KR100774963B1 - 평판 디스플레이 패널용 격벽 및 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 평판 디스플레이 패널용 격벽에 관한 것이다.
이와 같은 본 발명에 따른 평판 디스플레이 패널용 격벽은 감광성 물질을 포함하여 외부로부터 조사되는 노광용 광에 따라 소정 픽셀(Pixel)을 구획하는 평판 디스플레이 패널용 격벽에 있어서, 격벽은 격벽 재료가 포함된 격벽 페이스트 또는 슬러리로 제조되고, 격벽 페이스트 또는 슬러리는 광 투과성 유리재료를 포함하는 것을 특징으로 한다.
평판 디스플레이 패널, 플라즈마 디스플레이 패널, 격벽, 페이스트, 유리, 섬유, 광투과율

Description

평판 디스플레이 패널용 격벽 및 제조방법{Manufacturing Method and Barrier Rib for Flat Panel Display}

도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조도.

도 2는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조과정을 나타낸 도.

도 3은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법의 다른 실시예를 나타낸 도.

도 4는 도 3의 (b) 단계의 A영역을 상세히 설명하기 위한 도.

도 5는 본 발명에 의한 실시예로 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽을 설명하기 위한 도.

도 6a 내지 도 6b는 본 발명에 의한 격벽 페이스트에 포함된 광 투과성 유리재료의 광 투과원리를 설명하기 위한 도.

도 7은 본 발명에 의한 평판 디스플레이 패널용 격벽 제조과정의 일례를 나타낸 도.

도 8은 도 7의 (b) 단계의 B영역을 상세히 설명하기 위한 도.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

600 : 광 투과성 유리재료 601 : 코어

602, 603 : 클래드

본 발명은 평판 디스플레이 패널에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 광투과 특성을 향상시킨 평판 디스플레이 패널용 격벽에 관한 것이다.

일반적으로, 평판 디스플레이 패널은 LCD(Liquid Crystal Display), FED(Field Emission Display), 유기EL(Electroluminescense), 플라즈마 디스플레이 패널 등과 같이 여러 가지 종류가 있으며 특히, 플라즈마 디스플레이 장치는 소다라임(Soda-lime) 글라스로 된 전면 기판과 후면 기판 사이에 존재하는 불활성 가스가 고주파 전압에 의해 방전이 될 때, 진공자외선(Vacuum Ultraviolet rays)이 발생되어 내부에 형성된 형광체를 발광시켜 화상을 구현하는 장치이다. 이러한 평판 디스플레이 패널 중에서 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 살펴보면 다음과 같다.

일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널은 전면기판과 후면기판 사이에 형성된 격벽이 하나의 단위 셀을 이루는 것으로, 각 셀 내에는 네온(Ne), 헬륨(He) 또는 네온 및 헬륨의 혼합기체(Ne+He)와 같은 주 방전 기체와 소량의 크세논을 함유하는 불활성 가스가 충진되어 있다. 고주파 전압에 의해 방전이 될 때, 불활성 가스는 진공자외선(Vacuum Ultraviolet rays)을 발생하고 격벽 사이에 형성된 형광체를 발광시켜 화상이 구현된다. 이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널은 얇고 가벼운 구성이 가능하므로 차세대 표시장치로서 각광받고 있다.

도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 도이다.

도 1에 도시된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 화상이 디스플레이 되는 표시면인 전면 글라스(101)에 스캔 전극(102)과 서스테인 전극(103)이 쌍을 이뤄 형성된 복수의 유지전극쌍이 배열된 전면기판(100) 및 배면을 이루는 후면 글라스(111) 상에 전술한 복수의 유지전극쌍과 교차되도록 복수의 어드레스 전극(113)이 배열된 후면기판(110)이 일정거리를 사이에 두고 평행하게 결합된다.

