KR20010001235A

KR20010001235A - 플라즈마 표시장치용 격벽 조성물

Info

Publication number: KR20010001235A
Application number: KR1019990020306A
Authority: KR
Inventors: 류병길
Original assignee: 구자홍; 엘지전자 주식회사
Priority date: 1999-06-02
Filing date: 1999-06-02
Publication date: 2001-01-05
Also published as: KR100575630B1

Abstract

본 발명은 플라즈마 표시장치용 격벽 조성물에 관한 것이다.

본 발명의 플라즈마 표시장치용 격벽 조성물은 P₂O₅-PbO-ZnO계 유리를 사용한다.

이러한 구성에의해 본 발명의 격벽은 광학적, 열적, 전기적 요구특성을 만족 하게된다.

Description

플라즈마 표시장치용 격벽 조성물 {Composition of Barrier Rib for Plasma Display Panel}

최근, 액정표시장치(Liquid Crystal Display; 이하 "LCD"라 한다), 전계방출 표시장치(Field Emission Display; 이하 "FED"라 한다) 및 플라즈마 표시장치(Plasma Display Panel; 이하 "PDP"라 한다)등의 평면 표시장치가 활발히 개발되고 있으며, 이들중 PDP는 단순구조에 의한 제작의 용이성, 고휘도 및 고발광 효율의 우수, 메모리 기능 및 160。 이상의 광시야각을 갖는 점과 아울러 40 인치이상의 대화면을 구현할수 있는 장점을 가지고 있다.

도 1을 참조하면, 종래기술에 따른 PDP는 어드레스 전극(2)을 실장한 하부유리판(14)과, 상기 하부 유리판(14)의 상부에 소정의 두께로 도포된 하부 유전체후막(18)과, 하부 유전체후막(18)의 상부에 형성되어 방전셀을 분할하는 격벽(8)과, 플라즈마 방전으로 발생된 빛에 의해 여기되어 발광하는 형광체(6)와, 상부유리판(16)의 상부에 형성된 투명전극쌍(4)과, 상기 상부유리판(16) 및 투명전극쌍(4)의 상부에 소정의 두께로 도포된 상부 유전체후막(12)과, 상기 유전체 후막(12)의 상부에 도포된 보호막(10)을 구비한다. 투명전극쌍(4) 중 어느 하나의 전극과 어드레스 전극(2) 사이에 소정의 전압레벨을 갖는 구동전압이 인가될때, 어드레스 전극(2)에서 방출되는 전자에의해 플라즈마 방전이 셀의 내부에서 일어나게 된다. 이어서, 투명전극쌍(4) 사이에 소정의 전압레벨을 갖는 구동전압을 인가하여 플라즈마 방전이 방전셀 내에서 지속되게 한다. 이때, 투명전극쌍(4)에서 방출된 전자들은 방전셀에 주입되어진 He+Xe의 혼합가스 또는 Ne+Xe의 혼합가스의 원자와 충돌하여 그 혼합가스의 원자들이 이온화 되게함과 아울러 2차전자들이 방출되게 된다. 2차전자들은 다른 혼합가스의 원자들과 충돌함으로써 다른 혼합가스의 원자들이 이온화되게 한다. 이와같은 2차전자들과 상기 혼합가스의 원자들간의 반복적인 충돌에의하여 전자들과 가스이온들이 증가하는 애벌런치(Avalanche) 현상이 발생하게 된다. 이러한 애벌런치 현상에의해 자외선이 발생되게 되고 이 자외선에의해 적색(Red; 이하 "R"라 함), 녹색(Green; 이하 "G"라 함), 청색(Blue;이하 "B"라 함)의 형광체들이 발광함으로써 R,G,B의 가시광선이 방출되어진다. 상기 가시광선이 상부유리판(16)을 경유하여 방사됨으로써 문자 또는 그래픽을 포함한 화상이 표시되어 진다.

