KR20010051215A - 레이저 방사에 패널을 노출시키는 장치 - Google Patents

레이저 방사에 패널을 노출시키는 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 레이저 방사에 패널을 노출시키는 장치에 관한 것으로, 상기 패널은 제 1 방향인 Y 방향으로의 길이가 L인 작업 영역과 N개로 나누어진 연속적인 부위들을 구비한다. 상기 장치는 고정 구조체, 구조체에 결합되고 이동 가능한 수직 패널 지지대, N개의 레이저 빔들은 발생시키고 조절하는 수단, 구조체에 고정되어 있는 N개의 광학부들을 구비한다. 각 광학부는 연속적으로 편향된 빔들을 발생시키는 편향 수단들 및 패널을 향해 편향된 빔들을 주사하기 위한 거울을 구비한다. 여기서, 거울의 길이는 l1으로 L/N 보다 크다. 광학부들은 두 세트로 구성된다. 각 세트 내의 광학부들은, 상기 광학부의 편향경들이 대체로 Y 방향을 따라 정렬되고, 두개의 배열된 광학부들의 광축 사이의 Y 방향 거리는 2L/N이고, 한 세트 내의 광학부의 광축과 가장 인접한 다른 세트 내의 광학부의 광축 간의 Y 방향 거리가 L/N이 되도록 배열된다. 그러면, 광학부에서 편향된 빔이 스캔되어야 할 부분 영역의 길이보다 더 큰 l1을 스캔할 수 있게 된다.

Description

레이저 방사에 패널을 노출시키는 장치{A MACHINE FOR EXPOSING A PANEL TO LASER RADIATION}
본 발명은 패널을 노출시키는 장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 인쇄 회로 패널을 레이저 방사에 노출시키는 장치에 관한 것이다.
레이저 빔을 사용하는 다양한 기술들이 인쇄 회로의 제조 공정에 사용되고 있다. 특히, 절연성 후면 상에 형성된 금속층을 사용하여 인쇄 회로의 도전체 트랙(track)을 가공하는 공정에 레이저 빔을 사용하는 기술이 적용되며, 좀더 구체적으로 레이저 빔을 주사하여 감광층의 상태를 변화시키는 공정, 금속층을 노출시키기 위하여 감광층을 제거하는 공정, 또는 감광층을 사용하지 않고 레이저 빔에 의해 금속층을 직접 패너닝하는 공정 등에 적용될 수 있다.
이러한 기술에서 레이저 빔은 인쇄 회로 패널 상의 작업 영역 표면의 각 지점이나 픽셀을 스캔하게 된다. 이때, 레이저 빔은 대응하는 지점이 인쇄될 부분인지의 여부에 따라, 활성 상태 또는 중단 상태로 존재한다. 레이저 빔에 의한 스캐닝은 각 픽셀에 대한 좌표 정보를 저장하고, 프린트될 부분인지 아닌지의 여부를 판별하는 컴퓨터 장치들에 의해 조절된다.
통상적으로, 레이저 빔에 의한 스캐닝은 단일 레이저 빔 장치들이 패널의 전체적인 표면을 스캔함으로써 진행된다. 즉, 레이저 빔은 패널의 한 방향으로 연속적인 스캔을 진행하고, 다른 방향에서는 진행된 스캔들이 상쇄된다.
이와 같이 단일 레이저 빔 장치들을 사용하면, 인쇄 기판의 크기가 클 경우에는 상당히 오랜 시간이 소요된다. 따라서, 인쇄 회로의 개별 영역을 스캐닝하도록 구성된 복수개의 레이저 빔들에 의해 동시에 스캔을 진행할 수 있는 노출 장치를 사용하면 공정상 많은 이점을 얻을 수 있다.
그런데, 동시에 스캔을 진행하는 복수개의 레이저 빔들을 사용하는 장치는 단일 레이저 빔을 사용하는 각 장치들을 단순히 배열하는 것만으로 얻어질 수는 없다. 즉, 인쇄 회로 상의 한 스캔 영역에서 다른 스캔 영역으로 연속적으로 스캔할 수 있는지의 여부가 중요하다.