전면기판(100)은 하나의 방전셀에서 상호 방전시키고 셀의 발광을 유지하기 위한 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103), 즉 투명한 ITO 물질로 형성된 투명 전극(a)과 금속재질로 제작된 버스 전극(b)으로 구비된 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)이 쌍을 이뤄 포함된다. 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)은 방전 전류를 제한하며 전극 쌍 간을 절연시켜주는 하나 이상의 상부 하부 유전체층(104)에 의해 덮혀지고, 상부 하부 유전체층(104) 상면에는 방전 조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호층(105)이 형성된다.

후면기판(110)은 복수개의 방전 공간 즉, 방전셀을 형성시키기 위한 스트라이프 타입(또는 웰 타입)의 격벽(112)이 평행을 유지하여 배열된다. 또한, 어드레스 방전을 수행하여 진공자외선을 발생시키는 다수의 어드레스 전극(113)이 격벽(112)에 대해 평행하게 배치된다. 후면기판(110)의 상측면에는 어드레스 방전시 화상표시를 위한 가시광선을 방출하는 R, G, B 형광체(114)가 도포된다. 어드레스 전극(113)과 형광체(114) 사이에는 어드레스 전극(113)을 보호하기 위한 하부 유전체층(115)이 형성된다.

이와 같은 구조의 플라즈마 디스플레이 패널을 포함한 평판 디스플레이 패널에는 정확한 화소를 구획하기 위하여 격벽(barrier rib)이 형성된다. 이러한 격벽을 제조하는 방법에는 여러 가지가 있는데, 일례로 도 1에서 전술한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽을 제조하는 과정을 살펴보면 도 2와 같다.

도 2는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조과정을 나타낸 도면이다.

먼저, (a) 단계와 같이, 어드레스 전극(미도시)이 실장된 하부기판(200) 상에 유전체(201)가 형성되며, 전술한 하부 유전체층(201)상에는 유리재료와 유기재료이 혼합된 격벽 페이스트(202)가 소정의 두께로, 스크린 인쇄법이나 코팅방법 중 어느 하나의 방법으로 형성된다. 이 후, (b) 단계와 같이 격벽 페이스트(202) 상에는 포토 레지스트 예컨대, 드라이 필름 포토레지스트(Dry Film Photo Resist; 이하 DFR이라 함, 203)이 라미네이팅 공정을 통하여 형성되고, DFR(203) 상에는 포토 마스크(204)가 정렬되어 광이 조사되는 노광공정을 거친다.

DFR(203) 노광 공정 후, (c) 단계와 같이 현상공정이 실시되는데, 예컨대 이러한 현상공정에 의해 광에 노출되지 않은 영역(이하 '미노광 영역'이라 함)의 DFR(203)은 격벽 페이스트(202) 상에 잔류하는 반면에, 광에 노출된 영역(이하 '노광 영역'이라 함)의 DFR(203)은 식각되어 제거된다.

이러한, 현상공정을 거친 격벽 페이스트(202) 및 DFR(203) 상에 도시하지는 않았지만, 샌드블라스트(sandblast)법 또는 에칭액에 의한 에칭법등을 통하여 에칭과정을 수행한다. 이때, 격벽에 해당하는 격벽 페이스트(202)는 DFR(203) 패턴에 의해 보호되고, 이외의 격벽 페이스트(202)는 깎여지게 된다.

이와 같은 과정을 거친후에, (d) 단계와 같이 전술한 DFR(203)에 의해 보호되어 형성된 격벽(210)에 박리공정을 실시하여 DFR(203)이 박리되고, 이어서 격벽 페이스트(202)는 소성된다. 그 결과, 격벽(210)이 완성되고, 격벽(210)들 사이에 오목하게 방전공간이 형성되어, 전술한 방전공간에 R, G, B 형광체를 각각 도포하여 형광체층(미도시)을 형성하게 된다.