한편, 상기 격벽(8)은 스트라이프(Stripe) 형상을 갖도록 형성되어 방전셀을 분할함과 아울러, 형광체(6)에서 발광된 빛을 상부유리판(16) 쪽으로 반사시키게 된다. 이를위해, 격벽(8)은 낮은 열팽창계수, 열적안정성, 낮은 소성온도와 치밀한 조직 및 낮은 유전율 등의 특성이 요구된다. 이러한 특성을 충족시키기위해 종래의 격벽 조성물로 PbO-B₂O₃-SiO₂계 모상유리가 사용되고 있다. 이때, PbO-B₂O₃-SiO₂계 모상유리의 조성비가 표 1에 나타나 있다. 표 1에서의 조성비는 격벽의 무게를 100 중량%로하여 산출된 것이다.

PbO-B₂O₃-SiO₂계 모상유리의 조성비

성 분	PbO	SiO₂	B₂O₃	Al₂O₃
중량%	60-80	2-10	10-20	0.1-4.5

또한, 종래기술에 따른 PbO-B₂O₃-SiO₂계 모상유리에 첨가되는 산화물 충진제의 조성비는 표 2에 나타나 있다. 표 2에서의 조성비는 산화물 충진제의 무게를 100 중량%로하여 산출된 것이다.

격벽 충진제의 조성비

성 분	Al₂O₃	TiO₂
중량 %	95-100	0-5

한편, 40 내지 70%의 모상유리와 30 내지 60%의 산화물 충진제를 혼합하여 격벽용 글래스-세라믹스를 형성하는 것이 바람직하다.

도 2를 참조하여 종래기술에 따른 격벽의 제조방법에 대해서 설명하기로 한다.

혼합분말을 형성한다.(제1 단계) 표 1의 조성비를 갖는 비정질유리분말과 표 2의 조성비를 갖는 산화물 충진제 분말을 소정비율로(예를들면, 4:6 내지 7:3의 비율) 소정시간 혼합하여 혼합분말을 형성한다. 이때, PbO계 화합물 유리 또는 상기 화합물 유리에 산화물 충진제를 섞은 글래스-세라믹스(Glass-Ceramics) 재료를 10μm 이하의 미세분말로 만든다.

혼합분말을 유기용매(Vehicle)와 혼합하여 페이스트(Paste) 또는 슬러리(Slurry)를 형성한다. (제2 단계) 유기용매(Vehicle)는 BCA(Butyl-Carbitol- Acetate; 이하 "BCA"라 함), BC(Butyl-Carbitol; 이하 "BC"라 함) 및 EC(Ethyl-Cellulose; 이하 "EC"라 함)가 일정비율로 혼합된 유기용매를 사용하게 된다. 이때 페이스트(Paste)의 점도는 70000 - 100,000 CPS가 바람직하며, 슬러리의 점도는 700 - 1,000 CPS가 바람직하다. 상기 페이스트는 스크린 프린팅(Screen Printing)용 으로 사용되며, 슬러리는 액상의 상태를 유지하며 테이프 캐스팅(Tape Casting)용으로 사용된다.