도전체 트랙의 형태를 정확하게 가공하기 위해서는 레이저 빔들이 20 ㎛ 크기의 패널 상에서 충격(impact) 직경을 갖고 사용된다는 점을 주지해야 한다. 그런데, 레이저 빔의 경로 때문에 빔의 에너지는 원 내에서 불균일하게 분포하게 되고, 빔에 의해 가해지는 충격들도 스캐닝시 중첩된다. 이로 인해, 결과적으로는 레이저 빔의 충격에 의해 인쇄되는 패턴은 12.7㎛ ×12.7㎛ 크기의 정방형이 된다. 따라서, 패널 상에 직교하는 두 방향으로 형성되는 다양한 패턴들에 적용되는 가공 단위는 12.7㎛의 길이가 된다. 이러한 단위의 정확성을 유지하기 위해서는 레이저 빔이 인쇄 회로 패널에 수직 방향으로 주사되도록 하는 것이 중요하다. 또한, 레이저 빔을 발생시키고 제어하는 다양한 장치들 내의 오류를 조정할 수 있도록, 개별 스캔존(zone) 내에 레이저 빔의 스캔 방향을 조절할 수 있는 여유 영역을 확보하는 것이 필수적이다.
본 발명은 상술한 제반 문제들을 해결하기 위해 제안된 것으로, 연속적으로 작동하는 복수개의 레이저 빔들을 사용하되, 단일 레이저 빔을 사용하는 경우와 동일한 가공 특성을 갖는 인쇄 회로를 제조할 수 있는 레이저 방사에 패널을 노출시키는 장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 의해 구성된 노출 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 의해 구성된 노출 장치의 광학부를 나타내는 개략도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 의해 패널이 레이저 빔에 의해 스캔되는 방법을 나타내는 개략도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 의해 구성된 노출 장치에서 광학부들의 세트를 나타내는 측면도이다.
도 5는 본 발명의 실시에에 의해 구성된 노출 장치의 광학부를 나타내는 측면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 의해 구성된 노출 장치의 광학부를 나타내는 단면도이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 의해 다양한 레이저 빔에 의해 스캔된 구간들이 조절되는 방법을 나타내는 도면이다.
(구성)
상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 제 1 방향인 Y 방향으로 작업 길이가 L이고, 작업 길이 L을 N등분하여 각 길이가 L/N인 연속적인 부위들을 갖는 레이저 방사에 패널을 노출시키는 장치에 있어서, 고정 구조체; 패널이 놓여지는 수직 패널 지지대; 구조체에 결합된 지지부를 상기 패널의 Y 방향과 직교하는 X 방향으로 이동시키기 위한 이동 수단들; N 개의 메인 레이저 빔들을 발생시키는 수단들; 각 메인 레이저 빔을 시간에 맞춰 조절하는 조절 수단들; 구조체에 고정되고, Y 방향과 대체로 직교하는 광학 축을 갖는 N 개의 광학부들을 구비하고, 광학부는, 연속적으로 편향되고 시간에 맞춰 조절되는 빔으로 메인 빔들 중 하나를 주기적으로 전환시켜, 광학부의 광축 방향으로 주사되도록 하는 편향 수단들; 및 광학부의 광축과 직교하는 방향으로의 길이가 l1이며, 빔이 L/N 보다 더 큰 주기 동안 주사되기에 적합하고, 편향된 레이저 빔을 상기 X,Y면에 대해 수직인 방향으로 패널 지지대를 향해 주사하기 위한 편향경을 구비하고, 광학부들은 각 세트가 N이 짝수일 경우에는 N/2개, N이 홀수일 경우에는 (N-1)/2개의 광학부들을 갖는 두 세트로 구성되고, 또한, 광학부들은, 광학부의 편향경들이 대체로 Y 방향을 따라 정렬되고, 두 세트 내의 편향경들 사이의 거리가 X 방향으로 D이고, 두개의 배열된 광학부들의 광축 사이의 거리는 Y방향으로 2L/N이고, 한 세트 내의 광학부의 광축과 가장 인접한 다른 세트 내의 광학부의 광축 간의 거리가 Y 방향으로 L/N이 되도록 Y 방향으로 배열되고, 이에 더하여, 광학부로부터 편향된 레이저 빔은 스캔되어야 하는 상기 패널 부위의 길이보다 더 큰 길이 l1을 스캐닝할 수 있고, 편향된 레이저 빔은 패널 부위의 첫 끝점에서부터 두번째 끝점까지 스캔하도록 조절될 수 있는 것을 특징으로 한다.
