KR20010028547A

KR20010028547A - 설폭시드 화합물의 제조방법

Info

Publication number: KR20010028547A
Application number: KR1019990040831A
Authority: KR
Inventors: 최수진; 문성철; 변영석
Original assignee: 윤재승; 주식회사 대웅제약
Priority date: 1999-09-21
Filing date: 1999-09-21
Publication date: 2001-04-06
Also published as: AU7040700A; KR100362947B1; WO2001021617A1

Abstract

본 발명은 구조식 (II)의 설파이드 화합물을 구조식 (II)의 설파이드 화합물에 대하여 1-5몰%의 레늄 화합물 존재하, 에탄올 용매에서 과산화수소와 반응시켜 구조식 (I)의 설폭시드 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.

본 발명은 부생성물들의 생성을 최대한 억제하고, 복잡한 정제과정 또는 탈색공정을 생략하여 간단한 여과공정만으로도 항궤양제로 유용한 설폭시드 화합물을 고수율 및 고순도로 제조할 수 있어 산업적 및 경제적으로 유용한 발명이다.

Description

설폭시드 화합물의 제조방법{Process for Preparing Sulfoxide Compound}

본 발명은 위산분비억제 작용을 갖는 항궤양제로 사용되는 설폭시드 화합물의 제조방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 구조식 (II)의 설파이드화합물을 레늄 화합물의 촉매 존재하에서 과산화수소로 산화시켜 구조식 (I)의 설폭시드 화합물을 제조하는 방법에 관한 것으로, 선행기술과는 달리 부생성물인 구조식 (III)의 N-옥시드 화합물과 구조식 (IV)의 설폰 화합물의 생성을 최대한 억제하고 간단한 분리공정으로 구조식 (I)의 설폭시드 화합물을 고수율 및 고순도로 제조하는 방법에 관한 것이다.

상기 구조식 (I)로 표시되는 설폭시드 화합물은 위산분비억제 작용을 갖는 항궤양제로서 일반적인 제조방법은 다음 반응식 1과 같이 구조식 (II)의 설파이드화합물을 산화제로 산화 반응시켜 구조식 (I)의 설폭시드 화합물을 제조한다.

산화반응에 사용하는 종래의 산화제로는 아이오도소 벤젠 (스페인특허 제539,793호, 1985년), 아이오도소 메틸벤젠 (스페인특허 제540,147호, 1985년), m-클로로퍼벤조산 (미국특허 제4,628,098호, 1986년, 제4,255,431호, 1981년), 퍼아세트산 (국제출원 공개특허 제98/09962호, 1998년), 소디움 퍼클로라이트 (유럽특허 제268,956호, 1988년), 소디움 퍼아이오데이트 (스페인특허 제550,070호, 1985년)등 여러 가지 산화제가 보고되어 있으나, 산화제의 활성과 무게 측정의 용이성 등을 고려할 때 m-클로로퍼벤조산이 자주 사용되고 있다.

구조식 (II)의 설파이드 화합물을 m-클로로퍼벤조산으로 산화반응시켜 구조식 (I)의 설폭시드 화합물을 제조하는 선행기술을 살펴보면 다음과 같다.

한국특허 제052837호 (1992년)에서는 구조식 (I)의 화합물에 대해 녹는점만 기재되어 있을 뿐 순도 및 수율은 언급되어 있지 않으나, 한국특허 제100796호 (1996년)의 참고예를 인용하면 구조식 (I) 화합물의 수율은 74.9%로 비교적 저조하였다.

이와 같이 수율이 낮은 이유는 산화제인 m-클로로퍼벤조산으로 산화반응할 경우 다음 반응식 2와 같이 구조식 (III)의 N-옥시드와 구조식 (IV)의 설폰 화합물과 같은 부생성물이 함께 제조되기 때문이며, 더욱이 이러한 부생성물들은 구조식(I)의 설폭시드 화합물과 용해도 등의 물리화학적 성질이 매우 유사하여 재결정과 같은 일반적인 정제방법으로 제거하기가 용이하지 않기 때문이다.