격벽을 형성한다. (제3 단계) 격벽은 스크린 프린터법, 샌딩법, 식각법, 첨가법 및 스탬핑법 등에 의해 제조되어지며, 상기 방법들에 대하여 간단히 설명하기로 한다. 스크린 프린팅법(Screen Printing Method)은 유전체후막이(18) 형성된 유리기판(14)의 상부에 스크린을 정위치 시킨후, 스크린 상부의 페이스트를 소정의 두께로 유리기판에 도포한후, 소정시간 건조시킨다. 이어서, 상기와 동일한 방법을 수차례(예를들면, 7-8회) 반복수행하여 소정의 두께(예를들어, 150 - 200㎛)를 갖는 격벽(8)을 형성하게 된다. 또한, 샌드 블라스트법(Sand Blast Method)은 유전체후막(18)이 형성된 유리기판(14)의 상부에 소정두께(예를들어, 150 - 200㎛)의 페이스트 및 라미네이트를 순차적으로 도포한후, 사진식각법에 의해 패턴을 형성한다. 이어서, 상기 패턴에 연마제(예를들면, 샌드(Sand))를 불어서 패턴이 형성되지 않은 부분의 페이스트를 제거시키고 시킨후, 라미네이트(도시되지 않음)를 제거하여 격벽(8)을 형성 하게 된다. 또한, 식각법(Etching Method)은 유전체후막(18)이 도포된 유리기판(14)의 상부에 소정두꼐(예를들어, 150 - 200㎛)의 감광성 페이스트(도시되지 않음)를 도포한후 사진식각법에 의해 패턴을 형성한다. 이어서 상기 패턴이 형성된 유리기판(14)을 수%(예를들면, 5 -10%)의 염산(HCl)을 사용하여 식각(Etching)함에 의해 격벽(8)을 형성하게 된다. 또한, 첨가법(Additive Method)은 유전체후막(18)이 도포된 유리기판(14)의 상부에 소정두께(예를들어, 150 - 200㎛)의 라미네이트를 도포한후, 사진식각법에 의해 패턴을 형성한다. 이어서, 패턴이 형성되지 않은 부분의 라미네이트를 제거한 부분에 페이스트를 도포한다. 다음으로, 페이스트와 인접한 라미네이트를 제거하여 격벽(8)을 형성하게 된다. 또한, 스탬핑법(Stamping Method)은 유전체후막(18)이 형성된 기판(14)의 상부에 소정의 두께(예를들어, 150 - 200㎛)로 페이스트를 도포한다. 이어서, 페이스트의 상부에 금형(도시되지 않음)을 정위치한후, 스탬핑하여 격벽을 형성하게 된다.

격벽이 형성된 유리기판을 소결한다.(제4 단계) 유리기판을 300-350℃에서 소정시간(예를들면, 15-20분) 소결하여 페이스트 내의 유기용매를 제거한후, 550-600℃의 온도범위에서 소결하여 격벽을 형성하게 된다.

한편, 상기와 같은 방법에 의해 제조된 격벽의 특성이 표 3에 나타나 있다.

격벽의 특성

소결온도 (℃)	유 전 율 (@ 1㎒)	열팽창계수 (10^-7/℃)	반사율 (@ 500㎚)
580 - 600	13 - 15	70 - 85	50 - 60 %

표 3에 나타난바와같이, 종래의 격벽 조성물의 유전율이 13-15로 비교적 높은 유전율을 갖게되어 어드레싱 신호의 전달시간이 지연됨과 아울러, 높은 소결온도에 의해 유리기판의 변형 및 크랙이 발생하는 문제점이 도출되고 있다.

또한, 종래의 격벽 조성물은 PbO가 차지하는 비중이 높으므로 환경오염을 유발함과 아울러, 소자의 무게가 증대되어 전체적인 중량의 증가를 가져오는 문제점이 도출되고 있다.

따라서, 본 발명의 목적은 광학적, 열적, 전기적 요구특성을 만족시키는 플라즈마 표시장치용 격벽 조성물을 제공 하는데 있다.

도 1은 종래의 기술에 따른 플라즈마 표시장치의 구조를 도시한 도면.

도 2는 종래기술에 따른 격벽 제조방법의 수순을 도시한 흐름도.

도 3은 본 발명의 플라즈마 표시장치용 격벽 조성물을 설명하기위해 도시한 도면.

〈 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 〉

2: 어드레스 전극 4 : 투명전극쌍

6 : 형광체 8 : 격벽

10 : 보호막 12 : 상부 유전체후막

14 : 하부유리판 16 : 상부유리판

18 : 하부 유전체후막

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 표시장치용 격벽 조성물은 P₂O₅-PbO-ZnO계 유리를 사용한다.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 표시장치용 격벽 조성물은 P₂O₅-PbO-ZnO계 유리와, 70 X 10^-7/℃ 이하의 열팽창계수를 갖는 충진제를 함유한다.

상기 목적외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.

도 3을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들에 대하여 설명 하기로 한다.