특히, 2 개의 수평선 내에 배열된 광학부들의 특정한 배치 때문에, 한 어셈블리의 광학부들은 다른 세트 내의 광학부들에 의해 반 피치(pitch)만큼 중첩되어 있으므로, 여러 광학부들의 스캔존들을 중첩되게 할 수 있다. 여기서, 피치는 동일 세트 내에서 배열된 2 개의 광학부들의 광축 사이의 거리를 나타내는 말이다. 이로 인해, 광학부를 구성하는 다양한 요소들의 위치의 부정확성으로 인해 발생하는 오차를 정정하여, 패널 상의 스캔존에 레이저 빔의 충격이 연속적인 지점으로 정확하게 전달되도록 할 수 있다.
본 발명에 있어서, 광학부의 편향 수단들은, 연속적인 소정 주기 동안 동일 면에서 레이저 빔을 연속적으로 편향시키기 위한 N개의 반사면을 갖는 회전 다면경; 및 다면경의 반사면에 의해 연속적으로 편향된 빔을 Y 방향을 포함하는 공통면 내에 광축 방향으로 포커싱하고 주사하기 위한 대물 렌즈 수단을 구비하는 것이 바람직하다.
또한, 조절 수단들은 메인 빔을 받아서 시간 조절된 빔을 출구에서 전달해 주는 음향 광학 모듈레이터를 구비하는 것이 바람직하다. 음향 광학 모듈레이터의 투명 또는 불투명 상태를 조절하는 것은 레이저 빔을 조절할 수 있게 할 뿐만 아니라 다면경의 회전과 모듈레이터의 상태를 동시화하는 것을 가능하게 한다. 이는 모듈레이터와 다면경의 조절에 의해 각 스캔 부위의 끝점을 정확히 위치시킬 수 있게 한다.
이에 더하여 본 발명에 의한 노출 장치에 있어서, X 방향으로 패널을 이동시키기 위한 이동 수단들은 지지대를 연속적으로 등속도로 움직이게 하고, X 방향으로의 지지대의 연속적인 이동 효과를 보상하기 위하여 광학부의 광축 방향은 Y 방향에 직교하는 방향과 소정의 각도를 이루는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 패널 지지대를 일정 속도로 움직이게 함으로써, 여러 개의 레이저 빔에 의해 진행되는 스캔 부위들에 대한 스캐닝 공정이 연속적으로 이루어질 수 있게 된다.
(실시예)
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 의해 구성된 노출 장치 전체를 나타내는 개략적인 구성도이다.
도 1을 참조하면, 노출 장치는 하단부(12) 및 상단부(14)로 구성된 고정된 구조체를 구비한다. 구조체의 하단부(12)는 이동 가능한 평판(12)을 지지하며, 평판(12) 상에 패널(20)이 놓여진다. 평판(16)은 X 방향, 예를 들어 도면의 평면과 직교하는 방향으로 이동할 수 있다. 평판(16)을 이동시키기 위한 모터 구동 볼-스크류 시스템(18, 19)이 간략히 도시되어 있다. 평판(16)은 인쇄 회로 패널 상에 형성되는 도전체 트랙을 가공하기 위해 레이저 빔이 주사될 패널(20)이 놓여질 수 있도록 설계된다. 구조체의 상단부(14)는 정방형으로 간략히 도시한 광학부들(221-226)을 지지한다. 각 광학부(22)의 배출구에서 패널(20)의 수평면과 직교하는 방향, 예를 들어 수직 방향으로 레이저 빔이 주사된다. 각 레이저 빔의 스캔존(scan zone)이 점선(24)으로 표시되어 있고, 각 스캔존은 X 방향과 직교하는 방향인 Y 방향으로 스캐닝된다.