그리고, m-클로로퍼벤조산이 고가시약이며 위험물로 지정되어 사용 및 보관단계에 주의를 요하므로 대량으로 취급하기에는 어렵다. 또한, 산화반응의 바람직한 반응용매로 클로로포름, 염화메틸렌과 같은 환경적으로 유해한 할로겐 용매를 사용하는 등 산업적으로 적용하는데 단점을 내포하고 있다.

이외에도, 일본특허 공개공보 平11-71370호 (1999년)에서는 구조식 (II)의 설파이드 화합물을 비극성 용매와 저급 알콜 혼합용매 중에서 산화시켜 구조식 (I)의 설폭시드 화합물을 제조하였다. 그러나, 이 방법 역시 71.6%의 저조한 수율로 얻어진다고 보고되었다. 그리고, 국제출원 공개특허 제99/02521호 (1999년)에서는구조식 (II)의 설파이드 화합물을 무수 초산과 물 존재 하에서 과보론산나트륨·4수화물 (NaBO₃·4H₂O)으로 반응시켜 산화시키거나 무기염기 존재하에 N-클로로숙신 산으로 산화시켜 구조식 (I)의 설폭시드 화합물을 각각 78.4%와 84.1%의 수율로 얻었다고 서술되어 있다.

이와 같이, m-클로로퍼벤조산 등과 같은 산화제를 사용하는 방법들은 대개 고가시약이며, 많은 경우 산화과정에서 반응이 진행되지 않거나 분해 또는 부생성물이 다량 생성되기 때문에 산업적으로 활용하기에는 어렵다.

최근 한국특허 공고 제92-3691호 (1992년) 및 미국특허 제5,391,752호 (1995년)에서는 다음 반응식 3과 같이 구조식 (V)의 설파이드 화합물을 산화제로서 m-클로로퍼벤조산 대신 모노퍼옥시프탈산 마그네슘염으로 반응시켜 구조식 (VI)의 오메프라졸을 제조하는 방법이 개시되어 있다.

상기 반응식 3에서는 수율 96% (한국특허 공고 제92-3691호) 및 수율 81∼92% (미국특허 제5,391,752호)로 각각 기재되어 있다. 그러나, 산화과정에서 부생성물로 생성되는 N-옥시드 및 설폰 화합물들에 대한 언급이 전혀 없으며 제조된 오메프라졸 화합물에 대한 순도 또한 정확히 기재되어 있지 않다. 그리고, 환경적으로 유해한 할로겐 유기용매인 염화메틸렌 또는 클로로포름으로 수 회 추출한 다음 감압 농축하고 다시 재결정을 하는 등 정제과정이 비교적 복잡하다.

한편, 최근에는 구조식 (II)의 설파이드 화합물을 촉매 존재하에 과산화수소 (H₂O₂)와 같은 산화제로 산화시키는 방법들이 일부 보고되어 있으나, 촉매의 종류가 제한되어 있는 실정이다.

먼저, 한국특허 제100796호 (1996년)에서 구조식 (II)의 설파이드 화합물을 바나듐 촉매 존재하에서 과산화수소로 산화시켜 구조식 (I)의 설폭시드 화합물을 제조하는 방법이 보고되어 있다. 상기 방법에서는 구조식 (III)의 N-옥시드 화합물의 생성을 적게 하면서 목적화합물을 89.5∼93.2%의 고수율로 제조하였다고 서술되어 있다.

