KR20010002636A - 반도체장치 제조용 스크루 세정장치 - Google Patents

Abstract

반도체 장치 제조용 스크루(screw) 세정 장치를 개시한다. 본 발명의 일 관점은 스테이지(stage)를 이동시키는 스크루의 나사골에 전단이 접촉하는 세정용 팁(tip)을 포함하는 반도체 장치 제조용 스크루 세정 장치를 제공한다. 세정용 팁은 접촉하는 나사골의 표면을 미끄러져 이동함으로써 나사골의 표면에 흡착된 오염물을 긁어낸다. 세정용 팁의 전단의 인근에는 긁어내어진 오염물을 흡입하여 제거하는 흡입홀이 형성된다. 또한, 흡입홀을 통해 흡입된 오염물을 이송하여 배출하는 흡입 호스가 연결된다. 세정용 팁의 전단의 인근에는 흡입홀과 반대 위치에 대향되게 분사홀이 형성되어 흡착된 오염물이 흡입되어 제거된 나사골의 표면에 그리스를 제공한다.

Description

반도체 장치 제조용 스크루 세정 장치{Apparatus of cleaning screw used for manufacturing semiconductor device}

본 발명은 반도체 장치 제조용 설비에 관한 것으로, 특히 스테이지(stage)의 위치 이동에 사용되는 스크루(screw)를 세정하는 장치에 관한 것이다.

스테이지는 반도체 기판 등을 지지하는 역할에 사용된다. 예를 들어, 스테퍼(stepper) 등과 같은 노광 설비에서 반도체 기판 등은 스테이지 안착된 후, 스테이지가 X축 또는 Y축으로 이동하여 노광 공정이 진행된다. 이러한 스테이지의 위치 이동에는 스테이지의 측부에 연결되는 스크루의 회전에 의해서 이루어진다. 이러한 스크루의 회전은 노광 설비의 제어부에서 제어됨으로써, 스테이지가 원하는 위치로 순차적으로 이동되게 한다. 이에 따라, 스테이지 위에 안착된 반도체 기판 상에 레티클(reticle) 등에 형성된 상(image)이 반도체 기판의 전면에 순차적으로 전사될 수 있게 된다.

이러한 스크루의 회전은 스크루의 나사산과 나사골의 작용에 의해서 이루어진다. 또한, 스크루의 나사산 또는 나사골의 마모를 방지하기 위해서 스크루의 표면에는 그리스(grease)가 도포된다. 그러나, 이러한 스크루가 지속적으로 동작함에 따라, 스크루의 나사골 등의 표면에는 불순물 등이 흡착되어 그리스 등을 오염시킬 수 있다. 또한, 스크루의 표면에 도포된 그리스가 자체가 자연 열화되므로 이를 교환 보충해 줄 필요성이 발생한다.

이에 따라, 스크루를 세정하고 스크루의 나사골 등에 새로운 그리스를 도포하는 작업이 설비 관리를 위해서 필수적으로 요구된다. 이러한 작업은 작업자의 수동으로 수행된다. 예를 들어, 작업자가 스크루의 표면에 세정지(cleaning paper)를 밀착시킨 후, 스크루에 회전력을 인가하는 모터를 수동으로 조작한다. 이에 따라, 스크루는 회전하여 스테이지를 이동시키고, 스크루 표면에 흡착된 불순물 또는 열화된 그리스는 세정지에 흡착되어 제거된다.

이러한 스크루의 세정은 상기한 바와 같이 수작업에 의해 이루어지므로, 작업자의 숙련도 등에 의해 세정 효과의 차이가 발생하고, 작업자에게 높은 피로도를 유발시킬 수 있다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 스크루의 나사골 등에 흡착된 오염물 또는 열화된 그리스를 제거하여 스크루를 세정하고, 새로운 그리스를 스크루의 나사골 등의 표면에 도포할 수 있는 반도체 장치 제조용 스크루 세정 장치를 제공하는 데 있다.

도 1 및 도 2는 본 발명의 실시예에 의한 반도체 장치 제조용 스크루 세정 장치를 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면들이다.

도 3 및 도 4는 본 발명의 실시예에 의한 반도체 장치 제조용 스크루 세정 장치의 작동을 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면들이다.

< 도면의 주요 부호에 대한 설명>

100; 스테이지(stage), 200; 스크루(screw),

310; 세정 팁(cleaning tip), 330; 팁 홀더(tip holder),

391; 흡입 호스(suction hose),

395; 그리스 공급 호스(grease supplying hose).

