JP3485600B2 - 可搬式密閉容器とその内部雰囲気調整装置 - Google Patents
可搬式密閉容器とその内部雰囲気調整装置Info
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Description
表示板、レチクル、ディスク類を製造するシステムに用
いられる可搬式密閉容器とその内部雰囲気調整装置に関
する。
ル、ディスク類の製造は、内部雰囲気を清浄化したクリ
ーンルームにおいて行なわれるが、半導体ウェーハの搬
送を、塵埃の付着を防止するために、図5、図6に示す
如き可搬式の密閉容器(以下、コンテナという)に収納
して行なう場合がある。
ンテナ、9はカセット、Wはウェーハである。10は密
閉コンテナ8のコンテナ本体であって、開口12にフラ
ンジ13が形成されている。20は中空の底蓋であっ
て、上面はカセット載置部21となっており、内部に
は、図7に示すような施錠・解錠機構を内蔵し、この施
錠・解錠機構は側壁22のラッチ棒進退用窓23からロ
ッド(ラッチ棒)24をコンテナ本体10のフランジ1
3の内周面に形成された凹部14へ進退させて施錠・解
錠する。底蓋20は上記施錠時、フランジ13の底にシ
ール材15を介して圧接し、コンテナ本体10内を外気
に対して気密に遮断する。16は把手である。なお、底
蓋20の底の周部には、偏平な脚部21Bが形成されて
いる。
子24aを有し、長手方向進退可能かつ傾動可能に片持
ち支持されている。25は転動子24aが転動するカム
面を有するカム、26は支点部材、27はばねである。
カム軸28は後述する昇降台31の上壁中央から底蓋2
0内に伸び、昇降台31上に底蓋20が同心に載置され
た時に、カム25とスプライン係合する。昇降台31は
カム軸28を所定角度だけ回動するカム軸駆動機構29
を内蔵している。
ィクル汚染が問題になっていたが、半導体集積回路の高
密度化が進むに従い、空気中の酸素によるウェーハ表面
の自然酸化膜や空気中の有機ガスの影響が問題となり始
め、この自然酸化膜の成長や有機ガス汚染を防止するた
め、ウェーハWの移動、搬送、処理等を不活性なガス
(N2ガス、ドライ空気)雰囲気中で行なう必要が生
じ、現在では、O2またはH2Oあるいは必要な場合両方
の濃度が10ppm以下であるN2ガス雰囲気が要求さ
れている。
等の処理装置あるいはウェーハ保管庫等に、図8に示す
ようなガスパージ機構(ガスパージステーション)を設
けて上記要求に応えるようにしている。
体ケース1の上壁の適所(台部)1Aに設けられたポー
ト、30は昇降装置、31は昇降装置30の昇降台であ
って、台部1Aに形成されたポート32を気密に閉鎖す
るポートドアを兼ねている。33はシール材である。3
4は台部1Aに形成された給気路であって、一端はポー
ト32の内周面に開口し、他端は管路35を介し図示し
ない不活性ガスボンベに接続されている。36は台部1
Aに形成された排気路であって、一端はポート32の内
周面に開口し、他端は本体ケース1外へ伸びる管路37
に接続されている。38、39は開閉弁である。
ない移載装置により台部1A上へ移載され、底蓋20が
昇降台31上に位置決めされると、前記施錠・解錠機構
が作動して、底蓋20は解錠される。この解錠が終わる
と、昇降台31が下降し、コンテナ本体10内部と本体
ケース1内部が連通する。この状態で、開閉弁38、3
9が開弁し、ガスパージが行なわれる。ガスパージが終
わると、昇降台31が元の位置まで上昇し、底蓋20が
開口12を気密に閉鎖し、施錠・解錠機構が作動して底
蓋20はコンテナ本体10に固定される。
スパージ機構では、窒素ボンベの如き不活性ガス源を必
要としていた。
ス雰囲気例えば上記窒素ガス雰囲気にして搬送・保管す
るが、極めてわずかづつではあるが、ガス洩れが生じた
り、保管中に、コンテナ器壁から水分が滲み出たりし
て、コンテナ内窒素濃度が上記規定値以下に低下してし
まう場合が生じる。
複数の適所にガスパージステーションを配設し、一定期
間毎に、密閉コンテナを再パージすればよいが、このパ
ージ機構は、図8に示すように大がかりの機構であるの
で、スペースを取り、価格も高いので、クリーンルーム
内のあちこちに配置することは難しい上、再パージのた
めの搬送・移載のために、システムの効率が低下する。
報に開示されているようなパージ機構を搭載した自走式
の搬送車(図9に示す)を用い、カセット9を不活性ガ