도 3을 참조하면, 패널(20)의 작업 영역(26)은 개별 스캔존(Z1, Z2, Z3, Z4, Z5, Z6)의 상부에서 Y 방향으로 스캐닝하는 6개의 레이저 빔들에 의해 연속적으로 스캐닝된다. 스캐닝이라는 말은 레이저 빔이 Y 방향으로 연속적으로 움직인다는 것을 의미한다. 변형 단위는 픽셀, 즉 레이저 빔을 사용하여 형성할 수 있는 가장 작은 패턴 요소이다. 예를 들어, 각 픽셀은 전술한 바와 같이 가로와 세로가 각각 12.7 ㎛인 정방형이다. 실제로, 한 부위(S)가 스캐닝되는 동안, 스캐닝되는 부위(S) 내에는 레이저 빔의 충격을 받는 지점들과 레이저 빔이 주사되지 않는 지점들이 존재한다. 이러한 지점들의 넓이 단위가 픽셀이다. Y방향에 직교하는 X 방향으로의 스캐닝은, 전술한 바와 같이, X방향으로 패널을 이동시킴으로써 수행한다. 패널 작업 영역의 Y방향으로의 전체 길이를 참조 부호 L로 표시하면, 각 레이저 빔은 L/N에 해당하는 길이(l1)를 갖는 각 부위들(S1, S2, S3, S4, S5, S6)들을 스캔해야 한다. 이때, 레이저 빔들의 수를 나타내는 N은 6이 아닐 수도 있다.
소정의 스캔존에서부터 인접한 스캔존으로 형성되는 패턴의 연속성을 보장하기 위해서는 스캔 부위, 예를 들어 S1의 마지막 충격 지점이 다음의 스캔 부위, 예를 들어 S2의 첫 충격 지점으로부터 픽셀 하나의 거리만큼 떨어져 있어야 한다.
도 2를 참조하면, 패널이 복수개의 레이저 빔들, 예를 들어 6개의 레이저 빔들에 의해 연속적으로 스캐닝되도록 하는 노출 장치의 광학부의 필수적이 요소들이 도시되어 있다.
광학 어셈블리(assembly)는 레이저(40), 바람직하게는 감광막의 상태를 변화시키기 위하여 기계가 작동하면 7W의 파우어에서 주사되는 아르곤 타입의 레이저를 구비한다. 레이저(40)에 의해 주사되는 빔(F)은 레이저 빔을 6개의 빔들(FD1, FD2, FD3, FD4, FD5, FD6)로 분할하는 빔 스플리터(splitter; 42)의 입구로 조사된다. 바람직하게는 분할된 빔들(FD)이 같은 차수의 파우어를 갖고, 파장의 한계수도 유사해지도록 한다.
각각의 분할된 빔(FD)은 제어 회로(47)와 연결된 음향 광학 모듈레이터(acousto-optical modulator; 46)의 입구로 주사된다. 알려진 바과 같이, 모듈레이터(46)는 투명 상태 또는 레이저 빔의 투과를 차단하는 불투명 상태로 될 수 있다. 모듈레이터(46)를 통과한 각 레이저 빔은 광학부(22)의 입구로 주사된다. 광학부(22)는 입구 광학 시스템(44) 및 회전 다면경(50)으로 빔을 주사하기 위해 설치된 광학 시스템(48)을 구비한다. 알려진 바와 같이, 다면경(50)은 복수개의 반사면(52)들로 구성된다. 도 2에 도시된 바와 같은 경우에, 다면경은 6개의 반사면들로 구성된다. 다른 실시예에 의하면, 다면경은 10개의 반사면들로 구성될 수도 있다. 다면경(50)은 제어 회로(56)와 위치 센서들을 구비한 모터(50)에 의해 회전된다.
알려진 바와 같이, 광학 시스템(48)을 통과한 레이저 빔은 다면경(50)이 회전함에 따라 연속적으로 변화하는 입사각을 갖고 다면경(50)의 반사면(52)에 부딪친다. 반사면(52)에서 반사된 레이저 빔은 연속적으로 편향된다. 반사된 빔이 거울면(52)의 회전에 의해 편향되는 각도는 참조 부호 58로 나타내었다. 회전하는 거울면(52)에 의한 빔의 반사는 패널(20)의 일부위(S)를 스캐닝하는 것에 해당한다. 레이저 빔에 의한 스캐닝의 시작과 끝은 모듈레이터(46)의 투명 상태 또는 불투명 상태 조절과 다면경(52)의 회전을 동시화함으로써 결정된다. 모듈레이터(46)는 일정 시간이 경과하는 동안 불투명 상태로 조절되고, 그 시간 동안 입사된 레이저 빔은 하나의 반사면에서 다음 반사면으로 옮겨지지 못하게 된다. 따라서, 각 반사면은 하나의 스캔 부위(S)에 해당하는 스캔 주기를 결정한다. 레이저 빔은 대물 렌즈 시스템(60)의 입구로 주사된다. 대물 렌즈(60)는 레이저 빔을 20㎛의 직경, 즉 픽셀의 크기보다 더 큰 직경으로 포커싱하고, 광학부의 X'X' 광축 방향으로 레이저 빔을 주사되도록 한다.
