를 직접 불어 넣는 버블링하는 방법이나, 붕단탑 또는 충전탑 등으로 N₂와 항류(向流) 접촉시키는 방법 등을 들 수 있다. 조작조건은 특별히 한정되지 않는다.

고체흡착제에 의한 흡착처리란, 가령 불순물을 함유하는 탈착제를 고체흡착제와 접촉시키고, 불순물을 선택적으로 고체흡착제에 흡착시켜서 불순물을 저감시키는 방법을 말한다. 접촉시키는 방법은 고정상, 유동상 등 어느 쪽도 된다. 고체흡착제로는 활성탄이나 제올라이트, 산성백토, 활성백토, 알루미나 등이 사용된다.

흡착분리에 있어 탈착제에 축적된 불순물중, 가령 수분, 염산, 페놀류 등의 극성이 강한 물질은 흡착제 표면에 강하게 흡착하여 흡착분리성능을 저하시킨다. 또, 방향족 화합물의 이량체 등은 흡착제중에서 반응하여 탄소화하고, 흡착분리성능을 저하시킬 경우가 있다. 따라서, 이들 불순물을 저감시킴으로써 흡착의 열화를 억제하여 재생주기를 연장할 수 있다고 생각된다. 따라서, 본 발명으로 제거되는 불순물은 수분, 염산, 페놀류, 방향족 화합물의 이량체, 불포화 탄화수소를 함유하는 화합물, 알데히드기, 카르복실기 등의 함산소화합물 등을 제거하는 것이 바람직하다.

본 발명에서 불순물을 저감시키는 공정에 공급하는 탈착제는 흡착분리공정에서 순환재사용하는 탈착제의 전량 또는 일부의 어느 쪽도 되며, 불순물을 저감시키는 공정에의 공급방법은 연속적 또는 단속적의 어느 쪽도 된다.

또, 본 발명에서 흡착분리는 종래 알려진 방법으로 실시된다. 흡착분리형식은 고정상, 이동상, 유동상의 어느 형식도 가능하며, 또 유통식, 회분식의 어느 쪽도 가능하다. 또, 흡착분리는 기상, 액상의 어느 쪽도 가능하다. 일반적으로 잘 알려진 공정은 의사이동상 방식이 있다.

실시예

이하에 본 발명을 실시예를 통해 구체적으로 설명한다.

실시예 1

촉매화성제, SiO₂/AlO₃몰비 4.8의 Na-Y형 제올라이트를 특개소 48-15833호 공보의 실시예에 기재된 방법으로 조제하여, 이온교환한 K-Y형 제올라이트 흡착제를 사용하고, 크실렌이성체와 에틸렌벤젠을 주성분으로 하는 원료(이하 흡착원료라 함)에서 파라크실렌(이하 PX라 함)의 분리를 행하였다. 장치는 특개평 4-330025호공보의 실시예 5 기재의 의사이동상 장치를 개조하여 흡착실을 24실로 한 것을 사용하였다. 장치 개요를 도 1에, 흡착분리조건을 표 1에, 사용한 흡착원료의 조성을 표 2에 표시한다. 본 장치는 90wt% 이상의 파라디에틸벤젠(이하 p-DEB라 함)을 탈착제로 하여 흡착원료를 분리한다. 목적성분인 PX를 탈착제와 함께 추출물 흐름으로서 꺼내고, 회수못한 일부의 PX와 흡착원료의 나머지 성분을 탈착제와 함께 추출잔류물 흐름으로서 꺼낸다. 추출물 및 추출잔류물은 그 후, 각각 증류장치 1 및 2에서 탈착제를 회수하고, 제 24 흡착실에서 회수하는 탈착제와 함께 순환재사용한다. 흡착원료 및 탈착제는 고온하에 흡착제와 접촉함으로써 이량체 등의 고비물 또는 증류탑 N₂시일중의 미량 O₂에 의한 알데히드기, 카르복실기를 갖는 함산소화합물이 미량 생성되고, 순환재사용하는 탈착제에 축적하여 흡착분리성능을 저하시킨다.