상기의 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 관점은, 스테이지를 이동시키는 스크루와, 전단이 상기 스크루의 나사골에 접촉하는 세정용 팁을 포함하는 반도체 장치 제조용 스크루 세정 장치를 제공한다.

상기 세정용 팁은 접촉하는 상기 나사골의 표면을 미끄러져 이동함으로써 상기 나사골의 표면에 흡착된 오염물을 긁어낸다. 상기 세정용 팁의 전단의 인근에는 상기 긁어내어진 오염물을 흡입하여 제거하는 흡입홀이 형성된다. 또한, 상기 흡입홀을 통해 흡입된 상기 오염물을 이송하여 배출하는 흡입 호스가 상기 흡입홀에 연결된다. 상기 세정용 팁의 전단의 인근에는 상기 흡입홀과 반대 위치에 대향되게 분사홀이 형성되어 상기 흡착된 오염물이 흡입되어 제거된 나사골의 표면에 그리스를 제공한다. 상기 분사홀을 통해 상기 그리스를 제공하는 그리스 공급 호스가 상기 분사홀에 연결된다.

상기 세정용 팁은, 표면이 상기 스크루의 나사골의 바닥 표면에 접촉하는 전단면, 상기 스크루의 나사산의 경사진 측면에 접촉하도록 경사진 두 측면부, 및 상기 두 측면부 사이의 두 측면에 표면이 상기 전단면과 단차를 이루는 단차부를 포함하는 사각형 끌의 형태를 가진다. 이때, 상기 흡입홀 및 상기 분사홀은 상기 단차부에 형성된다.

상기 세정용 팁은, 상기 세정용 팁의 하단부를 잡아주는 세정용 팁 홀더; 및

상기 세정용 팁 홀더를 상기 스테이지에 연결시키며 접거나 펼쳐지는 지지대에 의해서 상기 스테이지에 연결 고정된다.

본 발명에 따르면, 스크루의 나사골에 밀착되어 나사골의 표면 등에 흡착된 오염물 또는 열화된 그리스 등을 제거함과 동시에 오염물 등이 제거된 나사골의 표면 등에 그리스를 분사하여 도포할 수 있다.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 발명의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이며, 도면 상에서 동일한 부호로 표시된 요소는 동일한 요소를 의미한다.

도 1은 본 발명의 실시예에 의한 반도체 장치 제조용 스크루 세정 장치가 스테이지에 연결된 형태를 개략적으로 나타내고, 도 2는 도 1의 스크루 세정 장치를 세정 팁(310)을 중심으로 확대하여 개략적으로 나타낸다.

구체적으로, 본 발명의 실시예에 의한 스크루 세정 장치는, 스테이지(100)를 이동시키는 스크루(200)에 밀착되는 세정용 팁(310) 등을 구비한다. 스테이지(100)는 그 상에 반도체 기판(도시되지 않음) 등을 안착시키는 역할을 한다. 스크루(200)는 스테이지(100)를 이동시키는 역할을 한다.

예를 들어, 스테퍼 등과 같은 노광 설비에서, 스테이지(100)의 측부에 스크루(200)가 부착되어 스테이지(100)가 수평 이동하도록 구동하는 역할을 한다. 즉, 스크루(200)는 도 1에 도시된 바와 같이 스테이지(100)의 측부에 연결되어 스테이지(100)가 화살표 방향으로 전진하거나 반대 방향으로 후진하도록 한다. 예를 들어, 스테퍼 등에서 스테이지를 X축 이동 또는 Y축 이동할 때 사용된다.

세정용 팁(310)은 세정용 팁(310)을 잡아주는 홀더(holder;330)와 홀더(330)에 연결되는 지지대(350)에 의해서 스크루(200)의 인근에서 스테이지(100)에 설치될 수 있다. 예를 들어, 지지대(350)가 스테이지(100)의 측부에 고정 수단(370)에 의해서 스테이지(100)에 체결됨으로써, 세정용 팁(310)이 고정된다. 이러한 체결로는 볼트(bolt) 체결을 이용할 수 있다.

한편, 상기 지지대(350)는 좌우로 조금 휠 정도로 약간의 탄성을 가지는 것이 바람직하다. 이는 세정용 팁(310)에 의해서 스크루(200)의 나사골(201)에 흡착된 오염물 또는 열화된 그리스 등을 제거할 때, 세정용 팁(310)에 의해서 스크루(200)의 표면에 손상이 일어나는 것을 방지하기 위해서이다.

