KR20010045865A - 산염화물 및 그를 이용한 아미드 유도체의 제조방법 - Google Patents

산염화물 및 그를 이용한 아미드 유도체의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20010045865A
KR20010045865A KR1019990049351A KR19990049351A KR20010045865A KR 20010045865 A KR20010045865 A KR 20010045865A KR 1019990049351 A KR1019990049351 A KR 1019990049351A KR 19990049351 A KR19990049351 A KR 19990049351A KR 20010045865 A KR20010045865 A KR 20010045865A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
mmol
added
tca
acid chloride
Prior art date
Application number
KR1019990049351A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100349889B1 (ko
Inventor
박희중
장두옥
김중곤
Original Assignee
박희중
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 박희중 filed Critical 박희중
Priority to KR1019990049351A priority Critical patent/KR100349889B1/ko
Publication of KR20010045865A publication Critical patent/KR20010045865A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100349889B1 publication Critical patent/KR100349889B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C231/00—Preparation of carboxylic acid amides
    • C07C231/02—Preparation of carboxylic acid amides from carboxylic acids or from esters, anhydrides, or halides thereof by reaction with ammonia or amines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C233/00—Carboxylic acid amides
    • C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2531/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • C07C2531/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

본 발명은 산염화물 및 그를 이용한 아미드유도체를 제조하는 신규한 방법에 관한 것으로, 입수가 용이한 트리클로로아세토니트릴(이하 'TCA'라 함)과 트리페닐포스핀(이하 'TPP'라 함)의 혼합물을 이용하여 산염화물인 활성중간체를 실온에서 제조한 다음, 제조된 산염화물을 소정 촉매의 존재하에서 다양한 작용기를 갖는 1차 또는 2차 아민과 실온에서 반응시켜 아미드결합을 함유하는 아미드 유도체를 제조하는 것으로 이루어진 본 발명은 실온의 온화한 조건에서 짧은 시간의 간편한 반응에 의해서도 아미드 유도체의 높은 수율 및 고순도가 보장되는 전혀 새로운 제조방법이다.

Description

산염화물 및 그를 이용한 아미드 유도체의 제조방법 {Method for synthesizing acid chloride and amide derivatives using thereof}
본 발명은 산염화물과 그를 이용한 아미드 결합(-CONH-)을 가지는 아미드유도체의 제조방법에 관한 것이다.
아미드 결합을 갖는 화합물을 제조하는 방법은 영국특허 제1,507,463호, 제1,573,310호, 미국특허 제4,138,492호, 한국특허 제44035호, 제22362호 등에 개시되어 있다. 이들 공지된 방법은 산의 반응성 유도체인 알킬 에스테르, 산염화물, 혼합무수물을 제조한 후 이들 각각의 화합물과 아민을 반응시켜 아미드화합물을 제조하는 방법, 산과 아민을 축합제 디시클로헥실카보디이미드를 이용하여 제조하는 방법, 화학식 1의 물질을 축합제로 사용하여 제조하는 방법 등이 있다.
그러나 이들 방법중 디시클로헥실카보디이미드를 이용하는 방법은 디시클로헥실카보디이미드의 가격이 비쌀 뿐만 아니라 수율이 좋지 못하고, 산의 반응성 유도체인 알킬 에스테르, 혼합무수물을 이용하는 방법은 산염화물의 제조시 염산가스 발생 및 산염화물의 안정성 등 그 제조와 취급에 불편한 단점이 있고, 화학식 1의 축합제를 이용하는 방법 또한 축합제의 상업적 구입이 용이하지 않아 높은 수율과 고순도의 반응물을 얻을 수 있다는 장점에도 불구하고 상업화가 어려운 단점이 있다.
본 발명은 종래기술의 단점을 보완한, 산염화물과 그를 이용한 아미드 유도체의 신규한 제조방법을 제공함을 그 목적으로 한다.
본 발명은 산염화물 및 그를 이용한 아미드유도체를 제조하는 신규한 방법에 관한 것으로 입수가 용이한 트리클로로아세토니트릴(이하 'TCA'라 함)과 트리페닐포스핀(이하 'TPP'라 함)의 혼합물을 이용하여 산염화물인 활성 중간체를 실온에서 제조한 다음, 제조된 산염화물을 소정 촉매의 존재하에서 다양한 작용기를 갖는 1차 또는 2차 아민과 실온에서 반응시켜 아미드결합을 함유하는 아미드유도체를 제조할 수 있다.