본 발명에 따른 격벽의 제조방법에 대해서 설명하면, 모상유리의 원재료(Raw Material)를 일정한 조성비로 혼합하고 용융시킨후 급속냉각함에 의해 미세한 입자를 갖는 분말(또는 혼합분말)을 형성한다. 상기 분말(또는 혼합분말)을 유기용매(Vehicle)와 소정비율로 혼합하여 페이스트(Paste)화하여 유전체후막이 형성된 유리기판에 소정의 두께로 도포하여 일정한 온도로 소결함에 의해 격벽을 형성하게 된다. 이렇게 제작된 격벽은 광학적, 열적, 전기적 요구특성이 향상된다.

이하에 본 발명에 따른 격벽 조성물의 실시예들을 설명하나, 본 발명의 범위가 이들 실시예들에 국한되는 것은 아님을 밝혀둔다.

제1 실시예

본 발명의 제1 실시예에서는 격벽 조성물에 대해서 설명하기로 한다. 도 3을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 격벽 조성물은 P₂O₅-PbO-ZnO계 모상유리의 분말을 사용하게 된다. 이때, P₂O₅-PbO-ZnO계 모상유리는 30 내지 60 중량%의 P₂O₅와, 5 내지 40 중량%의 ZnO와, 5 내지 40 중량%의 PbO와, 5 내지 25 중량%의 BaO와, 0 내지 10 중량%의 La₂O₃와, 0 내지 10 중량%의 Bi₂O₃와, 1 내지 5 중량%의 Al₂O₃와, 0 내지 5 중량%의 MgO와, 0 내지 5 중량%의 CaO와, 0 내지 5 중량%의 SrO와, 0 내지 5 중량%의 TeO₂와, 0 내지 2 중량%의 Sb₂O₃와, 0 내지 2 중량%의 As₂O₃를 함유한다. 상기 조성비는 P₂O₅-PbO-ZnO계 모상유리의 무게를 100중량%로 하여 산출한 것이다.

한편, 격벽의 제조방법에 대하여 살펴보기로 한다. P₂O₅-PbO-ZnO계 모상유리의 분말을 형성한다(제11 단계) 상기 P₂O₅-PbO-ZnO계 모상유리의 분말형성 과정에 대해서 상세히 설명하면, 첫 번째 공정에서 P₂O₅-PbO-ZnO계 모상유리의 원재료(Raw Material)를 상기 도 3의 조성비에 따라 혼합한다. 상기 P₂O₅-PbO-ZnO계 모상유리의 원재료(Raw Material)를 일정한 조성비에 따라 칭량하여 텀블링 믹서(Tumbling Mixer)에서 소정시간(예를들면, 10시간) 혼합하게 된다. 두 번째 공정에서 혼합된 원재료를 용융로에 투입하여 용융시킨다. 이때의 용융조건(Melting Condition)은 1000 - 1200℃에서 소정시간(예를들면, 1-5시간) 용융하며, 용융도중에 원재료가 골고루 용융되도록 2-3 차례 교반(Stirring)시킴에 의해 균질화되어 용융된 유리는 치밀한 조직을 가지게 된다. 세 번째 공정에서 용융된 유리를 급속냉각 시킴에 의해 미세한 입자를 갖는 분말을 형성시킨다. 상기 용융된 유리는 쿠엔칭 롤러(Quenching Roller)를 통과시킨후 급속냉각하면 미세한 크랙(Crack)을 갖는 파쇄유리(Cullets)가 생성되며, 이 파쇄유리를 볼밀링(Ball Milling)법에 의해 소정시간(예를들어, 16 시간) 밀링하고 #170, #270 시버(Sive)를 순차적으로 통과시킴에 의해 입자크기가 약 10㎛의 양호한 입도분산을 갖는 P₂O₅-PbO-ZnO계 모상유리 분말을 만들 수 있다.