ス雰囲気中に収めて搬送する場合もあるが、大形化・重
量化を余儀なくされ、搭載している窒素ガスボンベ等の
ガス源へのガス自動注入のためのステーションも必要に
なる。
て、台車枠40A、天板40B上の一方端寄りに移載ロ
ボット41を搭載し、他部に搬送ボックス42を載せて
固定している。43は駆動輪、44はキャスタである。
50は不活性ガスボンベであり、当該不活性ガスボンベ
の口と搬送ボックス42のガス注入口45とは減圧弁5
1と給ガス弁53とを設けた配管52で接続され、排気
口46からは、排気弁54を有する排気管55が天板を
貫通して台車枠40A内に伸びている。56は制御器
で、センサ類の検知信号を入力するとともに、無人搬送
車40及び移載ロボット41を制御する主制御装置との
間で所要のタイミング信号の授受を行い、給ガス弁5
3、排気弁54に対する開閉信号を出力する他、搬送ボ
ックス42の蓋42Aを開閉する為の信号を出力する。
ており、蓋42Aは図示しない開閉駆動機構により開閉
される。
吸着剤等の吸着剤を入れ、上記水分や酸素を吸着除去さ
せるものがあるが、密閉容器内部雰囲気中の、ウェーハ
Wにとって好ましくないガス成分だけを除去するもので
あるから、密閉容器内部雰囲気を上記したような不活性
なガス雰囲気に維持したり、置換したりすることはでき
ず、密閉容器内部雰囲気を上記したような不活性なガス
雰囲気に維持したり、置換する場合には、上記したガス
パージ機構を必要としていた。
されたもので、窒素ボンベ等の不活性ガス源に接続する
ことなく、また、ガスの給排気系統を設けたりすること
なく、密閉容器の内部雰囲気を不活性ガス雰囲気に維持
あるいは置換することができ、密閉容器の内部雰囲気の
調整に要していた費用や手間を大幅に低減することがで
きる可搬式密閉容器とその内部雰囲気調整装置を提供す
ることを目的とする。
するため、請求項1では、可搬式密閉容器であって、本
体と、当該本体の開口を気密に閉鎖する蓋とを備える可
搬式密閉容器において、不活性ガスを予め吸着させられ
た内部雰囲気成分調整剤を内蔵し、この内部雰囲気成分
調整剤は、密閉容器内ガス雰囲気中の水分を吸着し、当
該吸着時に上記不活性ガスを放出する構成とした。
容器であって、上記不活性ガスは窒素成分であることを
特徴とする。
搬式密閉容器であって、クリーンルーム内で搬送・保管
に用いられる可搬式密閉容器であることを特徴とする。
て、内部空所を備えた本体ケースと、前記本体ケースの
上壁に設けられ、コンテナ本体の開口を気密に閉鎖する
底蓋を備えた可搬式密閉容器を気密に載置可能な台部
と、前記台部に形成され、前記内部空所に連通するポー
トと、前記ポートを前記内部空所に対して気密に閉鎖可
能な昇降台と、前記昇降台を前記内部空所において昇降
駆動する駆動機構と、前記内部空所に設けられた内部雰
囲気成分調整剤ユニットとを有し、前記内部雰囲気成分
調整剤ユニットは、不活性ガスを予め吸着させられた内
部雰囲気成分調整剤を内蔵し、この内部雰囲気成分調整
剤は、前記本体ケースおよび前記コンテナ本体の内部雰
囲気中の水分を吸着し、当該吸着時に上記不活性ガスを
放出することを特徴とする。
調整装置であって、クリーンルーム内で搬送・保管に用
いられる可搬式密閉容器での再パージ装置に代えて用い
られることを特徴とする。
調整装置であって、地上側設備から前記可搬式密閉容器
を搭載して目的地まで自走する無人搬送装置に搭載され
ることを特徴とする。
る、ウェーハに好ましい特定の成分例えば窒素ガスを予
め吸着させた内部雰囲気成分調整剤により、ウェーハに
悪影響を及ぼす水分を吸着し窒素ガスを放出するので、
容器本体内の雰囲気の不活性なガス濃度の低下が防止さ
れる。
明する。
の本体ケース、61は本体ケース60の上壁に設けられ
た台部、62はこの台部61に設けられたポート、63
は本体ケース60の側壁に設けられた気密扉、64はコ
ンテナ固定用の自動ロック機構、65は昇降台、66は
昇降台65を昇降駆動する駆動機構、昇降台65は、前
記昇降台31と同じ構造の昇降台で、ポート62に遊嵌
可能な大きさを有し、当該ポート62をシール材65A
を介し本体ケース60内部側より閉鎖するフランジ67
を備えている。68はガスパージ装置の制御装置であ
る。
って、本体ケース71は内部空所Aの気密扉63近くに
配置されている。このユニット70の本体71内には、
内部雰囲気成分調整剤80が充填されている。ユニット
70の蓋72にはフィルタ機能を備える蓋である。