분리성능을 나타내는 지표로서 제품순도 99.80wt%를 얻을 때의 하기 수학식으로 정의되는 「흡착회수율」을 사용하여, 그 경시변화를 시작시의 흡착회수율을 기준으로 표시하였다.

본 실시예는 탈착제 일부를 연속적으로 방출하여 증류장치 3으로 고비물을 제거한 후에 재사용하였던 바, 도 2 표시와 같이 흡착성능 저하는 보이지 않았다. 또, 제거한 고비물을 농축하여 표 3 표시의 가스크로마토그래프 분석조건으로 분석한 바, 도 3과 같은 고비물이 많이 존재하는 것이 확인되었다.

비교예 1

실시예 1에서, 탈착물의 일부를 연속적으로 방출하여 증류에 의해 불순물을 제거한 후에 재사용하는 것을 실시하지 않은 것 이외는, 실시예 1과 같이 하여 흡착분리를 행하였다. 이 때, 흡착회수는 도 2 표시와 같이 크게 저하하였다.

비교예 2

최초는 비교예 1과 같이 하여 흡착분리를 행하고, 도중에서 실시예 1과 같이 하여 흡착분리를 행하였다. 이 때, 흡착회수율은 도 2 표시와 같이 도중까지는 크게 저하됐으나 불순물 제거를 개시하고부터는 저하가 멎었다.

실시예 2

m-디클로로벤젠(이하 m-DCB라 간략함) 분리용 제올라이트 흡착제를 특개평 4-330025호 공보의 실시예 1∼4 기재의 방법으로 조제하였다. 이 흡착제는 양이온으로서 칼륨이온 및 납이온을 함유하는 Y형 제올라이트이다. 이 흡착제를 500℃로 2시간 소성한 후, 특개평 4-330025호 공보의 실시예 5 기재의 의사이동상 장치에 의해 흡착분리를 행하였다. 장치개요를 도 4에, 흡착분리조건을 표 4에 표시한다. 본 장치는 3,4-디클로로톨루엔(이하 3,4-DCT라 간략함)을 탈착제로 하여 DCB 이성체 혼합물을 분리한다. 목적성분인 m-DCB를 탈착제와 함께 추출잔류물 흐름으로서 꺼내고, 다 회수하지 못한 일부 m-DCB와 o-DCB 및 p-DCB를 탈착제와 함께 추출물 흐름으로서 꺼낸다. 추출잔류물 및 추출물은 그 후 각각 증류장치 1 및 2에서 탈착제를 회수하고, 흡착실 12에서 회수하는 탈착제와 함께 순환재사용한다. 3,4-DCT는 가열에 의해 비페닐메탄계 등의 고비물이 미량 생성되기 때문에, 통상은 순환재사용하는 탈착제중에 축적하여 흡착제 성능을 저하시킨다.

분리성능을 나타내는 지표로서 제품순도 99.5%를 얻을 때의 아래 수학식으로 표시되는 흡착회수율을 사용하여 그 경시변화를 시작시의 흡착회수율을 기준으로 하여 표시하였다.

본 실시에는 탈착제의 일부를 연속적으로 방출하여 증류장치 3 및 4에서 불순물을 제거후 재사용하였던 바, 도 5와 같이 흡착성능의 저하는 보이지 않았다. 또, 제거한 고비물을 농축하여 표 5 표시의 가스크로마토그래프 분석조건으로 분석한 바, 도 6과 같은 고비물이 많이 존재한다는 것이 확인되었다.

비교예 3

실시예 2에서, 탈착제의 일부를 연속적으로 방출하여 증류에 의해 불순물을 제거후, 재사용하는 것을 실시하지 않은 것 이외는, 실시예 2와 같이 하여 흡착분리를 행하였다. 이 때, 흡착회수율은 도 5 표시와 같이 크게 저하하였다.

비교예 4

최초는 비교예 1과 같이 하여 흡착분리를 행하고, 도중에서 실시예 2와 같이 하여 흡착분리를 행하였다. 이 때, 흡착회수율은 도 5 표시와 같이 도중까지는 크게 저하됐으나 불순물제거를 개시하고부터는 저하가 멎었다.