P₂O₅-PbO-ZnO계 모상유리 분말을 유기용매(Vehicle)와 소정비율로 혼합하여 페이스트(Paste) 또는 슬러리(Slurry)를 형성한다.(제12 단계) 페이스트 형성과정에 대해서 상세히 설명하면, 분말과 유기용매(Vehicle)를 일정비율로 혼합하여 페이스트 상태를 만든다. 이때의 유기용매(Vehicle)는 BCA(Butyl-Carbitol-Acetate; 이하 "BCA"라 함),BC(Butyl-Carbitol; 이하 "BC"라 함) 및 EC(Ethyl-Cellulose; 이하 "EC"라 함)가 일정비율로 혼합된 유기용매를 사용하며, 이중 EC의 양에 의해서 페이스트의 점도가 변화되어 리올리지(Rheology) 및 소결특성에 영향을 주므로 EC의 혼합비율은 10%가 바람직하다. 또한, BCA의 혼합비율은 60%, BC의 혼합비율은 20%가 바람직 하며, 이때 페이스트(Paste)의 점도는 70000 - 100,000 CPS가 바람직하며, 슬러리의 점도는 700 - 1,000 CPS가 바람직하다. 이때, 페이스트는 스크린 프린팅(Screen Printing)용 으로 사용되며, 슬러리는 액상의 상태를 유지하며 테이프 캐스팅(Tape Casting)용으로 사용된다. 또한, 유기용매에 소정량의 감광성수지를 혼합할 경우 감광용 격벽재료에 적용될수도 있다.

페이스트 또는 슬러리를 기판의 상부에 소정의 두께로 도포한후(제13 단계)한후, 소정온도에 소정시간 소결한다.(제14 단계) 기판은 유리 또는 금속기판을 사용하게 된다. 이때, 금속기판의 재질은 Ti합금, Cu합금, Ni합금을 사용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 기판(28)의 상부에는 기판(28)의 재질에 따라 페이스트를 도포하거나 슬러리를 이용하여 형성된 그린시트(Green Sheet)를 적층(Laminating) 시켜 후막층(30)을 형성시키게 된다. 이를 상세히 설명하면, 유리기판을 사용할 경우, 유리기판의 상부에 페이스트를 소정의 두께로 도포한후, 소결하게 된다. 반면에, 금속재질 기판을 사용하는 경우 금속기판의 상부에 그린시트를 적층시키게 된다. 한편, 유리기판의 경우에는 유리기판을 소정시간(예를들어, 20분) 건조하여 가열로에 투입하여 결정화 온도에 따라 소결하게 된다. 이때, 드라이오븐에서는 페이스트 내에 함유된 유기물이 소거된다. 상기 소결온도는 혼합분말에 대한 DTA(Differential Thermal Analysis; 이하 "DTA"라 함)분석 으로부터 결정화 온도를 정하는 것이 바람직하다.

격벽을 형성한다. (제15 단계) 격벽 형성공정은 도 2에서 상세히 기술하였으므로 상세한 설명은 생략하기로 한다. 이때, 격벽은 설계자의 의도에의해 다양한 방법을 사용하여 제작되어진다. 이에따라, 본 발명의 격벽 조성물을 사용하여 광학적, 열적, 전기적 요구특성을 만족시키는 격벽을 형성하게 된다.

제2 실시예

본 발명의 제2 실시예에서는 격벽의 제조방법 및 그 조성물에 대해서 설명하기로 한다. 본 발명의 제2 실시예에 따른 격벽 조성물은 P₂O₅-PbO-ZnO계 모상유리와, 70 X 10^-7/℃ 이하의 열팽창계수를 갖는 산화물 충진제를 함유한다.

이때, 70 X 10^-7/℃ 이하의 열팽창계수를 갖는 산화물 충진제의 조성비가 표 4에 나타나 있다 이 경우, 산화물 충진제의 조성비는 산화물 충진제의 무게를 100중량%로 하여 산출한 것이다.