마지막으로, 광학부(22)는 필수적인 요소로써 광학부의 X'X' 광축과 직교하는 편향경(62)을 구비한다. 편향경(62)은 편향된 레이저 빔을 패널 지지부(16)를 향해 수직한 방향, 즉 패널 지지부를 향한 방향으로 편향시킨다. 따라서, 레이저 빔은 패널면에 대해 수직한 방향으로 주사된다. 빔은 광축 X'X'을 중심으로 하여 l1의 길이만큼 확장된 지점들에서 편향경(62) 상에 주사되는 방식으로 편향된다. 이때, 길이 l1이 패널 상의 스캔존(Z)의 길이인 l2에 비해 더 커지도록 광학 장치들이 제조된다.
도 4를 참조하면, 광학부(22)는 장치 구조체의 상단부(14)에 고정된다. 예를 들어, 6개의 레이저 빔들이 사용되면 6개의 광학부들(22)이 구비된다. 이러한 광학부들(22)은 광학부의 광축 X'X' 방향과 직교하는 Y'Y' 방향으로 배열된 3개의 광학부들을 각각 구비하는 2개의 세트로 구성된다. 두 세트 내에 있는 각각의 광학부는 2L/N인 L1만큼 서로 떨어져 위치한다. 제 1 세트 내의 광학부들은 221, 222및 223으로, 제 2 세트 내의 광학부들은 224, 225및 226으로 나타내었다. 각 광학부들은 제 1 세트 내의 광학부, 예를 들어 222의 광축과 제 2 세트 내의 가장 가까운 광학부, 예를 들어 225의 광축 간의 거리인 l1/2, 즉 L/N 만큼 이격되어 배치된다. 도면에 도시된 바와 같이, 길이 l1은 회전 거울의 단일면에 의해서 편향된 빔이 스캔할 수 있는 범위에 해당한다. 또한, l1은 한 세트 내의 광학부로부터 다른 세트의 다음 광학부로 이동할 때, 각 광학부의 레이저 빔들에 의한 스캐닝이 중첩되는 길이에 해당하기도 한다. 이와 유사하게, 광학부들의 형태로 인해 광학부들의 출구 거울(62) 상에서 빔의 충격 지점들 사이의 거리는 D이며, 이 영역 내에서 거울(62)은 다른 세트들 내의 광학부들에 속하게 된다.
도 7을 참조하면, 본 발명에 의한 6개의 레이저 빔들이 배열되어 있다. 각 레이저 빔에 의해 스캔되는 영역인 Z1에서 Z6은 점선을 사용하여 표시하였다. 이러한 스캔존들은 패널의 Y 방향으로 정확하게 배열된다. 실선으로 표시한 영역인 Z'1내지 Z'6은 레이저 빔들에 의해 스캔될 수 있는 영역을 나타낸다. 실선으로 표시된 영역들은 l2에 비해 상대적으로 큰 l1의 폭을 가지며, 광학부에서 제 1 세트 내의 광학부 221에 의해 스캔될 수 있는 Z'1영역과 광학부 224에 의해 스캔될 수 있는 Z'2영역 사이의 거리는 패널의 X방향으로 D이다.
그러므로, 광학부의 음향 광학 모듈레이터(46)를 적절히 조절함으로써, 다양한 광학 시스템들의 위치 상의 결함에도 불구하고 해당 스캔존(Zi)에 대한 스캐닝이 정확히 수행되도록, 다면경의 각 반사면(52)에 대해 스캔존(Zi)이 스캔되기 시작하는 순간을 정의하는 것이 가능해진다. X 방향으로 스캔존(Zi)을 스캐닝할 때, X 방향의 거리차 D를 상쇄시키기 위하여, 제 1 세트 내의 광학부의 음향 광학 모듈레이터(46)가 제 2 세트 내의 광학부의 모듈레이터(46)보다 나중에 작동된다.