이러한, 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법에서는 격벽 페이스트(202)를 형성한 이후에 DFR(203)을 형성해야 하기 때문에 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 시 재료비가 상승되고, 전술한 DFR(203)의 형성공정이 더 추가되어야 하기 때문에 공정시간이 증가함으로써 제조 단가가 상승하는 문제점이 있다.

이러한 문제점을 해결하기 위하여 종래에는 유리재료와 유기재료이 혼합된 격벽 페이스트에 소정의 포토 레지스트 물질을 혼합해 사용하여 공정 시간을 감소시켜 제조단가를 줄이고자 하였다. 이를 살펴보면 다음 도 3과 같다.

도 3은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법의 다른 실시예를 나타낸 도면이다.

도 3을 살펴보면 먼저, (a) 단계와 같이, 어드레스 전극(미도시)이 실장된 하부기판(300) 상에 유전체(301)가 형성되며, 전술한 하부 유전체층(301)상에는 유리재료와 유기재료 및 소정의 포토 레지스트가 혼합된 격벽 페이스트(302)가 소정의 두께로 인쇄법이나 코팅방법 등의 방법으로 형성된다. 이 후, (b) 단계와 같이 포토 마스크(303)가 정렬되어 광이 조사되는 노광공정을 거친 후에, 도 2의 설명에서와 같은 현상공정이 실시된다.

이후에, 전술한 현상공정을 거친 격벽 페이스트(302) 상에, 에칭공정(미도시)을 수행한다. 예를 들면, (c) 단계와 같이, 경화된 격벽 페이스트(302)는 보호되고, 연화된 격벽 페이스트(304)는 깎여지게 되어 (d) 단계와 같이, 격벽(310)이 완성된다. 또한, 격벽(310)들 사이에 오목하게 방전공간이 형성되어, 전술한 방전공간에 R, G, B 형광체를 각각 도포하여 형광체층(미도시)을 형성하게 된다.

이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조 과정에서, (b) 단계에서의 A영역을 좀더 상세히 살펴보면 도 4와 같다.

도 4는 도 3의 (b) 단계의 A영역을 상세히 설명하기 위한 도면이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 전술한 도 3의 (b) 단계에서 포토 마스크(303)가 정렬된 격벽 페이스트(302)는 미노광되고, 포토 마스크(303)가 정렬되지 않은 격벽 페이스트(302)는 노광된다.

여기서, 유리재료와 유기재료 및 소정의 포토 레지스트가 혼합된 격벽 페이스트(302)는 광 투과율이 떨어져 노광특성이 악화된다. 이에 따라, 일회의 노광공정으로 형성할 수 있는 격벽의 두께가 상대적으로 작게 된다.

예를 들면, 종래에 유리재료와 유기재료 및 소정의 포토 레지스트가 혼합된 격벽 페이스트(302)는 외부로부터 조사되는 노광용 광을 h1의 깊이 만큼 투과시킨다고 하면, 10h1의 두께의 격벽을 형성하기 위해서는 총 10회의 노광공정을 거쳐야 한 다.

이와 같이, 소정 두께의 격벽을 형성하기 위해서 종래에는 광이 투과될 수 있는 소정의 두께로 격벽 페이스트(302)를 도포하고, 노광하는 과정을 복수회 반복함으로써, 공정의 수가 증가하고 이에 따라 제조 시간이 증가함으로써 결국, 제조단가가 상승하는 문제점이 있다.

이러한 문제점을 해결하기 위한 본 발명은 평판 디스플레이 패널용 격벽의 제조 시 소정의 광 투과성 유리재료를 포함한 격벽 페이스트 또는 슬러리를 이용하여 격벽을 형성함으로써, 파인 피치(Fine Pitch)의 격벽을 형성하고, 노광특성을 향상시키는 평판 디스플레이 패널용 격벽을 제공하는데 그 목적이 있다.

이와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위한 평판 디스플레이 패널용 격벽은, 감광성 물질을 포함하여 외부로부터 조사되는 노광용 광에 따라 소정 픽셀(Pixel)을 구획하는 평판 디스플레이 패널용 격벽에 있어서, 외부로부터 조사되는 노광용 광의 투과율을 상승시키기 위한 광 투과성 유리재료가 포함되는 것을 특징으로 한다.

여기서, 광 투과성 유리재료는 섬유(Fiber) 형태인 것을 특징으로 한다.

이러한, 광 투과성 유리재료는 소정의 굴절율을 가지고, 외부로부터 조사되는 노광용 광을 전송하기 위한 내부의 코어부와, 코어부의 굴절율과 서로 다른 다른 굴절율을 가지고, 코어에서 노광용 광의 전반사가 이루어지도록 하는 클래드부 를 구비하는 것이 바람직하다.

또한, 광 투과성 유리재료는 1㎛(마이크로 미터)이상 200㎛(마이크로 미터)이하의 길이를 갖는 것을 특징으로 한다.

또한, 광 투과성 유리재료는 격벽 페이스트 또는 슬러리의 총 질량에 대하여 10wt%이상 60wt%이하의 함량비를 갖는 것을 특징으로 한다.

또한, 이와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위한 평판 디스플레이 패널의 격벽의 제조 방법은 감광성 물질을 포함하여 외부로부터 조사되는 노광용 광에 따라 소정 픽셀(Pixel)을 구획하는 평판 디스플레이 패널용 격벽의 제조 방법에 있어서, 미리 지정된 위치에 광 투과성 유리재료가 포함된 격벽 페이스트 또는 슬러리로 격벽층을 형성하는 단계; 격벽층을 소정의 패턴에 따라 노광하는 단계; 및 격벽층을 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

여기서, 광 투과성 유리재료는 섬유(Fiber) 형태인 것을 특징으로 한다.

이러한, 광 투과성 유리재료는 소정의 굴절율을 가지고, 외부로부터 조사되는 노광용 광을 전송하기 위한 내부의 코어부와, 코어부의 굴절율과 서로 다른 다른 굴절율을 가지고, 코어에서 노광용 광의 전반사가 이루어지도록 하는 클래드부를 구비하는 것이 바람직하다.

또한, 광 투과성 유리재료는 1㎛(마이크로 미터)이상 200㎛(마이크로 미터)이하의 길이를 갖는 것을 특징으로 한다.

또한, 광 투과성 유리재료는 격벽 페이스트 또는 슬러리의 총 질량에 대하여 10wt%이상 60wt%이하의 함량비를 갖는 것을 특징으로 한다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 평판 디스플레이 패널용 격벽을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.

도 5는 본 발명에 의한 실시예로 평판 디스플레이 패널용 격벽을 설명하기 위한 도면이다.

도 5에 도시된 바와 같이, 평판 디스플레이 패널용 격벽(500)은 소정의 광 투과성 유리재료를 포함한다. 바람직하게 광 투과성 유리재료는 섬유 형태인 것을 특징으로 한다. 이러한 평판 디스플레이 패널용 격벽(500)은 격벽 페이스트 또는 슬러리로 제조되는 것을 고려할 때 전술한 평판 디스플레이 패널용 격벽(500)이 소정의 광 투과성 유리재료를 포함하는 것은 평판 디스플레이 패널용 격벽 페이스트 또는 슬러리가 소정의 광 투과성 유리재료를 포함하는 것으로 해석될 수 있다. 물론 전술한 평판 디스플레이 패널용 격벽 페이스트는 소정의 유기물등이 포함되어 있는 상태이다.

이러한 격벽 페이스트 또는 슬러리내에 전술한 광 투과성 유리재료는 다양한 방향으로 분포한다. 예를 들면 광 투과성 유리재료는 부호 501의 광 투과성 유리재료와 같이 소정의 노광용 광이 유효한 입사각으로 전달 될 수 없게 배향되거나, 또는 부호 502번의 광 투과성 유리재료와 같이 소정의 노광용 광이 유효한 입사각으로 전달 될 수 있게 배향된다.

여기서 부호 502번과 같이 배향된 광 투과성 유리재료는 격벽 페이스트 내에서 입사되는 광이 일정한 입사각을 유지하면서 광 투과성 유리재료에 입사될 때에 굴절현상이 없어지고 완전히 반사하게 되는 전반사(total reflection)를 일으키며 광을 전달한다.

이와 같은, 평판 디스플레이 패널용 격벽 페이스트에 포함된 광 투과성 유리재료의 광 투과 원리를 좀더 상세히 살펴보면 도 6a 내지 도 6b와 같다.

도 6a 내지 도 6b는 본 발명에 의한 격벽 페이스트에 포함된 광 투과성 유리재료의 광 투과원리를 설명하기 위한 도면이다.

먼저, 도 6a에 도시된 광 투과성 유리재료의 단면을 살펴보면, 광 투과성 유리재료(600)는 빛을 전송하는 내부의 코어(601)와 코어(601)에서 빛의 전반사가 이루어지도록 굴절률을 달리한 클래드(602)로 구성된다. 일반적으로 반사와 굴절에 의해 이루어지는 빛의 전파는 입사각과 두 매질의 굴절률에 의해 결정된다. 이와 같이, 굴절률이 서로 다른 코어(601)와 클래드(602)를 포함한 광 투과성 유리재료(600)에서 빛이 전달되는 과정을 살펴보면 도 6b와 같다.

도 6b에 도시된 바와 같이, 코어(601)로 주입된 빛은 소정의 임계각보다 큰 각도로 클래드(602) 접속면으로 입사되면, 입사각과 같은 각도로 반사하여 전파한다. 굴절률이 서로 다른 두 매질 간의 경계면에서 굴절률이 높은 매질에서 굴절률이 낮은 매질로 빛이 임의의 각으로 입사할 때 소정의 임계각에 도달하게 되면 굴절현상이 없어지고 완전히 반사하는 전반사를 일으키며 광을 전달한다. 예컨대, 클래드(602)의 굴절률을 코어(601)의 굴절률에 비해 1%정도 낮게 하여 굴절률이 1.47인 코어(601)와 1.46인 클래드(602)를 이용하여 빛이 전반사되도록 한다.

이와 같이, 빛의 전반사 원리를 가지는 광 투과성 유리재료(600)를 이용하여 코어(601)내에 입사된 광을 상대적으로 먼 거리까지 효율적으로 전달한다.

이러한, 광 투과성 유리재료를 포함한 격벽 페이스트를 이용하여 감광성 물질을 포함하여 외부로부터 조사되는 노광용 광에 따라 소정 픽셀(Pixel)을 구획하는 평판 디스플레이 패널용 격벽의 제조 방법의 일예로 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조과정을 살펴보면 도 7과 같다.

도 7은 본 발명에 의한 평판 디스플레이 패널용 격벽 제조과정의 일례를 나타낸 도면이다.

평판 디스플레이 패널용 격벽 제조과정의 일례로 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조과정을 살펴보면, 먼저, 미리 지정된 위치에 소정의 광 투과재가 포함된 격벽층을 형성한다. 예컨대, (a) 단계와 같이 어드레스 전극(미도시)이 실장된 하부기판(700) 상에 유전체(701)가 형성되며, 이러한 유전체(701)상에는 소정의 광 투과재를 포함한 격벽 페이스트(702)가 소정의 두께를 갖도록 형성된다. 또한, 전술한 광 투과성 유리재료는 섬유(Fiber) 형태인 것을 특징으로 하며, 이러한 광 투과성 유리재료는 소정의 굴절율을 가지고, 외부로부터 조사되는 노광용 광을 전송하기 위한 내부의 코어부와 코어부의 굴절율과 서로 다른 다른 굴절율을 가지고, 코어에서 노광용 광의 전반사가 이루어지도록 하는 클래드부를 구비하는 것을 특징으로 한다. 또한, 전술한 광 투과성 유리재료는 1㎛(마이크로 미터)이상 200㎛(마이크로 미터)이하의 길이를 갖고, 격벽 페이스트(702)의 총 질량에 대하여 10wt%이상 60wt%이하의 함량비를 갖는 것이 바람직하다.

이와 같이, 격벽 페이스트(702)에 포함되는 광 투과성 유리재료의 길이와 함량비를 조절하는 이유를 살펴보면 다음과 같다.

먼저, 격벽 페이스트(702)에 포함되는 광 투과성 유리재료의 길이를 1㎛(마이크로 미터) 이상으로 설정한 이유는 격벽 페이스트(702)내에서 광 투과성 유리재료의 길이가 과도하게 작은 경우, 즉 광 투과성 유리재료의 길이가 1㎛(마이크로 미터) 이하인 경우에는 격벽 페이스트(702) 내에서의 광 투과성 유리재료에 의한 광 투과 깊이를 충분히 확보하기 어렵기 때문이다. 또한 격벽 페이스트(702)에 포함되는 광 투과성 유리재료의 길이를 200㎛(마이크로 미터)이하로 설정한 이유는 격벽 페이스트(702) 내에서 광 투과성 유리재료의 길이가 과도하게 긴 경우에 광 투과성 유리재료가 격벽 페이스트(702)와 원활하게 섞이지 못하고 격벽 형성 시 격벽의 외부로 광 투과성 유리재료가 돌출되는 등의 문제를 발생시키기 때문이다.

또한, 격벽 페이스트(702)에 포함되는 광 투과성 유리재료의 함량비를 10wt%이상으로 설정한 이유는 격벽 페이스트(702) 내에서 광 투과성 유리재료가 10wt%이하로 포함될 경우에는 격벽 페이스트(702) 내에서 광 투과성 유리재료가 충분히 분포하지 못하여 광 투과성 유리재료에 의한 광 투과율이 저하되기 때문이다. 또한 격벽 페이스트(702)에 포함되는 광 투과성 유리재료의 함량비를 60wt%이하로 설정하는 이유는 격벽 페이스트(702) 내에서 광 투과성 유리재료의 함량비가 60wt%이상으로 포함될 경우에는 격벽 페이스트(702)에 광 투과성 유리재료가 과다 포함되어 격벽 형성 시 격벽의 고유 특성을 저하시킬 수 있기 때문이다.

이러한, 광 투과성 유리재료를 포함한 격벽 페이스트(702)는 스크린 인쇄법, 라미네이팅법 또는 코팅방법 중 적어도 어느 하나의 방법으로 형성된다. 이 후, (b) 단계와 같이, 격벽용 페이스트(702)를 소정의 패턴에 따라 노광하기 위하여 전 술한 격벽용 페이스트(702) 상에 포토 마스크(703)가 정렬되어 광 투과성 유리재료를 포함한 격벽 페이스트(702)에 광이 조사되는 노광공정을 거친후 현상공정이 실시된다.

이러한 현상공정에 의해 (c) 단계와 같이, 광에 노출되지 않은 영역(이하 '미노광 영역'이라 함)의 격벽 페이스트(702)는 경화(단단해짐)되고, 광에 노출된 영역(이하 '노광 영역'이라 함)의 격벽 페이스트(704)는 연화(물러짐)된다.

이후에, (d) 단계와 같이 격벽 페이스트(702)를 에칭하기 위하여 격벽 페이스트(702) 상에 에칭장치(750)가 구비되어 에칭액을 분사한다. 이때, 예를 들면 경화된 격벽 페이스트(702)는 보호되고, 연화된 격벽 페이스트(704)는 깎여지게 되어 (e) 단계와 같이 격벽(710)이 완성되고, 격벽(710)들 사이에 오목하게 방전공간이 형성되어, 전술한 방전공간에 R, G, B 형광체를 각각 도포하여 형광체층(미도시)을 형성하게 된다.

여기서 전술한 격벽(710)을 격벽 페이스트(702)로 형성하는 것을 예로써 설명하였지만 슬러리로 형성하는 것도 가능하다.

이와 같은 평판 디스플레이 패널용 격벽 제조과정의 일례로 살펴본 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조과정에서, (b) 단계에서의 B영역을 좀 더 상세히 살펴보면 도 8과 같다.

도 8은 도 7의 (b) 단계의 B영역을 상세히 설명하기 위한 도면이다. 도 8에 도시된 바와 같이, 전술한 도 7의 (b) 단계에서 포토 마스크(703)가 정렬된 격벽 페이스트(702)는 미노광되고, 포토 마스크(703)가 정렬되지 않은 격벽 페이스트 (702)는 노광된다. 이때, 격벽 페이스트(702)에 포함된 광 투과성 유리재료에 조사되는 광이 전반사되는 원리로 인하여 광이 격벽 페이스트(702)의 깊은 곳까지 투과하여 격벽 페이스트(702)의 노광특성을 향상시킨다.

이에 따라, 격벽 형성 시 한번의 노광공정을 통해 형성할 수 있는 격벽의 두께가 종래에 비해 증가한다. 예를 들면, 도 4의 경우에서 한번의 노광공정에서 노광용 광이 침투할 수 있는 격벽 페이스트 내에서의 깊이가 h1이라고 가정하고, 도 8의 경우에서 한번의 노광공정에서 노광용 광이 침투할 수 있는 격벽 페이스트 내에서의 깊이를 h2라고 가정하면, 이때 h1<h2인 관계가 성립한다. 결국 도 4의 경우에서는 10h1의 높이의 격벽을 형성하기 위해서는 총 10회의 노광공정의 거쳐야 하지만, 본 발명의 도 8의 경우에서는 도 4의 경우보다 적은 횟수, 예컨대 총 1회 또는 총 2회 등의 횟수의 노광공정만을 거쳐 원하는 두께의 격벽을 형성하는 것이다.

이에 따라 격벽 형성 시 제조공정의 공정 수를 줄인다.

또한, 이와 같이 한번의 노광공정을 통해 형성할 수 있는 격벽의 두께가 종래에 비해 상대적으로 크기 때문에 파인 피치(Fine Pitch)의 격벽을 구현할 수 있다. 예를 들면, 도 4의 경우에서는 총 10회의 노광공정을 통해 원하는 두께의 격벽을 형성하고, 본 발명의 도 8의 경우에서는 총 1회 또는 2회의 노광공정을 통해 원하는 두께의 격벽을 형성한다고 가정하면, 도 4의 경우에서는 총 10회의 노광공정마다 소정의 포토 마스크를 정렬시키는 등의 다른 공정 상에서 발생할 수 있는 오차를 고려하여 목적하는 격벽의 폭 보다 더 크게 폭을 설정한다. 이에 따라 목적하 는 격벽의 폭 보다 더 큰 폭을 갖는 격벽이 형성되는 것이다. 그러나 본 발명의 도 8의 경우에서는 총 5회의 노광공정에서 발생할 수 있는 오차만을 고려하여 격벽의 폭을 조절하면 되기 때문에 도 4의 경우와 비교하여 상대적으로 그 폭이 더 작아도 관계없다.

이러한 이유로 인해 본 발명의 평판 디스플레이 패널의 격벽은 파인 피치를 구현하는 것이다.

이와 같이, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 예를들면, 본 발명에서 플라즈마 디스플레이 패널에 대해서 설명하였지만, 이에 한정되는 것은 아니고, LCD, 유기EL을 포함하는 평판 디스플레이 패널에서 적용이 가능하다.

그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명은 소정의 광 투과재를 포함한 격벽 페이스트 또는 슬러리로 격벽을 형성함으로써, 노광공정시 광 투과율을 높혀 광 노광특성을 향상시켜 파인피치(Fine Pitch)의 격벽을 형성하고, 격벽 형성 시 제조 공정을 줄임으로써 제조 단가를 감소시키는 효과가 있다.

Claims (13)

  1. 감광성 물질을 포함하여 외부로부터 조사되는 노광용 광에 따라 소정 픽셀(Pixel)을 구획하는 평판 디스플레이 패널용 격벽에 있어서,
    상기 격벽은 격벽 재료가 포함된 격벽 페이스트 또는 슬러리로 제조되고,
    상기 격벽 페이스트 또는 슬러리는 섬유(Fiber)형태의 광 투과성 유리재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널용 격벽.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 광 투과성 유리재료는
    소정의 굴절율을 가지고, 외부로부터 조사되는 노광용 광을 전송하기 위한 내부의 코어부와
    상기 코어부의 굴절율과 서로 다른 굴절율을 가지고, 상기 코어에서 상기 노광용 광의 전반사가 이루어지도록 하는 클래드부
    를 구비하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널용 격벽.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 광 투과성 유리재료는
    1㎛(마이크로 미터)이상 200㎛(마이크로 미터)이하의 길이를 갖는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널용 격벽.
  5. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
    상기 광 투과성 유리재료는
    상기 격벽 페이스트 또는 슬러리의 총 질량에 대하여 10wt%이상 60wt%이하의 함량비를 갖는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널용 격벽.
  6. 감광성 물질을 포함하여 외부로부터 조사되는 노광용 광에 따라 소정 픽셀(Pixel)을 구획하는 평판 디스플레이 패널용 격벽의 제조 방법에 있어서,
    미리 지정된 위치에 섬유(Fiber)형태의 광 투과성 유리재료가 포함된 격벽 페이스트 또는 슬러리로 격벽층을 형성하는 단계;
    상기 격벽층을 소정의 패턴에 따라 노광하는 단계; 및
    상기 격벽층을 에칭하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널용 격벽의 제조방법.
  7. 삭제
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 광 투과성 유리재료는
    소정의 굴절율을 가지고, 외부로부터 조사되는 노광용 광을 전송하기 위한 내부의 코어부와
    상기 코어부의 굴절율과 서로 다른 굴절율을 가지고, 상기 코어에서 상기 노광용 광의 전반사가 이루어지도록 하는 클래드부
    를 구비하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널용 격벽의 제조방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 광 투과성 유리재료는
    1㎛(마이크로 미터)이상 200㎛(마이크로 미터)이하의 길이를 갖는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널용 격벽의 제조방법.
  10. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
    상기 광 투과성 유리재료는
    상기 격벽 페이스트 또는 슬러리의 총 질량에 대하여 10wt%이상 60wt%이하의 함량비를 갖는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널용 격벽의 제조방법.
  11. 감광성 물질을 포함하여 외부로부터 조사되는 노광용 광에 따라 소정 픽셀(Pixel)을 구획하는 평판 디스플레이 패널용 격벽재에 있어서,
    섬유(Fiber)형태의 광 투과성 유리재료를 포함하는 평판 디스플레이 패널용 격벽재.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 광 투과성 유리재료는
    소정의 굴절율을 가지고, 외부로부터 조사되는 노광용 광을 전송하기 위한 내부의 코어부와
    상기 코어부의 굴절율과 서로 다른 굴절율을 가지고, 상기 코어에서 상기 노광용 광의 전반사가 이루어지도록 하는 클래드부
    를 구비하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널용 격벽재.
  13. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,
    상기 광 투광성 유리재료는 격벽 페이스트 또는 슬러리에 포함되며,
    상기 광 투과성 유리재료는 상기 격벽 페이스트 또는 슬러리의 총 질량에 대하여 10wt%이상 60wt%이하의 함량비를 갖는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널용 격벽재.
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