は、ゼオライト等のモレキュラーシーブスであり、予め
窒素N2 を吸着させたものを用いる。この窒素N2 の吸
着は、例えば、図2に示すような方法を用いて行なう。
源、91は処理炉、92はヒータ、93は真空排気装
置、V1 、V2 は開閉弁であり、処理炉91内に、内部
雰囲気成分調整剤80を入れ、開閉弁V1 、V2 をそれ
ぞれ開、閉とし、処理炉91内をヒータ92で加温しつ
つ、所定期間、真空排気し、その後、開閉弁V1 、V2
をそれぞれ閉、開にし、処理炉91内を窒素ガス雰囲気
として、内部雰囲気成分調整剤80に窒素を吸着させ
る。
内のウェーハ保管庫内に設けられているものとする。
間が経過したコンテナ8が図1に示すように本体ケース
60の台部61に載置されると、図7に示すように底蓋
20内の前記カム25に昇降台65からの前記カム軸2
8が係合する。次いで、自動ロック機構64が作動し
て、コンテナ本体10のフランジ13を上から押さえて
コンテナ本体10を台部61上に固定する。この固定が
終わると、昇降台65に内蔵されているカム軸駆動機構
29が作動してカム25が所定角度だけ回動し、この回
動に伴い底蓋20のラッチ棒が底蓋内方へ退避し、底蓋
20はコンテナ本体10から離間可能となる。底蓋20
のこの解錠が終わると、駆動機構66が作動して昇降台
65が所定距離だけ下降する。これにより、コンテナ本
体10の内部と本体ケース60の内部空所Aとがポート
62を通して連通し、コンテナ本体10の内部雰囲気ガ
スと本体ケース60の内部の雰囲気ガスとが混合する。
コンテナ8はウェーハ保管庫内に保管されて一定時間が
経過しているので、この一定時間中に、コンテナ器壁か
ら放出された水分があると、その分、内部雰囲気ガス中
の水分濃度が増えている。内部雰囲気成分調整剤80で
あるゼオライト等のモレキュラーシーブスは水分に対す
る吸着性が強いので、上記混合した雰囲気ガス中の水分
を吸着し、予め吸着していた窒素を放出する。内部雰囲
気成分調整剤80であるモレキュラーシーブスの、H2
O、N2、O2に対する吸着性の強さは、H2O>N2>O
2である。
上記混合した雰囲気ガス中の窒素N2 成分の濃度は上昇
する。
経過すると、駆動機構66により、昇降台65は図1に
示す元の位置まで駆動され、底蓋20は、コンテナ本体
10の開口に嵌合する。次いで、昇降台65に内蔵され
ているカム軸駆動機構29が作動してカム25が上記と
は逆方向へ所定角度だけ回動し、この回動に伴い底蓋2
0のラッチ棒24がコンテナ本体10側へ変位し、凹部
14に係合し、コンテナ8の施錠が完了する。施錠が完
了したコンテナ8の内部雰囲気は、再パージを行なった
場合と同様、その窒素N2ガス濃度が規定値以上となっ
ており、ウェーハ保管庫内の元の場所へ保管される。
たパージステーションでパージした場合と同様に、コン
テナ8の内部雰囲気の窒素N2ガス濃度を規定値以上に
高めることができる。
とは異なり、N2ガスボンベのようなガス源、給排気系
統を設ける必要がなく、その分、小形化、コストダウン
することができるので、クリーンルーム内のあちこちに
配設することが容易に可能である。
装置上へ移載して、その内部雰囲気の調整を行なうが、
図3に示すように、内部雰囲気成分調整剤ユニット70
をコンテナ8内に収納させてもよい。
載した例を示したものである。本実施例では、何らかの
原因で、当該無人搬送車がスケジュール通り稼働しなく
なり、密閉容器が、無人搬送車に長時間放置されるよう
な自体が発生しても、自然酸化膜の成長を防止すること
ができる。
等の不活性ガス源を用いることなく、簡便に、密閉容器
の内部雰囲気の調整を行なうことができるので、これに
要していた費用や手間を大幅に低減することができ、特
に、内部雰囲気調整装置は、再パージのための装置とし
ては、極めて好適である。
素を吸着させる手法の1例を示す図である。
説明するための図である。
説明するための図である。
置を示す図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 本体と、当該本体の開口を気密に閉鎖す
る蓋とを備える可搬式密閉容器において、不 活性ガスを予め吸着させられた内部雰囲気成分調整剤
を内蔵し、この内部雰囲気成分調整剤は、密閉容器内ガ
ス雰囲気中の水分を吸着し、当該吸着時に上記不活性ガ
スを放出することを特徴とする可搬式密閉容器。 - 【請求項2】 上記不活性ガスは窒素成分であることを