또한, 본 발명에 의하면, 6개의 개별 레이저 빔에 의해 동시에 스캐닝이 수행됨에도 불구하고, 패널의 전체 작업 영역을 연속적으로 스캐닝하는 것이 가능하다. 패널은 스크류(18, 19)들에 의해 연속적인 방식으로 X 방향 쪽으로 이동된다. 결과적으로, 레이저 빔에 의한 스캔이 진행되면 X 및 Y 방향으로의 변형이 합해지므로, 스캐닝은 정확히 Y 방향으로 수행되지 않고, Y 방향에 대해 소정 각도를 갖는 Y' 방향으로 수행된다. Y 및 Y' 방향이 이루는 각의 탄젠트 값은 X 방향에서 한 스캔에서 다음 스캔으로의 거리(r)를 스캔존(Z')의 길이(l2)나눈 값이 된다. 거리 r은 패널 상에서 레이저 빔의 충격 크기에 해당하며, 약 12.7㎛ 정도이다. Y 및 Y' 방향이 이루는 각의 탄젠트 값은 r/l2이고, 각의 크기는 작다. 이러한 현상을 보상하기 위하여, 광학부의 광축 XX'는 구조체의 X 방향으로 정확하게 확장되지 않고, X 방향에 대해 소정 각도를 갖고 확장된다. 그러면, 제 1 세트의 광학부에서 형성되는 각도와 제 2 세트의 광학부에서 형성되는 각도는 반대 방향이 된다.
도 5 및 도 6은 광학부(22)의 구체적인 실시예를 도시한 도면이다. 도 4 내지 도 6에 도시된 실시예에서, 음향 광학 모듈레이터는 광학부의 기저판에 장착되지 않는다. 6개의 모듈레이터는 고정된 빔 스플리터를 갖는 분리판 상에 장착된다. 이러한 배치로 인해, 음향 광학 모듈레이터는 분할된 레이저 빔들의 정확한 위치를 잡을 수 있게 된다. 광학부(22)는 기계적인 조정 부재들(82,84)에 의하여 장치 구조체의 상단부에 고정되어 있는 기저판(80)을 구비한다. 조정 부재들은 어셈블리의 오차를 보상하고, 광축 X'X'가 구조체의 X 방향에 대해 소정 각도를 갖도록 조정해 준다. 이러한 조정 수단들은 패널의 Y 방향에 대하여 지지대가 이동하는 X 방향의 오류들을 정정할 수 있게 한다. 이때, 패널의 Y 방향과 직교하는 방향과 광축 X'X' 사이에 형성된 각은 a와 같다. 편향 거울(62)은 기저판(80)에 대하여 거울(62)의 위치를 정확히 조절할 수 있는 플레이트(86)에 의해 기저판(80)에 장착된다. 회전 다면경(50)과 다면경에 결합된 모터(54)는 기저판에 장착된 플레이트(88)에 고정된다.
또한, 상기 도면들은 회전 다면경(50)으로 레이저 빔을 편향시키기 위해 사용되는 대물 렌즈 시스템(60)과 거울(48)을 보여주고 있다.
본 발명은 연속적으로 작동하는 복수개의 레이저 빔에 의해 패널을 스캐닝 할 수 있는 노출 장치를 제공함으로써, 노출 시간을 단축시킬 수 있고 대면적을 갖는 패널을 스캐닝하는 것이 용이해지므로, 생산성을 향상시키는 효과가 있다.