본 발명은 실온의 온화한 조건에서 짧은 시간의 간편한 반응에 의해서도 아미드유도체의 높은 수율 및 고순도가 보장되는 전혀 새로운 제조방법이다.
본 발명을 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
먼저 첫번째 단계로 화학식 2, 3과 같은 구조를 가진 유기산 유도체에 TCA 및 TPP의 혼합물을 첨가하여 화학식 4, 5의 산염화물을 제조한다.
상기 R1, R2, R3, 및 R4는 수소, 저급알킬, 저급알킬옥시, 저급알킬카르보닐, 할로, 히드록시, 시아노, 니트로, 아미노술포닐, 저급알킬술포닐, 및 저급알킬티오로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선정될 수 있다.
보다 구체적으로 벤조산, 4-브로모벤조산, 4-메틸벤조산, 4-니트로벤조산, 2-아세틸살리실릴산, 트랜스-시나밀산, n-옥타노익산, 2-옥테노익산, 2-브로모아이소버랄릴산, (S)-(-)-아세틸-머캅토아이소부티릴산, N-벤질옥시카보닐-L-페닐알라닌, 4-아세토아미노-5-클로로-2-메톡시 벤조산 등의 유기산 유도체가 사용될 수 있으나 상기 목록에 의해 사용되는 유기산 유도체의 범위가 한정되지 않는다.
산염화물의 제조단계에서 TCA와 TPP 혼합물 첨가량은 유기산 유도체를 기준으로 몰비 1.0~4.0당량 이상 사용할 수 있고, 반응온도 -40~90℃범위에서 40분 이상 반응시키면 산염화물을 제조할 수 있다. 이때 유기산 유도체를 기준으로 TCA와 TPP 혼합물 첨가량을 2.0 몰비로 할 경우 더 높은 수율로 산염화물을 얻을 수 있으며, 이 산염화물은 기타 생성물과 분리되거나 분리되지 않은 상태에서 다음 반응에 사용할 수 있다.
다음 두번째 단계에서 화학식 4, 5의 구조를 가지는 산염화물을 소정 촉매의 존재하에 화학식 6의 구조를 가지는 아민화합물과 반응시켜 화학식 7, 8과 같은 구조를 가진 아미드 유도체를 제조한다. 이때 상기 촉매는 트리에틸아민이 바람직하다.
상기 R5, R6는 수소, 저급알킬, 저급알킬카르복실, 시클로알킬 및 디알킬로 이루어진 그룹 중에서 독립적으로 선정될 수 있다.
보다 구체적으로 스클로헥실아민, 옥타데실아민, 벤즈히드릴아민, 아다만탄아민, 디에틸아민, 아닐린, L-프롤린 메틸에스터, 글라신 에틸에스터, 1-벤질-4-아미노 피페리딘 등의 아민이 사용될 수 있으나, 상기 목록에 의해 한정되지 않는다.
아미드 유도체 제조단계에서 아민화합물은 1.0 내지 1.3 당량 사용되며, 촉매로는 트리에틸아민을 1.0-3.0 당량 사용하여 반응온도 -40~90℃범위에서 30분 이상 반응시키면 높은 순도와 수율로 목적하는 아미드 유도체를 얻을 수 있다. 상기 촉매로는 트리에틸아민 외에 디메틸아미노피리딘 또는 피리딘 등의 3차 아민 화합물이 사용 될 수 있다.
산염화물 및 아미드 유도체 제조시에 반응용매로는 테트라히드로퓨란, 아세토니트릴, 클로로포름, 메틸렌클로라이드, 에틸렌클로라이드, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸에테르, 디옥산, N,N-디메틸포름아미드 등이 사용될 수 있으며, 테트라히드로퓨란, 에테르, 메틸렌클로라이드, 아세토니트릴, 톨루엔, 에틸아세테이트를 사용하는 것이 보다 바람직하다.
다음은 본 발명의 실시예를 나타낸 것으로 다음의 실시예에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
실시예 1: N-시클로헥실 벤조아미드의 제조
벤조산 1,24g(10 mmol)과 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온(15-20℃)에서 40분간 교반한 후 트리에틸아민 4.2ml(30 mmol) 및 시클로헥실아민 1g(10 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 30분 교반한 후 물 10ml를 가한다. 유기층을 분리하여 0.1N 염산용액으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 N-시클로헥실 벤조아미드 2g(97%)을 얻을 수 있다.