그러나, 상기 방법은 산업적으로 적용하기에는 몇 가지 문제점을 내포하고 있다. 첫째, 부생성물로서 구조식 (III)의 N-옥시드 화합물만 언급되어 있을 뿐 반응식 2에서와 같이 구조식 (IV)의 설폰 화합물의 부생성물에 대한 생성여부와 이의정제방법에 대해서는 명세서 상에 전혀 언급되어 있지 않다. 그러나, 일반적으로 고순도의 의약품을 제조시 부생성물의 잔류는 목적화합물의 순도 및 안정성을 저하시키고 경우에 따라 변색을 유발시킬 뿐만 아니라 부생성물이 인체에 바람직하지 못한 약리작용을 일으킬 수 있어 부생성물의 허용치를 엄격하게 제한하고 있는 실정이다. 일반적으로 산화반응에서 부생성물로서 구조식 (IV)의 설폰 화합물이 생성된다는 것은 이미 잘 알려진 사실이다. 국제출원 공개특허 제98/09962호 (1998년),제99/02521호 (1999년) 및 스페인특허 제2,060,541호 (1994년) 등에서는 산화반응과정에서 구조식 (I)의 설폭시드 화합물이 생성되고 일부의 설폭시드 화합물이 다시 산화되어 설폰 화합물이 일부 생성되는 문제점을 가지고 있으며, 이러한 설폰화합물의 생성을 근본적으로 방지할 수 있는 화학적인 방법은 현재까지 알려져 있지 않다. 실제로 본 발명자들이 한국특허 제100796호 (1996년)의 실시예를 그대로 재현해 보았다. 즉, 목적화합물의 순도가 가장 높은 실시예 4의 경우 5시간 동안 반응시킨 다음 반응 혼합물을 HPLC로 분석한 결과 설폰 화합물이 HPLC 면적율로 약 1% 이상 생성되었으며, 분리 정제한 후에도 약 0.4%가 잔류되었다. 더욱이 국내 시판품에서도 설폰 화합물이 HPLC 면적율로 약 0.1∼0.2% 존재함을 확인할 수 있었다. 이와 같이, 설폰 화합물은 설폭시드 화합물과 물리화학적 성질이 매우 유사하여 고순도의 설폭시드 화합물만을 얻기 위한 분리 정제가 용이하지 못하다. 둘째, 촉매로 사용되는 바나듐 화합물이 인체에 매우 유독하여 취급이 용이하지 못하므로 대량생산에 적합하지 못한 문제점이 있다(미국특허제5,391,752호). 셋째, 상기 선행기술들은 고순도의 목적화합물을 얻기 위해 반응시키고, 얻은 조결정을 60∼70℃까지 가열하여 용해시키고 다시 불용물을 여과하여 제거시킨 후 재결정하는 등 부생성물들을 제거하기 위한 정제과정이 복잡하여 대량생산에 적용하기에는 작업 공정수의 증가와 제조경비의 상승 등 어려움이 따른다. 넷째, 산화과정에서 반응 혼합물이 착색되어 정제과정 이외에도 탈색공정이 추가로 필요하다는 단점이 있다. 일반적으로, 벤즈이미다졸계 항궤양제는 산에 대하여 불안정하여 산화반응 조건에서 목적화합물이 착색되어 탈색공정이 추가로 요구된다는 것은 이미 잘 알려져 있는 사실이다 (국제출원 공개특허 제98/40377호, 제98/40378호, 미국특허 제5,374,730호).

상기 방법 이외에도, 바나듐 화합물의 촉매 존재 하에 과산화수소로 산화시킨 몇 가지 제조방법이 소개되어 있다.

예를 들면, 미국특허 제5,502,195호 (1996년), 제5,374,730호 (1994년)에서는 다음 반응식 4와 같이 구조식 (VII)의 화합물로 부터 구조식 (VIII)의 설폭시드 화합물을 제조하였다.

또한, 스페인특허 제2,060,541호 (1994년)에서는 다음 반응식 5와 같이 구조식 (IX)의 화합물로 부터 구조식 (X)의 화합물을 제조하였다.