Claims (6)

  1. 제 1 방향인 Y 방향으로 작업 길이가 L이고, 상기 작업 길이 L을 N등분하여 각 길이가 L/N인 연속적인 부위들을 갖는 레이저 방사에 패널을 노출시키는 장치에 있어서,
    고정 구조체;
    상기 패널이 놓여지는 수직 패널 지지대;
    상기 구조체에 결합된 상기 지지대를 상기 패널의 상기 Y 방향과 직교하는 X 방향으로 이동시키기 위한 이동 수단들;
    N 개의 메인 레이저 빔들을 발생시키는 수단들;
    상기 각 메인 레이저 빔을 시간에 맞춰 조절하는 조절 수단들;
    상기 구조체에 고정되고, 상기 Y 방향과 대체로 직교하는 광축을 갖는 N 개의 광학부들을 구비하고,
    상기 광학부는,
    상기 메인 빔들 중 하나를 연속적으로 편향되고 시간에 맞춰 조절되는 빔으로 주기적으로 전환시켜 상기 광학부의 광축 방향으로 주사되도록 하는 편향 수단들; 및
    상기 광학부의 광축과 직교하는 방향으로 길이가 l1이며, 상기 빔이 L/N 보다 더 큰 주기 동안 주사되기에 적합하고, 상기 편향된 레이저 빔을 상기 X,Y면에 대해 수직 방향으로 상기 패널 지지대를 향해 주사하기 위한 편향경을 구비하고,
    상기 광학부들은 N이 짝수일 경우에는 N/2개, N이 홀수일 경우에는 (N-1)/2개의 광학부들을 각각 갖는 두 세트로 구성되고,
    상기 광학부들은, 상기 광학부의 편향경들이 대체로 Y 방향을 따라 정렬되고, 상기 두 세트 내의 편향경들 사이의 거리는 X 방향으로 D이고, 두개의 배열된 광학부들의 광축 사이의 거리는 Y 방향으로 2L/N이고, 한 세트 내의 광학부의 광축과 가장 인접한 다른 세트 내의 광학부의 광축 간의 거리가 Y 방향으로 L/N이 되도록, Y 방향으로 배열되고,
    상기 광학부로부터 편향된 레이저 빔은 스캔되어야 하는 상기 패널 부위의 길이보다 더 큰 길이 l1을 스캐닝할 수 있고, 상기 편향된 레이저 빔은 상기 패널 부위의 첫 끝점에서부터 두번째 끝점까지 스캔하도록 조절될 수 있는 것을 특징으로 하는 레이저 방사에 패널을 노출시키는 장치.
  2. 제 1 항에 있어서
    상기 광학부의 상기 편향 수단들은,
    연속적인 소정 주기 동안 동일 면에서 상기 레이저 빔을 연속적으로 편향시키기 위한 N개의 반사면을 갖는 회전 다면경; 및
    상기 다면경의 반사면에 의해 연속적으로 편향된 상기 빔을 상기 Y 방향을 포함하는 공통면 내에 상기 광축 방향으로 포커싱하고 주사하기 위한 대물 렌즈 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 레이저 방사에 패널을 노출시키는 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 조절 수단들은 상기 메인 빔을 상기 시간 조절된 빔으로 전환시켜 전달하는 음향 광학 모듈레이터를 구비하는 것을 특징으로 하는 레이저 방사에 패널을 노출시키는 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 음향 광학 모듈레이터는 각 스캔 주기 동안 상기 패널 상의 상기 수직 레이저 빔 충격의 첫 지점을 해당 광학부에 상응하는 상기 부위의 시작점과 일치시키는 조절 수단들을 구비하는 것을 특징으로 하는 레이저 방사에 패널을 노출시키는 장치.
  5. 제 1 내지 4 항에 있어서,
    상기 X 방향으로 상기 패널을 이동시키기 위한 상기 이동 수단들은 상기 지지대를 연속적으로 등속도로 움직이게 하고,
    상기 X 방향으로의 상기 지지대의 연속적인 이동 효과를 보상하기 위하여 상기 광학부의 광축 방향은 상기 Y 방향에 직교하는 방향과 소정의 각도를 이루도록 하는 것을 특징으로 하는 레이저 방사에 패널을 노출시키는 장치.
  6. 제 1 항 내지 제 4 항에 있어서,
    상기 지지대를 상기 X 방향으로 이동시키기 위한 상기 이동 수단들은 상기 지지대를 연속적으로 등속도로 움직이게 하고,
    상기 X 방향으로의 상기 지지대의 연속적인 이동 효과 및 상기 진행 방향인 X 와 Y 사이의 수직 오차를 보상하기 위하여, 상기 광학부의 상기 광축의 방향은 상기 Y 방향에 직교하는 방향과 소정 각도 a를 이루는 것을 특징으로 하는 레이저 방사에 패널을 노출시키는 장치.
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