실시예 2: N-시클로헥실-4-니트로벤조아미드의 제조
4-니트로벤조산 1.67g(10 mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 40분간 교반한 후 트리에틸아민 4.2ml(30 mmol) 및 시클로헥실아민 1g(10 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 30분 교반한 후 물 10ml를 가한다. 유기층을 분리하여 0.1N 염산용액으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 N-시클로헥실-4-니트로벤조아미드 1.98g(80%)을 얻을 수 있다.
실시예 3: N-옥타데실 벤조아미드의 제조
벤조산 1.24g(10 mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 트리 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 40분간 교반한 후 트리에틸아민 4.2ml(30 mmol) 및 옥타데실아민 2.69g(10 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 30분 교반한 후 물 10ml를 가한다. 유기층을 분리하여 0.1N 염산용액으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 N-옥타데실 벤조아미드 3.39g(91%)을 얻을 수 있다.
실시예 4: N-벤즈히드릴 벤조아미드의 제조
벤조산 1.24g(10 mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 40분간 교반한 후 트리에틸아민 4.2ml(30 mmol) 및 벤즈히드릴아민 1.83g(10 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 30분 교반한 후 물 10ml를 가한다. 유기층을 분리하여 0.1N 염산용액으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 N-벤즈히드릴 벤조아미드 2.78g(97%)을 얻을 수 있다.
실시예 5: N-아다만탄닐 벤조아미드의 제조
벤조산 1.24g(10 mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 40분간 교반한 후 트리에틸아민 4.2ml(30 mmol) 및 1-아다만탄아민 1.51g(10 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 30분 교반한 후 물 10ml를 가한다. 유기층을 분리하여 0.1N 염산용액으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 N-아다만탄닐 벤조아미드 2.32g(91%)을 얻을 수 있다.
실시예 6: N,N-디에틸 벤조아미드의 제조
벤조산 1.24g(10 mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 40분간 교반한 후 트리에틸아민 4.2ml(30 mmol) 및 디에틸아민 0.73g(10 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 30분 교반한 후 물 10ml를 가한다. 유기층을 분리하여 0.1N 염산용액으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 N,N-디에틸 벤조아미드 1.75g(98%)을 얻을 수 있다.
실시예 7: 아닐린 벤조아미드의 제조
벤조산 1.24g(10 mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 40분간 교반한 후 트리에틸아민 4.2ml(30 mmol) 및 아닐린 0.93g(10 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 30분 교반한 후 물 10ml를 가한다. 유기층을 분리하여 0.1N 염산용액으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 아닐린 벤조아미드 1.77g(89%)을 얻을 수 있다.
실시예 8: N-시클로헥실-p-브로모벤조아미드의 제조
p-브로모벤조산 2.01g(10 mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 40분간 교반한 후 트리에틸아민 4.2ml(30 mmol) 및 시클로헥실아민 1g(10 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 30분 교반한 후 물 10ml를 가한다. 유기층을 분리하여 0.1N 염산용액으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 N-시클로헥실-p-브로모벤조아미드 2.55g(90%)을 얻을 수 있다.
실시예 9: N-시클로헥실-p-메톡시벤즈아미드의 제조
p-메톡시벤조산 1.52g(10 mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 40분간 교반한 후 트리에틸아민 4.2ml(30 mmol) 및 시클로헥실아민 1g(10 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 30분 교반한 후 물 10ml를 가한다. 유기층을 분리하여 0.1N 염산용액으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 N-시클로헥실-p-메톡시벤즈아미드 2.1g(90%)을 얻을 수 있다.
실시예 10: N-시클로헥실-p-티부틸벤즈아미드의 제조
p-티부틸벤조산 1.78g(10 mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 40분간 교반한 후 트리에틸아민 4.2ml(30 mmol) 및 시클로헥실아민 1g(10 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 30분 교반한 후 물 10ml를 가한다. 유기층을 분리하여 0.1N 염산용액으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 N-시클로헥실-p-티부틸벤즈아미드 2.47g(95%)을 얻을 수 있다.