바나듐 촉매 이외에도 스페인특허 제2,036,948호 (1993년)에서는 몰리브덴 화합물로서 암모늄 몰리브데이트［(NH₄)₂M_oO₄］촉매 존재하에 과산화수소로 산화시키는 방법이 보고되어 있으나, 수율이 75%로 저조하여 경제성이 떨어진다고 할 수 있다.

이상과 같이 산화반응에 촉매를 도입하는 방법에는 현재까지 바나듐 화합물만이 이용되고 있으나, 한국특허 제100796호 (1996년) 등에서와 같이 산업적으로 적용하기에는 여러 가지 문제점을 내포하고 있으며 기타 다른 촉매의 경우에도 수율이 저조하여 경제성에서 장점이 없다고 할 수 있다.

이와 같이 기존의 선행기술들은 산화과정에서 구조식 (III)의 N-옥시드는 물론 구조식 (IV)의 설폰 화합물이 부생성물로서 생성되기 때문에 순수한 화합물로서 설폭시드 화합물을 분리, 정제하기가 곤란하며, 반응 중 착색으로 인해 탈색공정이 추가로 요구되는 등 복잡한 정제과정을 필요로 하고, 환경적으로 유해한 할로겐 용매를 사용하거나 인체에 유독한 촉매 또는 산화제 시약들을 사용하기 때문에 대량생산에 적용하기에 곤란한 문제점들이 있었다.

본 발명은 상기와 같은 사실에 의거하여 안출한 것으로서, 본 발명자들은 구조식 (III)의 N-옥시드 화합물은 물론 구조식 (IV)의 설폰 화합물과 같은 부생성물을 최대한 억제할 수 있는 촉매의 선택과 환경 친화적인 반응용매의 선택 및 복잡한 정제과정을 배제하여 산업적 적용이 용이한 방법을 개발하고자 오랜 기간 동안 체계적인 연구를 수행하여 구조식 (II)의 설파이드 화합물을 레늄 화합물의 촉매 존재하에 과산화수소로 산화반응을 시킬 경우 단순히 분리과정만으로 고순도 및 고수율로 구조식 (I)의 설폭시드 화합물이 생성됨을 확인함으로써 본 발명을 완성하였다.

본 발명은 다음 반응식 6과 같이 구조식 (II)의 설파이드 화합물을 레늄 화합물의 촉매 존재하에 산화제로서 과산화수소를 사용하여 에탄올 용매에서 산화반응시켜 구조식 (I)의 설폭시드 화합물을 제조함을 특징으로 한다. 특히, 본 발명은선행기술과는 부생성물인 구조식 (III)의 N-옥시드와 구조식 (IV)의 설폰 화합물의생성을 최대한 억제하면서 간단한 분리공정 즉, 여과공정만으로 이들 부생성물들을 제거시켜 구조식 (I)의 설폭시드 화합물을 고수율 및 고순도로 제조하였다.

이하, 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.

본 발명에서 촉매로 사용하는 레늄 화합물은 메틸트리옥소레늄, 에틸트리옥소레늄, Re(PPh₃)₂OCl₃등이며, 가장 바람직하게는 메틸트리옥소레늄 ［methyltrioxo rhenium (VII), CH₃ReO₃, CAS 등록번호 : 70197-13-6]이다.