산화물 충진제의 조성비

산화물 충진제	조성비(중량%)
Al₂O₃	30 - 90
V₂O₅	5 - 15
TiO₂	5 - 10
Mg₂Al₃(AlSi₅O₁₈)	0 - 20
LiAl(Si₂O₆)	0 - 20
2MgOSiO₂	0 - 20
Zn₂SiO₄	0 - 20
PbOTiO₂	0 - 20
수정(Quart)	0 - 20
ZrO₂	0 - 20
MgOAl₂O₃₂	0 - 20
3Al₂O₃(2SiO₂)	0 - 20
MgTiO₃	0 - 20
Zn₂SiO₄	0 - 20
LiAl(SiO₄)	0 - 20
MgOSiO₂	0 - 20
BPO₄	0 - 20

이때, P₂O₅-PbO-ZnO계 모상유리에 표 4에 나타난 산화물 충진제를 첨가함에의해 열팽창 계수를 저하함과 아울러, 소성온도를 저하시키게 된다. 예를들면, TiO₂는 격벽의 반사율과 결정화도를 향상시킨다. 또한, Al₂O₃는 낮은 열팽창계수를 갖는 격벽을 형성하게 한다. 이를 상세히 설명하면, P₂O₅-PbO-ZnO계 모상유리의 열팽창계수는 120 - 140 X 10^-7/℃이고 Al₂O₃의 열팽창계수는 66 X 10^-7/℃이며, 상기 P₂O₅-PbO-ZnO계 모상유리에 Al₂O₃를 첨가하여 형성된 격벽의 열팽창계수는 70 - 85 X 10^-7/℃로 하부유리판(소다석회 유리)의 열팽창계수와 유사하게 된다.

한편, 격벽의 제조방법에 대하여 살펴보기로 한다.

혼합분말을 형성한다(제21 단계) 상기 P₂O₅-PbO-ZnO계 모상유리의 분말과 산화물 충진제를 소정의 비율로 혼합함에의해 혼합분말을 형성하게 된다. 혼합분말의 혼합비가 표 5에 나타나 있다.

혼합분말의 혼합비

	모상유리 분말	산화물 충진제 분말
혼합비(%)	40 - 80	20 - 60

첫 번째 공정에서 표 5의 혼합비에 따라 혼합분말의 원재료를 일정한 조성비에 따라 칭량하여 텀블링 믹서(Tumbling Mixer)에서 소정시간(예를들면, 10시간) 혼합하게 된다. 두 번째 공정에서 혼합된 원재료를 용융로에 투입하여 용융시킨다. 이때의 용융조건(Melting Condition)은 1000 - 1200℃에서 소정시간(예를들면, 1-5시간) 용융하며, 용융도중에 원재료가 골고루 용융되도록 2-3 차례 교반(Stirring)시킴에 의해 균질화되어 용융된 유리는 치밀한 조직을 가지게 된다. 세 번째 공정에서 용융된 유리를 급속냉각 시킴에 의해 미세한 입자를 갖는 분말을 형성시킨다. 상기 용융된 유리는 쿠엔?칭 롤러(Quenching Roller)를 통과시킨후 급속냉각하면 미세한 크랙(Crack)을 갖는 파쇄유리(Cullets)가 생성되며, 이 파쇄유리를 볼밀링(Ball Milling)법에 의해 소정시간(예를들어, 16 시간) 밀링하고 #170, #270 시버(Sive)를 순차적으로 통과시킴에 의해 입자크기가 약 10㎛의 양호한 입도분산을 갖는 혼합분말을 만들 수 있다.

혼합분말을 유기용매(Vehicle)와 소정비율로 혼합하여 페이스트(Paste) 또는 슬러리(Slurry)를 형성한다.(제22 단계) 페이스트 형성과정은 제1 실시예에서 충분히 설명하였으므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.

페이스트 또는 슬러리를 기판의 상부에 소정의 두께로 도포한후(제23 단계)한후, 소정온도에 소정시간 소결한다.(제24 단계) 유전체후막의 형성 및 소성과정은 제1 실시예에서 충분히 설명되었으므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.

격벽을 형성한다. (제25 단계) 격벽 형성공정은 도 2에서 상세히 기술하였으므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.

한편, 본 발명에 따른 격벽 제조방법에 의해 형성된 격벽의 특성이 표 5에 나타나 있다.