실시예 11: 2-메틸에스터-L-프롤린-(S)-(-)-아세틸-β-머캅토이소부탄아미드의 제조
(S)-(-)-아세틸-머캅토이소부탄산 1.62g(10 mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 40분간 교반한 후 트리에틸아민 4.2ml(30 mmol) 및 2-메틸에스터-L-프롤린.HCl 1.65g(10 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 30분 교반한 후 물 10ml를 가한다. 유기층을 분리하여 0.1N 염산용액으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 2-메틸에스터-L-프롤린-(S)-(-)-아세틸-β-머캅토이소부탄아미드 2.21g(81%)을 얻을 수 있다.
실시예 12: 에틸 N-벤질옥시카보닐-L-페닐알라닌 글리시네이트의 제조
N-벤질옥시카보닐-L-페닐알라닌 2.25g(10 mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 테트라히드로퓨란 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 40분간 교반한 후 트리에틸아민 4.2ml(30 mmol) 및 글라신 에틸 에스터.HCl 1.4g(10 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 30분 교반한 후 35-40℃에서 감압농축한다. 얻어진 잔사에 물 10ml와 메칠렌클로라이드 20ml를 가한 후 유기층을 분리하고, 분리된 유기층을 0.1N 염산 용액으로 세척하고 무수황산나트륨으로 건조 후 진공농축하여 에틸 N-벤질옥시카보닐-L-페닐알라닌 글리시네이트 3.03g(89%)를 얻을 수 있다.
실시예 13: 4-아세토아미노-5-클로로-2-메톡시-N[1-(페닐메틸)-4-피페리디닐]벤즈아미드의 제조
4-아세토아미노-5-클로로-2-메톡시 벤조산 2.44g(10 mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 테트라히드로퓨란 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 40분간 교반한 후 트리에틸아민 4.2ml(30 mmol) 및 1-벤질-4-아미노피페리딘 1.9g(10 mmol)을 가한다. 실온 (15-20℃)에서 30분 교반한 후 35-40℃에서 감압농축한다. 얻어진 잔사에 물 10ml와 메칠렌클로라이드 20ml를 가한 후 유기층을 분리하고, 분리된 유기층을 0.1N 염산 용액으로 세척하고 무수황산나트륨으로 건조 후 진공농축하여 4-아세토아미노-5-클로로-2-메톡시-N[1-(페닐메틸)-4-피페리디닐]벤즈아미드 3.9g(94%)를 얻을 수 있다.
실시예 14: 벤조일 클로라이드
벤조산 1.24g(10 mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온(15-20℃)에서 40분간 교반한 후 물 10ml를 가한다. 유기층을 분리한 후, 이 유기층을 물용액(10ml x 2)으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 표제화합물 1.39g(98.5%)을 얻는다.
1H NMR(CDCl3,300MHz) δ7.48-7.53(2H,m), 7.65-7.71(1H,m), 8.1-8.13(2H,m)
실시예 15: 4-니트로 벤조일 클로라이드
4-니트로벤조산 1.67g(10mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20mmol)을 가한다. 실온(15-20℃)에서 40분간 교반한 후 물 10ml를 가한다. 이 유기층을 물용액(10ml x 2)으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 표제화합물 1.67g(90%)을 얻는다.
m.p.=73-74℃;1H NMR(CDCl3,300MHz) δ8.3-8.4(4H,m)
실시예 16: p-브로모 벤조일 클로라이드
p-브로모벤조산 2.01g(10mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온(15-20℃)에서 40분간 교반한 후 물 10ml를 가한다. 유기층을 분리한 후, 이 유기층을 물용액(10ml x 2)으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 표제화합물 2.09g(95%)을 얻는다.
1H NMR(CDCl3,300MHz) δ7.46-7.51(2H,d), 8.04-8.09(2H,d)
실시예 17: p-메톡시 벤조일 클로라이드
p-메톡시벤조산 1.52g(10mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온(15-20℃)에서 40분간 교반한 후 물 10ml를 가한다. 유기층을 분리한 후, 이 유기층을 물용액(10ml x 2)으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 표제화합물 1.62g(95%)을 얻는다.
m.p.=22-23℃;1H NMR(CDCl3,300MHz) δ6.94-6.97(2H,d), 8.04-8.08(2H,d)
실시예 18: p-티부틸 벤조일 클로라이드
p-티부틸벤조산 1.78g(10mmol) 및 TCA 2.9g(20mmol)을 메칠렌클로라이드 20ml에 용해시키고 TPP 5.24g(20 mmol)을 가한다. 실온(15-20℃)에서 40분간 교반한 후 물 10ml를 가한다. 유기층을 분리한 후, 이 유기층을 물용액(10ml x 2)으로 세척한 후 무수 황산 나트륨으로 건조하고 진공농축하여 표제화합물 1.93g(98%)을 얻는다.