메틸트리옥소레늄은 Herrmann 등이 과산화수소와 함께 사용하여 올레핀 화합물의 에폭시화 반응에 효율적으로 사용되는 촉매라고 최초로 보고하였다 (Angew. Chem., Int. Ed. Engl., 30, 1636, 1991년). 이러한 메틸트리옥소레늄은 친전자성 반응기전으로 산화제의 산소 제공원인 과산화수소를 활성화시키는 것으로 알려져 있다. 특히, 대부분의 당량 내지 당량 이상의 과량을 사용하는 산화제와는 달리 부생성물 없이 산화반응을 할 수 있다는 것이 큰 장점이다. 더욱이 메틸트리옥소레늄은 물은 물론 대부분의 유기용매에 대한 용해도가 좋기 때문에 목적화합물로 부터 분리가 용이하다는 것이 최근 논문에 보고되어 있다 (Espenson, J. H., Chem. Commun., 479-488, 1999년). 산업적 이용 측면에서도 레늄 화합물은 인체에 유해하지 않고 공기 중에서의 안전성이 매우 높으므로 보관 및 취급, 무게측정이 용이하다는 장점을 가지고 있다. 사용되는 레늄 화합물의 양은 구조식 (II)의 화합물에 대하여 약 0.1∼10몰%, 바람직하게는 1∼5몰%이다. 산화제로서 산소 공급원인 과산화수소는 일반적으로 수용액으로 사용하며, 과산화수소의 농도는 적정방법에 의해 과산화수소의 농도를 환산하여 사용하는 것이 바람직하다. 사용되는 과산화수소의 양은 구조식 (II)의 화합물 1 당량에 대하여 0.9∼2 당량이며, 바람직하게는 1∼1.3 당량이다. 반응에 사용되는 유기용매에는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올 등과 같은 알콜성 용매를 사용하며, 그 중에서 에탄올, 메탄올이 바람직하다. 이러한 알콜성 용매는 단독 또는 물과 혼합하여 사용할 수도 있는데, 물과 알콜성 용매의 비율은 1:5∼1:15, 바람직하게는 1:8∼1:10이다. 반응온도는 -40∼0℃, 바람직하게는 -30∼-15℃이며, 반응시간은 1∼10시간, 바람직하게는 3∼7시간이다. 이와 같이, 산화반응으로 제조된 반응혼합물에는 구조식 (I)의 설폭시드 화합물 이외에 구조식(III)의 N-옥시드 화합물 (HPLC 면적율로 O.06% 이하)과 구조식 (IV)의 설폰 화합물 (HPLC 면적율로 0.06% 이하)을 함유하였다. 그러나, 본 발명의 선행기술 (한국특허 제100796호)에서는 산화반응 후 반응혼합물에 약 O.2%의 N-옥시드 화합물과 약 1%의 설폰 화합물의 부생성물로 생성되어 본 발명의 산화반응 조건이 선행기술보다 우수함을 확인할 수 있었다. 목적화합물의 분리는 반응과정 중에 구조식 (I)의 설폭시드 화합물이 대부분 결정으로 석출되기 때문에 통상적인 분리방법 예를들면, 추출공정, 탈색공정, 결정화공정 또는 재결정 공정이 전혀 요구되지 않으며, 단지 석출된 결정을 소듐티오설페이트 수용액을 가해 잔류된 과산화수소를 분해시킨 다음 여과하고 반응용매 중에서 선택된 적절한 알콜성 용매로 세척하기만 하면 고순도로서 구조식 (I)의 설폭시드 화합물을 얻을 수 있었다.

본 발명의 제조방법에 의하면 구조식 (I)의 설폭시드 화합물을 구조식 (III)의 N-옥시드 화합물 (HPLC 면적율로 0.05% 이하)은 물론 구조식 (IV)의 설폰 화합물 (HPLC 면적율로 0%)과 같은 부생성물의 생성을 억제하여 고순도 (HPLC 면적율로 99.95% 이상) 및 고수율 (90% 이상)로 제조할 수 있다.

이상과 같이 본 발명에 의한 제조공정의 장점을 요약하면 다음과 같다. 첫째, 기존 선행기술이 위험물 또는 인체에 유독한 산화제 및 촉매를 사용하는데 비해 본 발명은 인체에 무해하면서 보관과 취급이 용이한 촉매인 레늄 화합물을 이용함으로써 대량생산의 적용이 용이하다. 둘째, 본 발명은 선행기술과 비교할 경우 산화반응의 부생성물인 N-옥시드 및 설폰 화합물의 생성을 최대한 억제시켜 고순도(HPLC 면적율로 99.95% 이상) 및 90% 이상의 고수율로 목적화합물을 제조할 수 있다. 셋째, 반응용매로 환경적으로 유해한 할로겐 용매를 배제하고 에탄올의 환경친화적인 용매를 사용한다. 넷째, 기존 선행기술들은 고순도의 설폭시드 화합물을 얻기 위해 추출, 탈색, 결정화 또는 재결정 등의 복잡한 정제과정을 필요로 하는데 비해 본 발명은 반응 후 생성된 결정을 간단히 여과, 세척함으로써 고순도의 목적 화합물을 얻을 수 있으므로 대량생산에의 용이성 및 경제성을 확보한다.