본 발명에 따른 격벽의 특성

유전율(@ 1Mhz)	7-11
열팽창 계수(10^-7/℃)	70-85
소결온도(℃)	530-580
반사율(@ 500㎚, %)	50-80

상기와 같은 방법으로 형성된 격벽의 유전율은 7-11로 종래의 격벽 유전율에 비해 유전율을 갖게되어 어드레싱 시간의 지연을 방지함과 아울러, 격벽의 반사율이 50-80%가 되어 PDP의 계조를 향상시키게 된다. 또한, PbO의 함유량이 낮아 격벽의 중량을 경량화 함과 아울러, 환경오염을 방지하게 된다. 또한, 소성온도를 저하시켜 유리기판의 변형 및 균열을 방지하게 된다.

상술한 바와같이, 본 발명의 격벽 조성물은 격벽의 광학적, 열적, 전기적 요구특성을 만족시킬수 있는 장점이 있다.

이상 설명한 내용을 통해 당업자 라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.

Claims

플라즈마 표시장치용 격벽조성물에 있어서,

상기 격벽조성물이 P₂O₅-PbO-ZnO계 유리를 사용하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽조성물.
제 1 항에 있어서,

상기 P₂O₅-PbO-ZnO계 유리는 30 내지 60 중량%의 P₂O₅와, 5 내지 40 중량%의 ZnO와, 5 내지 40 중량%의 PbO와, 5 내지 25 중량%의 BaO와, 0 내지 10 중량%의 La₂O₃와, 0 내지 10 중량%의 Bi₂O₃와, 1 내지 5 중량%의 Al₂O₃와, 0 내지 5 중량%의 MgO와, 0 내지 5 중량%의 CaO와, 0 내지 5 중량%의 SrO와, 0 내지 5 중량%의 TeO₂와, 0 내지 2 중량%의 Sb₂O₃와, 0 내지 2 중량%의 As₂O₃로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽 조성물.
제 1 항에 있어서,

상기 격벽 조성물이 플라즈마 표시장치의 격벽 및 유전체 후막중 적어도 어느 하나에 적용되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽조성물.
플라즈마 표시장치용 격벽조성물에 있어서,

상기 격벽조성물이 P₂O₅-PbO-ZnO계 유리와,

70 X 10^-7/℃ 이하의 열팽창계수를 갖는 충진제를 함유하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽 조성물.
제 4 항에 있어서,

상기 P₂O₅-PbO-ZnO계 유리는 30 내지 60 중량%의 P₂O₅와, 5 내지 40 중량%의 ZnO와, 5 내지 40 중량%의 PbO와, 5 내지 25 중량%의 BaO와, 0 내지 10 중량%의 La₂O₃와, 0 내지 10 중량%의 Bi₂O₃와, 1 내지 5 중량%의 Al₂O₃와, 0 내지 5 중량%의 MgO와, 0 내지 5 중량%의 CaO와, 0 내지 5 중량%의 SrO와, 0 내지 5 중량%의 TeO₂와, 0 내지 2 중량%의 Sb₂O₃와, 0 내지 2 중량%의 As₂O₃로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽 조성물.
제 4 항에 있어서,

상기 충진제는 30 내지 90 중량%의 Al₂O₃와, 5 내지 15 중량%의 V₂O₅와, 5 내지 10 중량%의 TiO₂와, 0 내지 20 중량%의 Mg₂Al₃(AlSi₅O₁₈)과, 0 내지 20 중량%의 LiAl(Si₂O₆)와, 0 내지 20 중량%의 2MgOSiO₂와, 0 내지 20 중량%의 Zn₂SiO₄와, 0 내지 20 중량%의 PbOTiO₂와, 0 내지 20 중량%의 수정과, 0 내지 20 중량%의 ZrO₂와, 0 내지 20 중량%의 MgOAl₂O₃와, 0 내지 20 중량%의 3Al₂O₃(2SiO₂)와, 0 내지 20 중량%의 MgTiO₃와, 0 내지 20 중량%의 Zn₂SiO₄와, 0 내지 20 중량%의 LiAl(SiO₄)와, 0 내지 20 중량%의 MgOSiO₂와, 0 내지 20 중량%의 BPO₄로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽 조성물.
제 4 항에 있어서,

상기 40 내지 80%의 모상유리와 20 내지 60%의 충진제가 혼합됨에의해 혼합분말을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽 조성물.