실시예 3

나트륨타입 Y형 제올라이트(이하 Na-Y라 표시함)(도소(주)제·제올룸 Na-5.1Y 분말품) 100중량부에 바인더로서 알루미나졸(닛산화학 200번; Al₂O₃= 10wt%)을 알루미나환산으로 15중량부 첨가하여 0.15∼0.5mmø으로 조립(造粒)된 NaY형 제올라이트를 120℃로 건조후, 500℃, 2시간 소성하였다. 이 Na-Y의 Na 양이온사이트의 50%에 상당하는 질산은 수용액(금속몰 환산)을 사용하여(고액비 3.0L/kg) 실온에서30분 방치하여 85℃로 1시간의 이온교환처리를 행하고, 증류수로 충분히 세정후, 120℃로 건조, 500℃, 2시간 소성하였다. 이 흡착제(Ag-Na-Y)에 의해 α-피콜린:β-피콜린:2,6-루티딘:2,4-루티딘= 1:1:1:1:(중량비)의 혼합물을 탈착제로 하고 2,4-크실리딘을 사용하여 실시예 2와 동일하게 분리를 행하였다.

목적성분인 2,6-루티딘을 탈착제와 함께 추출잔류물 흐름으로서 꺼내고, 다 회수하지 못한 일부 2,6-루티딘과 α-피콜린, β-피콜린 및 2,4-루티딘을 탈착제와 함께 추출물 흐름으로서 꺼낸다.

분리성능을 나타내는 지표로서 제품순도 99.5%를 얻을 때의 아래 수학식 표시의 흡착회수율을 사용하고, 그 경시변화를 시작시의 흡착회수율을 기준으로 표시하였다.

본 실시예는 탈착제의 일부를 연속적으로 방출하여 증류장치 3 및 4에서 불순물을 제거한 후에 재사용하였던 바, 도 7 표시와 같이 흡착성능의 저하는 보이지 않았다.

비교예 5

실시예 3에서, 탈착제의 일부를 연속적으로 방출하여 증류에 의해 불순물을 제거한 후에 재사용하는 것을 실시하지 않은 것 이외는, 실시예 3과 같이 하여 흡착분리를 행하였다. 이 때, 흡착회수율은 도 7 표시와 같이 크게 저하하였다.

본 발명은 제올라이트를 함유하는 흡착제의 열화를 억제하여 수명을 길게 할 수 있고, 효율좋게 방향족 화합물 이성체를 제조한다.

Claims

제올라이트를 함유하는 흡착제와, 탈착제를 사용하여 알킬기 및/또는 할로겐으로 치환된 방향족 화합물을 흡착분리함으로써 이성체를 제조할 때, 탈착제의 불순물을 저감시킨후 흡착분리공정에 공급하는 것을 특징으로 하는 방향족 화합물 이성체의 제조방법.
제 1 항에서, 방향족 화합물이 벤젠환 또는 복소환을 갖는 방향족 화합물인 것을 특징으로 하는 방향족 화합물 이성체의 제조방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 방향족 화합물이 적어도 하나의 할로겐 원소로 핵치환된 방향족 화합물인 것을 특징으로 하는 방향족 화합물 이성체의 제조방법.
제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서, 탈착제에 함유되는 불순물을, 증류, 방산 및 고체흡착제에 의한 흡착의 어느 한 방법으로 저감시키는 것을 특징으로 하는 방향족 화합물 이성체의 제조방법.
제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서, 탈착제에 함유되는 불순물을 탈착제의 일부를 폐기하고, 불순물을 함유하지 않은 탈착제를 보충함으로써 저감시키는 것을 특징으로 하는 방향족 화합물 이성체의 제조방법.
제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서, 흡착분리공정에 공급하는 탈착제의 전량 또는 일부를, 불순물을 저감시키는 공정에 연속적 또는 단속적으로 공급하여 불순물을 저감시키고 나서, 흡착분리공정에 공급하는 것을 특징으로 하는 방향족 화합물 이성체의 제조방법.