또한, 상기 지지대(350)는 펼쳐지거나 접혀질 수 있도록 형성되는 것이 바람직하다. 이는 세정용 팁(310)을 사용하지 않을 경우에, 세정용 팁(310)이 스크루(200)의 운동을 방해하지 않도록 스크루(200)로부터 이격시키기 위해서이다.

도 2를 참조하면, 세정용 팁(310)의 전단은, 상기 스크루(200)의 나사골에 접촉하여 나사골의 표면을 미끄러져 이동할 수 있도록, 평탄한 면의 전단면(301)을 가지도록 형성된다. 이때, 상기 전단의 두께, 즉, 전단면(301)의 폭(303)은 나사골(201)의 바닥 폭과 유사한 폭을 가지거나 약간 작은 것이 바람직하다. 이는 나사골(201)의 바닥 표면에 상기 전단면(301)이 접촉하여 흡착된 오염물 등을 모두 제거하기 위해서이다.

세정용 팁(310)의 상기한 전단면(301)을 나사골(201)의 바닥 표면에 밀착하여 이동함으로써, 스크루(200)의 표면에 흡착된 오염물을 긁어낸다. 긁어내어진 오염물 등은 세정용 팁(310)의 전단의 인근에 형성된 흡입홀(305)에 의해서 흡입되어 제거된다.

보다 상세하게 설명하면, 세정용 팁(310)의 전단의 인근에는 전단면(301)과 단차를 이루는 단차부(303, 307))가 형성된다. 단차부(303, 307)는 전단면(301)의 상측 및 하측의 인근 부위에 형성된다. 이와 같은 단차부(303, 307)의 어느 한 부분에는 흡입홀(305)이 형성된다. 흡입홀(305)은 세정용 팁(310)을 관통하여 형성되며, 세정용 팁 홀더(330)에도 연장된다. 이러한 흡입홀(305)은 세정용 팁 홀더(330)에 흡입 호스 체결 수단(393)에 의해 세정용 팁 홀더(330)에 연결되는 흡입 호스(391)에 연결된다.

이와 같은 흡입 호스(391)에는 진공이 제공되므로 인근에 위치하는 오염물 등은 진공에 의해서 흡입홀(305)로 흡입된다. 흡입된 오염물 등을 흡입 호스(391)를 통해 이송되어 배출된다. 이와 같은 흡입 호스(391)의 중간에는 필터(410)가 연결되는 것이 바람직하다. 이러한 필터(410)는 긁혀져 나와 흡입되어 이송된 오염물 등을 걸러주는 역할을 한다. 이러한 필터(410)를 교환하거나 세정함으로써, 필터에 의해서 걸러진 오염물을 제거할 수 있다. 이에 따라, 오염물이 흡입 호스(391)의 중간에 걸려 흡입 호스(391)가 막히는 것이 방지된다.

상기 흡입홀(305)이 형성된 단차부(303)의 배후, 즉, 세정용 팁(310)의 전단의 인근에 흡입홀(305)과 반대 방향에 대향되게 분사홀(309)이 다른 단차부(307)에 형성된다. 분사홀(309)은 흡입홀(305)의 배후에 형성되는 것이 바람직하다. 이는 분사홀(309)에 그리스 제공 호스(395)를 체결 수단(397)에 의해서 연결하여, 새로운 그리스를 세정된 나사골의 표면 등에 분사하여 도포하기 위해서이다. 이러한, 그리스 제공 호스(395)는 그리스 공급 장치(430)에 연결된다.

한편, 세정용 탭(310)의 단차부(303, 307)가 형성되지 않는 나머지 두 측면은 스크루(200)의 나사산의 경사진 측면과 접촉하도록 경사지도록 형성한다. 이와 같은 측면이 나사산의 측면에 유사하게 경사지면, 나사산의 측면에 접촉할 수 있게 된다. 이에 따라, 오염물 등의 제거가 보다 확실해지고, 그리스의 도포가 보다 골고루 될 수 있다.

이와 같이 형성되는 세정용 팁(310)의 전체적으로 사각형의 끌과 유사한 형태로 형성된다. 그리고, 세정용 팁(300)은 스크루(200)의 표면과 전단면(301) 등이 접촉하므로, 스크루(200)의 표면을 마모시키거나 손상시키는 것을 방지하기 위해서 강화 플라스틱(plastic) 등과 같은 연한 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.

이러한 본 발명의 실시예에 의한 스크루 세정 장치를 이용하여 스크루를 세정하는 방법을 도면들을 참조하여 구체적으로 설명한다.

도 3은 본 발명의 실시예에 의한 스크루 세정 장치의 세정 작동을 개략적으로 나타낸다.