特徴とする請求項1記載の可搬式密閉容器。 - 【請求項3】 可搬式密閉容器は、クリーンルーム内で
搬送・保管に用いられる可搬式密閉容器であることを特
徴とする請求項1または2記載の可搬式密閉容器。 - 【請求項4】 内部空所を備えた本体ケースと、 前記本体ケースの上壁に設けられ、コンテナ本体の開口
を気密に閉鎖する底蓋を備えた可搬式密閉容器を気密に
載置可能な台部と、 前記台部に形成され、前記内部空所に連通するポート
と、 前記ポートを前記内部空所に対して気密に閉鎖可能な昇
降台と、 前記昇降台を前記内部空所において昇降駆動する駆動機
構と、 前記内部空所に設けられた内部雰囲気成分調整剤ユニッ
トとを有し、 前記内部雰囲気成分調整剤ユニットは、不活性ガスを予
め吸着させられた内部雰囲気成分調整剤を内蔵し、この
内部雰囲気成分調整剤は、前記本体ケースおよび前記コ
ンテナ本体の内部雰囲気中の水分を吸着し、当該吸着時
に上記不活性ガスを放出することを特徴とする内部雰囲
気調整装置。 - 【請求項5】 クリーンルーム内で搬送・保管に用いら
れる可搬式密閉容器での再パージ装置に代えて用いられ
ることを特徴とする請求項4記載の内部雰囲気調整装
置。 - 【請求項6】 地上側設備から前記可搬式密閉容器を搭
載して目的地まで自走する無人搬送装置に搭載されるこ
とを特徴とする請求項4記載の内部雰囲気調整装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16247893A JP3485600B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 可搬式密閉容器とその内部雰囲気調整装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16247893A JP3485600B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 可搬式密閉容器とその内部雰囲気調整装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0766274A JPH0766274A (ja) | 1995-03-10 |
JP3485600B2 true JP3485600B2 (ja) | 2004-01-13 |
Family
ID=15755386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16247893A Expired - Lifetime JP3485600B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 可搬式密閉容器とその内部雰囲気調整装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3485600B2 (ja) |
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WO2004040374A2 (en) * | 2002-10-29 | 2004-05-13 | Dupont Photomasks, Inc. | Photomask assembly and method for protecting the same from contaminants generated during a lithography process |
WO2010131414A1 (ja) * | 2009-05-12 | 2010-11-18 | 村田機械株式会社 | パージ装置およびパージ方法 |
JP6047228B2 (ja) | 2013-03-15 | 2016-12-21 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム |
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-
1993
- 1993-06-30 JP JP16247893A patent/JP3485600B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPH0766274A (ja) | 1995-03-10 |
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