본 발명은 다음 실시예 및 비교예에서 더욱 상세히 설명된다.

실시예 1. 2-[[3-메틸-4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)피리드-2-일]메틸설피닐]벤즈이미다졸의 제조

2-[[3-메틸-4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)피리드-2-일]메틸티오]벤즈이미다졸 일수화물 1.0g (2.7mmol)을 95% 에탄올 20mL에 용해시키고, -20∼-30℃로 냉각한 다음 메틸트리옥소레늄 26.4mg과 30% 과산화수소 수용액 0.31g (2.7mmol)을 가하고, 동일 온도에서 5시간 동안 교반하였다. 반응 완결을 TLC와 HPLC로 확인한 다음 생성된 결정의 반응혼합물에 소듐 티오설페이트 수용액 (1g/10mL)과 이소프로판올 10mL를 가하고 1시간 동안 빙냉 교반하였다. 반응혼합물을 여과하여 결정을 분리하고 이어서 빙냉 이소프로판올-물 혼합물 (1:1)로 세척한 다음 감압 건조시켜 백색고체의 표제물질 0.94g (수율 94.4%)을 얻었다.

녹는점 : 177-180℃ (분해)

비교예 1. 2-[[3-메틸-4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)피리드-2-일]메틸설피닐]벤즈이미다졸의 제조

2-[[3-메틸-4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)피리드-2-일]메틸티오]벤즈이미다졸 일수화물 1.0g (2.7mmol)을 95% 메탄올 10mL에 용해시키고, -20∼-30℃로 냉각한 다음 메틸트리옥소레늄 26.4mg과 30% 과산화수소 수용액 0.31g (2.7mmol)을 가하고, 동일 온도에서 5시간 동안 교반하였다. 반응 완결을 TLC와 HPLC로 확인한 다음 생성된 결정의 반응혼합물에 소듐 티오설페이트 수용액 (1g/10mL)과 이소프로판올 10mL를 가하고 1시간 동안 빙냉 교반하였다. 반응혼합물을 여과하여 결정을 분리하고 이이서 빙냉 이소프로판올-물 혼합물 (1:1)로 세척한 다음 감압 건조시켜 백색고체의 표제물질 0.89g (수율 89.6%)을 얻었다.

비교예 2. 2-[[3-메틸-4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)피리드-2-일]메틸설피닐]벤즈이미다졸의 제조

2-[[3-메틸-4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)피리드-2-일]메틸티오]벤즈이미다졸 일수화물 1.0g (2.7mmol)을 에탄올:물 혼합물 (9:1) 2OmL에 용해시키고, -20∼-30℃로 냉각한 다음 메틸트리옥소레늄 26.4mg과 30% 과산화수소 수용액 0.31g (2.7mmol)을 가하고 동일 온도에서 5시간 동안 교반하였다. 반응 완결을 확인한 다음 생성된 결정의 반응혼합물에 소듐 티오설페이트 수용액 (1g/10mL)과 이소프로판올 10mL를 가하고 1시간 동안 빙냉 교반하였다. 반응혼합물을 여과하여 결정을 분리하고 이어서 빙냉 이소프로판올-물 혼합물 (1:1)로 세척한 다음 감압 건조시켜 백색고체의 표제물질 0.90g (수율 90.7%)을 얻었다.

비교예 3. 2-[[3-메틸-4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)피리드-2-일]메틸설피닐]벤즈이미다졸의 제조

2-[[3-메틸-4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)피리드-2-일]메틸티오]벤즈이미다졸 일수화물 1.0g (2.7mmol)을 95% 에탄올 20mL에 용해시키고, -20∼-30℃로 냉각한 다음 메틸트리옥소레늄 3.3mg과 30% 과산화수소 수용액 0.31g (2.7mmol)을 가하고 동일 온도에서 5시간 동안 교반하였다. 반응 완결을 확인한 다음 생성된 결정의반응혼합물에 소듐 티오설페이트 수용액 (1g/10mL)과 이소프로판올 10mL를 가하고 1시간 동안 빙냉 교반하였다. 반응혼합물을 여과하여 결정을 분리하고 이어서 빙냉이소프로판올-물 혼합물 (1:1)로 세척한 다음 감압 건조시켜 백색고체의 표제물질 0.89g (수율 89.6%)을 얻었다.

본 발명의 실시예와 비교예 및 선행특허(특허 제100796호)의 수율 및 순도를고속 액체크로마토그래피(HPLC)의 면적율 (%)을 비교한 결과는 하기 표 1에서 보는바와 같다. 순도 분석을 위한 HPLC 조건은 다음과 같다.

- 사용장치 : Jasco PU-1580 고속 액체크로마토그래피

- 검 출 기 : Jasco UV-1575 UV 흡광광도계

- 측정파정 : 285nm

- 칼 럼 : Mightsil RP-18 GP (250×4.6mm, 5㎛)

- 이 동 상 : 아세토니트릴·물·트리에틸아민 (40:60:1) 혼합액

(인산으로 pH 7.0 조절)

- 유 속 : 1.0mL/분

- 칼럼온도 : 약 25℃ 부근의 일정온도

표 1에서 보는 바와 같이, 반응용매로 에탄올을 사용한 실시예1의 경우가 메탄올이나 에탄올, 물 혼합용매를 사용한 비교예들 보다 수율이 더 우수하였으며, 메틸트리옥소레늄 촉매의 양을 1몰% 이하로 사용하면 수율이 감소함을 알 수 있었다.

또한, 부생성물의 생성비율과 목적화합물의 순도를 비교하면 실시예 1은 비교예나 선행특허인 한국특허 제100796호의 실시예 4에 비하여 순도가 높을 뿐만 아니라, 특히 구조식(IV)의 설폰 화합물의 면적율이 0%로서 비교예나 선행특허에서와는 달리 설폰 화합물이 검출되지 않아 본원발명이 수율이 높을 뿐만 아니라 부생성물인 설폰 화합물의 생성을 근본적으로 방지할 수 있는 우수한 방법임을 알 수 있었다.

본 발명은 인체에 무해하면서 보관과 취급이 용이한 메틸트리옥소레늄 촉매하에 과산화수소로 산화반응을 하여 부생성물들의 생성을 최대한 억제하였고, 복잡한 정제과정 또는 탈색공정을 생략하고 간단한 여과 공정만으로 항궤양제로 유용한설폭시드 화합물을 고수율 및 고순도로 제조할 수 있고, 대량생산 적용이 용이하여 산업적 및 경제적으로 유용한 발명이다.

Claims

구조식 (II)의 설파이드 화합물을 구조식(II)의 설파이드 화합물에 대하여 1-5몰%의 레늄 화합물 존재하, 에탄올 용매에서 과산화수소와 반응시켜 구조식(I)의 설폭시드 화합물을 제조하는 방법.
제1항에 있어서, 레늄 화합물이 메틸트리옥소레늄인 것을 특징으로 하는 구조식 (I)의 설폭시드 화합물을 제조하는 방법.
제 2항에 있어서, 반응종결 후 여과공정만으로 부생성물들을 제거하여 고수율 및 고순도로 구조식(I)의 설폭시드 화합물을 제조하는 방법.