구체적으로, 지지대(350)를 이동시켜 세정 팁(310)이 스크루(200)의 나사골(201)로 밀착되도록 한다. 이때, 세정 팁(310)의 측면은 나사산(203)의 측면과 밀착되는 것이 바람직하다. 이후에, 스크루(200)를 회전함으로써, 즉, 스테이지(100)를 X축 또는 Y축으로 이동시킴으로써, 세정 팁(310)이 스크루(200)의 나사골(201)을 따라 이동한다. 이러한 스테이지(100)의 이동은 노광 설비의 제어부에 설치된 소프트웨어를 통해서 이루어지거나, 조이스틱(joystick) 등을 통해서 이루어질 수 있다.

이와 같이 세정 팁(310)이 스크루(200)의 나사골(201)을 따라 이동함으로써, 나사골(201) 등에 흡착된 오염물이 세정 팁(310)에 의해서 긁혀 나와 흡입홀(305)을 통해 흡입된다. 흡입된 오염물은 흡입 호스(391)를 통해 필터(410)에 의해서 걸러져 제거된다.

도 4는 본 발명의 실시예에 의한 스크루 세정 장치의 그리스 공급 작동을 개략적으로 나타낸다.

구체적으로, 도 3에 도시된 바와 같이 세정 팁(310)이 세정 작용을 하며 지나간 나사골(201)에 세정 팁(310)의 분사홀(309)로부터 새로운 그리스가 공급된다. 분사홀(309)은 도 2에 도시된 바와 같이 흡입홀(305)에 대향되는 반대 방향에 위치하므로, 분사홀(309)에서 배출 분사되는 새로운 그리스는 세정된 나사골(201)의 표면에 도포, 흡착될 수 있다. 이와 같이 세정된 나사골(201)에 도포된 그리스는 세정 분사 작동이 끝난 이후에, 스테이지(100)를 움직이게 하면 스크루(100)의 나사골(201)의 전체 표면 등에 골고루 번지게 된다.

이와 같이 흡입홀(305)과 분사홀(309)을 함께 구비함으로써, 나사골(201)에 흡착된 오염물을 자동으로 흡입하여 제거함과 동시에 세정된 나사골(201)에 새로운 그리스를 자동으로 도포할 수 있다.

이상, 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.

상술한 본 발명에 따르면, 스크루의 나사골 등에 흡착된 오염물 등을 자동으로 세정하는 것이 가능하다. 또한, 상기 세정을 진행함과 동시에 그리스를 세정된 나사골의 표면 등에 분사 도포하는 것이 가능하다. 따라서, 스크루를 세정하거나 그리스를 교환해주기 위한 관리 작업이 보다 용이하게 진행될 수 있다.

Claims (3)

1. 스테이지를 이동시키는 스크루;

   전단이 상기 스크루의 나사골에 접촉하여 상기 나사골의 표면을 미끄러져 이동함으로써 상기 나사골의 표면에 흡착된 오염물을 긁어내는 세정용 팁;

   상기 세정용 팁의 전단의 인근에 형성되어 상기 긁어내어진 오염물을 흡입하여 제거하는 흡입홀;

   상기 흡입홀을 통해 흡입된 상기 오염물을 이송하여 배출하는 흡입 호스;

   상기 세정용 팁의 전단의 인근에 상기 흡입홀과 반대 위치에 대향되게 형성되어 상기 흡착된 오염물이 흡입되어 제거된 나사골의 표면에 그리스를 제공하는 분사홀; 및

   상기 분사홀을 통해 상기 그리스를 제공하는 그리스 공급 호스를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 제조용 스크루 세정 장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 세정용 팁은,

   표면이 상기 스크루의 나사골의 바닥 표면에 접촉하는 전단면,

   상기 스크루의 나사산의 경사진 측면에 접촉하도록 경사진 두 측면부, 및

   상기 두 측면부 사이의 두 측면에 표면이 상기 전단면과 단차를 이루는 단차부를 포함하는 사각형 끌의 형태를 가지며,

   상기 흡입홀 및 상기 분사홀은 상기 단차부에 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 제조용 스크루 세정 장치.
3. 제1항에 있어서, 상기 세정용 팁은,

   상기 세정용 팁의 하단부를 잡아주는 세정용 팁 홀더; 및

   상기 세정용 팁 홀더를 상기 스테이지에 연결시키며 접거나 펼쳐지는 지지대에 의해서 상기 스테이지에 연결 고정되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치 제조용 스크루 세정 장치.