1H NMR(CDCl3,300MHz) δ1.35(9H,s), 7.3-7.32(2H,d), 8.0-8.05(2H,d)
본 발명에 의해서 아미드유도체의 제조시 그 원재료의 구입이 용이해지며, 온화한 반응 조건하에서 높은 수율로 목적화합물인 아미드유도체를 제조할 수 있게 된다.

Claims (7)

  1. 화학식 2 또는 3의 유기산유도체를 트리클로로아세토니트릴(TCA) 및 트리페닐포스핀(TPP)와 반응시켜 화학식 4 또는 5의 산염화물을 합성하는 단계; 이 산염화물을 소정 촉매의 존재하에 화학식 6의 아민과 반응시켜 화학식 7 또는 8의 아미드 유도체를 제조하는 단계로 이루어진 아미드 유도체 제조방법.
    [화학식 2]
    [화학식 3]
    [화학식 4]
    [화학식 5]
    [화학식 6]
    [화학식 7]
    [화학식 8]
    (여기서 상기 R1, R2, R3, R4는 수소, 저급알킬, 저급알킬옥시, 저급알킬카르보닐, 할로, 히드록시, 시아노, 아미노술포닐, 및 저급알킬티오로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 것이고, R5, R6는 수소, 저급알킬, 저급알킬옥시, 저급알킬카르보닐, 할로, 히드록시, 시아노, 니트로, 아미노술포닐, 저급알킬술포닐 및, 저급알킬티오로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 것이다)
  2. 제1항에 있어서, 상기 산염화물의 제조단계에서 TCA와 TPP 혼합물 첨가량은 유기산 유도체를 기준으로 몰비 1.0~4.0당량 이상 사용하는 것을 특징으로 하는 아미드 유도체 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 아미드 유도체 제조단계에서 아민화합물은 1.0 내지 1.3 당량 사용하는 것을 특징으로 하는 아미드 유도체 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 산염화물 제조단계와 상기 아미드 유도체 제조단계의 응온도를 -40~90℃범위로 되게 하는 것을 특징으로 하는 아미드 유도체 제조방법.
  5. 제1항에 있어서, 산염화물 및 아미드 유도체 제조시 반응용매로 테트라히드로퓨란, 아세토니트릴, 클로로포름, 메틸렌클로라이드, 에틸렌클로라이드, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸에테르, 디옥산, N,N-디메틸포름아미드 등이 사용될 수 있으며, 테트라히드로퓨란, 에테르, 메틸렌클로라이드, 아세토니트릴, 톨루엔, 에틸아세테이트 등으로 이루어진 군에서 선택된 것을 사용하는 것을 특징으로 하는 아미드 유도체 제조방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 촉매는 트리에틸아민임을 특징으로 하는 아미드 유도체 제조방법.
  7. 화학식 2 또는 3의 유기산유도체를 트리클로로아세토니트릴(TCA) 및 트리페닐포스핀(TPP)와 반응시켜 제조된 산염화물로서 화학식 4 또는 5로 표현되는 아미드 유도체의 중간체.
    [화학식 2]
    [화학식 3]
    [화학식 4]
    [화학식 5]
    (여기서 상기 R1, R2, R3, R4는 수소, 저급알킬, 저급알킬옥시, 저급알킬카르보닐, 할로, 히드록시, 시아노, 아미노술포닐, 및 저급알킬티오로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 것이다)
KR1019990049351A 1999-11-09 1999-11-09 산염화물 및 그를 이용한 아미드 유도체의 제조방법 KR100349889B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019990049351A KR100349889B1 (ko) 1999-11-09 1999-11-09 산염화물 및 그를 이용한 아미드 유도체의 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019990049351A KR100349889B1 (ko) 1999-11-09 1999-11-09 산염화물 및 그를 이용한 아미드 유도체의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20010045865A true KR20010045865A (ko) 2001-06-05
KR100349889B1 KR100349889B1 (ko) 2002-08-22

Family

ID=19619138

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019990049351A KR100349889B1 (ko) 1999-11-09 1999-11-09 산염화물 및 그를 이용한 아미드 유도체의 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100349889B1 (ko)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100619433B1 (ko) * 2004-05-20 2006-09-08 한기종 와인랩아마이드의 제조방법
KR100619434B1 (ko) * 2004-05-27 2006-09-08 한기종 와인랩아마이드의 새로운 제조방법
KR100619440B1 (ko) * 2004-05-20 2006-09-08 한기종 포름아마이드 유도체 제조방법
KR100619436B1 (ko) * 2004-06-01 2006-09-08 한기종 디포스젠을 이용한 아마이드 제조방법
KR100619435B1 (ko) * 2004-06-24 2006-09-08 한기종 아마이드의 새로운 제조방법

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100619433B1 (ko) * 2004-05-20 2006-09-08 한기종 와인랩아마이드의 제조방법
KR100619440B1 (ko) * 2004-05-20 2006-09-08 한기종 포름아마이드 유도체 제조방법
KR100619434B1 (ko) * 2004-05-27 2006-09-08 한기종 와인랩아마이드의 새로운 제조방법
KR100619436B1 (ko) * 2004-06-01 2006-09-08 한기종 디포스젠을 이용한 아마이드 제조방법
KR100619435B1 (ko) * 2004-06-24 2006-09-08 한기종 아마이드의 새로운 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR100349889B1 (ko) 2002-08-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6700011B1 (en) Process for the preparation of naproxene nitroxyalkylesters
CA1233467A (en) Phenyl tetrahydronaphthylcarboxylate derivatives
KR20010045865A (ko) 산염화물 및 그를 이용한 아미드 유도체의 제조방법
US4163748A (en) Propane-1,3-diol phosphatides and method of preparing the same
EP0099960B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Niederalkylestern von N-L-alpha-Aspartyl-L-phenylalanin und neue Zwischenprodukte zu deren Herstellung
US5089492A (en) Pharmaceuticals and dietetics containing acylamino acid derivatives
US5652371A (en) 3-imino-3-alkoxy-propionic acid lactates and their tautomeric acrylic acid lactates
US4980482A (en) Process for the preparation of N-maleoyl activated esters of amino acids
US4160828A (en) Analgesic phosphinyl compounds and compositions
JPH05221941A (ja) カルボン酸エステル保護基、それらの生成法、それらの官能基へのカップリング及びそれらの使用
KR100582751B1 (ko) 아미노기 보호기, 이 보호기의 제조방법 및 이 보호기를이용한 펩티드 합성방법
KR890000194B1 (ko) L-페닐 알라닌 에스테르의 제조방법
US4277399A (en) Process for preparing pyrenzepine
EP0473435B1 (en) Mono-N,N-dimethyl-4-aminopyridinium sn-glycerol-3-phosphate, production and use thereof in preparation of phosphatidic acids
KR100273765B1 (ko) N-(4-피페리딘)벤즈아미드의 제조방법과 그 중간체인 새로운활성티오에스테르 및 그 제조방법
US5672711A (en) Process for manufacturing cephem derivatives
SU1384580A1 (ru) Способ получени (S) -2- N(N @ -бензилпролил)аминобензофенонов
SU1130560A1 (ru) Дипентафторфенилсульфит в качестве реагента дл синтеза пентафторфениловых эфиров @ -защищенных аминокислот и пептидов
KR100288404B1 (ko) 2-벤조티아졸릴 4-아미노-5-클로로-2-메톡시티오벤조에이트 및
US5162535A (en) Mono-N,N-dimethyl-4 aminopyridinium sn-glycerol-3-phosphate, its production and use in preparation of phosphatidic acids
KR100445781B1 (ko) (ｓ)-1-아세틸-2-피롤리딘카복스아미드의 제조방법
KR100250335B1 (ko) 4-아미노벤즈아미드 유도체의 제조방법
KR950006149B1 (ko) 신규 n-(2-할로알카노일옥시)석신이미드 유도체 및 그 제조방법
KR890001851B1 (ko) 아미노알칸올에스테르의 신규 제조방법
KR900007314B1 (ko) N-(메톡시아세틸)-n-(2,6-디메틸페닐)-3-아미노-옥사조리딘-2-온의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee