KR20000065235A - 컨테이너 - Google Patents

컨테이너 Download PDF

Info

Publication number
KR20000065235A
KR20000065235A KR1019980710289A KR19980710289A KR20000065235A KR 20000065235 A KR20000065235 A KR 20000065235A KR 1019980710289 A KR1019980710289 A KR 1019980710289A KR 19980710289 A KR19980710289 A KR 19980710289A KR 20000065235 A KR20000065235 A KR 20000065235A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
opening
lid
container
clean room
loader
Prior art date
Application number
KR1019980710289A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100510433B1 (ko
Inventor
도시오 이시카와
미네오 긴파라
Original Assignee
다이니치쇼지 가부시키가이샤
다카타니 후미오
로제 가부시키 가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 다이니치쇼지 가부시키가이샤, 다카타니 후미오, 로제 가부시키 가이샤 filed Critical 다이니치쇼지 가부시키가이샤
Publication of KR20000065235A publication Critical patent/KR20000065235A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100510433B1 publication Critical patent/KR100510433B1/ko

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B61—RAILWAYS
    • B61D—BODY DETAILS OR KINDS OF RAILWAY VEHICLES
    • B61D5/00—Tank wagons for carrying fluent materials
    • B61D5/08—Covers or access openings; Arrangements thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67373—Closed carriers characterised by locking systems
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67772—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving removal of lid, door, cover

Abstract

혐먼지성 물품을 수납하여 운반하기 위한 컨테이너에 있어서, 고청정실과 저청정실의 경계에 마련된 로더에 놓여지고, 그 로더에 구비된 열림장치에 의해 뚜껑이 개폐됨으로써 개구부가 고청정실과 연결, 차단되는 수단을 구비한 컨테이너.

Description

컨테이너
반도체기판, 특히 실리콘 웨이퍼는 먼지나 기화된 유기물 (이하 「먼지」라 한다.)등이 부착되면 오염되고, 이러한 오염은 특히 생산제품의 수율, 즉 양품율(良品率)을 저하시키게 된다. 따라서 실리콘 웨이퍼를 운반할 때는, 그 주위를 청정도가 높은 환경으로 해야 한다. 즉 실리콘 웨이퍼는, 운반시 높은 청정도를 유지해야 하는 물품(이하「혐먼지성 물품」이라 한다.) 중 하나이다.
일반적으로, 실리콘 웨이퍼의 가공은 청정도가 높은 방(이하「고청정실」이라 한다) 소위 클린 룸에서 행해진다. 한편, 청정도가 낮은 방 등에서 실리콘 웨이퍼를 운반할 때에는, 그 실리콘 웨이퍼를 밀폐된 청정도가 높은 용기(이하 「컨테이너」라 한다)에 넣고 컨테이너와 함께 운반한다. 이렇게 함으로써, 실리콘 웨이퍼를 청정도가 낮은 방이나 옥외 등(이하「저청정실」이라 한다)을 경유하여 운반할 수가 있고, 운반시 실리콘 웨이퍼가 먼지에 의해 오염되지 않게 된다.
또한, 고청정실과 저청정실의 경계에 폐쇄가능한 개구를 갖춘 로더를 설치하여, 컨테이너 내부의 높은 청정도의 공간으로부터 실리콘 웨이퍼의 가공 등을 하기 위한 고청정실로 실리콘 웨이퍼를 반입(이하「로드」라 한다)하고, 또한 가공된 실리콘 웨이퍼를 다른 공정으로 옮기기 위해 고청정실로부터 컨테이너 내부의 높은 청정도의 공간으로 실리콘 웨이퍼를 반출(이하「언로드」라 한다)한다.
로드 및 언로드시에는, 로더의 개구를 경유하여 실리콘 웨이퍼가 반입, 반출되게 된다. 컨테이너는 로더의 개구측에 뚜껑을 구비하며, 반입, 반출시에는 이 뚜껑이 열리게 된다.
그리고 실리콘 웨이퍼의 반입, 반출을 하지 않을 경우에는 로더의 개구는 폐쇄되고, 이렇게 함으로써 저청정실로부터 고청정실로 먼지가 들어가는 것을 방지한다. 따라서, 개구에 도어를 구비하고, 이러한 도어의 이동에 의해 개구를 개폐하는 방법을 취할 수 있다. 이러한 경우, 도어는 개구를 완전히 폐쇄할 수 있는 크기로 하여도 좋다. 또, 도어의 크기를 개구부보다 예컨대 5mm 정도씩 주위가 작은 크기로 하고, 도어와 개구부 사이에 틈새를 마련하여 고청정실측의 기압을 저청정실측의 기압보다 높게 함으로써, 고청정실측으로부터 저청정실측로 상기 틈새를 경유하여 기류가 흐르도록 하여도 좋다.
이와 같은 컨테이너와 로더의 규격으로는 이미 SEMI(Semiconductor Equipment and Material International) 규격 E47.1 「Box/Pod(FOUP)」, E15.1 「Tool Load Port」, E57 「Kinematic Coup1lng」, E62 「Front-Opening Interface Standard(FIMS)」, E63 「Box/Opener to Too1 Standard (BOLTS)」등(이하「규격」이라 한다)이 제안되어 채용되고 있다.
종래의 컨테이너의 일례를 도1을 참조하여 설명하기로 한다.
이러한 컨테이너(101)의 전면에는 개구부(103)가 형성되고, 이 개구부(103)는 뚜껑(105)에 의해 개폐된다. 이러한 컨테이너(101)의 내부에는 혐먼지성 물품인 실리콘 웨이퍼(107)를 수평상태로 복수개 나란하게 유지하여 수납하기 위해 티이스(teeth;109)라 불리우는 부품이 내벽에 취부되어 있다.
뚜껑(105)의 표면에는 로더에 마련된 열림장치가 작동하기 위한 열쇠구멍(111)이 형성되어 있다. 즉 열림장치의 열쇠가 이 열쇠구멍(111)에 끼워넣어져 회동함으로써 뚜껑(105)의 내부에 마련된 잠금장치가 동작하여, 뚜껑(105)의 가장자리부의 창(113)으로부터 돌출되어 있던 네 군데의 잠금턱(115)이 후퇴하고, 개구부(103)의 가장자리부에 마련된 맞물림부(117)로부터 벗겨져 맞물림이 해제된다. 그 다음, 뚜껑(105)이 컨테이너(101)의 개구부(103)로부터 떨어져 해방되게 된다.
그러나, 이러한 종래의 컨테이너(101)에서는, 기어나 캠 등으로 구성된 잠금장치의 동작에 따라 먼지가 발생하여, 뚜껑(105)의 가장자리부의 잠금턱(115)의 창(113)으로부터 방출되는데, 이러한 먼지는 잠금턱(115)의 맞물림이 해제되어 뚜껑(105)이 해방되는 순간에 발생하는 기류에 의해 컨테이너(101)내로 유입되며, 실리콘 웨이퍼(107)를 오염시킬 가능성이 있다. 즉, 고청정실측에 가해진 양의 압력에 의해, 뚜껑(105)이 해방되는 순간, 고청정실측과 컨테이너(101) 내부 사이에 기압차가 발생하고 기류가 발생하게 되는데, 먼지는 이러한 기류를 타고 컨테이너(101)내를 오염시킨다.
맞물림부(117) 부근의 구조(도 1b)를 참조하여 더욱 상세하게 설명하면, 컨테이너(101)의 개구부(103)의 가장자리부의 최외주 부분이 앞쪽으로 돌출하여 플랜지(119)를 형성하고 있다. 이러한 플랜지(119)의 선단이 개구부(103)의 선단 가장자리로 되어 있다. 그리고, 이러한 플랜지(119)의 내주측에 맞물림부(117)인 맞물림 오목부가 형성된다. 따라서, 맞물림이 이루어진 상태에서 잠금턱(115) 및 창(113)도 플랜지(119)의 선단 가장자리보다 내주측에 위치하게 된다. 그리고, 기류는 플랜지(119)의 선단 가장자리에서 외주측과 내주측의 두 개의 흐름으로 나누어지며, 내주측의 흐름은 플랜지(119)의 내측을 통과하고, 잠금턱(115)의 창(113)으로부터 방출된 먼지를 실어 뚜껑(105)의 가장자리부의 내측을 돌아 들어가 컨테이너(101)의 내부로 흘러 먼지가 컨테이너(101) 내를 오염시킨다.
또 잠금장치로부터 먼지의 발생뿐만 아니라, 잠금턱(115)이 맞물림부(117)와 마찰될 때의 먼지의 발생에 대해서도 마찬가지로 컨테이너 내를 오염시킬 가능성이 있다.
또한, 개구부(103)의 플랜지(119)의 내주면에 뚜껑(105)의 가장자리부가 마찰되면 먼지가 발생하여 컨테이너(101) 내를 오염시킬 가능성이 있다.
본 발명은, 운반시 높은 청정도를 유지해야 하는 기판 등과 같은 물품을 수납하여 운반하기 위한 컨테이너에 관한 것이다. 이하에서는, 해당 물품으로서 실리콘 웨이퍼나 액정기판 등과 같은 반도체기판, 특히 실리콘 웨이퍼를 예로 들어 설명하나, 이는 예시에 불과하며, 본원발명을 한정하기 위한 것이 아니다. 본원발명은 운반시 높은 청정도를 유지해야 하는 물품이라면 어느 것에나 적용가능하다.
도 1a는 종래의 컨테이너를 나타낸 사시도, 도 1b는 도 1a의 뚜껑이 닫힌 상태에서의 주요 부분을 나타낸 단면도이고,
도 2는 본원발명의 실시형태에 따른 컨테이너가 놓여진 로더를 저청정실측에서 본 사시도이고,
도 3은 도 2에 있어서 컨테이너의 뚜껑이 해방되기 전의 개념적인 설명을 하기 위한 종단면도이고,
도 4는 제 3도에 있어서 뚜껑이 해방되고, 해방된 컨테이너의 개구부가 고청정실과 연결된 상태를 나타내는 단면도이고,
도 5는 본원발명의 컨테이너를 나타내는 전체사시도이고,
도 6은 도 5의 컨테이너의 분해사시도이고,
도 7a는 도 5의 컨테이너의 뚜껑 부분을 정면에서 본 투시도, 도 7b는 도 7a 의 B-B 단면도이고,
도 8은 도 7b의 주요부분 확대도이고,
도 9a는 도 8을 오른쪽 방향에서 본 투시도, 도 9b는 도 9a의 잠금턱의 맞물림이 풀린 상태를 나타낸 도면이고,
도 10a는 도 5의 컨테이너의 개구부를 나타내는 정면도, 도 10b는 도 10a의 가이드 오목부에 끼워져 결합되기 위해 뚜껑의 내측에 형성되는 가이드 볼록부의 사시도이고,
도11a는 도 8의 개략을 벽의 개구 부분과 함께 도시한 도면, 도 11b, 도 11c, 도 11d, 도 11e 및 도 11f의 각각은 다른 실시형태에 있어서의 도 11a에 대응하는 도면이고,
도 12g 및 도 12h의 각각은 다른 실시형태에 있어서의 도 11a에 대응하는 도면이다.
본원발명은 이상과 같은 문제를 해결하기 위해 이루어진 것으로서, 혐먼지성 물품을 수납하여 운반하기 위한 컨테이너의 뚜껑을 개폐할 때 먼지의 발생을 가능한 한 방지하고, 먼지에 의해 컨테이너 내부가 오염되는 것을 방지할 수 있는 컨테이너를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 발명은 아래와 같다.
첫 번째 발명은, 혐먼지성 물품을 수납하여 운반하기 위한 컨테이너에 있어서, 고청정실과 저청정실의 경계에 설치된 로더에 놓여지고, 그 로더에 구비된 열림장치에 의해 뚜껑이 개폐됨으로써 개구부가 고청정실과 연결, 차단되는 이하의 수단을 구비한 컨테이너이다.
(a) 상기 뚜껑의 내부에 마련되고, 상기 로더에 구비된 열림장치가 작동함으로써 상기 뚜껑의 개폐를 위한 동작을 하는 잠금장치;
(b)상기 잠금장치의 잠금턱이 상기 뚜껑의 가장자리부의 창으로부터 돌출되어 상기 개구부의 가장자리부에 마련된 맞물림부에 결합되기 위한 상기 잠금턱; 및
(c)상기 맞물림이 행해진 상태에서 개구부의 선단 가장자리보다 외주측이자 뒷쪽에 위치하는 상기 창.
본원발명에 따르면, 잠금장치의 동작에 따라 발생하여 뚜껑의 가장자리부의 창으로부터 방출되는 먼지는, 이 창이 개구부의 선단 가장자리보다 외주측이자 뒤쪽에 위치하므로, 잠금턱의 맞물림이 해제되어 뚜껑이 열린 순간에 발생하는 기류를 타고 저청정실측으로 흐르고, 개구부의 선단 가장자리로 역류하여 내주측으로 흐르는 것을 방지할 수 있으므로, 컨테이너 내부를 오염시키지 않는다.
두 번째 발명은, 상기 개구부의 가장자리부에는 내주측의 안 플랜지와 외주측의 바깥 플랜지가 형성되고, 두 플랜지 사이에 상기 맞물림부가 마련되어 상기 맞물림이 행해진 상태에서의 상기 잠금턱의 창이 위치하며, 상기 안 플랜지의 선단 가장자리가 상기 개구부의 선단 가장자리로 되어 있는 컨테이너이다.
본원발명에 따르면, 안 플랜지와 바깥 플랜지 사이에 막다른 공간이 형성되고, 이러한 공간내에서는 기류가 일어나기 어려우므로, 먼지가 기류에 실려 개구부의 선단 가장자리로 역류하여 내주측으로 흐르는 것을 방지할 수 있다.
세 번째 발명은, 혐먼지성 물품을 수납하여 운반하기 위한 컨테이너에 있어서, 고청정실과 저청정실의 경계에 마련된 로더에 놓여지고, 그 로더에 구비된 열림장치에 의해 뚜껑이 개폐됨으로써 개구부가 고청정실과 연결, 차단되는 이하의 수단을 구비한 컨테이너이다.
(a) 상기 뚜껑의 내부에 마련되고, 상기 로더에 구비된 열림장치가 작동함으로써 상기 뚜껑의 개폐를 위한 동작을 하는 잠금장치;
(b) 상기 잠금장치의 잠금턱이 상기 뚜껑의 가장자리부의 창으로부터 돌출되어, 상기 개구부의 가장자리부에 마련된 맞물림부에 결합하기 위한 상기 잠금턱;
(c) 상기 개구부의 선단 가장자리보다 외주측에, 상기 맞물림이 행해진 상태에서 위치하는 상기 창; 및
(d) 상기 개구부의 선단 가장자리보다 외주측에 형성되며, 저청정실측으로 통하는 통기공.
본원발명에 따르면, 잠금장치의 동작에 따라 발생하여 뚜껑의 가장자리부의 창으로부터 방출되는 먼지는, 잠금턱의 맞물림이 해제되어 뚜껑이 열리는 순간에 발생하는 기류를 타고 통기공을 통해 저청정실측으로 흐르고, 개구부의 선단 가장자리로 역류하여 내주측으로 흐르는 것을 방지할 수 있으므로, 컨테이너 내부를 오염시키지 않는다.
네 번재 발명은, 상기 통기공은 상기 맞물림부인 결합공을 겸하는 컨테이너이다.
본원발명에 따르면, 통기공이나 결합공의 수를 줄일 수 있으므로, 컨테이너의 제조가공을 용이하게 할 수 있다.
다섯 번째 발명은, 혐먼지성 물품을 수납하여 운반하기 위한 컨테이너에 있어서, 고청정실과 저청정실의 경계에 마련된 로더에 놓여지고, 그 로더에 구비된 열림장치에 의해 뚜껑이 개폐됨으로써 개구부가 고청정실과 연결, 차단되는 이하의 수단을 구비한 컨테이너이다.
(a) 상기 뚜껑의 내부에 마련되며, 상기 로더에 구비된 열림장치가 작동함으로써 상기 뚜껑의 개폐를 위한 동작을 하는 잠금장치;
(b) 상기 잠금장치의 잠금턱이 상기 뚜껑의 가장자리부의 창으로부터 돌출되어, 상기 개구부의 가장자리부에 마련된 맞물림부에 결합되기 위한 상기 잠금턱; 및
(c) 고청정실측에 가해진 양의 압력에 의해, 상기 맞물림이 해제되어 뚜껑이 열린 순간에 발생하는 기류 중 직접 저청정실측으로 흐르는 기류 부분에 위치하는 상기 창.
본원발명에 따르면, 잠금장치의 동작에 따라 발생하여 뚜껑의 가장자리부의 창으로부터 방출되는 먼지는, 잠금턱의 맞물림이 해제되어 뚜껑이 열리는 순간에 발생하는 기류를 타고 직접 저청정실측으로 흐르므로, 컨테이너 내부를 오염시키지 않는다.
여섯 번째 발명은, 혐먼지성 물품을 수납하여 운반하기 위한 컨테이너에 있어서, 고청정실과 저청정실의 경계에 마련된 로더에 놓여지고, 그 로더에 구비된 열림장치에 의해 뚜껑이 개폐됨으로써 개구부가 고청정실과 연결, 차단되는 이하의 수단을 구비한 컨테이너이다.
(a) 상기 뚜껑의 내측에서 상기 개구부의 가장자리부에 접하는 부분에 테이퍼 형상으로 형성된 가이드 볼록부 또는 가이드 오목부; 및
(b) 상기 개구부의 가장자리에서 상기 뚜껑의 내측에 접하는 부분에 테이퍼 형상으로 형성되고, 상기 가이드 볼록부 또는 상기 가이드 오목부와 끼워져 결합하는 가이드 오목부 또는 가이드 볼록부.
본원발명에 따르면, 테이퍼 형상의 가이드 볼록부가 가이드 오목부와 끼워져 결합되고 위치결정이 행해지면서 뚜껑이 개구부를 닫으므로, 뚜껑이 개구부에 잘못 마찰하여 먼지가 발생하는 것을 방지할 수 있다.
일곱 번째 발명은, 혐먼지성 물품을 수납하여 운반하기 위한 컨테이너에 있어서, 고청정실과 저청정실의 경계에 마련된 로더에 놓여지고, 그 로더에 구비된 열림장치에 의해 뚜껑이 개폐됨으로써 개구부가 고청정실과 연결, 차단되는 이하의 수단을 구비한 컨테이너이다.
(a) 상기 개구부의 가장자리부에 형성된 내주측의 안 플랜지 및 외주측의 바깥 플랜지;
(b) 상기 바깥 플랜지의 내주측을 덮음으로써 개구부를 닫는 뚜껑;
(c) 상기 뚜껑의 내측에 형성되어 상기 안 플랜지와 끼워져 결합되는 링 모양의 오목부;
(d) 상기 안 플랜지의 내주면과 상기 오목부의 내주측의 내벽 사이에 형성되는 틈새.
본원발명에 따르면, 안 플랜지의 내주면과 오목부의 내주측의 내벽 사이에 틈새가 형성되므로, 양자의 마찰을 방지할 수 있고, 개구부 내에서의 먼지 발생을 방지할 수 있다.
여덟 번째 발명은, 상기 열림장치와 그 열림장치에 의해 개폐되는 뚜껑 사이에는, 양자의 위치 결정을 행하기 위한 키네마틱 커플링(kinematic coupling)이 마련되어 있는 컨테이너이다.
본원발명에 따르면, 열림장치에 대해 키네마틱 커플링에 의해 뚜껑의 위치결정이 이루어지고, 뚜껑과 개구부의 불필요한 마찰에 의한 먼지 발생을 방지할 수 있다.
이하, 본원발명의 최적의 실시형태의 예를 도 2 내지 도 11을 참조하여 설명하기로 한다. 또, 이하의 실시형태는 본원발명의 범위를 한정하지 않는다. 즉, 당업자라면 본원발명의 원리의 범위에서 다른 실시형태를 채용할 수 있다.
[컨테이너와 로더의 관계]
도 2, 도 3 및 도4 는 본원발명의 실시형태에 따른 컨테이너를 로더에 의해 개폐하고 고청정실과 연결, 차단하는 순서의 개요를 설명한 도면이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 실시형태에 있어서는, 2대의 로더(1)가 제어반(3)과 함께 고청정실(5)과 저청정실(7)의 경계에 마련된 벽(9)에 설치되어 있다. 2대의 로더(1)중 예컨대 하나를 실리콘 웨이퍼의 반입 전용, 다른하나를 반출 전용으로 함으로써 작업의 흐름에 따라 실리콘 웨이퍼의 반입, 반출을 할 수 있다.
컨테이너(11)는 로더(1)의 스테이지(13) 상에 위치 결정되어 놓여진다. 이러한 위치 결정은 스테이지(13) 및 컨테이너(11)의 베이스부(15)에 마련된 키네마틱 커플링(도면에서 참조부호 17은 그 일부를 구성하는 수(雄)형부재) 에 의해 행해진다.
컨테이너(11)를 올려 놓는 것은 예컨대 사람이 행해도 좋고, 현장에 구비된 반송 로봇이나 바닥 주행 AGV에 탑재된 로봇 등에 의해 행하여도 좋다. 또, 천정의 반송 로봇에 의해 놓여질 수 있도록 컨테이너(11)의 상부에는 플랜지(19)를 설치하여도 좋다. 이러한 운반의 실시형태에 대해서는 예컨대 규격에 정해진 방법을 이용할 수 있다.
또, 키네마틱 커플링을 이용한 위치 결정의 방법 등에 대해서도, 예컨대 규격에 정해져 있는 있는 방법을 취할 수 있다.
도 3에 있어서, 로더(1)에 놓여진 컨테이너(11)의 전방부분의 벽(21)에는 개구(23)가 형성되고, 이 개구(23)는 클로우져 등으로 불리우는 도어(25)에 의해 덮어져 있다. 이 도어(25)와 개구(23) 사이는, 반드시 완전히 밀폐되어 있지는 않으며, 일정한 틈새(27)가 형성되어 있다. 이 틈새(27)의 존재에 의해 고청정실(5) 측에 가해진 양의 압력에 의해, 고청정실(5)측에서 저청정실(7)측으로 기류(29)가 발생하고, 이 기류(29)에 의해 고청정실(5)로 먼지가 침입하는 것을 방지할 수 있다.
그리고 먼저, 컨테이너(11)를 올려 놓은 스테이지(13)를 구동장치(31)에 의해 도어(25)에 근접시킨다. 이 도어(25)는, 컨테이너(11)의 전면에 위치하는 뚜껑(33)을 개폐하기 위한 열림장치(35)의 일부를 구성하는 오프너(37)를 겸한다.
즉, 오프너(37)의 저청정실(7) 측의 면에는, 컨테이너(11)의 뚜껑(33) 사이에 키네마틱 커플링(도면에서 참조부호 39는 그 일부를 구성하는 수형 부재)이 마련되어, 양자(33, 37)의 위치 결정이 행해진다. 또, 도시되지 않은 고정수단에 의해 오프너(37)에 뚜껑(33)을 고정한다. 그리고, 이렇게 고정된 상태에서 오프너(37)측에 마련된 열쇠(41)가, 뚜껑(33)측에 마련된 열쇠구멍에 삽입되고, 이 열쇠(41)가 회동됨으로써 뚜껑(33)의 내부에 마련되는 잠금장치가 동작하고, 이에 따라 잠금장치의 잠금턱이 컨테이너(11)의 개구부의 가장자리에 마련된 맞물림부와의 맞물림을 해제한다.
다음, 뚜껑(33)이 오프너(37)에 고정된 채 컨테이너(11)를 올려 놓은 스테이지(13)가 약간 후퇴한다. 이 후퇴에 의해 뚜껑(33)으로부터 컨테이너(11)가 이탈되고, 컨테이너(11)의 개구부는 해방된다.
그런 다음, 뚜껑(33)을 고정한 오프너(37)는 열림장치(35)에 구비된 구동장치(43)에 의해 로더(1) 내로 하강된다. 그리고, 컨테이너(11)를 올려 놓은 스테이지(13)는 다시 전진한다. 이 전진에 의해 컨테이너(11)의 개구부는, 벽(21)의 개구(23)를 통해 고청정실(5)과 연결된다(도 4). 이 때, 컨테이너(11)의 개구부와 벽(23)의 개구 사이에는 소정의 틈새(45)가 형성되고, 이 틈새(45)를 통해 고청정실(5)로부터 저청정실(7)로 기류(47)가 발생하여, 저청정실(7)측의 먼지가 고청정실(5)측으로 유입되는 것을 방지한다.
이와 같이 하여 고청정실(5)과 연결된 컨테이너(11)로부터 혐먼지성 물질인 실리콘 웨이퍼가 고청정실(5)로 반입되고, 소정의 가공이 실시된다. 가공을 마친 실리콘 웨이퍼는 다른 로더(1)에 놓여진 컨테이너(11)로 반출되어도 좋고, 같은 로더(1)에 놓여진 컨테이너(11)로 반출되어도 좋다. 이와 같이 반입 및 반출은 고청정실(5)내에 마련된 크린 룸용 스칼라형 로봇 등과 같이 공지의 방법을 이용할 수 있다.
실리콘 웨이퍼가 컨테이너(11)로 반출될 때는, 상술한 반입과 반대 순서로 행해진다. 즉, 컨테이너(11)를 올려 놓은 스테이지(13)가 후퇴하고, 뚜껑(33)을 고정한 오프너(37)가 열림장치(35)의 구동장치(43)에 의해 상승한다. 그리고, 스테이지(13)는 다시 약간 전진하고, 컨테이너(11)의 개구부를 뚜껑(33)이 덮는다. 그리고, 오프너(37)의 열쇠(41)가 역방향으로 회동하고 잠금장치의 잠금턱이 맞물림부에 결합하여 잠가지고, 뚜껑(33)으로 컨테이너(11)의 개구부를 밀폐한다. 그리고, 오프너(37)의 고정수단이 뚜껑(33)의 고정을 해제한 다음, 스테이지(13)가 다시 후퇴하여, 컨테이너(11)의 저청정실(7)측에서의 운반이 가능해진다.
[컨테이너의 구조]
다음, 본원발명의 최적의 실시형태에 따른 컨테이너의 구조예를 도 5 내지 도 11를 참조하여 설명하기로 한다.
(전체개략)
도 5에 도시된 바와 같이, 본 실시형태에 따른 컨테이너(11)는 전체적으로 대략 상자형상을 이루고, 전면에 사각형의 개구부(49)가 형성되어 있다. 컨테이너(11)의 내부는 혐먼지성 물품인 실리콘 웨이퍼(51)를 수납하기 위한 공간으로 이용되고, 공간의 좌우의 내벽 및 안쪽의 내벽에는 복수개의 실리콘 웨이퍼(51)를 서로 평행한 상태에서 수평으로 지지하기 위한 티이스(53) 및 스톱퍼(54)(도 6)라 불리우는 부품이 취부되어 있다. 외측 역시 표면에는 천정의 반송 로봇에 의해 파지되기 위한 플랜지(19)가 복수의 나사(55)에 의해 상면에 평행하게 소정의 간격으로 취부된다. 외측 바닥에는 베이스부(15)가 취부된다. 이 베이스부(15)에는 로더(1)의 스테이지(13)(도 2 참조)와의 사이에 위치 결정을 하기 위한 키네마틱 커플링이 마련된다. 즉 스테이지(13) 측에 마련된 키네마틱 커플링을 구성하는 수형 부재(17) (도 2 참조)인 막대형상의 돌기를 받는 V자 홈을 가지는 암형 부재(57)가 베이스부(15)에 마련된다(도 6 참조). 이 암형 부재(57) 및 수형 부재(17)는 세 곳에 마련되며, 각 V자 홈의바닥의 V자 선단에 의해 형성되는 직선은 각각 직선의 연장방향이 베이스부(15)의 중앙의 한 곳에서 교차하도록 배치되어 있다. 이렇게 배치함으로써, 정확한 위치 결정이 행해진다.
개구부(49)를 개폐하는 뚜껑(33)은 외측의 커버(59)와 내측의 베이스(61)에 의한 이중구조(도 6 참조)로 되어 있다. 또 베이스(61)의 내측에는 프론트 웨이퍼 누름기구(63)(도 6 참조)가 더 마련되어, 서로 평행하게 지지되어 수납된 복수개의 실리콘 웨이퍼(51)를 눌러 고정함으로써, 흔들림이 없는 상태에서의 반송을 가능하게 한다.
(잠금장치)
도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 뚜껑(33)의 커버(59)와 베이스(61) 사이의 공간에는 잠금장치(65)가 마련된다. 즉, 도 7의 오른쪽 잠금장치(65)에 대해 설명하면, 뚜껑(33)의 커버(59)에 뚫린 열쇠구멍(67)(도 5 참조)에 대응하여 연결되는 열쇠구멍이 형성된 캠(69)이 열쇠구멍을 중심으로 회동가능하게 마련된다. 이러한 캠(69)에 인접하여, 캠(69)에 눌려짐으로써 상하방향으로 슬라이딩 가능한 슬라이더(71)가 마련된다. 상하로 긴 이러한 슬라이더(71)의 상하단에는 각각 원기둥 형상의 돌기(73)가 형성되어 있고, 이 돌기(73)는, 잠금턱(75)의 후단에 형성되어 있는 U자형의 노치부(77)에 맞물림 결합되어 있다. 잠금턱(75)은 회동축(79) 주위에 회동가능한 상태로 뚜껑(33)을 구성하는 베이스(61)의 가장자리부에 형성된 창(81)으로부터 돌출되어 있다. 이러한 돌출은 후방을 향해 행해지며, 컨테이너(11)의 개구부(49)의 가장자리부에 마련되는 맞물림부로서의 결합공(83)에 삽입가능한 상태로 위치한다.
도 7의 좌측 잠금장치(65)는, 우측 잠금장치(65)에 비해 아이들 기어(85)를 구비하고 있다. 이는 2개의 열쇠구멍(67)에 삽입하여 회동되는 2개의 열쇠(41)가 같은 방향으로 회동하여 동작할 수 있도록 하기 위한 것으로, 이 아이들 기어(85)에 열쇠구멍(67)이 형성되고, 이 아이들 기어(85)측으로 맞물리는 기어(87)를 동심으로 구비한 캠(69)에 의해 좌우의 슬라이더(71)는 동기하여 상하 이동을 할 수 있다.
(뚜껑 및 개구부의 가장자리부)
뚜껑(33) 및 개구부(49)의 가장자리부의 단면도를 도 8에 구체적으로 도시한다. 개구부(49)의 가장자리부에는 가장자리부를 외측으로 확장하는 베이스부(89)가 마련된다. 이러한 베이스부(89)의 내주측에는 안 플랜지(91)가 형성된다. 외주측에는 바깥 플랜지(93)가 형성된다. 단면형상은, 두 플랜지(91, 93) 및 베이스부(89)가 대략 'ㄷ' 자를 형성한다. 'ㄷ'자의 안쪽, 즉 베이스부(89)에 맞물림부인 결합공(83)이 형성된다. 이 결합공(83)의 외측의 하측 가장자리에는 돌기(95)가 형성되고, 돌기(95)의 정상은 완만한 곡면을 갖는다. 이 곡면에 대해 잠금턱(75)이 결합하여, 뚜껑(33)을 단단히 밀폐할 수 있도록 되어 있다(도 9). 이러한 결합공(83)은 잠금턱(75)에 대응하여 네 곳에 마련된다.
뚜껑(33)을 구성하는 베이스(61)의 가장자리부에는 컨테이너(11)의 개구부(49)의 안 플랜지(91)와 끼워져 결합되는 오목부(97)가 형성된다. 이에 따라 뚜껑(33)의 베이스부(61)의 가장자리부는 컨테이너(11)의 개구부(49)의 안 플랜지(91), 베이스부(89) 및 바깥 플랜지(93)에 의해 형성되는 대략 'ㄷ'자형의 단면에 대해 개략 끼워져 결합되는 형상을 갖는다. 이러한 개략 끼워져 결합된 상태에서, 안 플랜지(91)의 내주면과 오목부(97)의 내주측의 내벽 사이에는 소정의 틈새(99)가 형성되도록 설계된다.
도 10에 도시된 바와 같이, 개구부(49)의 가장자리부에는, 좌우에 있어서, 상하의 결합공(83)의 중간 위치에 가이드 오목부(121)가 형성된다. 이 가이드 오목부(121)에 끼워져 결합되도록 뚜껑(33)의 내측의 가장자리부에는 가이드 볼록부(123)가 형성된다. 가이드 오목부(121)는 안쪽으로 갈수록 좁아지는 테이퍼 형상으로 형성되고, 가이드 볼록부(123)는 선단으로 갈수록 좁아지는 테이퍼 형상으로 형성되어 있다.
(뚜껑과 오프너와의 위치 결정)
또한, 뚜껑(33)과 오프너(37)(도 3 참조) 사이에는, 위치 결정를 위해 키네마틱 커플링이 마련된다. 즉, 키네마틱 커플링을 구성하고 오프너(37) 측에 마련되는 세 곳의 수형 부재(39)인 막대 형상의 돌기에 대응하여 뚜껑(33)의 커버(59)에도 세 곳에 암형 부재인 V자 홈(125)(도 5)가 형성된다. 이 키네마틱 커플링은 베이스부(15)에 마련되는 키네마틱 커플링과 거의 동일하므로 설명을 생략하기로 한다.
(벽의 개구와 컨테이너와의 틈새의 치수)
도 8의 개략을 벽(21)의 개구부(23)와의 관계와 함께 표현한 도 11a에 도시된 바와 같이, 벽(21)의 개구(23)와 컨테이너(11)의 틈새(45), 즉 바깥 플랜지(93)의 외주면과 개구(23)의 내주면과의 틈새(45)는 크기가 예컨대 4 mm∼6mm 바람직하기로는 5mm이고, 기류(47)에 따른 전후방향의 길이(127)를 10mm∼20mm 바람직하기로는 15mm로 한다. 종래에는, 이러한 전후방향의 길이가 짧았기 때문에 이 틈새(45)를 통과한 부분에서 기류(47)에 난류(亂流)가 발생하고, 저청정실(7)측의 먼지를 끌어당기며, 나아가서는 고청정실(5)측으로 침입시켜 버릴 가능성이 있었다. 이에 대해 전후방향의 길이를 충분히 길게 함으로써, 기류(47)를 층류로 하여 난류를 억제함으로써 먼지가 고청정실(5)으로 침입하는 것을 방지할 수 있다.
이 때, 청정도는 고청정실(5)이 제1급이고 저청정실(7)이 제100급이다. 또 고청정실(5)은 저청정실(7)보다 예컨대 35Pa(파스칼)만큼 높은 압력으로 한다.
[작용 및 효과]
이상의 실시형태에 따르면, 다음과 같은 작용 및 효과가 있다.
즉, 열림장치(35)에 의해 뚜껑(33)을 열 때, 오프너(37)의 열쇠(41)가 뚜껑(33)의 열쇠구멍(67)에 삽입되고, 도 7에 있어서 오른쪽으로 90도 회동하면, 캠(69) 및 아이들기어(85)의 작용에 의해 2개의 슬라이더(71)는 동기되어 아래쪽으로 슬라이딩하고, 잠금턱(75)은 도 9b에 있어서 반시계방향으로 회동하여 결합공(83)과의 맞물림을 해제한다. 그리고 뚜껑(33)이 열린 순간에는 고청정실(5)에 가해진 양의 압력에 의해 기류(47, 48)(도 11a참조)가 발생한다. 그리고 상기 잠금장치(65)의 동작 즉, 캠(69), 아이들 기어(85), 슬라이더(71) 및 잠금턱(75) 등의 마찰에 의해 먼지가 발생한다. 이 먼지는, 이하의 이유에 의해, 기류(47, 48)에 의해 컨테이너 내를 오염하는 것이 방지 또는 억제된다.
(1) 즉, 안 플랜지(91), 베이스부(89) 및 바깥 플랜지(93)에 의해 형성되는 대략 'ㄷ'자 형상의 공간은, 후방으로 더 갈 수 없도록 되어 있으므로 이 공간내에서는 기류(48)가 발생하기 어렵다. 따라서, 이 공간에 깊숙이 존재하는 잠금턱(75)의 창(81)으로부터 방출되는 먼지는 기류(48)에 의해 운반되는 것이 적다. 따라서, 먼지가 기류(48)를 타고 개구부(49)의 선단 가장자리, 즉 안 플랜지(91)의 선단 가장자리를 돌아 역류하여 내주측으로, 즉 컨테이너(11) 내로 흐르는 것을 방지할 수 있다.
또한, 이와 같은 방지 효과는, 바꾸어 말하면, 잠금턱(75)의 창(81)이 개구부(49)의 선단, 즉 안 플랜지(91)의 선단보다 외주측이자 후방에 위치하므로, 기류(48)가 역류하기 어렵기 때문에 가능하다고 할 수 있다.
(2) 또한, 발생된 기류(48)는 바깥 플랜지(93)와 뚜껑(33)의 가장자리부의 사이를 통해 통기공을 겸하는 결합공(83)을 통과하여 직접 저청정실(7)측으로 흐른다. 따라서, 기류(48)가 안 플랜지(49)의 선단 가장자리로 역류하는 것을 더욱 억제할 수 있게 된다.
또, 결합공(83)이 통기공을 겸함으로써, 양자를 따로따로 마련하는 경우에 비해 컨테이너(11)의 제조가공을 용이하게 할 수 있다.
그리고, 이상과 같이 먼지가 컨테이너(11)를 오염시키는 것을 방지할 수 있다고 한 설명은, 먼지가 잠금장치(35)의 마찰에 의해 발생하는 것으로서 설명하였지만, 먼지는 다른 원인에 의해서도 발생한다. 특히, 잠금장치(35) 다음으로 먼지 발생의 원인이 되는 것으로 뚜껑(33)과 개구부(49)의 마찰이 있다. 본 실시형태에 따르면, 뚜껑(33)과 개구부(49)의 마찰에 의해 발생되는 먼지가 컨테이너(11) 내를 오염시키는 것을 방지할 수 있다는 이유는 아래와 같다.
(1) 충분한 돌출량을 가지는 테이퍼 형상의 가이드 볼록부(123)가 가이드 오목부(121)(도 10 참조)와 끼워져 결합함으로써, 뚜껑(33)을 닫힐 때에는 뚜껑(33)과 개구부(49)의 위치 결정이 행해진 다음에 뚜껑(33)이 개구부(49)에 접하므로, 종래와 같이 위치 결정이 불완전한 채로 뚜껑이 개구부에 잘 못 마찰되어 먼지가 발생하는 것을 방지할 수 있다.
(2) 안 플랜지(91)의 내주면과 오목부(97)의 내주측의 내벽 사이에 틈새(99)가 형성되므로, 양자의 마찰을 방지할 수 있고, 컨테이너(11)의 개구부(49) 내의 먼지 발생을 방지할 수 있다. 그리고, 만약 개구부(49)에 대한 뚜껑(33)의 위치 결정이 불충분하여, 안 플랜지(91)의 외주면과 오목부(97)의 외주측의 내벽이 마찰되더라도, 이러한 마찰은 개구부(49)의 선단 가장자리 즉, 안 플랜지(91)의 선단 가장자리보다 외주측에 있어, 이러한 마찰에 의해 발생된 먼지가 안 플랜지(91)의 내주측으로 침입하는 것을 방지할 수 있다. 그리고, 틈새(99)를 충분한 크기로 함으로써, 위치 결정이 불충분한 경우라도 개구부(49) 내에서의 마찰에 따른 먼지 발생을 방지할 수 있다.
(3) 개구부(49)에 대한 뚜껑(33)의 위치 결정이 충분히 정확히 행해지기 위해서는, 정확한 동작을 행하는 열림장치(35)에 대해 뚜껑(33) 자체가 충분한 위치 결정을 해야 한다. 이 충분한 위치 결정은, 열림장치(35)를 구성하는 오프너(37)와 뚜껑(33) 사이에 키네마틱 커플링을 설치함으로써 얻어진다. 따라서, 뚜껑(33)과 개구부(49) 사이에 불필요한 마찰이 발생하여 먼지가 생기는 것을 방지할 수 있다.
또한 본 실시형태에 따르면, 잠금턱(75)이 후방을 향해 돌출되고 맞물림부를 끌어 당기듯이 결합하므로, 뚜껑(33)이 개구부(49)에 억압되는 억압력을 증가시킬 수 있고, 확실한 폐쇄를 가능하게 한다.
[다른 실시형태]
상술한 실시형태에서는, 개구부(49)와 뚜껑(33)의 가장자리부의 단면형상은 도 8을 참조하여 설명하였으나, 다른 실시형태에 있어서는 도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이 다른 구조를 가질 수 있다. 즉, 도 8의 개략도를 벽(21)의 개구(23)와의 관계와 함께 표현하면, 도 11a와 같다. 그리고, 먼저, 상술한 실시형태에서는 결합공(83)이 통기공을 겸하였다. 그러나, 다른 실시형태에 있어서는, 도 11b에 도시된 바와 같이 맞물림부(133)와 통기공(131)을 다른 것으로 할 수 있다. 이 때, 잠금턱(75)이 돌출되는 방향을 후방이 아니라 개구부(49)의 바깥 방향 즉, 반경방향으로 할 수도 있다. 이러한 경우에도 기류(48)는 통기공(131)을 통해 직접 저청정실(7)측으로 흐른다.
그리고, 도 11c에 도시된 바와 같이, 잠금턱(75)의 돌출방향을 개구부(49)의 바깥방향으로 함과 동시에, 이 잠금턱(75)이 결합하는 결합공(83)이 통기공을 겸하게 할 수도 있다.
또한, 도 11d에 도시된 바와 같이, 맞물림부(133)는 개구부(49)의 가장자리부의 베이스부(89)를 관통하지 않아도 된다. 이러한 경우, 이 맞물림부(133)의 안쪽의 일부만을 관통시켜 통기공의 기능을 겸하게 하여도 무방하다.
또 상술한 실시형태에 있어서는 개구부(49)의 가장자리부에 안 플랜지(91)와 바깥 플랜지(93)를 갖도록 하였으나, 다른 실시형태에 있어서는 예컨대 도 11e 및 도 11f에 도시된 바와 같이, 바깥 플랜지(93)를 생략하고, 안 플랜지(91)와 베이스부(89)만으로 하여도 좋다. 또한, 바깥 플랜지(93)를 생략하는 것 이외에는 도 11e는 도 11a와 동일하며, 도 11f는 도 11d와 동일하다.
그리고, 상술한 실시형태에 있어서는 개구부(49)의 가장자리에 안 플랜지(91)를 갖도록 하였으나, 다른 실시형태에 있어서는 예컨대 도 12g, 도 12h에 도시된 바와 같이, 안 플랜지(91)를 생략하고 바깥 플랜지(93)만으로 하는 것도 가능하다. 이들 경우에는, 잠금턱(75)의 창(81)(도 8 참조)으로부터 방출되는 먼지를 실은 기류(48)가 직접 저청정실(7)측으로 흐르도록, 통기공(131)을 맞물림부(133)에 가까운 베이스부(89)에 형성하는(도 12g) 것이 바람직하다. 또, 맞물림부(133)의 안쪽의 일부만을 관통하여(도 12h) 통기공의 기능을 하도록 하고, 기류(48)를 직접 저청정실(7)측으로 흐르도록 하여도 좋다.
또한, 상술한 실시형태에 있어서는 뚜껑(33)과 개구부(49)의 위치 결정을 하기 위한 가이드 볼록부(123)와 가이드 오목부(121)에 대해, 가이드 볼록부(123)를 뚜껑(33)측에 형성하고 가이드 오목부(121)를 개구부(49)측에 형성하도록 하였으나, 다른 실시형태에 있어서는 양자의 관계를 반대로 하는 것도 물론 가능하다.
또한, 상술한 실시형태에 있어서는 가이드 오목부(121)와 가이드 볼록부(123)를 두쌍 마련하였으나, 다른 실시형태에 있어서는 3쌍 또는 4쌍 마련할 수 있다.
또한, 상술한 실시형태에 있어서는 열림장치(35)에 대한 뚜껑(33)의 위치 결정을 키네마틱 커플링에 따른 것으로 설명하였으나, 다른 실시형태에 있어서는 다른 위치 결정 수단을 사용할 수 있다.
또한, 상술한 실시형태에 있어서는 열림장치(35)는 고청정실(5)과 저청정실(7)의 경계에 마련되는 로더는 벽(21)을 경계로 저청정실(7)측에 마련하였으나, 다른 실시형태에 있어서는 고청정실(5)측에 마련하여도 무방하다. 왜냐하면, 잠금장치(65)에 의해 발생하는 먼지는, 잠금장치(65)가 잠금해제동작 즉 잠금턱(75)이 맞물림부와의 맞물림을 해제하여 뚜껑(33)을 해방한 순간에, 대부분이 잠금턱(75)의 창(81)으로부터 방출되므로, 그 순간의 먼지에 의해 컨테이너(11) 내를 오염시키지 않도록 함으로써, 오염의 대부분을 방지하는 것을 기대할 수 있기 때문이다.
또한, 상술한 실시형태에서는 뚜껑(33)의 개폐를 위해 오프너(37)는 승강동작하고, 컨테이너(11)를 올려 놓은 스테이지(13)가 전진후퇴의 동작을 하도록 되어 있으나, 다른 실시형태에 있어서는, 컨테이너(11)를 올려 놓은 스테이지(13)는 뚜껑(33)의 개폐에 대해서는 전진후퇴를 하지 않고, 오프너(37)가 열림장치에 의해 승강동작과 전진후퇴 동작을 하도록 하여도 무방하다. 즉, 컨테이너(11)를 올려 놓은 스테이지(13)가 소정의 위치에 위치한 다음, 열림장치에 의해 오프너(37)가 상승하고, 컨테이너(11)를 향해 근접(후퇴) 하여, 잠금장치의 해제를 행한 다음 컨테이너로부터 이탈(전진) 하강하는 것이어도 좋다.
또한, 상술한 실시형태에 있어서는 스테이지(13)는 구동장치(31)에 의해 전진후퇴를 행하도록 하였으나, 다른 실시형태에 있어서는 이러한 구동장치를 설치하지 않은 실시형태도 생각할 수 있다. 예컨대, 스테이지(13)가 원활하게 전진후퇴방향으로 이동할 수 있도록 예컨대 베어링, 차륜, 로울러 등을 구비하여, 예컨대 인력이나 로봇에 의해 스테이지(13)를 이동함으로써 전진후퇴를 행하도록 할 수도 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본원발명에 의하면, 실리콘 웨이퍼등과 같은 혐먼지성 물품을 수납하여 운반하기 위한 컨테이너의 개구부의 뚜껑을 개폐할 때 발생하는 먼지에 의해 컨테이너 내부가 오염되는 것을 억제할 수 있다.
또한, 본원발명에 따른 컨테이너에 의해 수납되어 운반되는 혐먼지성 물품은 실리콘 웨이퍼 등에 한정되지 않으며, 액정기판 등과 같은 반도체 기판, 나아가서는 의료관계의 물품 등이어도 좋다.

Claims (8)

  1. 혐먼지성 물품을 수납하여 운반하기 위한 컨테이너에 있어서, 고청정실과 저청정실의 경계에 설치된 로더에 놓여지고, 그 로더에 구비된 열림장치에 의해 뚜껑이 개폐됨으로써 개구부가 고청정실과 연결, 차단되는 이하의 수단을 구비한 컨테이너.
    (a) 상기 뚜껑의 내부에 마련되고, 상기 로더에 구비된 열림장치가 작동함으로써 상기 뚜껑의 개폐를 위한 동작을 하는 잠금장치;
    (b)상기 잠금장치의 잠금턱이 상기 뚜껑의 가장자리부의 창으로부터 돌출되어 상기 개구부의 가장자리부에 마련된 맞물림부에 결합되기 위한 상기 잠금턱; 및
    (c)상기 맞물림이 행해진 상태에서 개구부의 선단 가장자리보다 외주측이자 뒷쪽에 위치하는 상기 창.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 개구부의 가장자리부에는 내주측의 안 플랜지와 외주측의 바깥 플랜지가 형성되고, 두 플랜지 사이에 상기 맞물림부가 마련되어 상기 맞물림이 행해진 상태에서의 상기 잠금턱의 창이 위치하며, 상기 안 플랜지의 선단 가장자리가 상기 개구부의 선단 가장자리로 되어 있는 컨테이너.
  3. 혐먼지성 물품을 수납하여 운반하기 위한 컨테이너에 있어서, 고청정실과 저청정실의 경계에 마련된 로더에 놓여지고, 그 로더에 구비된 열림장치에 의해 뚜껑이 개폐됨으로써 개구부가 고청정실과 연결, 차단되는 이하의 수단을 구비한 컨테이너.
    (a) 상기 뚜껑의 내부에 마련되고, 상기 로더에 구비된 열림장치가 작동함으로써 상기 뚜껑의 개폐를 위한 동작을 하는 잠금장치;
    (b) 상기 잠금장치의 잠금턱이 상기 뚜껑의 가장자리부의 창으로부터 돌출되어, 상기 개구부의 가장자리부에 마련된 맞물림부에 결합하기 위한 상기 잠금턱;
    (c) 상기 개구부의 선단 가장자리보다 외주측에, 상기 맞물림이 행해진 상태에서 위치하는 상기 창; 및
    (d) 상기 개구부의 선단 가장자리보다 외주측에 형성되며, 저청정실측으로 통하는 통기공.
  4. 제 3항에 있어서, 상기 통기공은 상기 맞물림부인 결합공을 겸하는 컨테이너.
  5. 혐먼지성 물품을 수납하여 운반하기 위한 컨테이너에 있어서, 고청정실과 저청정실의 경계에 마련된 로더에 놓여지고, 그 로더에 구비된 열림장치에 의해 뚜껑이 개폐됨으로써 개구부가 고청정실과 연결, 차단되는 이하의 수단을 구비한 컨테이너.
    (a) 상기 뚜껑의 내부에 마련되며, 상기 로더에 구비된 열림장치가 작동함으로써 상기 뚜껑의 개폐를 위한 동작을 하는 잠금장치;
    (b) 상기 잠금장치의 잠금턱이 상기 뚜껑의 가장자리부의 창으로부터 돌출되어, 상기 개구부의 가장자리부에 마련된 맞물림부에 결합되기 위한 상기 잠금턱; 및
    (c) 고청정실측에 가해진 양의 압력에 의해, 상기 맞물림이 해제되어 뚜껑이 열린 순간에 발생하는 기류 중 직접 저청정실측로 흐르는 기류 부분에 위치하는 상기 창.
  6. 혐먼지성 물품을 수납하여 운반하기 위한 컨테이너에 있어서, 고청정실과 저청정실의 경계에 마련된 로더에 놓여지고, 그 로더에 구비된 열림장치에 의해 뚜껑이 개폐됨으로써 개구부가 고청정실과 연결, 차단되는 이하의 수단을 구비한 컨테이너.
    (a) 상기 뚜껑의 내측에서 상기 개구부의 가장자리부에 접하는 부분에 테이퍼 형상으로 형성된 가이드 볼록부 또는 가이드 오목부; 및
    (b) 상기 개구부의 가장자리에서 상기 뚜껑의 내측에 접하는 부분에 테이퍼 형상으로 형성되고, 상기 가이드 볼록부 또는 상기 가이드 오목부와 끼워져 결합하는 가이드 오목부 또는 가이드 볼록부.
  7. 혐먼지성 물품을 수납하여 운반하기 위한 컨테이너에 있어서, 고청정실과 저청정실의 경계에 마련된 로더에 놓여지고, 그 로더에 구비된 열림장치에 의해 뚜껑이 개폐됨으로써 개구부가 고청정실과 연결, 차단되는 이하의 수단을 구비한 컨테이너.
    (a) 상기 개구부의 가장자리부에 형성된 내주측의 안 플랜지 및 외주측의 바깥 플랜지;
    (b) 상기 바깥 플랜지의 내주측을 덮음으로써 개구부를 닫는 뚜껑;
    (c) 상기 뚜껑의 내측에 형성되어 상기 안 플랜지와 끼워져 결합되는 링 모양의 오목부; 및
    (d) 상기 안 플랜지의 내주면과 상기 오목부의 내주측의 내벽 사이에 형성되는 틈새.
  8. 제 1, 2, 3, 4, 5, 6 또는 7에 있어서, 상기 열림장치와 그 열림장치에 의해 개폐되는 뚜껑 사이에는, 양자의 위치 결정을 행하기 위한 키네마틱 커플링이 마련되어 있는 컨테이너.
KR1019980710289A 1998-04-06 1998-04-06 컨테이너 KR100510433B1 (ko)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP1998/001575 WO1999052140A1 (en) 1998-04-06 1998-04-06 Container

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20000065235A true KR20000065235A (ko) 2000-11-06
KR100510433B1 KR100510433B1 (ko) 2006-07-27

Family

ID=14207983

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019980710289A KR100510433B1 (ko) 1998-04-06 1998-04-06 컨테이너

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6186331B1 (ko)
EP (1) EP0987750B1 (ko)
KR (1) KR100510433B1 (ko)
DE (1) DE69836425T2 (ko)
WO (1) WO1999052140A1 (ko)

Families Citing this family (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6390754B2 (en) * 1997-05-21 2002-05-21 Tokyo Electron Limited Wafer processing apparatus, method of operating the same and wafer detecting system
JP3998354B2 (ja) 1998-11-24 2007-10-24 信越ポリマー株式会社 輸送容器及びその蓋体の開閉方法並びにその蓋体の開閉装置
US6464081B2 (en) * 1999-01-06 2002-10-15 Entegris, Inc. Door guide for a wafer container
JP3405937B2 (ja) * 1999-08-11 2003-05-12 ティーディーケイ株式会社 クリーンボックスの蓋ラッチ機構
US8348583B2 (en) * 1999-10-19 2013-01-08 Rorze Corporation Container and loader for substrate
EP1412600A4 (en) * 2000-07-10 2005-09-14 Asyst Technologies LOCKING MECHANISM FOR RECEPTACLE OF NORMALIZED MECHANICAL INTERFACES (IMN)
JP3581310B2 (ja) * 2000-08-31 2004-10-27 Ｔｄｋ株式会社 防塵機能を備えた半導体ウェーハ処理装置
WO2002019392A1 (en) * 2000-09-01 2002-03-07 Motorola Inc. A method and device for docking a substrate carrier to a process tool
TW465801U (en) * 2000-10-05 2001-11-21 Taiwan Semiconductor Mfg Wafer carrying container with status indicator
US6419438B1 (en) * 2000-11-28 2002-07-16 Asyst Technologies, Inc. FIMS interface without alignment pins
CN1486388A (zh) * 2000-12-13 2004-03-31 恩特格里斯开曼有限公司 横向浮动的卡锁锁芯组件
US6519502B2 (en) * 2001-03-28 2003-02-11 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Apparatus and method for positioning a cassette pod onto a loadport by an overhead hoist transport system
US7282889B2 (en) * 2001-04-19 2007-10-16 Onwafer Technologies, Inc. Maintenance unit for a sensor apparatus
US20030188990A1 (en) * 2001-11-14 2003-10-09 Bhatt Sanjiv M. Composite kinematic coupling
US7121414B2 (en) * 2001-12-28 2006-10-17 Brooks Automation, Inc. Semiconductor cassette reducer
US6955382B2 (en) 2002-01-15 2005-10-18 Entegris, Inc. Wafer carrier door and latching mechanism with c-shaped cam follower
KR100443771B1 (ko) * 2002-01-28 2004-08-09 삼성전자주식회사 작업물 수납 용기 및 작업물 수납 용기의 개폐 장치
US7684895B2 (en) 2002-08-31 2010-03-23 Applied Materials, Inc. Wafer loading station that automatically retracts from a moving conveyor in response to an unscheduled event
US7506746B2 (en) 2002-08-31 2009-03-24 Applied Materials, Inc. System for transporting substrate carriers
US6955197B2 (en) 2002-08-31 2005-10-18 Applied Materials, Inc. Substrate carrier having door latching and substrate clamping mechanisms
US20040081546A1 (en) 2002-08-31 2004-04-29 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for supplying substrates to a processing tool
US7243003B2 (en) 2002-08-31 2007-07-10 Applied Materials, Inc. Substrate carrier handler that unloads substrate carriers directly from a moving conveyor
US7930061B2 (en) 2002-08-31 2011-04-19 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for loading and unloading substrate carriers on moving conveyors using feedback
US7258520B2 (en) 2002-08-31 2007-08-21 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for using substrate carrier movement to actuate substrate carrier door opening/closing
TWI283038B (en) * 2002-12-02 2007-06-21 Miraial Co Ltd Thin plate storage container
JP4133407B2 (ja) * 2003-02-13 2008-08-13 ミライアル株式会社 薄板収納容器
JP4146718B2 (ja) * 2002-12-27 2008-09-10 ミライアル株式会社 薄板支持容器
US7614840B2 (en) * 2002-12-30 2009-11-10 Tdk Corporation Wafer processing apparatus having dust proof function
US20090308030A1 (en) * 2003-01-27 2009-12-17 Applied Materials, Inc. Load port configurations for small lot size substrate carriers
US7611318B2 (en) * 2003-01-27 2009-11-03 Applied Materials, Inc. Overhead transfer flange and support for suspending a substrate carrier
US7778721B2 (en) 2003-01-27 2010-08-17 Applied Materials, Inc. Small lot size lithography bays
US7221993B2 (en) 2003-01-27 2007-05-22 Applied Materials, Inc. Systems and methods for transferring small lot size substrate carriers between processing tools
US7578647B2 (en) * 2003-01-27 2009-08-25 Applied Materials, Inc. Load port configurations for small lot size substrate carriers
JP2005026513A (ja) * 2003-07-03 2005-01-27 Tokyo Electron Ltd 処理装置
JP4516966B2 (ja) 2004-09-15 2010-08-04 株式会社日立国際電気 半導体製造装置、基板の装填脱装方法および半導体装置の製造方法
JP4237714B2 (ja) * 2005-03-08 2009-03-11 平田機工株式会社 駆動部隔離ｆｏｕｐオープナ
WO2009055395A1 (en) 2007-10-22 2009-04-30 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for transporting substrate carriers
US20110005967A1 (en) * 2008-01-13 2011-01-13 Entegris, Inc. Methods and apparatuses for large diameter wafer handling
JP4896260B2 (ja) * 2008-02-27 2012-03-14 ミライアル株式会社 裏面支持構造付きウエハ収納容器
JP4488255B2 (ja) * 2008-05-27 2010-06-23 Ｔｄｋ株式会社 密閉容器の蓋開閉システム、当該蓋開閉システムを含む収容物挿脱システム、及び当該蓋開閉システムを用いた基板処理方法
US8528947B2 (en) * 2008-09-08 2013-09-10 Tdk Corporation Closed container and lid opening/closing system therefor
JP4624458B2 (ja) * 2008-11-11 2011-02-02 Ｔｄｋ株式会社 密閉容器及び該密閉容器の蓋開閉システム
JP4748816B2 (ja) * 2008-11-28 2011-08-17 Ｔｄｋ株式会社 密閉容器の蓋開閉システム
JP4919123B2 (ja) * 2010-03-08 2012-04-18 Ｔｄｋ株式会社 処理基板収納ポッド及び処理基板収納ポッドの蓋開閉システム
JP5794497B2 (ja) * 2010-06-08 2015-10-14 国立研究開発法人産業技術総合研究所 連結システム
JP5516968B2 (ja) 2010-06-08 2014-06-11 独立行政法人産業技術総合研究所 連結搬送システム
JP5980787B2 (ja) * 2010-10-19 2016-08-31 インテグリス・インコーポレーテッド ロボットフランジを有する前面開口ウェーハ容器
JP6082283B2 (ja) * 2012-05-30 2017-02-15 東京エレクトロン株式会社 筐体及びこれを含む基板処理装置
KR20150136484A (ko) * 2013-03-27 2015-12-07 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 처리 장치
CA3058623A1 (en) * 2017-03-29 2018-10-04 Kelly, Daniel Covered storage bin

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4739882A (en) * 1986-02-13 1988-04-26 Asyst Technologies Container having disposable liners
IT220659Z2 (it) * 1990-10-31 1993-10-08 Marelli Autronica Contenitore per apparecchiature elettroniche
DE4207341C1 (ko) * 1992-03-09 1993-07-15 Acr Automation In Cleanroom Gmbh, 7732 Niedereschach, De
JP3191392B2 (ja) * 1992-04-07 2001-07-23 神鋼電機株式会社 クリーンルーム用密閉式コンテナ
US5469963A (en) * 1992-04-08 1995-11-28 Asyst Technologies, Inc. Sealable transportable container having improved liner
JP3485600B2 (ja) * 1993-06-30 2004-01-13 アシスト シンコー株式会社 可搬式密閉容器とその内部雰囲気調整装置
US5482161A (en) * 1994-05-24 1996-01-09 Fluoroware, Inc. Mechanical interface wafer container
ATE275759T1 (de) * 1995-03-28 2004-09-15 Brooks Automation Gmbh Be- und entladestation für halbleiterbearbeitungsanlagen
US5740845A (en) * 1995-07-07 1998-04-21 Asyst Technologies Sealable, transportable container having a breather assembly
US5741109A (en) * 1995-07-07 1998-04-21 Pri Automation, Inc. Wafer transfer system having vertical lifting capability
US5810537A (en) * 1995-10-18 1998-09-22 Bye/Oasis Engineering Inc. Isolation chamber transfer apparatus
US5788082A (en) * 1996-07-12 1998-08-04 Fluoroware, Inc. Wafer carrier
US5915562A (en) * 1996-07-12 1999-06-29 Fluoroware, Inc. Transport module with latching door
US5711427A (en) * 1996-07-12 1998-01-27 Fluoroware, Inc. Wafer carrier with door
US5957292A (en) * 1997-08-01 1999-09-28 Fluoroware, Inc. Wafer enclosure with door
US6053688A (en) * 1997-08-25 2000-04-25 Cheng; David Method and apparatus for loading and unloading wafers from a wafer carrier

Also Published As

Publication number Publication date
WO1999052140A1 (en) 1999-10-14
DE69836425D1 (de) 2006-12-28
DE69836425T2 (de) 2007-09-27
KR100510433B1 (ko) 2006-07-27
EP0987750A4 (en) 2000-03-29
EP0987750A1 (en) 2000-03-22
EP0987750B1 (en) 2006-11-15
US6186331B1 (en) 2001-02-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100510433B1 (ko) 컨테이너
KR100495434B1 (ko) 컨테이너
JP3880343B2 (ja) ロードポート、基板処理装置および雰囲気置換方法
US5570987A (en) Semiconductor wafer transport container
EP0191805B1 (en) Sealed standard interface apparatus
EP0556193B1 (en) Method and apparatus for transferring articles between two controlled environments
JP3998354B2 (ja) 輸送容器及びその蓋体の開閉方法並びにその蓋体の開閉装置
US7077173B2 (en) Wafer carrier, wafer conveying system, stocker, and method of replacing gas
US6592318B2 (en) Docking cart with integrated load port
US7578407B2 (en) Wafer container with sealable door
WO1996022609A1 (en) Multiple interface door for wafer storage and handling container
KR101811453B1 (ko) 로드 포트
US20020106266A1 (en) System for preventing improper insertion of FOUP door into FOUP
JP2002541678A (ja) 対象物を貯蔵するための、特にウェハ、フラットパネル又はｃｄ等のディスク状の対象物を貯蔵するための装置
JP3827021B2 (ja) 基板のコンテナ及びローダ
KR100368101B1 (ko) 클린 박스용 리드 래치 기구
US8348583B2 (en) Container and loader for substrate
JP2003017553A (ja) 基板収納容器、基板搬送システム及びガス置換方法
US20010048866A1 (en) Container and loader for substrate
JP2002151584A (ja) ウェーハキャリア、基板処理装置、基板処理システム、基板処理方法および半導体装置
JP2001298075A (ja) Ｆｏｕｐ構造ならびに基板収納治具搬送装置
JP3713529B2 (ja) シリンダ
JP4691281B2 (ja) シリンダ及びそれを用いたロードポート並びに生産方式
JP2006216913A (ja) 基板収納容器、基板搬送装置、基板搬送方法及び半導体製造装置
JP2002203887A (ja) ミニエンバイロンメントシステムおよびその操作方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120802

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130801

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee